JP3514664B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶カラー
ディスプレイにおけるカラーフィルタ用の基板をレジス
ト塗布後に端部処理する基板処理装置及び基板処理方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶カラーディスプレイにおけるカラー
フィルタでは、ガラス基板上にＲ，Ｇ，Ｂの着色パター
ンを形成する必要がある。このような着色パターンは、
例えばフォトリソグラフィ法によって形成される。その
一例として、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれについて感光性樹脂か
らなる着色樹脂が用いられ、塗布−露光−現像の処理工
程をＲ，Ｇ，Ｂについて３回繰り返してパターンを形成
される。

【０００３】ところで、上記の現像処理工程において
は、感光性樹脂のうち未露光部分を現像液で除去してパ
ターンを形成する、ネガタイプの現像処理が行われてい
る。一般的にレジスト塗布の後工程では、ガラス基板の
端部に残存するレジストを除去する端部処理を行う必要
があり、このようなネガタイプの処理では、このような
端部処理を、現像液を用いて行うことができる。

【０００４】即ち、ポジタイプの端部処理では、シンナ
ー等の有機溶剤を用いる必要があったものが、ネガタイ
プでは、現像液を用いることができるため、非常に切れ
のよい端部処理を行うことができるばかりか、安全面や
価格面から好都合のものとなる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに端部処理に現像液を用いた場合には、現像液を使っ
た後に純水等のリンス液を使ってリンス処理を行う必要
があるため、工程数の増加や設備の増大をもたらすとい
う、課題がある。

【０００６】本発明の目的は、上記のような課題を解決
するためになされたもので、工程数の増加や設備の増大
を極力抑えて基板の端部処理を行うことができる基板処
理装置及び基板処理方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の主たる観点の一つとしては、基板を保持す
る保持部材と、前記保持部材により保持された基板の端
部に向けて現像液を吐出する複数の吐出口を有する第１
のノズルと、この第１のノズルに隣接して配置され、前
記保持部材により保持された基板の端部に向けてリンス
液を吐出する吐出口を有する第２のノズルと、基板の端
部に向けて所定の気体を吐出する複数の吐出口を有する
第３のノズルと、この第３のノズルと前記第２のノズル
と前記第１のノズルとを前記保持部材により保持された
基板の一辺方向に走査する走査手段と、前記第１のノズ
ルから現像液を吐出する時期と前記第２のノズルからリ
ンス液を吐出する時期と前記第３のノズルから所定の気
体を吐出する時期の少なくとも一つの時期が異なるよう
制御する制御機構とを具備することを特徴とする。ここ
で、前記制御機構は、前記第２のノズルからリンス液を
吐出しつつ前記第３のノズルから所定の気体を吐出する
ように制御してもいいし、前記第１のノズルから現像液
を吐出しつつ前記第２のノズルからリンス液を吐出する
ように制御してもいい。或いは、前記第１のノズルから
現像液を吐出する時期と前記第２のノズルからリンス液
を吐出する時期が異なる場合において各々の稼動は走査
方向を異ならせるようにしてもよい。本発明の別の観点
に係る基板処理装置は、基板を保持する保持部材と、前
記保持部材により保持された基板の端部に向けて現像液
を吐出する複数の吐出口を有する第１のノズルと、この
第１のノズルに隣接して配置され、前記保持部材により
保持された基板の端部に向けてリンス液を吐出する吐出
口を有する第２のノズルと、この第２のノズルと前記第
１のノズルとを前記保持部材により保持された基板の一
辺方向に走査する走査手段とを具備し、前記第１のノズ
ルから現像液を吐出する時期と前記第２のノズルからリ
ンス液を吐出する時期が異なる場合において各々の稼動
は走査方向を異ならせることを特徴とする。更に、本発
明の別の観点に係る基板処理装置は、基板を保持する保
持部材と、前記保持部材により保持された基板の端部に
向けて現像液を吐出する第１のノズルと、この第１のノ
ズルに隣接して配置され、前記保持部材により保持され
た基板の端部に向けてリンス液を吐出する第２のノズル
とが配置された端部処理ヘッドと、前記端部処理ヘッド
を前記保持部材により保持された基板の一辺方向に走査
する走査手段と、前記端部処理ヘッドが前記走査手段に
より走査される際に、前記第１のノズルから現像液を吐
出させ、かつ、走査方向後方に配置された前記第２のノ
ズルからリンス液を吐出させる手段とを具備し、前記第
２のノズルを、第１のノズルと隣接し、かつ、第１のノ
ズルを挟むように、２組有し、前記端部処理ヘッドを基
板の一辺の一方向へ走査しつつ、一方向先頭の第２のノ
ズルからリンス液の吐出を止め、その後方にある第１の
ノズルから現像液を吐出させ、かつ、さらにその後方に
ある第２のノズルからリンス液を吐出させ、またその逆
に端部処理ヘッドを基板の一辺の他方向へ走査しつつ、
他方向先頭の第２のノズルからリンス液の吐出を止め、
その後方にある第１のノズルから現像液を吐出させ、か
つ、さらにその後方にある第２のノズルからリンス液を
吐出させるようにしたことを特徴とする。ここで、前記
第１のノズル及び前記第２のノズルが、それぞれ基板の
表裏両面に対して設けられていてもよい。また、前記基
板が矩形であって、前記端部洗浄ヘッド及び前記走査手
段が、前記基板の各辺について設けられていてもよい。
さらに、前記第１のノズルから吐出された現像液及び前
記第２のノズルから吐出されたリンス液を基板の外周方
向に引き込む吸引機構をさらに設けてもよい。また更
に、前記第２のノズルを介して基板の端部に向けて不活
性ガスをブローする手段をさらに設けてもよい。また、
前記現像液が、１０％程度の濃度の高い現像液であっ
て、前記リンス液が、純水であってもよい。本発明の別
の観点に係る基板処理方法は、保持された基板の端部に
向けて複数の吐出口から現像液を吐出する工程と、保持
された基板の端部に向けて複数の吐出口からリンス液を
吐出する工程と、を具備し、現像液を吐出する工程は基
板の一辺の一方向へ走査しつつ行い、リンス液を吐出す
る工程は前記基板の一辺の一方向とは逆の方向に走査し
つつ行うことを特徴とする。ここで、さらに保持された
基板の端部に向けて複数の吐出口から所定の気体を吐出
する 工程を具備してもよい。本発明の別の観点に係る基
板処理方法は、保持された基板の端部に向けて複数の吐
出口から現像液を吐出する工程と、保持された基板の端
部に向けて複数の吐出口からリンス液を吐出する工程
と、保持された基板の端部に向けて複数の吐出口から所
定の気体を吐出する工程とを具備し、現像液を吐出する
工程及び／又は所定の気体を吐出する工程は基板の一辺
の一方向へ走査しつつ行い、リンス液を吐出する工程及
び／又は所定の気体を吐出する工程は前記基板の一辺の
一方向とは逆の方向に走査しつつ行うことを特徴とす
る。ここで、現像液を吐出する工程とリンス液を吐出す
る工程と所定の気体を吐出する工程のうち少なくとも２
つの工程は同時期に行われるようにしてもよい。

【０００８】したがって、第１のノズルから現像液を吐
出させ、かつ、走査方向後方に配置された第２のノズル
からリンス液を吐出させるように構成したので、現像液
による基板の端部における残存物の除去とリンス液によ
る現像液の除去を同時に行うことができる。しかも、第
１の及び第２のノズルを１つのヘッドに設けたので、構
成を簡単にできかつその制御も容易である。よって、工
程数の増加や設備の増大を極力抑えて基板の端部処理を
行うことができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下，本発明の実施の形態を添付
図面に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係
る塗布・現像処理システムの斜視図である。

【００１０】この図１に示すように、この塗布・現像処
理システム１の前方には、基板、例えばカラーフィルタ
用の矩形のガラス基板Ｇを、塗布・現像処理システム１
に対して搬出入するローダ・アンローダ部２が設けられ
ている。このローダ・アンローダ部２には、ガラス基板
Ｇを例えば２５枚ずつ収納したカセットＣを所定位置に
整列させて載置させるカセット載置台３と、各カセット
Ｃから処理すべきガラス基板Ｇを取り出し、また塗布・
現像処理システム１において処理の終了したガラス基板
Ｇを各カセットＣへ戻すローダ・アンローダ４が設けら
れている。図示のローダアンローダ４は、本体５の走行
によってカセットＣの配列方向に移動し、本体５に搭載
された板片状のピンセット６によって各カセットＣから
ガラス基板Ｇを取り出し、また各カセットＣへガラス基
板Ｇを戻すようになっている。また、ピンセット６の両
側には、ガラス基板Ｇの四隅を保持して位置合わせを行
う基板位置合わせ部材７が設けられている。

【００１１】塗布・現像処理システム１の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路１０、１１が第１
の受け渡し部１２を介して一直線上に設けられており、
この搬送路１０、１１の両側には、ガラス基板Ｇに対す
る各処理を行うための各種処理装置が配置されている。

【００１２】図示の塗布・現像処理システム１にあって
は、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄
すると共に、高圧ジェット水により洗浄を施すための洗
浄装置１６が並設されている。また、搬送路１０を挟ん
で反対側に、現像装置１７が設けられ、その隣りに二基
の加熱装置１８が積み重ねて設けられている。

【００１３】また、搬送路１１の一側方に、冷却用のク
ーリング装置２０が２段に配置されている。また、これ
らクーリング装置２０の隣には加熱装置２２が二列に二
個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路１１を
挟んで反対側に、ガラス基板Ｇに感光性樹脂からなる着
色樹脂を塗布することによってガラス基板Ｇの表面に感
光性樹脂からなる着色樹脂膜を形成する塗布装置２３が
配置されている。図示はしないが、これら塗布装置２３
の側部には、第２の受け渡し部２８を介し、ガラス基板
Ｇ上に形成された感光性樹脂からなる着色樹脂膜に所定
の微細パターンを露光するための露光装置等が設けられ
る。第２の受け渡し部２８は、ガラス基板Ｇを搬入およ
び搬出するための搬出入ピンセット２９および受け渡し
台３０を備えている。

【００１４】以上の各処理装置１５〜１８および２０〜
２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラ
ス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１
の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置
１５〜１８および第１の受け渡し部１２との間でガラス
基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の
搬送装置２６が第１の受け渡し部１２、第２の受け渡し
部２８および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板
Ｇを搬送するために搬送路２６上を移動するようになっ
ている。各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一対の
アーム２７、２７を有しており、各処理装置１５〜１８
および２０〜２３にアクセスするときは、一方のアーム
２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス基板
Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基板Ｇ
をチャンバ内に搬入するように構成されている。

【００１５】図２は上記塗布装置２３の平面図である。
この、図２に示すように、塗布装置２３では、ガラス基
板Ｇに対してレジストを塗布する塗布部３１と、レジス
トが塗布されたガラス基板Ｇを減圧下で乾燥する減圧乾
燥部３２と、ガラス基板Ｇの端部に対して端部処理を行
う本発明の端部処理装置としての端部処理部３３とが並
設されている。

【００１６】また、塗布装置２３の前後には搬送用レー
ル３４が設けられており、この搬送用レール３４に沿っ
て搬送アーム３５が移動するように構成されている。

【００１７】そして、搬送装置２５によって塗布部３１
に搬入されたガラス基板Ｇは、搬送アーム３５によって
塗布部３１、減圧乾燥部３２、端部処理部３３の順に移
送され、搬送装置２５のよって端部処理部３３から搬出
されるようになっている。

【００１８】端部処理部３３では、保持部材３６によっ
て保持されたガラス基板Ｇの複数辺、例えば、４辺の外
周に沿って端部処理ヘッド３８を保持部材により保持さ
れた基板Ｇの一辺方向に走査する操作手段として例え
ば、搬送用レール３７がそれぞれ設けられており、各搬
送用レール３７に沿って端部処理ヘッド３８が走査可能
に保持されている。各端部処理ヘッド３８は、図示を省
略して駆動モータの駆動によって搬送用レール３７に沿
って走査されるようになっている。

【００１９】図３は上記端部処理ヘッド３８の正面図、
図４はその平面図、図５はその側面図である。

【００２０】これらの図に示すように、端部処理ヘッド
３８の略中央部には、保持部材３６により保持されたガ
ラス基板Ｇ表面の端部に向けて現像液を吐出する複数の
吐出口を有する第一のノズル例えば、現像液吐出ノズル
３９がガラス基板Ｇの辺方向に例えば５０ｍｍに亙り、
例えば１０本列設されている。

【００２１】また、端部処理ヘッド３８の両側には、現
像液吐出ノズル３９を挟むように、現像液吐出ノズル３
９に隣接して配置され、保持部材３６により保持された
ガラス基板Ｇ表面の端部に向けてリンス液を吐出する吐
出口を有する一対の第二のノズル例えばリンス液吐出ノ
ズル４０、４１がガラス基板Ｇの辺方向に例えばそれぞ
れ２５ｍｍに亙り、例えばそれぞれ５本列設されてい
る。

【００２２】また、端部処理ヘッド３８の両側には、リ
ンス液吐出ノズル４０、４１を挟むように、リンス液吐
出ノズル４０、４１に隣接して配置され、保持部材３６
により保持されたガラス基板Ｇ表面の端部に向けて所定
の不活性ガス例えばＮ２ガスを吐出する複数の吐出口を
有する第三のノズル例えば、気体吐出ノズル５２、５３
がガラス基板Ｇの辺方向に例えばそれぞれ１５ｍｍに亙
り、複数例えばそれぞれ３本列設されている。

【００２３】同様に、端部処理ヘッド３８の略中央部に
は、保持部材３６により保持されたガラス基板Ｇ裏面の
端部に向けて現像液を吐出する現像液吐出ノズル４２が
ガラス基板Ｇの辺方向に例えば５０ｍｍに亙り、複数例
えば１０本列設されている。

【００２４】さらに、端部処理ヘッド３８の両側には、
現像液吐出ノズル４２を挟むように、保持部材３６によ
り保持されたガラス基板Ｇ裏面の端部に向けてリンス液
を吐出する一対のリンス液吐出ノズル４３、４４がガラ
ス基板Ｇの辺方向に例えばそれぞれ２５ｍｍに亙り、複
数例えばそれぞれ５本列設されている。

【００２５】また、端部処理ヘッド３８の両側には、リ
ンス液吐出ノズル４３、４４を挟むように、リンス液吐
出ノズル４３、４４に隣接して配置され、保持部材３６
により保持されたガラス基板Ｇ表面の端部に向けて所定
のガス例えば不活性ガスのＮ２ガスを吐出する複数の吐
出口を有する第三のノズルとしての気体吐出ノズル５
４，５５がガラス基板Ｇの辺方向にそれぞれ１５ｍｍに
亙り、複数例えばそれぞれ３本列設されている。このよ
うに、基板Ｇの表裏両面に対して現像液吐出ノズル３
９、４２とリンス液吐出ノズル４０、４１、４３、４４
と気体吐出ノズル５２〜５５が設けられているので基板
Ｇの表裏両面に現像液とリンス液とＮ２ガスとを各々独
立に吐出可能である。

【００２６】そして、現像液供給装置４５、４６からそ
れぞれ現像液吐出ノズル３９、４２へ現像液が供給さ
れ、リンス液供給装置４７〜５０からそれぞれリンス液
吐出ノズル４０、４１、４３、４４へリンス液が供給さ
れ、気体供給装置５６〜５９からそれぞれ気体吐出ノズ
ル５２〜５５へＮ２ガスが供給されるようになってい
る。図６に示すように、現像液供給装置４５、４６及び
リンス液供給装置４７〜５０及び気体供給装置５６〜５
９による供給の制御は、制御部６０によって行われるよ
うになっている。

【００２７】したがって、リンス液吐出ノズル４０、４
１、４３、４４からリンス液を吐出しつつ気体吐出ノズ
ル５２〜５５からＮ２ガスを吐出するように制御可能で
ある。

【００２８】また、現像液吐出ノズル３９、４２から現
像液を吐出しつつリンス液吐出ノズル４０、４１、４
３、４４からリンス液を吐出するように制御可能であ
る。また、現像液吐出ノズル３９、４２から現像液を吐
出する時期とリンス液吐出ノズル４０、４１、４３、４
４からリンス液を吐出する時期と気体吐出ノズル５２〜
５５からＮ２ガスを吐出する時期の少なくとも一つの時
期が異なるように制御可能である。

【００２９】ここで、現像液としては、例えば１０％程
度の濃度の高い現像液が用いられる。これにより、ネガ
タイプのレジスト処理における基板端部の残さを切れよ
く除去することができる。リンス液としては、例えば純
水（Ｄ．Ｉ．Ｗ．）が用いられる。

【００３０】また、上述したノズル３９〜４４の背面側
（基板端部と対向する側）には、ノズル３９〜４４から
吐出された現像液及びリンス液を基板の外周方向に引き
込むための吸引手段例えば吸引孔５１が設けられてい
る。この吸引孔５１は背面側に向けて絞り込まれるよう
になっている。また、吸引孔５１には、図示を省略した
排気装置が接続されている。例えば、吸引孔５１と排気
装置によって吸引機構が構成される。この吸引機構によ
って現像液やリンス液が基板側に飛び散るようなことは
なくなる。

【００３１】次に動作について説明する。図７に示すよ
うに、端部処理ヘッド３８が紙面右方向に走査される場
合には、紙面右側の走査方向先頭のリンス液供給ノズル
４１、４４からのリンス液の吐出が止められ、現像液吐
出ノズル３９、４２からは現像液が吐出され（保持され
た基板の端部に向けて複数の吐出口から現像液を吐出す
る工程）、かつ、紙面左側の走査方向後方のリンス液供
給ノズル４０、４３からはリンス液が吐出され（保持さ
れた基板の端部に向けて複数の吐出口からリンス液を吐
出する工程）、気体吐出ノズル５２、５４からはＮ２ガ
スが吐出される（保持された基板の端部に向けて複数の
吐出口から所定の気体を吐出する工程）。

【００３２】一方、図８に示すように、端部処理ヘッド
３８が紙面左方向に走査される場合には、紙面左側の走
査方向先頭のリンス液供給ノズル４０、４３からのリン
ス液の吐出が止められ、現像液吐出ノズル３９、４２か
らは現像液が吐出され、かつ、紙面右側の走査方向後方
のリンス液供給ノズル４１、４４からはリンス液が吐出
され、気体吐出ノズル５３、５５からはＮ２ガスが吐出
される。

【００３３】以下、必要に応じて図７に示した動作と図
８に示した動作とを繰り返すことも可能である。

【００３４】即ち、本発明に係る端部処理ヘッド３８
は、ガラス基板Ｇに対して現像液を吐出していきなが
ら、その後を追うようにしてその直後からリンス液とＮ
２ガスを吐出している。現像液を吐出する工程とリンス
液を吐出する工程の動作時期は、少なくとも一部同時期
であり、よって、現像液によるガラス基板Ｇの端部にお
ける残存物の除去とリンス液による現像液の除去を同時
に行うことができ、さらにＮ２ガスで基板Ｇの端部を乾
燥できる。しかも、端部処理ヘッド３８内に、現像液を
吐出するためのノズル３９、４２とリンス液を吐出する
ためのノズル４０、４１、４３、４４とＮ２ガスを吐出
するためのノズル５２〜５５を一体的に設けたので、構
成を簡単にできかつその走査制御も容易である。

【００３５】なお、本発明は上述した実施の形態には限
定されない。図９に示すような端部処理ヘッド６９を用
い、気体吐出ノズルを設けずに、リンス液を吐出するた
めのノズル４０、４１、４３、４４よりリンスの他に不
活性ガス、例えばＮ２ガスを選択的に吐出するようにし
てもよい。即ち、ノズル４０、４１、４３、４４を介し
てガラス基板Ｇの端部に向けてＮ２ガスをブローできる
ようにしてもよい。

【００３６】上述した実施の形態と異なる部分について
説明すると、リンス液吐出ノズル４０、４１、４３、４
４を介して基板Ｇの端部に向けて不活性ガスをブローす
る手段として例えばリンス液供給装置４７〜５０からリ
ンス液吐出ノズル４０、４１、４３、４４までの配管６
１〜６４の途中にエアオペ三方弁６５〜６８を設け、さ
らに気体供給装置５６〜５９がエアオペ三方弁６５〜６
８につなげられている。

【００３７】また、エアオペ三方弁６５〜６８は制御部
６０により選択的に切り替え可能であり、リンス液吐出
ノズル４０、４１、４３、４４を介してリンス液または
Ｎ２ガスを選択して基板Ｇの端部に向けて吐出可能であ
る。次に動作について説明すると、図１０に示すよう
に、端部処理ヘッド３８が紙面右方向に走査される場合
には、紙面右側の走査方向先頭のリンス液供給ノズル４
１、４４からのリンス液の吐出が止められ、現像液吐出
ノズル３９、４２からは現像液が吐出され、かつ、紙面
左側の走査方向後方のリンス液供給ノズル４０、４３か
らはリンス液が吐出される。

【００３８】基板Ｇの端部に到達したら現像液とリンス
液の吐出を停止し、リンス液供給ノズル４０、４１、４
３、４４からＮ２ガスを吐出可能なようにエアオペ三方
弁６５〜６８を切り替え、図１１に示すように端部処理
ヘッド３８を紙面左方向に走査しながらリンス液供給ノ
ズル４０、４１、４３、４４からＮ２ガスを吐出する。

【００３９】このように、リンス工程後にＮ２ブローを
行うことによって、端部処理に連続して乾燥処理を行う
ことができる。

【００４０】また、気体吐出ノズル５２〜５５を省略で
き、端部処理ヘッド６９を小型化可能であるので装置の
小型化が可能である。

【００４１】また、現像液吐出ノズル３９、４２から現
像液が吐出され、かつ走査方向後方のリンス液供給ノズ
ルからリンス液が吐出されたが、現像液を吐出する工程
は基板Ｇの一辺の一方向へ走査しつつ行い、リンス液を
吐出する工程は基板Ｇの一辺の一方向とは逆の方向に走
査しつつ行ってもよいのはいうまでもない。

【００４２】つまり、端部処理ヘッド３８が基板Ｇの一
辺の一方向へ走査するときに現像液のみを吐出し、基板
Ｇの端部に到達した現像液の吐出を停止し、リンス液供
給ノズル４０、４１、４３、４４からリンス液を、気体
吐出ノズル５２〜５５からＮ２ガスを吐出しながら基板
Ｇの一辺の一方向とは逆の方向に走査しつつ端部処理を
行う。この場合、現像液を基板Ｇの端部に液盛りした状
態を所定時間維持するので、現像液がレジスト液と反応
する時間を長くとることが可能で、レジスト液が溶解し
やすくなり、さらに端部処理能力が向上する。

【００４３】また、この場合、リンス液供給ノズル４
１、４２と気体吐出ノズル５３、５５を使用せずリンス
液供給ノズル４０、４３からリンス液を、気体吐出ノズ
ル５２、５４からＮ２ガスを吐出しても端面処理は可能
であり、リンス液供給ノズル４１、４２と気体吐出ノズ
ル５３、５５を省略可能であり、端部処理ヘッド３８を
小型化可能となり、さらに装置を小型化可能である。

【００４４】また、現像液を吐出する工程とリンス液を
吐出する工程と所定の気体を吐出する工程とを同時に行
ったが、同時に行わずに少なくとも２つの工程を同時期
に行なうだけでもよく、また、３つの工程を異なる時期
に行ってもよいのはいうまでもない。

【００４５】現像液を吐出する工程とリンス液を吐出す
る工程を同時期に行う場合、Ｎ２ガスにより基板Ｇの端
面処理部より内側に現像液やリンス液が飛散することが
なく、所望の幅で精度よく端面処理が可能である。

【００４６】また、現像液を吐出する工程と所定の気体
を吐出する工程を同時期に行う場合、吐出するＮ２ガス
の流量を制御することにより塗布された現像液を攪拌で
き、レジストの溶解速度を速くすることが可能であり、
端面処理能力が向上する。

【００４７】また、リンス液を吐出する工程と所定の気
体を吐出する工程とを同時に行った場合は、前述したよ
うに、現像液を供給し、現像液を基板Ｇの端部に液盛り
した状態を所定時間維持するので、現像液がレジスト液
と反応する時間を長くとることが可能で、さらに端部処
理能力が向上する。

【００４８】また、３つの工程を異なる時期に行った場
合、まず現像液を液盛りし、レジストが溶解する所定時
間まで放置し、その後逆の方向へ走査しながらリンス液
を吐出して現像液を洗い流すので、端面処理能力が向上
する。

【００４９】その後、リンス液がある程度乾燥した状態
で現像液を液盛りした方向へ走査しながらＮ２ガスを吐
出するので、リンス液が基板Ｇの端面処理部より内側に
飛散することがない。

【００５０】また、現像液を吐出する工程と気体を吐出
する工程を同時に基板Ｇの一辺の一方向へ走査しつつ行
い、その後リンス液を吐出する工程と気体を吐出する工
程を同時に基板Ｇの一辺の一方向とは逆の方向へ走査し
つつ行ってもよく、またその後に気体を吐出する工程を
基板Ｇの一辺の一方向へ、基板Ｇの一辺の一方向とは逆
の方向へと繰り返し走査しつつ行ってもよいのはいうま
でもない。

【００５１】また、現像液を吐出する工程と気体を吐出
する工程を同時に基板Ｇの一辺の一方向へ走査しつつ行
い、その後リンス液を吐出する工程を基板Ｇの一辺の一
方向とは逆の方向へ走査しつつ行い、その後に気体を吐
出する工程を基板Ｇの一辺の一方向へ走査しつつ行って
もよく、またその後に、気体を吐出する工程を基板Ｇの
一辺の一方向とは逆の方向へ、基板Ｇの一辺の一方向へ
と繰り返し走査しつつ行ってもよいのはいうまでもな
い。

【００５２】また、現像液を吐出する工程を基板Ｇの一
辺の一方向へ走査しつつ行い、その後リンス液を吐出す
る工程を基板Ｇの一辺の一方向とは逆の方向へ走査しつ
つ行ってもよく、またその後に気体を吐出する工程を基
板Ｇの一辺の一方向へ、基板Ｇの一辺の一方向とは逆の
方向へと繰り返し走査しつつ行ってもよく、またここで
いうところのリンス液を吐出する工程で気体を吐出する
工程を同時に行ってもよいのはいうまでもない。

【００５３】また、現像液を吐出する工程を基板Ｇの一
辺の一方向へ走査しつつ行い、その後気体を吐出する工
程を基板Ｇの一辺の一方向とは逆の方向へ、基板Ｇの一
辺の一方向へと走査しつつ行い、その後リンス液を吐出
する工程を基板Ｇの一辺の一方向とは逆の方向へ走査し
つつ行ってもよく、またその後に気体を吐出する工程を
基板Ｇの一辺の一方向へ、基板Ｇの一辺の一方向とは逆
の方向へと繰り返し走査しつつ行ってもよく、またここ
でいうところのリンス液を吐出する工程で気体を吐出す
る工程を同時に行ってもよいのはいうまでもない。

【００５４】また、工程と走査方向の組み合わせに関
し、明示しなかった組み合わせで行ってもよいのはいう
までもない。

【００５５】また、Ｎ２ガスを吐出する際に温湿調を行
ったＮ２ガスを吐出してもよいのはいうまでもない。気
体供給装置５６〜５９に図示しない温湿調装置を設け、
吐出するＮ２ガスの温湿調を行う。基板Ｇの一辺の一方
向に走査しながら温湿調されたＮ２ガスを吐出して処理
雰囲気温度を制御しつつ現像液を吐出する工程を行う。
処理雰囲気温度を制御できるので、レジストの溶解速度
を制御可能である。

【００５６】また、湿調したＮ２ガスを吐出して処理雰
囲気湿度を制御できるので、現像液濃度が変化するのを
抑制可能である。基板Ｇ端部まで走査した後、基板Ｇの
一辺の一方向とは逆の方向に走査しつつリンス液を吐出
する工程とＮ２ガスを吐出する工程を行うので、端面処
理能力と乾燥処理能力がさらに向上する。

【００５７】また、不活性ガスとしてＮ２ガスを用いた
が、Ａｒガスやヘリウムガス等でもよく、また不活性ガ
スでなくてもレジスト液や現像液と反応しない気体であ
ればクリーンエアー等の気体でもよいことはいうまでも
ない。

【００５８】また、上述した実施の形態では、基板とし
てはカラーフィルタ用のガラス基板Ｇを用いていたが、
他のＬＣＤ基板、その他端部処理が必要な基板について
も本発明を当然適用できる。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の主たる観
点の一つとしては、第１のノズルから現像液を吐出さ
せ、かつ、走査方向後方に配置された第２のノズルから
リンス液を吐出させるように構成したので、現像液によ
る基板の端部における残存物の除去とリンス液による現
像液の除去を同時に行うことができる。しかも、第１の
及び第２のノズルを１つのヘッドに設けたので、構成を
簡単にできかつその制御も容易である。よって、工程数
の増加や設備の増大を極力抑えて基板の端部処理を行う
ことができるので、処理のスループットの向上を図るこ
とができ、また、第１の及び第２のノズルを１つのヘッ
ドに設けたのでそれぞれのノズルと基板との距離間差等
の誤差を生じさせず、、それぞれのノズルから吐出する
流体を基板毎に一定して供給することができる。これに
よって、基板の歩留まりを向上することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理シス
テムの斜視図である。

【図２】図１に示した塗布装置の平面図である。

【図３】図２に示した端部処理ヘッドの正面図である。

【図４】図２に示した端部処理ヘッドの平面図である。

【図５】図２に示した端部処理ヘッドの側面図である。

【図６】図２に示した端部処理ヘッドの制御部の説明図
である。

【図７】本実施形態での端部処理の動作を示す図であ
る。

【図８】本実施形態での端部処理の動作を示す図であ
る。

【図９】端部処理ヘッドの他の実施形態を示す正面図で
ある。

【図１０】端部処理の動作の他の実施形態を示す図であ
る。

【図１１】端部処理の動作の他の実施形態を示す図であ
る。

【符号の説明】

２３ 塗布装置 ３３ 端部処理部 ３６ 保持部材 ３７ 搬送用レール（走査手段） ３８ 端部処理ヘッド ３９、４２ 現像液吐出ノズル（第１のノズル） ４０、４１、４３、４４ リンス液吐出ノズル（第２
のノズル） ４５、４６ 現像液供給装置 ４７〜５０ リンス液供給装置 ５１ 吸引口 ５２、５３ 気体吐出ノズル（第３のノズル） ６０ 制御部（制御機構） Ｇ ガラス基板

フロントページの続き (72)発明者 田中 志信 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (56)参考文献 特開 平８−102434（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−273075（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−249566（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−183208（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−142380（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−208948（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−204131（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する保持部材と、 前記保持部材により保持された基板の端部に向けて現像
   液を吐出する複数の吐出口を有する第１のノズルと、 この第１のノズルに隣接して配置され、前記保持部材に
   より保持された基板の端部に向けてリンス液を吐出する
   吐出口を有する第２のノズルと、基板の端部に向けて所定の気体を吐出する複数の吐出口
   を有する第３のノズルと、 この第３のノズルと前記第２のノズルと前記第１のノズ
   ルとを前記保持部材により保持された基板の一辺方向に
   走査する走査手段と、前記第１のノズルから現像液を吐出する時期と前記第２
   のノズルからリンス液を吐出する時期と前記第３のノズ
   ルから所定の気体を吐出する時期の少なくとも一つの時
   期が異なるよう制御する制御機構と を具備することを特
   徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置であって、前記制御機構は、 前記第２のノズルからリンス液を吐出
   しつつ前記第３のノズルから所定の気体を吐出するよう
   に制御することを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載の基板処理装置であって、前記制御機構は、 前記第１のノズルから現像液を吐出し
   つつ前記第２のノズルからリンス液を吐出するように制
   御することを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１又は２記載の基板処理装置であ
   って、 前記第１のノズルから現像液を吐出する時期と前記第２
   のノズルからリンス液を吐出する時期が異なる場合にお
   いて各々の稼動は走査方向を異ならせることを特徴とす
   る基板処理装置。
5. 【請求項５】 基板を保持する保持部材と、 前記保持部材により保持された基板の端部に向けて現像
   液を吐出する複数の吐出口を有する第１のノズルと、 この第１のノズルに隣接して配置され、前記保持部材に
   より保持された基板の端部に向けてリンス液を吐出する
   吐出口を有する第２のノズルと、 この第２のノズルと前記第１のノズルとを前記保持部材
   により保持された基板の一辺方向に走査する走査手段と
   を具備し、 前記第１のノズルから現像液を吐出する時期と前記第２
   のノズルからリンス液を吐出する時期が異なる場合にお
   いて各々の稼動は走査方向を異ならせることを特徴とす
   る基板処理装置。
6. 【請求項６】 基板を保持する保持部材と、 前記保持部材により保持された基板の端部に向けて現像
   液を吐出する第１のノズルと、 この第１のノズルに隣接して配置され、前記保持部材に
   より保持された基板の端部に向けてリンス液を吐出する
   第２のノズルとが配置された端部処理ヘッドと、 前記端部処理ヘッドを前記保持部材により保持された基
   板の一辺方向に走査する走査手段と、 前記端部処理ヘッドが前記走査手段により走査される際
   に、前記第１のノズルから現像液を吐出させ、かつ、走
   査方向後方に配置された前記第２のノズルからリンス液
   を吐出させる手段とを具備し、 前記第２のノズルを、第１のノズルと隣接し、かつ、第
   １のノズルを挟むように、２組有し、 前記端部処理ヘッドを基板の一辺の一方向へ走査しつ
   つ、一方向先頭の第２のノズルからリンス液の吐出を止
   め、その後方にある第１のノズルから現像液を吐出さ
   せ、かつ、さらにその後方にある第２のノズルからリン
   ス液を吐出させ、またその逆に端部処理ヘッドを基板の
   一辺の他方向へ走査しつつ、他方向先頭の第２のノズル
   からリンス液の吐出を止め、その後方にある第１のノズ
   ルから現像液を吐出させ、かつ、さらにその後方にある
   第 ２のノズルからリンス液を吐出させるようにした こと
   を特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】 請求項６記載の基板処理装置であって、 前記第１のノズル及び前記第２のノズルが、それぞれ基
   板の表裏両面に対して設けられていることを特徴とする
   基板処理装置。
8. 【請求項８】 請求項６又は７記載の基板処理装置にお
   いて、 前記基板が矩形であって、 前記端部洗浄ヘッド及び前記走査手段が、前記基板の各
   辺について設けられていることを特徴とする基板処理装
   置。
9. 【請求項９】 請求項６，７又は８記載の基板処理装置
   であって、 前記第１のノズルから吐出された現像液及び前記第２の
   ノズルから吐出されたリンス液を基板の外周方向に引き
   込む吸引機構をさらに具備することを特徴とする基板処
   理装置。
10. 【請求項１０】 請求項６，７，８又は９記載の基板処
    理装置であって、 前記第２のノズルを介して基板の端部に向けて不活性ガ
    スをブローする手段をさらに具備することを特徴とする
    基板処理装置。
11. 【請求項１１】 請求項６，７，８，９又は１０記載の
    基板処理装置において、 前記現像液が、１０％程度の濃度の高い現像液であっ
    て、 前記リンス液が、純水であることであることを特徴とす
    る基板処理装置。
12. 【請求項１２】 保持された基板の端部に向けて複数の
    吐出口から現像液を吐出する工程と、 保持された基板の端部に向けて複数の吐出口からリンス
    液を吐出する工程と、 を具備し、 現像液を吐出する工程は基板の一辺の一方向へ走査しつ
    つ行い、 リンス液を吐出する工程は前記基板の一辺の一方向とは
    逆の方向に走査しつつ行うことを 特徴とする基板処理方
    法。
13. 【請求項１３】 請求項１２記載の基板処理方法におい
    て、 さらに保持された基板の端部に向けて複数の吐出口から
    所定の気体を吐出する工程を具備することを特徴とする
    基板処理方法。
14. 【請求項１４】 保持された基板の端部に向けて複数の
    吐出口から現像液を吐出する工程と、 保持された基板の端部に向けて複数の吐出口からリンス
    液を吐出する工程と、 保持された基板の端部に向けて複数の吐出口から所定の
    気体を吐出する工程とを具備し、 現像液を吐出する工程及び／又は所定の気体を吐出する
    工程は基板の一辺の一方向へ走査しつつ行い、リンス液
    を吐出する工程及び／又は所定の気体を吐出する工程は
    前記基板の一辺の一方向とは逆の方向に走査しつつ行う
    ことを特徴とする基板処理方法。
15. 【請求項１５】 請求項１３又は１４記載の基板処理方
    法において、 現像液を吐出する工程とリンス液を吐出する工程と所定
    の気体を吐出する工程のうち少なくとも２つの工程は同
    時期に行われることを特徴とする基板処理方法。