JP3498200B2 - 積層セラミック複合部品 - Google Patents

積層セラミック複合部品

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JP3498200B2 JP21180397A JP21180397A JP3498200B2 JP 3498200 B2 JP3498200 B2 JP 3498200B2 JP 21180397 A JP21180397 A JP 21180397A JP 21180397 A JP21180397 A JP 21180397A JP 3498200 B2 JP3498200 B2 JP 3498200B2
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治文 萬代
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層セラミック複
合部品に関し、特に、異なるセラミックスを積層し、一
体化してなる積層セラミック複合部品に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化の要請などによ
り、電子部品の複合化が進みつつある。これら複合部品
として、例えば、インダクタとコンデンサを組み合わせ
た積層型のLCフィルタがある。このLCフィルタは、
一般に以下のようにして作製されている。すなわち、コ
イル電極パターンを形成した磁性体グリーンシートを積
層して得た成形体と、容量電極パターンを形成した低誘
電率誘電体グリーンシートを積層して得た成形体とを重
ね合わせた後、焼成して、磁性体と低誘電率誘電体とが
一体化した焼結体を得る。その後、この焼結体のコイル
電極及び容量電極が露出した部分に、外部電極を焼き付
けしてLCフィルタを得る。そして、磁性体グリーンシ
ート、低誘電率誘電体グリーンシートを得るためのセラ
ミック材料としては、950℃以下で焼結可能なものが
使用される。これは、磁性体中に形成されるコイルの直
流抵抗を下げる目的で、低比抵抗の銀系の電極を使用す
るためであり、具体的には、磁性体材料としては湿式合
成法による共沈原料が、また低誘電率誘電体材料として
は出発原料粉末を仮焼して粉砕した原料にガラス成分を
添加したものが用いられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た積層セラミック複合部品においては、湿式合成法によ
る共沈原料は粒子が細かく活性に富むため、出発原料粉
末を仮焼して粉砕した原料にガラス成分を添加したもの
と比較して焼成収縮率が著しく大きい。このため、イン
ダクタンスとなる成形体とコンデンサとなる成形体を互
いに重ね合わせて焼成した場合、この焼成収縮率の違い
により、焼結体に反りや剥がれが生じるという問題があ
った。
【0004】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、反りや割れがない積層セラミ
ック複合部品を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の問題点を解決する
ため本発明の積層セラミック複合部品は、磁性体セラミ
ックス、高誘電率誘電体セラミックス及び低誘電率誘電
体セラミックスの中から選ばれた少なくとも2つのセラ
ミックスを積層して形成した積層体を、前記少なくとも
2つのセラミックスよりも小さい収縮率を有する絶縁体
セラミックスで挟み込んで一体化したことを特徴とす
る。
【0006】また、前記積層体が、前記少なくとも2つ
のセラミックスを、前記絶縁体セラミックスを介して積
層することにより形成されることを特徴とする。
【0007】本発明の積層セラミック複合部品によれ
ば、少なくとも2つのセラミックスを積層して形成した
積層体を一体化する際に、それら積層体を構成する少な
くとも2つのセラミックスよりも小さい収縮率を有する
絶縁体セラミックスで挟み込んで加圧することにより一
体化するため、積層体を構成する少なくとも2つのセラ
ミックスの収縮率を、積層体を挟み込んだ絶縁体セラミ
ックスの収縮率と同等にすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。図1に、本発明に係る積層セラミック
複合部品の第1の実施例の斜視図を示す。積層セラミッ
ク複合部品10は、コンデンサ(図示せず)を内蔵した
低誘電率誘電体セラミックス11と、コイル(図示せ
ず)を内蔵した磁性体セラミックス12とからなる積層
体13を、積層体13を構成する低誘電率誘電体セラミ
ックス11及び磁性体セラミックス12よりも小さい収
縮率を有する絶縁体セラミックス14、14で挟み込ん
だ成形体15を備える。そして、その成形体15の側面
には、外部端子16,16とグランド端子17とが設け
られる。
【0009】図2及び図3を用いて、図1に示す積層セ
ラミック複合部品10の製造方法を説明する。
【0010】まず、酸化バリウム、酸化アルミニウム、
シリカの粉末を主材料とし、ほう酸を添加して焼結温度
を900℃前後にした低誘電率誘電体セラミックス材
料、及び酸化鉄、酸化ニオジウム、酸化亜鉛の粉末を主
材料とし、ガラスを添加して焼結温度を850〜900
℃にした磁性体セラミックス材料に、バインダ、可塑剤
及び溶剤等を所定の割合で混練して、ドクターブレード
法などにより低誘電率誘電体セラミックスシート11a
〜11d及び磁性体セラミックスシート12a〜12d
を形成する。
【0011】次いで、低誘電率誘電体セラミックスシー
ト11b〜11d及び磁性体セラミックスシート12
a,12bに、パンチング加工によりビアホールを形成
した後、そのビアホール内に銅、銀、銀/パラジウム、
タングステン、白金などからなるペースト状の導電材を
充填し、ビアホール電極18を形成する。
【0012】次いで、低誘電率誘電体セラミックスシー
ト11b,11c及び磁性体セラミックスシート12
b,12cに、スクリーン印刷により銅、銀、銀/パラ
ジウム、タングステン、白金などからなるペースト状の
導電体を印刷して、コンデンサ電極19、グランド電極
20、コイル電極21,21及び引出電極22,22を
形成する。
【0013】次いで、低誘電率誘電体セラミックスシー
ト11a〜11d及び磁性体セラミックスシート12a
〜12dを積層して積層体13を形成した後、その積層
体13を、図3に示すように、低誘電率誘電体セラミッ
クスシート11a〜11d及び磁性体セラミックスシー
ト12a〜12dよりも収縮率が小さいアルミナシート
からなる絶縁体セラミックス14,14を介して、セラ
ミック焼結体などからなるブロック23で挟み込む。次
いで、ブロック23により、積層体13を両主面方向か
ら加圧し、900℃程度の温度で一体焼結することによ
り成形体15を得る。
【0014】次いで、図示していないが、成形体15の
側面に、引出電極22に接続される外部端子16,1
6、グランド電極20に接続されるグランド端子17を
形成することにより、積層セラミック複合部品10が完
成する。
【0015】上述の構成を備えた1cm角の積層セラミ
ック複合部品10において、x,y,z方向(図1)の
収縮率を測定した結果、x方向:2%、y方向:2%、
z方向:40%で、反りは約10μm程度であった。ま
た、−55℃、+85℃、1000サイクルの熱衝撃試
験では、100個中すべてに割れは見られなかった。
【0016】一方、従来の構成の1cm角の積層セラミ
ック複合部品50では、x,y,z方向の収縮率はそれ
ぞれ、x方向:16%、y方向:16%、z方向:16
%で、反りは約100μmであった。また、−55℃、
+85℃、1000サイクルの熱衝撃試験では、100
個中37個に低誘電率誘電体セラミックス層と磁性体セ
ラミックス層との界面から割れが生じた。
【0017】上述の第1の実施例によれば、低誘電率誘
電体セラミックス及び磁性体セラミックスを積層して形
成した積層体を一体化する際に、積層体を構成する低誘
電率誘電体セラミックス及び磁性体セラミックスよりも
小さい収縮率を有する絶縁体セラミックスで挟み込んで
加圧することにより一体化するため、積層体を構成する
低誘電率誘電体セラミックス及び磁性体セラミックスの
収縮率を、積層体を挟み込んだ絶縁体セラミックスの収
縮率と同等にすることができる。
【0018】したがって、積層体を構成する低誘電率誘
電体セラミックス及び磁性体セラミックスの収縮率の違
いによる反りを抑えることができ、その結果、低誘電率
誘電体セラミックス及び磁性体セラミックスの界面での
割れを防止することができる。
【0019】図4に、本発明に係る積層セラミック複合
部品の第2の実施例の斜視図を示す。積層セラミック複
合部品20は、第1の実施例の積層セラミック複合部品
10と比較してコンデンサ(図示せず)を内蔵した低誘
電率誘電体セラミックス11と、コイル(図示せず)を
内蔵した磁性体セラミックス12とが低誘電率誘電体セ
ラミックス11及び磁性体セラミックス12よりも小さ
い収縮率を有する絶縁体セラミックス14を介して積層
されてなる積層体21を備え、その積層体21を絶縁体
セラミックス14,14で挟み込んだ成形体22を備え
る点で異なる。
【0020】積層セラミック複合部品20は、図1に示
す積層セラミック複合部品10の製造方法(図2、図
3)と同様の方法で製造される。すなわち、図2におい
て、低誘電率誘電体セラミックスシート11dと磁性体
セラミックスシート12aとの間に絶縁体セラミックス
14を挿入すればよい。
【0021】上述の構成を備えた1cm角の積層セラミ
ック複合部品20において、x,y,z方向(図1)の
収縮率を測定した結果、x方向:1%、y方向:1%、
z方向:40%で、反りは約10μm程度であり、第1
の実施例の積層セラミック複合部品10(図1)と比較
して、x−y方向、すなわち面方向の収縮率が約1%減
少している。
【0022】上述の第2の実施例によれば、低誘電率誘
電体セラミックスと磁性体セラミックスとを低誘電率誘
電体セラミックス及び磁性体セラミックスよりも小さい
収縮率を有する絶縁体セラミックスを介して積層して積
層体を形成しているため、低誘電率誘電体セラミックス
と磁性体セラミックスとの面方向の収縮率の差を、絶縁
体セラミックスに吸収させることができる。
【0023】したがって、積層体を構成する低誘電率誘
電体セラミックス及び磁性体セラミックスの収縮率の違
いによる反りをより抑えることができ、その結果、低誘
電率誘電体セラミックス及び磁性体セラミックスの界面
での割れをさらに防止することができる。
【0024】なお、上述の第1及び第2の実施例では、
積層セラミック複合部品が、磁性体セラミックスと低誘
電率誘電体セラミックスとからなる場合について説明し
たが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
すなわち、磁性体セラミックスと高誘電率誘電体セラミ
ックス、高誘電率誘電体セラミックスと低誘電率誘電体
セラミックス、磁性体セラミックスと高誘電率誘電体セ
ラミックスと低誘電率誘電体セラミックスとからなる場
合についても同様の効果が得られる。
【0025】
【発明の効果】請求項1の積層セラミック複合部品によ
れば、少なくとも2つのセラミックスを積層して形成し
た積層体を一体化する際に、それら積層体を構成する少
なくとも2つのセラミックスよりも小さい収縮率を有す
る絶縁体セラミックスで挟み込んで加圧することにより
一体化するため、積層体を構成する少なくとも2つのセ
ラミックスの収縮率を、積層体を挟み込んだ絶縁体セラ
ミックスの収縮率と同等にすることができる。
【0026】したがって、積層体を構成する少なくとも
2つのセラミックスの収縮率の違いによる反りを抑える
ことができ、その結果、少なくとも2つのセラミックス
の界面での割れを防止することができる。
【0027】請求項2の積層セラミック複合部品によれ
ば、少なくとも2つのセラミックスを、少なくとも2つ
のセラミックスよりも小さい収縮率を有する絶縁体セラ
ミックスを介して積層して積層体を形成しているため、
少なくとも2つのセラミックスの面方向の収縮率の差
を、絶縁体セラミックスに吸収させることができる。
【0028】したがって、積層体を構成する少なくとも
2つのセラミックスの収縮率の違いによる反りをより抑
えることができ、その結果、少なくとも2つのセラミッ
クスの界面での割れをさらに防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の積層セラミック複合部品に係る第1の
実施例の斜視図である。
【図2】図1の積層セラミック複合部品を構成する積層
体の分解斜視図である。
【図3】図1の積層セラミック複合部品を構成する成形
体の製造方法を示す斜視図である。
【図4】本発明の積層セラミック複合部品に係る第2の
実施例の斜視図である。
【符号の説明】
10、20 積層セラミック複合部品 11、12 セラミックス(低誘電率誘電体セラミ
ックス、磁性体セラミックス) 13 積層体 14 絶縁体セラミックス

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁性体セラミックス、高誘電率誘電体セ
    ラミックス及び低誘電率誘電体セラミックスの中から選
    ばれた少なくとも2つのセラミックスを積層して形成し
    た積層体を、前記少なくとも2つのセラミックスよりも
    小さい収縮率を有する絶縁体セラミックスで挟み込んで
    一体化したことを特徴とする積層セラミック複合部品。
  2. 【請求項2】 前記積層体が、前記少なくとも2つのセ
    ラミックスを、前記絶縁体セラミックスを介して積層す
    ることにより形成されることを特徴とする請求項1に記
    載の積層セラミック複合部品。
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KR100471151B1 (ko) * 2002-09-19 2005-03-10 삼성전기주식회사 적층형 lc 필터
WO2008004557A1 (fr) 2006-07-03 2008-01-10 Hitachi Metals, Ltd. Circuit en dérivation, circuit haute fréquence et module haute fréquence
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