JP3491211B2 - ４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀カラー写真
用、染料用、医薬用、農薬用等に有用な４−アリールチ
オ−５−ピラゾロンの製造法に関し、詳しくは、低コス
ト、高収率で作業性に優れた４−アリールチオ−５−ピ
ラゾロンの製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】４−アリールチオピラゾロンの合成法に
は従来から知られたいくつかの方法がある。

【０００３】例えば、ピラゾロン類をスルフェニルクロ
リド類と反応させて４−アリールチオピラゾロンを合成
する方法（以下、方法１と略称する）が特開昭５０−１
２２９３５号、同５５−１７９５０号、同５７−３５８
５８号、同５８−１４５９４４号、同５８−２０５１５
１号、同６０−２３８５５号、同６３−２５６５５号、
同６３−３６２４６号、特開平２−１８５５３号、同２
−２７３４３号、および同２−２８６４６号に記載され
ている。

【０００４】また、４−ハロ−５−ピラゾロン類とチオ
フェノール類との反応による４−アリールチオ−５−ピ
ラゾロン類の製造法（以下、方法２と略称する）が特開
昭５７−３５８５８号、同６３−２５６５５号、同６３
−３６２４６号、特開平２−１８５５３号、および同２
−２９５９７５号に記載されている。

【０００５】更に、５−ピラゾロン類とスルフェンアミ
ド類との反応による４−アリールチオ−５−ピラゾロン
類の製造法（以下、方法３と略称する）が特開昭６３−
１６６８６７号に記載されている。

【０００６】しかしながら、前記各方法とも満足すべき
収率が得られないことに加えて次のような欠点を有して
いた。即ち、方法１では、スルフェニルクロリド類が水
と反応して速やかに分解するため、使用する溶媒の含水
率を厳密に管理する必要があり、工業的に実施する際の
大きな障害となっていた。

【０００７】方法２では、ピラゾロン類をハロゲン化す
る必要があるが、その際、分子内の他の反応活性部位を
予め保護しておく必要があり、脱保護工程が必要なこと
と合わせて、コストを高くする原因となっていた。ま
た、４−ハロ−５−ピラゾロン類は安定性が悪いため操
作が難しく、収率も不安定である。また、ハロゲン化に
は公害がともなっていた。

【０００８】方法３では、スルフェンアミド類を安価、
かつ容易に合成することが難しい点で問題があった。

【０００９】カルバニオンとジスルフィドの反応にはい
くつかの文献例がある。例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．ＪＰＮ．，５１，３００８（１９７８）にはβ
−ケトエステルとアリールジスルフィドをヨウ化ナトリ
ウムと共にＨＭＰＡ中で反応させることが記載されてい
る。この例では反応溶媒に脱水精製したＨＭＰＡを用い
ているのでこの方法では目的物を工業的に大量かつ安価
に製造することは難しい。収率も比較的低く、満足でき
る値ではない。更に、ジスルフィドの一方を脱離基とし
てしか利用していないため、β−ケトエステル１モルに
対しアリールジスルフィドを１モル用いる必要があり、
経済的でない。

【００１０】また、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋ
ｉｎ Ｔｒａｎｓ Ｉ，２２６３（１９７７）にはホス
フィンオキサイドに隣接するカルバニオンとジスルフィ
ドの反応が記載されている。この例では高価で危険な有
機金属試薬を用い、高価な溶媒であるテトラメチルエチ
レンアミンを用い、無水条件下−７８℃で反応を行って
おり、この方法では目的物を工業的に大量かつ安価に製
造することが難しい。

【００１１】このように、公知の方法では、４−アリー
ルチオ−５−ピラゾロン類を大量かつ安価、容易に安定
に製造することは難しい。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は５−ピ
ラゾロン類の４位にアリールチオ基をきわめて収率よく
導入し容易な操作で大量かつ安定、安全、無公害、安価
に４−アリールチオ−５−ピラゾロン類を工業的に製造
する方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
構成によって達成された。

【００１４】（１）５−ピラゾロン類を酸化剤、水およ
びアルカリの存在下ジスルフィド類と反応させることを
特徴とする４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成
方法。

【００１５】（２）前記アルカリが炭酸塩または苛性ア
ルカリであることを特徴とする（１）に記載の４−アリ
ールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。

【００１６】（３）非プロトン性極性溶媒共存下で反応
を行うことを特徴とする（１）または（２）に記載の４
−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。

【００１７】（４）５−ピラゾロン類が３−アニリノ−
５−ピラゾロンであることを特徴とする（１）、（２）
または（３）に記載の４−アリールチオ−５−ピラゾロ
ン類の合成方法。

【００１８】（５）５−ピラゾロン類が１−ペンタクロ
ロフェニル−３−アニリノ−５−ピラゾロンであること
を特徴とする（１）、（２）、（３）または（４）に記
載の４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。

【００１９】（６）ジスルフィド類がオルト位に置換基
を有する対称なジアリールジスルフィド類であることを
特徴とする（１）、（２）、（３）、（４）または
（５）に記載の４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の
合成方法。

【００２０】（７）反応後、再結晶精製までの間に酸処
理を行うことを特徴とする（１）〜（６）のいづれか１
項に記載の４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成
方法。

【００２１】

【００２２】

【００２３】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２４】本発明によって製造される４−アリールチ
オ−５−ピラゾロン類は写真分野においてマゼンタカプ
ラーとして用いられる重要な化合物であり、かつ、多く
の医薬、農薬、染料等の合成中間体として有用な化合物
である。５−ピラゾロン類を用いたハロゲン化銀写真感
光材料は露光後カラー現像処理されると５−ピラゾロン
類が現像主薬酸化体と反応して対応するアゾメチン色素
を生成しマゼンタ色像を形成する。

【００２５】４−アリールチオ−５−ピラゾロン類をマ
ゼンタカプラーとして用いると、現像主薬酸化体とのカ
ップリング速度が速く高感度になる、現像液のｐＨが変
動しても濃度変化を起こし難い、画像保存性が改良され
る、保存時の黄色濃度の増加（非像様）が抑えられる等
多くのメリットが得られる。

【００２６】このように４−アリールチオ−５−ピラゾ
ロン類は写真用化合物として極めて重要な化合物であ
る。

【００２７】本発明の製造法の原料となるピラゾロン類
は５−ピラゾロンであれば特に制約はなく、任意のもの
を用いることができる。このピラゾロン類は本発明の効
果が顕著に得られる点で３−アニリノピラゾロンである
ことが好ましく、３−アニリノ−１−ペンタクロロフェ
ニル−５−ピラゾロンであることがより好ましい。

【００２８】本発明の製造法の原料となるジスルフィド
類はジアリールジスルフィドであれば特に制約はなく、
任意のものを用いることができる。このジアリールジス
ルフィド類は本発明の効果が顕著に得られる点でオルト
位に置換基を有する対称なジアリールジスルフィドであ
ることが好ましく、オルト位にアシルアミノ基を置換し
た対称なジアリールジスルフィドであることが特に好ま
しい。

【００２９】本発明で使用する塩基には特に制限はない
が、炭酸塩または苛性アルカリを用いることが収率、コ
スト、操作性の点で好ましく、炭酸塩であることがより
好ましい。炭酸ナトリウム、炭酸カリウムを用いること
が特に好ましい。

【００３０】トリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピ
リジン、ナトリウムメチラート等の有機塩基を用いるこ
とも可能である。

【００３１】使用する塩基の量には特に制限はないが、
ピラゾロン類の０．１当量から１０当量が好ましく、よ
り好ましくは１当量から６当量を用いることができる。

【００３２】本発明で使用する反応溶媒には、エステル
（例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等）、芳香族
炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン等）、ハロゲン
化炭化水素（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン
等）、非プロトン性極性溶媒（例えば、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、Ｎ−メチルピロリジノン等）、アルコール（例え
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、
エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等）、アセトニトリル、水等を用いることができ、特に
制限はないが、沸点５０〜１４０℃の溶媒であることが
好ましい。本発明の効果を得易い点で反応溶媒は酢酸エ
チル、トルエン、水、ジメチルホルムアミド、クロロホ
ルム、ジクロロメタンであることがより好ましく、酢酸
エチル、水、ジメチルホルムアミドであることが最も好
ましい。反応溶媒は混合して用いてもよく、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド、水の混合溶媒が特に好まし
い。混合溶媒を用いる際には、水をその一成分とするこ
とが好ましい。互いに自由に混合しない溶媒を用いて、
二層系の反応としても構わない。

【００３３】本発明を実施する際には、酸化剤共存下に
反応を行うことができ、そのことにより、反応中原料ジ
スルフィドから脱離副生するメルカプチドアニオン（従
来知られた方法では、このまま利用し得ずに廃棄されて
いた）を酸化してジスルフィドとして反応中、自動的に
再生し反応に再利用を自動的にくり返し行ことができる
ことを見いだし得たので、原料ジスルフィドを無駄な
く、経済的に利用できて好ましく、又、反応時間短縮の
ためにも好ましい。酸化剤の種類に特に制限はないが、
酸素分子またはそれを含む空気、過酸化水素、次亜塩素
酸塩、オゾンの使用が好ましく、酸素分子共存下に反応
を行うことが特に好ましい。

【００３４】ここで、酸素分子共存下とは、反応液が酸
素分子や空気に触れていれば良く、反応液をかき混ぜた
り、これら気体を反応液中に導入する、反応容器中、反
応液上の空間にこれら気体を流通させる、等の手段によ
って反応液中への気体の溶解を促進することがより好ま
しい。

【００３５】本発明において、反応温度には特に制限は
ないが、０℃以上１００℃以下であることが好ましく、
２０℃以上６０℃以下であることがより好ましい。

【００３６】４−アリールチオピラゾロン類を製造する
際には、通常反応後再結晶によってこれを精製するのみ
であるが、本発明においては反応後再結晶精製までの間
に酸処理を施すことによって収率を上げることもできて
有利である。

【００３７】酸処理は４−アリールチオピラゾロン類を
含む溶液に酸を加えることが好ましく水と自由に混合し
ない有機溶媒と水を用いて二層系とし、塩酸、硫酸、硝
酸、トシル酸、酢酸等の酸を加えることが特に好まし
い。塩酸の使用が収率向上、操作性改良のために最も有
利である。酸の使用量は理論収量の０．００１〜５当量
が好ましい。

【００３８】本発明の合成法は４−アリールチオ−５−
ピラゾロン類に広く適用できる。本発明の合成法により
製造しうる４−アリールチオ−５−ピラゾロン類として
は、例えば下記一般式（１）で示されるものが挙げられ
る。

【００３９】

【化１】

【００４０】式中、Ｒ¹，Ｒ²は各々水素原子または置換
基を表し、Ｒ³はアリール基を表す。

【００４１】一般式（１）において、Ｒ¹，Ｒ²で表され
る置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アルキルカルボニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールス
ルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、
スルホンアミド基、アミド基、ウレイド基、チオウレイ
ド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒド
ロキシル基、ハロゲン原子が好ましいものとして挙げる
ことができる。

【００４２】Ｒ¹，Ｒ²で表されるアルキル基としては例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、
t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-
エチルヘキシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、エイ
コシル基等が挙げられる。該アルキル基は、置換基を有
するものを含み、該置換基としては、例えば、ハロゲン
原子（例えば塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等の各原
子）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基
等）、シクロアルキル基（例えばシクロベンチル基、シ
クロヘキシル基）、へテロ環基（例えばピロリジル基、
ピリジル基等）、スルフィン酸基、カルボキシル基、ス
ルホ基、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メルカプト基、
アミノ基（例えばアミノ基、ジエチルアミノ基等）、ア
ルキルオキシ基（例えばメチルオキシ基、エチルオキシ
基、ブチルオキシ基、オクチルオキシ基、イソプロピル
オキシ基等）、アリールオキシ基（フェニルオキシ基、
ナフチルオキシ基等）、カルバモイル基（例えばアミノ
カルボニル基、メチルカルバモイル基、ペンチルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基等）、アミド基（例
えばメチルアミド基、ベンズアミド基、オクチルアミド
基等）、アミノスルホニルアミノ基（例えばアミノスル
ホニルアミノ基、メチルアミノスルホニルアミノ基、ア
ニリノスルホニルアミノ基等）、スルファモイル基（例
えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェ
ニルスルファモイル基、ブチルスルファモイル基等）、
スルホンアミド基、（例えばメタンスルホンアミド基、
ヘプタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基
等）、スルフィニル基（例えばメチルスルフィニル基、
エチルスフィニル基、オクチルスルフィニル基等のアル
キルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基等のアリ
ールスルフィニル基等）、アルキルオキシカルボニル基
（例えばメチルオキシカルボニル基、エチルオキシカル
ボニル基、2-ヒドロキシエチルオキシカルボニル基、オ
クチルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボ
ニル基（例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフチル
オキシカルボニル基等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基、ヘキシルチオ基等）、アリー
ルチオ基（例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基
等）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル基、エチ
ルカルボニル基、ブチルカルボニル基、オクチルカルボ
ニル基等）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル
基、p-メタンスルホンアミドベンゾイル基、p-カルボキ
シベンゾイル基、ナフトイル基等）、シアノ基、ウレイ
ド基（例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基
等）、チオウレイド基（例えばメチルチオウレイド基、
フェニルチオウレイド基等）等が挙げられる。

【００４３】Ｒ¹，Ｒ²で表されるアリール基としては、
例えばフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタクロロ
フェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、ナフ
チル基等が挙げられる。該アリール基は置換基を有する
ものを含み、該置換基としては例えばＲ¹，Ｒ²で表され
るアルキル基、またはＲ¹，Ｒ²で表されるアルキル基の
置換基として挙げた前述の基が挙げられる。

【００４４】Ｒ¹，Ｒ²で表されるヘテロ環基としては、
例えばピリジル基（2-ピリジル基、3-ピリジル基、4-ピ
リジル基、5-カルボキシ-2-ピリジル基、3,5-ジクロロ-
2-ピリジル基、4,6-ジメチル-2-ピリジル基、6-ヒドロ
キシ-2-ピリジル基、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ピリジ
ル基、3-ニトロ-2-ピリジル基等）、オキサゾリル基（5
-カルボキシ-2-ベンゾオキサゾリル基、2-ベンゾオキサ
ゾリル基、2-オキサゾリル基等）、チアゾリル基（5-ス
ルファモイル-2-ベンゾチアゾル基、2-ベンゾチアゾリ
ル基、2-チアゾリル基等）、イミダゾリル基（l-メチル
-2-イミダゾリル基、l-メチル-5-カルボキシ-2-ベンゾ
イミダゾリル基等）、フリル基（3-フリル基等）、ピロ
リル基（3-ピロリル基等）、チエニル基（2-チエニル基
等）、ピラジニル基（2-ピラジニル基等）、ピリミジニ
ル基（2-ピリミジニル基、4-クロロ-2-ピリミジニル基
等）、ピリダジニル基（2-ピリダジニル基等）、ブリニ
ル基（8-ブリニル基等）、イソオキサゾリル基（3-イソ
オキサゾリル基等）、セレナゾリル基（5-カルボキシ-2
-セレナゾリル基等）、スルホラニル基（3-スルホラニ
ル基等）、ピペリジニル基（1-メチル-3-ピペリジニル
基等）、ピラゾリル基（3-ピラゾリル基等）、テトラゾ
リル基（l-メチル-5-テトラゾリル基等）等が挙げら
れ、該ヘテロ環基は置換基を有するものを含み、該置環
基としては例えばＲ¹，Ｒ²で表されるアルキル基または
Ｒ¹，Ｒ²で表されるアルキル基の置換基として挙げた前
述の基が挙げられる。

【００４５】Ｒ¹，Ｒ²で表されるシクロアルキル基とし
ては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等が、Ｒ¹，Ｒ²で表さ
れるアルキルカルボニル基としては、例えばメチルカル
ボニル基、エチルカルボニル基、i-プロピルカルボニル
基、t-ブチルカルボニル基、オクチルカルボニル基、ド
デシルカルボニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアリールカ
ルボニル基としては、例えばフェニルカルボニル基、ナ
フチルカルボニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表さるアルコキシカ
ルボニル基としては、例えばエトキシカルボニル基、i-
プロポキシカルボニル基、t-ブトキシカルボニル基、ベ
ンチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル
基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアリールオキシカルボニル基
としては、例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフチ
ルオキシカルボニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアルキル
スルホニル基としては、例えばメチルスルホニル基、エ
チルスルホニル基、i-プロピルスルホニル基、t-ブチル
スルホニル基、オクチルスルホニル基、オクタデシルス
ルホニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアリールスルホニル
基としては、例えば、フェニルスルホニル基、ナフチル
スルホニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアルキルスルフィ
ニル基としては、例えばメチルスルフィニル基、エチル
スルフィニル基、i-プロピルスルフィニル基、t-ブチル
スルフィニル基、オクチルスルフィニル基、ドデシルス
ルフィニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアリールスルフィ
ニル基としては、例えばフェニルスルフィニル基、ナフ
チルスルフィニル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるカルバモイ
ル基としては、例えばアミノカルボニル基、メチルカル
バモイル基、エチルカルバモイル基、i-プロピルカルバ
モイル基、t-ブチルカルバモイル基、ドデシルカルバモ
イル基、フェニルカルバモイル基、2-ピリジルカルバモ
イル基、4-ピリジルカルバモイル基、ベンジルカルバモ
イル基、モルホリノカルバモイル基、ピベラジノカルバ
モイル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるスルファモイル基とし
ては、例えばアミノスルホニル基、メチルスルファモイ
ル基、i-プロピルスルファモイル基、t-ブチルスルファ
モイル基、ドデシルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基、2-ピリジルスルファモイル基、4-ピリジル
スルファモイル基、モルホリノスルファモイル基、ピペ
ラジノスルファモイル基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアミノ
基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチル
アミノ基、i-プロピルアミノ基、t-ブチルアミノ基、オ
クチルアミノ基、ドデシルアミノ基、ジメチルアミノ
基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、モルホリノ基、ピ
ペラジノ基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるスルホンアミド基と
しては、例えばメチルスルホンアミド基、エチルスルホ
ンアミド基、i-プロピルスルホンアミド基、t-ブチルス
ルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基、フェニル
スルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等、
Ｒ¹，Ｒ²で表されるアミド基としては、例えばメチルカ
ルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、i-プロ
ピルカルボニルアミノ基、t-ブチルカルボニルアミノ
基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニル
アミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等、Ｒ¹，Ｒ²で
表されるアルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、
ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、i-プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、オクチルア
ミノ基等、Ｒ¹，Ｒ²で表されるアリールアミノ基として
は、アニリノ基、ナフチルアミノ基等が挙げられる。
これらのＲ¹，Ｒ²で表される各基は、置換基を有するも
のを含み、該置換基としては例えばＲ¹，Ｒ²で表される
アルキル基、またはＲ¹，Ｒ²で表されるアルキル基の置
換基として挙げた前述の基が挙げられる。

【００４６】Ｒ³で表されるアリール基としては、例え
ばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。該アリール
基は置換基を有するものを含み、該置換基としては例え
ばＲ¹で表されるアルキル基、またはＲ¹で表されるアル
キル基の置換基として挙げた前述の基が挙げられる。

【００４７】次に本発明の合成法が適用できる４−アリ
ールチオ−５−ピラゾロンのうち、好ましい例を挙げ
る。一般式（１）で表される４−アリールチオ−５−ピ
ラゾロンのうち、Ｒ²が

【００４８】

【化２】

【００４９】であるものが好ましい。Ｙは２価の基であ
り、例えば−Ｏ−、−ＮＲ⁵、アルキレン、−ＣＯ−、
−ＮＲ⁶ＣＯ−、−ＣＯＮＲ⁷−、−ＮＲ⁸ＣＯＮＲ⁹等が
挙げられる。Ｒ⁴〜Ｒ⁹は各々Ｒ¹と同義である。このう
ち、より好ましくはＹは−ＮＨ−である。更に好ましく
はＹは−ＮＨ−であり、Ｘは塩素原子である。

【００５０】また、本発明の合成法を適用できるより好
ましい例は、４−アリールチオ−５−ピラゾロンが一般
式（２）で表される場合である。

【００５１】

【化３】

【００５２】式中、Ｒ³，Ｒ⁴，Ｘ，ｍは一般式（１）に
おけるＲ³，Ｒ⁴，Ｘ，ｍと各々同義である。Ｒ¹⁰はＲ¹
と同義である。ｎは０〜５の整数である。

【００５３】Ｒ¹⁰が塩素原子であり、ｎが５の時が最も
好ましい。

【００５４】次に本発明の合成法により製造しうる５−
ピラゾロン類の例示化合物を示す。しかし、本発明は、
これに限定されない。

【００５５】

【化４】

【００５６】

【化５】

【００５７】

【化６】

【００５８】

【化７】

【００５９】

【化８】

【００６０】

【化９】

【００６１】

【実施例】

実施例１ 例示化合物１の合成

【００６２】

【化１０】

【００６３】１００ｍｌコニカルビーカーに、中間体Ａ
５．１２ｇ、中間体Ｂ６．４６ｇ、ＤＭＦ３０ｍｌを入
れ５０℃迄加熱撹拌する。この中に、水酸化カリウム３
ｇを２０ｍｌの水に溶かした溶液を加える。更に、酢酸
エチル２０ｍｌを加え５０℃にて７時間反応する。

【００６４】１６時間放置後、酢酸エチル３０ｍｌを加
え抽出し水層を分液する。この中に濃塩酸３ｍｌを３０
ｍｌの水に希釈して加えｐＨを１以下にする。その後、
水層を分液する。次に、酢酸エチル層を食塩水にてｐＨ
が４になるまで水洗する。

【００６５】酢酸エチル層を減圧乾固し、エチルアルコ
ール６４ｍｌを加え加温溶解する。この中に結晶母を入
れ撹拌冷却し濾取する。

【００６６】例示化合物１が９．１２ｇ（８５．２％）
微桃白色晶として得られた。

【００６７】このものは、ＮＭＲスペクトル、マススペ
クトルによって例示化合物１の構造を有することを確認
した。

【００６８】実施例２ 例示化合物１の合成 ２０ｌホーローポットに、ＤＭＦ１．５ｌ、酢酸エチル
４．５ｌ、中間体Ｂ６４６ｇ、中間体Ａ４７０ｇ、水６
７０ｍｌに炭酸カリウム１３８ｇを溶かした溶液を入れ
５０℃にて７時間反応する。

【００６９】１６時間放置後、水１ｌを加え水層を分液
する。この中に、濃塩酸１００ｍｌを２ｌの水に希釈し
て加えｐＨを１以下にする。その後、水層を分液する。
次に、酢酸エチル層を食塩水にてｐＨが４になるまで水
洗する。

【００７０】酢酸エチル層を減圧乾固し、エチルアルコ
ール６４０ｍｌを加え加温溶解する。この中に、結晶母
を入れ撹拌冷却し濾取する。

【００７１】例示化合物１が９２．３ｇ（８６．３％）
微桃白色晶として得られた。

【００７２】このものは、ＮＭＲスペクトル、マススペ
クトルによって例示化合物１の構造を有することを確認
した。

【００７３】比較例１ 例示化合物１の合成 ３ｌ４口フラスコに、ＤＭＦ１７００ｍｌ、中間体Ａ１
９８ｇ、中間体Ｂ２８５ｇを加え５０℃迄加温する。こ
の中に、臭素４４ｇを滴下し５０℃にて３時間反応す
る。

【００７４】その後、加温を止め酢酸エチル３ｌを加え
抽出し酢酸エチル層を食塩水にてｐＨが４になるまで水
洗する。

【００７５】酢酸エチル層を減圧乾固し、エチルアルコ
ール１５００ｍｌを加え加温溶解する。この中に、結晶
母を入れ撹拌冷却し濾取する。更にエチルアルコール２
５００ｍｌにて加温撹拌した後冷却結析し濾取する。

【００７６】例示化合物１が２６０．１ｇ（５５．０
％）淡黄白色晶として得られた。

【００７７】このものは、ＮＭＲスペクトル、マススペ
クトルによって例示化合物１の構造を有することを確認
した。

【００７８】実施例３ 中間体Ａおよび中間体Ｂを各々対応する構造の化合物に
代えて（モル数は変更せずに）、その他の条件は実施例
２と同様にして例示化合物２，３，４，５，９〜１３，
１５，１６，２０〜２４を合成した。収率を表１に示
す。

【００７９】

【表１】

【００８０】比較例２ 実施例１の水酸化カリウムに代えて同モルのナトリウム
メチラートを用い、水を用いない他は実施例２と同様に
合成したが目的物は単離できなかった。ＨＰＬＣ（高圧
液体クロマトグラフィー）によって求めた目的物（例示
化合物１）の反応生成率（収率）は２０％であった。

【００８１】比較例３ 実施例１と同様の合成を窒素雰囲気下（即ち、酸素が無
い雰囲気下）で行うと目的物は単離できなかった。ＨＰ
ＬＣによって求めた目的物（例示化合物１）の反応生成
率（収率）は６３％であった。

【００８２】比較例４ 水を用いない他は実施例１と同様の合成を行うと、ＨＰ
ＬＣによって求めた目的物（例示化合物１）の反応生成
率は６５％であった。

【００８３】実施例７ ＤＭＦを用いない他は実施例１と同様の合成を行うと、
ＨＰＬＣによって求めた目的物（例示化合物１）の反応
生成率は７５％であった。

【００８４】実施例８ 反応液を抽出水洗する際、酸処理を行わない他は実施例
１と同様の合成を行ったところ、単離収率は３５％であ
った。

【００８５】以上のように、現在のところ、最も優れて
いる合成法の１つである比較例１と比べてみても、比較
例は、高価かつ危険な医薬用外劇物であり揮発性が高い
ことから、作業者が猛毒のガスとして収入してしまう危
険のある臭素を用いねばならないのに比べて、本発明の
方法、即ち例えば実施例２によれば、炭酸カリウム水溶
液を用いればよいので、非常に安全、容易、安価、無公
害で、大量合成に適しており、しかも、目的物の収率も
よりまさって高収率であり、従来法に比べて非常に優れ
ていることがわかる。

【００８６】以上、実施例より、明らかになるように、
本発明によって産業上有用な化合物である４−アリール
−５−ピラゾロン類を簡便な操作によって安定かつ安
全、無公害、安価に高収率で工業的に製造できることが
判る。

【００８７】

【発明の効果】本発明により、５−ピラゾロン類の４位
にアリールチオ基をきわめて収率よく導入し容易な操作
で大量かつ安定、安全、無公害、安価に４−アリールチ
オ−５−ピラゾロン類を工業的に製造する方法を提供す
ることができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−166867（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−186858（ＪＰ，Ａ) 特表 平２−501772（ＪＰ，Ａ) Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，41（22） ｐｐ3587−89 (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 231/18

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ５−ピラゾロン類を酸化剤、水およびア
   ルカリの存在下ジスルフィド類と反応させることを特徴
   とする４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成方
   法。
2. 【請求項２】 前記アルカリが炭酸塩または苛性アルカ
   リであることを特徴とする請求項１に記載の４−アリー
   ルチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。
3. 【請求項３】 非プロトン性極性溶媒共存下で反応を行
   うことを特徴とする請求項１または２に記載の４−アリ
   ールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。
4. 【請求項４】 ５−ピラゾロン類が３−アニリノ−５−
   ピラゾロンであることを特徴とする請求項１、２または
   ３に記載の４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成
   方法。
5. 【請求項５】 ５−ピラゾロン類が１−ペンタクロロフ
   ェニル−３−アニリノ−５−ピラゾロンであることを特
   徴とする請求項１、２、３または４に記載の４−アリー
   ルチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。
6. 【請求項６】 ジスルフィド類がオルト位に置換基を有
   する対称なジアリールジスルフィド類であることを特徴
   とする請求項１、２、３、４または５に記載の４−アリ
   ールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。
7. 【請求項７】 反応後、再結晶精製までの間に酸処理を
   行うことを特徴とする請求項１〜６のいづれか１項に記
   載の４−アリールチオ−５−ピラゾロン類の合成方法。