JP3485232B2 - 光学活性化合物及びその製造方法 - Google Patents

光学活性化合物及びその製造方法

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JP3485232B2 JP03150897A JP3150897A JP3485232B2 JP 3485232 B2 JP3485232 B2 JP 3485232B2 JP 03150897 A JP03150897 A JP 03150897A JP 3150897 A JP3150897 A JP 3150897A JP 3485232 B2 JP3485232 B2 JP 3485232B2
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    • C07BGENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
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    • C07B2200/07Optical isomers

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性な(2
S,3R)−2−(3’−ヒドロキシアシル)アミノア
ルカン−1,3−ジオール類およびその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】セラミドは角質層の細胞間脂質ラメラ内
に存在する特定のスフィンゴ脂質で、皮膚表皮の水分保
持機能や水分浸透性に対するバリア機能などを有するこ
とが知られている。既に、ヒト、馬、牛、豚などの哺乳
類の皮膚の角質層や、脳、その他の臓器などから種々の
セラミドが単離同定されており、大きく分類してタイプ
1からタイプ6までの各種セラミドが存在することが報
告されている(D.T.Downing et al., J.Invest.Dermato
l., vol.84, p410 (1985) )。
【0003】これらセラミドはスフィンゴシン塩基部分
と脂肪酸部分とのアミド結合により構成されているが、
その中でもタイプ4からタイプ6に分類されるセラミド
は脂肪酸部分に水酸基を有しており、当該水酸基を有す
るヒドロキシ酸はカルボニル基に隣接したα−ヒドロキ
シ脂肪酸(2−ヒドロキシ脂肪酸)を構成している。ま
た、これらセラミドのスフィンゴシン塩基部分において
は(2S,3R)−の立体配置を有する光学活性体であ
り、また2−ヒドロキシ脂肪酸部分においては(R)−
体の立体配置を有する光学活性体であることが知られて
いる。
【0004】このように、分子内に水酸基を有する2−
ヒドロキシ脂肪酸部分に関しては、前述した光学活性体
のものも含めて既に公知となっているが、その一方で分
子内に水酸基を有する3−ヒドロキシ脂肪酸部分に関し
ては、特開平2−200,691号公報に、N−アシル
基を誘導する低級飽和酸の例としてラセミ体の3−ヒド
ロキシ吉草酸が挙げられているが、具体的な製造方法や
物理化学的データなどの記載はなく、光学活性な3−ヒ
ドロキシ酸から構成されるセラミドに関する記載、開示
は一切見当たらない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、脂肪酸部分
の3−位に光学活性な水酸基を有して成る新規な光学活
性セラミドおよびその製造方法を提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは種々のセラ
ミドを合成し、その特性につき研究している過程で、分
子内に3−ヒドロキシ脂肪酸を有するセラミドに着目
し、鋭意検討を重ねた結果、光学活性な(2S,3R)
−2−アミノアルカン−1,3−ジオール類と光学活性
な3−ヒドロキシアルカン酸エステル類とを、アルコー
ル溶媒中塩基性触媒の存在下に、反応時に生成する低級
アルコール類を反応系外に留去しつつ反応を行うことに
より選択的にN−アシル化反応が進行し、分子内に3−
ヒドロキシ脂肪酸を有する光学活性なセラミドを製造す
ることができることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0007】即ち、本発明は、下記一般式(1)
【化5】 (式中、R1 は炭素数9乃至19個の直鎖或いは分岐の
飽和脂肪族炭化水素基を、R2 は炭素数1乃至19個の
直鎖或いは分岐の飽和脂肪族炭化水素基を示す。*印は
S−またはR−配置の不斉炭素原子を意味する。)で表
される新規な光学活性(2S,3R)−2−(3’−ヒ
ドロキシアシル)アミノアルカン−1,3−ジオール類
を提供する。
【0008】また、本発明は、下記一般式(2)
【化6】 (式中、R1 は炭素数9乃至19個の直鎖或いは分岐の
飽和脂肪族炭化水素基を示す。)で表される光学活性な
(2S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオー
ル類と、下記一般式(3)
【化7】 (式中、R2 は炭素数1乃至19個の直鎖或いは分岐の
飽和脂肪族炭化水素基を、R3 は低級アルキル基を示
す。*印はS−またはR−配置の不斉炭素原子を意味す
る。)で表される光学活性な3−ヒドロキシアルカン酸
エステル類とを、アルコール溶媒中塩基性触媒の存在下
で、反応時に生成する低級アルコール類を反応系外に留
去しつつ反応させることを特徴とする、下記一般式
(1)
【化8】 (式中、R1 は上記一般式(2)の定義に、R2 は上記
一般式(3)に同じ。*印は上記一般式(3)の定義に
同じ。)で表される光学活性な(2S,3R)−2−
(3’−ヒドロキシアシル)アミノアルカン−1,3−
ジオール類の製造方法を提供する。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明において上記一般式(1)
で表される光学活性な(2S,3R)−2−(3’−ヒ
ドロキシアシル)アミノアルカン−1,3−ジオール類
は新規な化合物であり、具体的には、当該化合物の脂肪
酸部分の3’−位が(R)−体である(2S,3R,
3’R)−2−(3’−ヒドロキシアシル)アミノアル
カン−1,3−ジオール類、及び脂肪酸部分の3’−位
が(S)−体である(2S,3R,3’S)−2−
(3’−ヒドロキシアシル)アミノアルカン−1,3−
ジオール類を挙げることができる。
【0010】また、上記一般式(1)で表される光学活
性な(2S,3R)−2−(3’−ヒドロキシアシル)
アミノアルカン酸エステル類は、上記一般式(2)で表
される光学活性な(2S,3R)−2−アミノ−1,3
−ジオール類と、上記一般式(3)で表される光学活性
な3−ヒドロキシアルカン酸エステル類とを、アルコー
ル溶媒中塩基性触媒の存在下に、反応時に生成する低級
アルコールを反応系外に留去しつつ反応を行い、選択的
にN−アシル化反応を行うことにより製造することがで
きる。
【0011】当該製造方法によれば、上記一般式(3)
で表される3−ヒドロキシアルカン酸エステル類として
(R)−体化合物を使用することにより(2S,3R,
3’R)−2−(3’−ヒドロキシアシル)アミノアル
カン−1, 3−ジオール類が得られ、また、上記一般式
(3)で表される3−ヒドロキシアルカン酸エステル類
として(S)−体化合物を使用することにより(2S,
3R,3’S)−2−(3’−ヒドロキシアシル)アミ
ノアルカン−1, 3−ジオール類をそれぞれ製造するこ
とができる。
【0012】本発明の製造方法において、反応物質の一
つとして使用される上記一般式(2)で示される光学活
性な(2S,3R)−2−アミノ−1,3−ジオール類
は、例えば、特開平6−80,617号公報に記載され
た方法に準じて合成することができる。この製造工程を
図1に示す。すなわち、この方法によれば、2−アセト
アミノ−3−オキソアルカン酸エステル(図1中)を
出発原料として使用し、このものをルテニウム−光学活
性ホスフィン錯体を触媒として不斉水素化を行い、光学
活性な(2R,3S)−2−アセトアミノ−3−ヒドロ
キシアルカン酸エステル(図1中)を得、次いで、当
該エステルの3−位水酸基の立体配置を反転させて(2
R,3R)−体(図1中)とした後、引き続きエステ
ル部分の還元、脱アセチル化を行うことにより光学活性
な(2S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオ
ール類(図1中)を得ることができる。
【0013】なお、図1において、R1 及びR3 は上記
一般式(2)または(3)におけるそれらと同じ意味
を、(T)−BINAPは2,2’−ビス(ジ−p−ト
リルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルを意味する。
【0014】また、反応に使用されるもう一方の原料で
ある上記一般式(3)で表される光学活性な3−ヒドロ
キシアルカン酸エステル類は、例えば、特開昭63−3
10,847号公報に記載された方法に準じて合成する
ことができる。この製造工程を図2に示す。すなわち、
この方法によれば、3−オキソアルカン酸エステル(図
2中)をルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒
として不斉水素化を行うことにより、一段階で高い光学
純度を有する化合物を得ることができる。本反応におい
ても、使用する触媒の絶対配置の異なる配位子を用いる
ことにより、即ち、(+)−体の光学活性ホスフィン錯
体を用いることにより(R)−3−ヒドロキシアルカン
酸エステル類が得られ、(−)−体の光学活性ホスフィ
ン錯体を用いることにより(S)−3−ヒドロキシアル
カン酸エステル類がそれぞれ得られる。
【0015】このようにして得られる3−ヒドロキシア
ルカン酸エステル類としては、上記一般式(3)におい
て、R2 が炭素数1乃至19個の直鎖或いは分岐の飽和
脂肪族炭化水素基を、及びR3 が炭素数1乃至4個、好
ましくは1乃至2個の低級アルキル基で示される化合物
を包含し、具体的には次の化合物を挙げることができ
る。
【0016】即ち、(R)−体又は(S)−体の立体配
置を有する、3−ヒドロキシブタン酸メチル、3−ヒド
ロキシブタン酸エチル、3−ヒドロキシペンタン酸メチ
ル、3−ヒドロキシペンタン酸エチル、3−ヒドロキシ
ヘキサン酸メチル、3−ヒドロキシヘキサン酸エチル、
3−ヒドロキシヘプタン酸メチル、3−ヒドロキシヘプ
タン酸エチル、3−ヒドロキシオクタン酸メチル、3−
ヒドロキシオクタン酸エチル、3−ヒドロキシノナン酸
メチル、3−ヒドロキシノナン酸エチル、3−ヒドロキ
シデカン酸メチル、3−ヒドロキシデカン酸エチル、3
−ヒドロキシウンデカン酸メチル、3−ヒドロキシウン
デカン酸エチル、3−ヒドロキシドデカン酸メチル、3
−ヒドロキシドデカン酸エチル、3−ヒドロキシトリデ
カン酸メチル、3−ヒドロキシトリデカン酸エチル、3
−ヒドロキシテトラデカン酸メチル、3−ヒドロキシテ
トラデカン酸エチル、3−ヒドロキシペンタデカン酸メ
チル、3−ヒドロキシペンタデカン酸エチル、3−ヒド
ロキシヘキサデカン酸メチル、3−ヒドロキシヘキサデ
カン酸エチル、3−ヒドロキシ-15-メチルヘキサデカン
酸メチル、3−ヒドロキシ-15-メチルヘキサデカン酸エ
チル、3−ヒドロキシヘプタデカン酸メチル、3−ヒド
ロキシヘプタデカン酸エチル、3−ヒドロキシオクタデ
カン酸メチル、3−ヒドロキシオクタデカン酸エチル、
3−ヒドロキシノナデカン酸メチル、3−ヒドロキシノ
ナデカン酸エチル、3−ヒドロキシエイコサン酸メチ
ル、3−ヒドロキシエイコサン酸エチル、3−ヒドロキ
シドコサン酸メチル、3−ヒドロキシドコサン酸エチ
ル、3−ヒドロキシヘンエイコサン酸メチル、3−ヒド
ロキシヘンエイコサン酸エチルなどの飽和脂肪酸のメチ
ルエステルやエチルエステルが挙げられるが、これらに
限定されるものではない。
【0017】本発明の製造方法において使用される一般
式(3)で表される光学活性な3−ヒドロキシアルカン
酸エステル類は、一般式(2)で表される(2S,3
R)−2−アミノ−1,3−ジオール類1モルに対して
1.0〜1.5モル使用され、好ましくは1.0〜1.
2モル使用される。
【0018】本反応において使用されるアルコール溶媒
としては炭素数2乃至8個のアルコール類が挙げられ、
例えば、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、t−ブチルアルコール、アミルアルコール、ヘ
キシルアルコール、ヘプチルアルコール、オクチルアル
コールなどを挙げることができ、これらアルコール類は
単独若しくは2種以上を混合して使用することができ
る。
【0019】本反応において製造される目的化合物はア
ルコール類に比較的容易に分散し易く、特にn−ブチル
アルコールを使用した場合には、反応終了後も他の溶媒
を用いることなくそのままn−ブチルアルコール溶液を
冷却し結晶を析出させることができ、更にこのものをメ
タノールやエタノールなどから再結晶して精製すること
ができる。
【0020】本反応においては、使用するアルコール溶
媒の量が少な過ぎると上記一般式(2)で表される(2
S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオール類
の一級アルコール性水酸基のエステル化が起こり、この
ものは結晶性が良く、反応溶液中から再結晶などにより
除去することが困難となるため、本反応において用いら
れるアルコール溶媒は上記一般式(2)で表される(2
S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオール類
に対して1乃至10倍量(容量/重量)、好ましくは3
乃至8倍量(容量)を使用する。
【0021】本発明の製造方法において使用される塩基
性触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシドなどを挙げることができ、これらは上記
一般式(3)で表される光学活性な3−ヒドロキシアル
カン酸エステル類1モルに対して通常0.01〜0.2
モル使用することができる。
【0022】本発明の反応は、上記一般式(2)の(2
S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオール類
のアミノ基を選択的にN−アシル化するものであるが、
アシル化反応の際に生成するメタノールやエタノールな
どの低級アルコール類を減圧下に、若しくは窒素、空気
などのガスを導入して反応系外へ留去しながら効率良く
反応を行うことができる。反応を減圧下で行う場合に
は、通常30〜100mmHg、50〜120℃で反応
を行うことができ、また、窒素、空気などのガスを導入
する場合には、例えば窒素ガスの場合は、流量は毎分N
2 100ml程度で90〜120℃に加熱して行われ
る。
【0023】本反応において上記一般式(3)で表され
る3−ヒドロキシアルカン酸エステル類の滴下時間は1
5分程度で十分であり、また、上記一般式(2)の(2
S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオール類
と水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及びn−ブチルア
ルコールの混合物中に90〜95℃で加熱後に一気に加
えてもよい。反応時間は通常0.5乃至6時間、好まし
くは1乃至2時間である。
【0024】反応終了後、反応溶液を反応装置から取り
出し、室温乃至−30℃まで冷却して目的化合物である
上記一般式(1)で表される光学活性な(2S,3R)
−2−(3’−ヒドロキシアシル)アミノアルカン−
1,3−ジオール類を粗結晶として析出させる。このも
のを濾取した後、得られた結晶をメタノール、エタノー
ル或いはアセトニトリルなどから再結晶することによ
り、容易に不純物を除去し、精製することができる。
【0025】
【発明の効果】本発明により得られる分子内に3−ヒド
ロキシ脂肪酸を有する上記一般式(1)で表される新規
な光学活性(2S,3R)−2−(3’−ヒドロキシア
シル)アミノアルカン−1,3−ジオール類は、高い水
分保持機能を持ち、且つ皮膚表皮における優れたバリア
機能を有することから、化粧品の基剤としてその有用性
が期待できる。
【0026】また、本発明の製造方法においては、反応
中に結晶を析出することなく、更に、反応終了後の精製
段階において、抽出などの煩雑な操作を必要とせずに目
的化合物を高収率で製造することができるため、工業
的、経済的にも有利な製造方法である。
【0027】
【実施例】以下、参考例及び実施例により本発明を更に
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。実施例中の測定は特に限定しない限り、
次の分析機器及び条件下で行った。
【0028】(分析機器及び条件) ・高速液体クロマトグラフィー 機 器:L6200(株式会社日立製作所製) 検出器:UV検出器L4000(株式会社日立製作所
製) ・核磁気共鳴スペクトル 機 器:AM−400型装置 400MHz(ブルッカ
ー社製) 内部標準物質:テトラメチルシラン ・比旋光度 機 器:DIP−4型装置(日本分光工業株式会社製) ・元素分析 機 器:CHN−2400(パーキンエルマー社製) ・質量分析 機 器:M80B(株式会社日立製作所製) ・融点測定 機器:MP−S3(柳本商事株式会社製)
【0029】参考例1(R)−3−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの合成 (1)3−オキソオクタデカン酸メチル 60%水素化ナトリウム440g(11mol)の乾燥
テトラヒドロフラン懸濁液4Lを0℃に冷却し、アセト
酢酸メチル1.161kg(10mol)のテトラヒドロ
フラン溶液1.8Lを滴下し室温で1時間攪拌した後、
0〜5℃で塩化ヘキサデカノイル3.023kg(11m
ol)を滴下した。室温で一晩攪拌した後、テトラヒド
ロフランを留去し、氷水中へ注入し酢酸エチル8Lで抽
出した。酢酸エチルを留去の後、28%ナトリウムメト
キシドのメタノール溶液400gとメタノール1.2L
の混合溶液中に注ぎ、60〜65℃で6時間加熱攪拌し
た。生成物を氷冷後10%硫酸でpH5とした後酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を5%炭酸ソーダ水、飽
和食塩水で洗浄の後、酢酸エチルを留去し濃縮物をメタ
ノールより再結晶して3−オキソオクタデカン酸メチル
を1.72kg(5.5mol)得た。収率55%。融
点:45℃
【0030】(2)(R)−3−ヒドロキシオクタデカ
ン酸メチル 上記のようにして得た3−オキソオクタデカン酸メチル
50gとメタノール50mlを200mlのオートクレーブ
(ハステロイ製)に入れ、窒素ガスで置換する。ここ
へ、ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体であるRu2
Cl4 ((+)−(T)BINAP)2 Et3 N325
mgを塩化メチレン3.8mlに溶解した溶液を添加し、6
5℃で水素圧30atmで不斉水素化を行った。12時
間反応させた後に反応溶液を取り出し、メタノールより
再結晶して(R)−3−ヒドロキシオクタデカン酸メチ
ル47.8gを得た。収率95%。 融 点:38〜40℃ 比旋光度〔α〕D 25:−4.50(c=1.0,CHC
3
【0031】この化合物の光学純度は、塩化メチレン中
でN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド及び触媒
量の4−ジメチルアミノピリジンの存在下で、(R)−
(+)−α−メトキシ−α−トリフルオロメチルフェニ
ル酢酸(以下、「MTPA」という)と反応させてMT
PA−エステル体を合成し、高速液体クロマトグラフィ
ー分析を行った結果、98%e.e であることを確認し
た。
【0032】参考例2(R)−3−ヒドロキシペンタン酸メチルの合成 3−オキソオペンタン酸メチル(ワッカーケミカル社
製)50gとメタノール75mlを200mlのオートクレ
ーブ(ハステロイ製)に入れ、窒素ガスで置換する。こ
こへ、ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体Ru2 Cl
4 ((+)−(T)BINAP)2 Et3 N325mgを
塩化メチレン3.8mlに溶解した溶液を添加し、水素圧
30atm、反応温度30℃で不斉水素化を行った。5
0時間反応させた後に反応溶液を取り出し、メタノール
を留去した後に、減圧蒸留して(R)−3−ヒドロキシ
ペンタン酸メチル49.8gを得た。 収率98%。 沸 点:66℃/2mmHg 比旋光度〔α〕D 25:−46.50(c=1.0,CH
Cl3 ) この化合物の光学純度は高速液体クロマトグラフィー分
析を行った結果、99.3%e.e であることを確認し
た。
【0033】参考例3(R)−3−ヒドロキシオクタン酸メチルの合成 3−オキソオクタン酸メチル(井上香料製造所(株)
製)20gとメタノール40mlを100mlのオートクレ
ーブ(ハステロイ製)に入れ、窒素ガスで置換する。こ
こへ、ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体Ru2 Cl
4 ((+)−(T)BINAP)2 Et3 N150mgを
塩化メチレン1.2mlに溶解した溶液を添加し、反応温
度65℃、水素圧30atmで不斉水素化を行った。6
時間反応させた後に反応溶液を取り出し、メタノールを
留去した後に、減圧蒸留して(R)−3−ヒドロキシオ
クタン酸メチル19.2gを得た。収率95%。 沸 点:85℃/0.1mmHg 比旋光度〔α〕D 25:−4.50(c=1.0,CHC
3 ) この化合物の光学純度は高速液体クロマトグラフィー分
析を行った結果、98. 5%e.e であることを確認し
た。
【0034】参考例4(S)−3−ヒドロキシオクタン酸メチルの合成 3−オキソオオクタン酸メチル(井上香料製造所(株)
製)20gとメタノール50mlを100mlのオートクレ
ーブ(ハステロイ製)に入れ、窒素ガスで置換する。こ
こへ、ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体Ru2 Cl
4 ((−)−(T)BINAP)2 Et3 N140mgを
塩化メチレン1.0mlに溶解した溶液を添加し、反応温
度65℃、水素圧30atmで不斉水素化を行った。6
時間反応させた後に反応溶液を取り出し、メタノールを
留去した後に、減圧蒸留して(S)−3−ヒドロキシオ
クタン酸メチル19.4gを得た。収率96%。 沸 点:85°℃/0.1mmHg 比旋光度〔α〕D 25:+4.50(c=1.0,CHC
3 ) この化合物の光学純度は高速液体クロマトグラフィー分
析を行った結果、98.5%e.e であることを確認し
た。
【0035】実施例1(2S,3R,3’R)−2−(3’−ヒドロキシオク
タデカノイル)アミノオクタデカン−1,3−ジオール
の合成 攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、気泡計を備えた
300mlの4つ口フラスコに85%水酸化カリウム0.
66g(0.01mol)及び(2S,3R)−2−ア
ミノオクタデカン−1,3−ジオール30.1g(0.
1mol)、ブタノール150mlを入れ、この懸濁液に
(R)−3−ヒドロキシオクタデカン酸メチル31.4
g(0.10mol)を90℃で滴下した。窒素ガス
(100ml/分)を導入しながら2時間反応させた後、
−20℃に冷却し、得られた粗結晶を濾過し、更にメタ
ノールより再結晶して(2S,3R,3’R)−2−
(3’−ヒドロキシオクタデカノイル)アミノオクタデ
カン−1,3−ジオールを46.7g得た。収率80.
1%。
【0036】融 点:119.5〜127℃ 比旋光度〔α〕D 25:+3.97(c=0.13 ,CHCl3:MeOH
=10:1)1 H−NMR(CDCl3 ,δppm) 0.81(t,6H,J=7.0Hz) 1.19(brs,50H)、1.33〜1.61
(m,10H) 2.20〜2.53(m,2H)、3.22〜3.50
(m,2H)、3.72(m,1H)、3.79(m,
1H)、6.53(d,1H,J=7.8Hz) MS:584(M+ +1) 元素分析:C3673NO4 として 理論値(%) C:74.04,H:12.60,N:
2.40 実測値(%) C:73.98,H:12.45,N:
2.35
【0037】実施例2(2S,3R,3’S)−2−(3’−ヒドロキシオク
タデカノイル)アミノオクタデカン−1,3−ジオール
の合成 実施例1と同様の操作により、(2S,3R)−2−ア
ミノオクタデカン−1,3−ジオール30.1g(0.
1mol)、(S)−3−ヒドロキシオクタデカン酸メ
チル31.4g(0.1 mol)を用いて、(2S,
3R,3’S)−2−(3’−ヒドロキシオクタノイ
ル)アミノオクタデカン−1,3−ジオール48.0g
を得た。収率82.4%。
【0038】融 点:141〜144℃ 比旋光度〔α〕D 25:+2.99(c=0.10,ピリ
ジン)1 H−NMR(ピリジン−d5 ,δppm) 0.87(t,6H,J=7.0Hz)、1.27(b
rs,50H)、1.50〜2.01(m,6H)、
2.80(m,2H)、4.31(m,2H)、4.4
8(m,2H)、4.68(m,1H)、6.35
(m,3H)、8.67(d,1H,J=8.6Hz) MS:584(M+ +1) 元素分析:C3673NO4 として 理論値(%) C:74.04,H:12.60,N:
2.40 実測値(%) C:73.98,H:12.45,N:
2.35
【0039】実施例3(2S,3R,3’R)−2−(3’−ヒドロキシオク
タノイル)アミノオクタデカン−1,3−ジオールの合
実施例1と同様の操作により、(2S,3R)−2−ア
ミノオクタデカン−1, 3−ジオール30.1g(0.
1mol)、(R)−3−ヒドロキシオクタン酸メチル
17.4g(0.1mol)を用いて、(2S,3R,
3’R)−2−(3’ヒドロキシオクタノイル)アミノ
オクタデカン−1,3−ジオールを39.2g得た。収
率88.2%。
【0040】融 点:127〜134℃ 比旋光度〔α〕D 25:+5.99(c=0.10,CHCl
3:MeOH=10:1 )1 H−NMR(ピリジン−d5 ,δppm) 0.88(t,t,6H,J=7.2,6.8Hz)、
1.27(brs,28H)、1.40(m,1H)、
1.58〜1.80(m,4H)、1.80〜2.02
(m,3H)、2.75(m,2H)、4.30(m,
2H)、4.47(m,2H)、4.70(m,1
H)、6.35(m,3H)、8.67(d,1H,J
=8.6Hz) MS:444(M+ +1) 元素分析:C2653NO4 として 理論値(%) C:70.38 H:12.04 N:
3.16 実測値(%) C:70.30 H:12.10 N:
3.07
【0041】実施例4(2S,3R,3’S)−2−(3’−ヒドロキシオク
タノイル)アミノオクタデカン−1,3−ジオールの合
実施例1と同様の操作により、(2S,3R)−2−ア
ミノオクタデカン−1, 3−ジオール30.1g(0.
1mol)、(S)−3−ヒドロキシオクタン酸メチル
17.4g(0.1mol)を用いて、(2S,3R,
3’S)−2−(3’ヒドロキシオクタノイル)アミノ
オクタデカン−1,3−ジオールを40.0g得た。収
率90.0%。
【0042】融 点:130〜134℃ 比旋光度〔α〕D 25:+18.01(c=0.10,CH
Cl3:MeOH=10:1)1 H−NMR(ピリジン−d5 ,δppm) 0.80(t,3H,J=7.1Hz)、0.87
(t,3H,J=6.8Hz)、1.27(brs,2
8H)、1.40(m,1H)、1.58〜1.80
(m,4H)、1.80〜2.02(m,3H)、2.
75(m,2H)、4.27(m,1H)、4.47
(m,2H)、4.69(m,1H)、6.28(m,
1H)、6.37(m,2H)、8.67(d,1H,
J=8.6Hz) MS:444(M+ +1) 元素分析:C2653NO4 として 理論値(%) C:70.38 H:12.04 N:
3.16 実測値(%) C:70.25 H:12.00 N:
3.12
【0043】実施例5(2S,3R,3’R)−2−(3’−ヒドロキシペン
タノイル)アミノオクタデカン−1,3−ジオールの合
実施例1と同様の操作により、(2S,3R)−2−ア
ミノオクタデカン−1,3−ジオール30.1g(0.
1mol)、(R)−3−ヒドロキシペンタン酸メチル
13.2g(0.1mol)を用いて、(2S,3R,
3’R)−2−(3’−ヒドロキシペンタノイル)アミ
ノオクタデカン−1,3−ジオールを33.1g得た。
収率82.4%。
【0044】融 点:120〜134℃ 比旋光度〔α〕D 25:−14.98(C=0.122,
CHCl3 1 H−NMR(ピリジン−d5 ,δppm) 0.88(t,3H,J=7.0Hz)、1.04
(t,3H,J=7.5Hz)、1.27(brs,2
4H)、1.58(m,1H)、1.71(m,2
H)、1.90(m,3H)、2.75(m,2H)、
4.22〜4.55(m,4H)、4.68(m,1
H)、6.35(m,3H)、8.65(d,1H,J
=8.7Hz) MS:402(M+ +1) 元素分析:C2347NO4 として 理論値(%) C:68.78,H:11.79,N:
3.49 実測値(%) C:68.58,H:11.86,N:
3.47
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の一般式(2)で表される光学活
性な(2S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジ
オール類の製造工程を示す合成経路図である。
【図2】図2は本発明の一般式(3)で表される光学活
性な3−ヒドロキシアルカン酸エステル類の製造工程を
示す合成経路図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−200691(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 235/00 C07C 231/00 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は炭素数9乃至19個の直鎖或いは分岐の
    飽和脂肪族炭化水素基を、R2 は炭素数1乃至19個の
    直鎖或いは分岐の飽和脂肪族炭化水素基を示す。*印は
    S−またはR−配置の不斉炭素原子を意味する。)で表
    される光学活性な(2S,3R)−2−(3’−ヒドロ
    キシアシル)アミノアルカン−1,3−ジオール類。
  2. 【請求項2】 下記一般式(2) 【化2】 (式中、R1 は炭素数9乃至19個の直鎖或いは分岐の
    飽和脂肪族炭化水素基を示す。)で表される光学活性な
    (2S,3R)−2−アミノアルカン−1,3−ジオー
    ル類と、下記一般式(3) 【化3】 (式中、R2 は炭素数1乃至19個の直鎖或いは分岐の
    飽和脂肪族炭化水素基を、R3 は低級アルキル基を示
    す。*印はS−またはR−配置の不斉炭素原子を意味す
    る。)で表される光学活性な3−ヒドロキシアルカン酸
    エステル類とを、アルコール溶媒中塩基性触媒の存在下
    で、反応時に生成する低級アルコール類を反応系外に留
    去しつつ反応させることを特徴とする、下記一般式
    (1) 【化4】 (式中、R1 は上記一般式(2)の定義に、R2 は上記
    一般式(3)に同じ。*印は上記一般式(3)の定義に
    同じ。)で表される光学活性な(2S,3R)−2−
    (3’−ヒドロキシアシル)アミノアルカン−1,3−
    ジオール類の製造方法。
  3. 【請求項3】 アルコール溶媒が炭素数2乃至8個から
    成るアルコール類である請求項2記載の光学活性な(2
    S,3R)−2−(3’−ヒドロキシアシル)アミノア
    ルカン−1,3−ジオール類の製造方法。
  4. 【請求項4】 アルコール溶媒がn−ブタノールである
    請求項2記載の光学活性な(2S,3R)−2−(3’
    −ヒドロキシアシル)アミノアルカン−1,3−ジオー
    ル類の製造方法。
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