JP3483107B2 - ヘキサフルオロリン酸リチウムの精製法 - Google Patents
ヘキサフルオロリン酸リチウムの精製法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リチウム電池およ
びリチウムイオン電池の電解質として有用なヘキサフル
オロリン酸リチウムの精製法に関する。
びリチウムイオン電池の電解質として有用なヘキサフル
オロリン酸リチウムの精製法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする問題点】ヘ
キサフルオロリン酸リチウム（ＬｉＰＦ6）の製造方法
は種々検討されており、例えば無溶媒で固体のフッ化リ
チウムと気体の五フッ化リンを反応させる方法（特開昭
６４-７２９０１号公報）や無水フッ化水素を溶媒とし
て、溶解したフッ化リチウムと気体状の五フッ化リンを
反応させる方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐａｒｔ４，
４４０８（１９６３））があるが、反応収率、ハンドリ
ングの容易さ、純度等の点から好ましい方法ではない。
反応溶媒として無水フッ化水素を用いた場合、以下の反
応式に示す方法である。 ＬｉＦ ＋ ＰＦ5 → ＬｉＰＦ6
キサフルオロリン酸リチウム（ＬｉＰＦ6）の製造方法
は種々検討されており、例えば無溶媒で固体のフッ化リ
チウムと気体の五フッ化リンを反応させる方法（特開昭
６４-７２９０１号公報）や無水フッ化水素を溶媒とし
て、溶解したフッ化リチウムと気体状の五フッ化リンを
反応させる方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐａｒｔ４，
４４０８（１９６３））があるが、反応収率、ハンドリ
ングの容易さ、純度等の点から好ましい方法ではない。
反応溶媒として無水フッ化水素を用いた場合、以下の反
応式に示す方法である。 ＬｉＦ ＋ ＰＦ5 → ＬｉＰＦ6
【０００３】しかし、反応溶媒として無水フッ化水素を
使用しているために、生成したヘキサフルオロリン酸リ
チウム中にフッ化水素が残存するという問題があった。
この残存するフッ化水素は電池として使用する場合、電
池反応を阻害したり、電極を腐食するといった問題が生
じてきた。
使用しているために、生成したヘキサフルオロリン酸リ
チウム中にフッ化水素が残存するという問題があった。
この残存するフッ化水素は電池として使用する場合、電
池反応を阻害したり、電極を腐食するといった問題が生
じてきた。
【０００４】また、有機溶媒にヘキサフルオロリン酸リ
チウムを溶解して再結晶することにより、不純物の除去
を行う方法もいくつか提案されているが、有機溶媒から
結晶化を行う際、溶媒分子とヘキサフルオロリン酸リチ
ウム分子が付加物結晶を形成したり、その飽和溶液自体
の蒸気圧が低いために、減圧乾燥を行ったとしても、生
成したヘキサフルオロリン酸リチウム中に不純物として
残存してしまう。また、減圧乾燥を行う際、飽和溶液自
体の蒸気圧は低く、またヘキサフルオロリン酸リチウム
と飽和溶液との蒸気圧の差が小さいため、除去に長時間
を要する。また、時間をかけて処理を行ったとしても、
以下の解離反応が進行し、収率が低下してしまう。（こ
こでいう解離とはＬｉＦ濃度、つまり遊離Ｆ濃度から遊
離酸濃度を差し引いた値で判断できる。） ＬｉＰＦ6 → ＬｉＦ ＋ ＰＦ5
チウムを溶解して再結晶することにより、不純物の除去
を行う方法もいくつか提案されているが、有機溶媒から
結晶化を行う際、溶媒分子とヘキサフルオロリン酸リチ
ウム分子が付加物結晶を形成したり、その飽和溶液自体
の蒸気圧が低いために、減圧乾燥を行ったとしても、生
成したヘキサフルオロリン酸リチウム中に不純物として
残存してしまう。また、減圧乾燥を行う際、飽和溶液自
体の蒸気圧は低く、またヘキサフルオロリン酸リチウム
と飽和溶液との蒸気圧の差が小さいため、除去に長時間
を要する。また、時間をかけて処理を行ったとしても、
以下の解離反応が進行し、収率が低下してしまう。（こ
こでいう解離とはＬｉＦ濃度、つまり遊離Ｆ濃度から遊
離酸濃度を差し引いた値で判断できる。） ＬｉＰＦ6 → ＬｉＦ ＋ ＰＦ5
【０００５】また、ヘキサフルオロリン酸リチウム中の
溶媒分子が、粒界ではなく、結晶中に存在すると考える
と減圧脱気のみでの除去は困難であり、この溶媒分子を
減圧等で強制的に除去するとヘキサフルオロリン酸リチ
ウムの分解が促進されるため、この方法も実用的ではな
い。
溶媒分子が、粒界ではなく、結晶中に存在すると考える
と減圧脱気のみでの除去は困難であり、この溶媒分子を
減圧等で強制的に除去するとヘキサフルオロリン酸リチ
ウムの分解が促進されるため、この方法も実用的ではな
い。
【０００６】そこで、リチウム電池電解液用非水溶媒で
あるジメチルカーボネート（ＤＭＣ）中でフッ化リチウ
ムと五フッ化リンとを反応させる方法の発明（特願平９
-６４９５９号）を本出願人は出願したが、この方法
は、リチウム電池電解液用の各種の非水溶媒の中でもジ
メチルカーボネートのみが特異的に２０℃より低い温度
領域において付加物結晶を形成しないため、効率的にヘ
キサフルオロリン酸リチウムを製造することを可能にし
た。
あるジメチルカーボネート（ＤＭＣ）中でフッ化リチウ
ムと五フッ化リンとを反応させる方法の発明（特願平９
-６４９５９号）を本出願人は出願したが、この方法
は、リチウム電池電解液用の各種の非水溶媒の中でもジ
メチルカーボネートのみが特異的に２０℃より低い温度
領域において付加物結晶を形成しないため、効率的にヘ
キサフルオロリン酸リチウムを製造することを可能にし
た。
【０００７】ただし、生成したヘキサフルオロリン酸リ
チウムをヘキサフルオロリン酸リチウムとジメチルカー
ボネートの飽和溶液から濾別分離し、減圧乾燥した際
に、飽和溶液の除去が不十分であると、ジメチルカーボ
ネート以外の溶媒を使用して電池を作製する場合、飽和
溶液の残留物が不純物として電池特性に悪影響を及ぼす
可能性がある。また、減圧乾燥する際に、温度条件が、
７０℃以下では、飽和溶液自体の蒸気圧は低く、また飽
和溶液とヘキサフルオロリン酸リチウムの蒸気圧差も小
さいため、除去が困難であり、７０℃以上の温度領域に
なるとヘキサフルオロリン酸リチウムの蒸気圧が３〜４
ｔｏｒｒ以上となるためヘキサフルオロリン酸リチウム
の解離を促進してしまう。
チウムをヘキサフルオロリン酸リチウムとジメチルカー
ボネートの飽和溶液から濾別分離し、減圧乾燥した際
に、飽和溶液の除去が不十分であると、ジメチルカーボ
ネート以外の溶媒を使用して電池を作製する場合、飽和
溶液の残留物が不純物として電池特性に悪影響を及ぼす
可能性がある。また、減圧乾燥する際に、温度条件が、
７０℃以下では、飽和溶液自体の蒸気圧は低く、また飽
和溶液とヘキサフルオロリン酸リチウムの蒸気圧差も小
さいため、除去が困難であり、７０℃以上の温度領域に
なるとヘキサフルオロリン酸リチウムの蒸気圧が３〜４
ｔｏｒｒ以上となるためヘキサフルオロリン酸リチウム
の解離を促進してしまう。
【０００８】
【問題点を解決するための具体的手段】本発明者らは、
かかる従来技術の問題点に鑑み鋭意検討の結果、密閉容
器内での加熱、脱気を行うことで、不純物である溶媒を
５００ｐｐｍ以下まで除去可能としたもので、ヘキサフ
ルオロリン酸リチウムとジメチルカーボネートまたはジ
エチルカーボネートの飽和溶液中に生成したヘキサフル
オロリン酸リチウムを濾過分離し、容器内にて減圧密
封、または、大気圧密封し、１００〜１７０℃の温度範
囲で加熱処理することでヘキサフルオロリン酸リチウム
の分解を抑えたまま、ヘキサフルオロリン酸リチウム中
のジメチルカーボネートまたはジエチルカーボネートを
除去することが可能であること、更に、加熱処理の前処
理として、２０〜７０℃の温度範囲で減圧乾燥すること
により、更に効率よく除去することが可能であることを
見出し、本発明に到達したものである。
かかる従来技術の問題点に鑑み鋭意検討の結果、密閉容
器内での加熱、脱気を行うことで、不純物である溶媒を
５００ｐｐｍ以下まで除去可能としたもので、ヘキサフ
ルオロリン酸リチウムとジメチルカーボネートまたはジ
エチルカーボネートの飽和溶液中に生成したヘキサフル
オロリン酸リチウムを濾過分離し、容器内にて減圧密
封、または、大気圧密封し、１００〜１７０℃の温度範
囲で加熱処理することでヘキサフルオロリン酸リチウム
の分解を抑えたまま、ヘキサフルオロリン酸リチウム中
のジメチルカーボネートまたはジエチルカーボネートを
除去することが可能であること、更に、加熱処理の前処
理として、２０〜７０℃の温度範囲で減圧乾燥すること
により、更に効率よく除去することが可能であることを
見出し、本発明に到達したものである。
【０００９】すなわち本発明は、本出願人が出願した特
願平９-６４９５９号明細書に記載したようなジエチル
カーボネートまたはジメチルカーボネート中で蒸発濃縮
によって得られるヘキサフルオロリン酸リチウムの精製
方法として、減圧下、または、大気圧下で容器を密封
し、１００〜１７０℃の温度範囲で加熱した後、６０〜
９０℃の温度範囲で減圧脱気すること、更に、前処理と
して２０〜７０℃の温度範囲、１〜１０ｔｏｒｒの圧力
範囲で減圧乾燥を行うことを特徴とするヘキサフルオロ
リン酸リチウムの精製方法を提供するものである。
願平９-６４９５９号明細書に記載したようなジエチル
カーボネートまたはジメチルカーボネート中で蒸発濃縮
によって得られるヘキサフルオロリン酸リチウムの精製
方法として、減圧下、または、大気圧下で容器を密封
し、１００〜１７０℃の温度範囲で加熱した後、６０〜
９０℃の温度範囲で減圧脱気すること、更に、前処理と
して２０〜７０℃の温度範囲、１〜１０ｔｏｒｒの圧力
範囲で減圧乾燥を行うことを特徴とするヘキサフルオロ
リン酸リチウムの精製方法を提供するものである。
【００１０】本発明の精製方法は、ヘキサフルオロリン
酸リチウムの分解を抑制したまま、効率よく、残存する
ジメチルカーボネートまたはジエチルカーボネートを除
去できる点で十分満足できるものである。
酸リチウムの分解を抑制したまま、効率よく、残存する
ジメチルカーボネートまたはジエチルカーボネートを除
去できる点で十分満足できるものである。
【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
精製方法においてより効率的で、遊離酸の少ない精製の
ために重要となるのは、前処理の減圧乾燥で、約２００
０〜５０００ｐｐｍまで溶媒を除去し、後処理において
密閉容器中にて減圧密閉、または、大気圧密封したまま
加熱処理を行うことで、溶媒残存量５００ｐｐｍ以下の
ヘキサフルオロリン酸リチウムに精製するところにあ
る。例えば溶媒中に生成したヘキサフルオロリン酸リチ
ウムを常温で減圧濾過した後の残存ジメチルカーボネー
ト量は、通常約５〜１０％程度である。従って、前処理
の減圧乾燥を行わずに、そのまま容器内に密閉し加熱処
理（後処理）を行うと、多量の溶媒が結晶中に残存して
いるため、除去に長時間を要す。また、残存溶媒とヘキ
サフルオロリン酸リチウムの熱による何らかの反応が起
こり遊離酸の増加を招き好ましくない。
精製方法においてより効率的で、遊離酸の少ない精製の
ために重要となるのは、前処理の減圧乾燥で、約２００
０〜５０００ｐｐｍまで溶媒を除去し、後処理において
密閉容器中にて減圧密閉、または、大気圧密封したまま
加熱処理を行うことで、溶媒残存量５００ｐｐｍ以下の
ヘキサフルオロリン酸リチウムに精製するところにあ
る。例えば溶媒中に生成したヘキサフルオロリン酸リチ
ウムを常温で減圧濾過した後の残存ジメチルカーボネー
ト量は、通常約５〜１０％程度である。従って、前処理
の減圧乾燥を行わずに、そのまま容器内に密閉し加熱処
理（後処理）を行うと、多量の溶媒が結晶中に残存して
いるため、除去に長時間を要す。また、残存溶媒とヘキ
サフルオロリン酸リチウムの熱による何らかの反応が起
こり遊離酸の増加を招き好ましくない。
【００１２】まず、前処理として、２０〜７０℃の温度
範囲、好ましくは５０〜７０℃の温度範囲で、圧力範囲
１〜１０ｔｏｒｒ、好ましくは、３〜１０ｔｏｒｒの圧
力を保持しながら減圧乾燥を行う。この温度範囲が２０
℃以下になるとヘキサフルオロリン酸リチウムとジメチ
ルカーボネートの飽和溶液の蒸気圧が低下し乾燥に時間
がかかる。また、７０℃以上になると、ヘキサフルオロ
リン酸リチウム自体の蒸気圧が３〜４ｔｏｒｒあり、解
離反応が進行してしまう。また、圧力範囲が１ｔｏｒｒ
以下になると、ヘキサフルオロリン酸リチウムの温度範
囲６０〜７０℃での蒸気圧が約２ｔｏｒｒ以上であるた
め目的物であるヘキサフルオロリン酸リチウムまで解離
してしまう恐れがある。また、この前処理時間は、温
度、圧力にもよるが５〜１５時間で十分である。この前
処理の減圧乾燥によって乾燥時間にもよるが残存溶媒濃
度は約２０００〜５０００ｐｐｍまで除去可能となる。
範囲、好ましくは５０〜７０℃の温度範囲で、圧力範囲
１〜１０ｔｏｒｒ、好ましくは、３〜１０ｔｏｒｒの圧
力を保持しながら減圧乾燥を行う。この温度範囲が２０
℃以下になるとヘキサフルオロリン酸リチウムとジメチ
ルカーボネートの飽和溶液の蒸気圧が低下し乾燥に時間
がかかる。また、７０℃以上になると、ヘキサフルオロ
リン酸リチウム自体の蒸気圧が３〜４ｔｏｒｒあり、解
離反応が進行してしまう。また、圧力範囲が１ｔｏｒｒ
以下になると、ヘキサフルオロリン酸リチウムの温度範
囲６０〜７０℃での蒸気圧が約２ｔｏｒｒ以上であるた
め目的物であるヘキサフルオロリン酸リチウムまで解離
してしまう恐れがある。また、この前処理時間は、温
度、圧力にもよるが５〜１５時間で十分である。この前
処理の減圧乾燥によって乾燥時間にもよるが残存溶媒濃
度は約２０００〜５０００ｐｐｍまで除去可能となる。
【００１３】後処理では、残存溶媒を約２０００〜５０
００ｐｐｍまで除去した結晶を、減圧密閉もしくは大気
圧密閉し、１００〜１７０℃の温度範囲、好ましくは１
３０〜１５０℃の温度範囲で、保持時間１時間以上、好
ましくは２〜３時間加熱する。その後、温度を６０〜９
０℃まで降温し減圧脱気（５ｔｏｒｒ以下）を行う。温
度範囲が １００℃以下では残存溶媒の除去に長時間を
要するし、また、１７０℃以上の温度ではヘキサフルオ
ロリン酸リチウムと残存溶媒との熱による何らかの反応
が起こり遊離酸の増加を招く。また、減圧脱気におい
て、９０℃以上の温度で行わない理由は、この温度以上
では、ヘキサフルオロリン酸リチウムの蒸気圧が６ｔｏ
ｒｒ以上もあり、ヘキサフルオロリン酸リチウムの解離
を促進してしまうためである。また、６０℃以下では、
一旦蒸発した残存溶媒が再度凝縮し、脱気効率が悪くな
るので効果は少ない。この後処理を行った時点で、残存
溶媒濃度５００ｐｐｍ以下のヘキサフルオロリン酸リチ
ウムが得られる。
００ｐｐｍまで除去した結晶を、減圧密閉もしくは大気
圧密閉し、１００〜１７０℃の温度範囲、好ましくは１
３０〜１５０℃の温度範囲で、保持時間１時間以上、好
ましくは２〜３時間加熱する。その後、温度を６０〜９
０℃まで降温し減圧脱気（５ｔｏｒｒ以下）を行う。温
度範囲が １００℃以下では残存溶媒の除去に長時間を
要するし、また、１７０℃以上の温度ではヘキサフルオ
ロリン酸リチウムと残存溶媒との熱による何らかの反応
が起こり遊離酸の増加を招く。また、減圧脱気におい
て、９０℃以上の温度で行わない理由は、この温度以上
では、ヘキサフルオロリン酸リチウムの蒸気圧が６ｔｏ
ｒｒ以上もあり、ヘキサフルオロリン酸リチウムの解離
を促進してしまうためである。また、６０℃以下では、
一旦蒸発した残存溶媒が再度凝縮し、脱気効率が悪くな
るので効果は少ない。この後処理を行った時点で、残存
溶媒濃度５００ｐｐｍ以下のヘキサフルオロリン酸リチ
ウムが得られる。
【００１４】以上の方法によりヘキサフルオロリン酸リ
チウムの精製を行えば、不純物としての残存溶媒濃度は
５００ｐｐｍ以下、遊離酸（フッ化水素）濃度は５０ｐ
ｐｍ以下の純度の高いヘキサフルオロリン酸リチウム結
晶が得られる。
チウムの精製を行えば、不純物としての残存溶媒濃度は
５００ｐｐｍ以下、遊離酸（フッ化水素）濃度は５０ｐ
ｐｍ以下の純度の高いヘキサフルオロリン酸リチウム結
晶が得られる。
【００１５】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はかかる実施例により限定されるものではな
い。
が、本発明はかかる実施例により限定されるものではな
い。
【００１６】実施例１、比較例１、２
ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキ
ルビニルエーテル共重合体）製容器中にジメチルカーボ
ネート中にヘキサフルオロリン酸リチウムを４０．５％
溶解した飽和溶液４００ｇを入れ、５０℃で１６時間蒸
発、濃縮し晶析を行った。ここで得られたスラリーを減
圧濾別し、前処理として、ＳＵＳ３０４製容器にて５０
℃、１０時間、圧力範囲５〜６ｔｏｒｒで減圧乾燥し
た。得られた結晶は１３５ｇであり、この結晶の残存ジ
メチルカーボネート濃度をガスクロマトグラフィで定量
分析したところ５５００ｐｐｍであった。また、このと
きの遊離酸は、２５ｐｐｍ、遊離Ｆは、１２０ｐｐｍで
あった。次に後処理として、ＳＵＳ３０４製容器に入れ
たまま、減圧下（初期圧力：５ｔｏｒｒ）で密閉し、以
下の表１に示した条件で精製を行い（脱気は、Ｎ2で脱
気置換した）、その結果を表１に示した。
ルビニルエーテル共重合体）製容器中にジメチルカーボ
ネート中にヘキサフルオロリン酸リチウムを４０．５％
溶解した飽和溶液４００ｇを入れ、５０℃で１６時間蒸
発、濃縮し晶析を行った。ここで得られたスラリーを減
圧濾別し、前処理として、ＳＵＳ３０４製容器にて５０
℃、１０時間、圧力範囲５〜６ｔｏｒｒで減圧乾燥し
た。得られた結晶は１３５ｇであり、この結晶の残存ジ
メチルカーボネート濃度をガスクロマトグラフィで定量
分析したところ５５００ｐｐｍであった。また、このと
きの遊離酸は、２５ｐｐｍ、遊離Ｆは、１２０ｐｐｍで
あった。次に後処理として、ＳＵＳ３０４製容器に入れ
たまま、減圧下（初期圧力：５ｔｏｒｒ）で密閉し、以
下の表１に示した条件で精製を行い（脱気は、Ｎ2で脱
気置換した）、その結果を表１に示した。
【００１７】
【表１】
【００１８】比較例３
実施例１、比較例１、２と同様の結晶サンプル１００ｇ
（ＤＭＣ：５５００ｐｐｍ，遊離酸：２５ｐｐｍ，遊離
Ｆ：１２０ｐｐｍ）をＳＵＳ３０４製容器に入れ、減圧
乾燥せずに、１０ｔｏｒｒ以下で減圧しながら１５０
℃、１時間で加熱処理した。減圧脱気は行わなかった処
理後のサンプル量は８７ｇ、残存ジメチルカーボネート
量は３０ｐｐｍ、遊離酸増加量は２０ｐｐｍ、遊離Ｆ増
加量は約３％であった。
（ＤＭＣ：５５００ｐｐｍ，遊離酸：２５ｐｐｍ，遊離
Ｆ：１２０ｐｐｍ）をＳＵＳ３０４製容器に入れ、減圧
乾燥せずに、１０ｔｏｒｒ以下で減圧しながら１５０
℃、１時間で加熱処理した。減圧脱気は行わなかった処
理後のサンプル量は８７ｇ、残存ジメチルカーボネート
量は３０ｐｐｍ、遊離酸増加量は２０ｐｐｍ、遊離Ｆ増
加量は約３％であった。
【００１９】実施例２〜６
４０．５％のジメチルカーボネートとヘキサフルオロリ
ン酸リチウムの飽和溶液４００ｇに対し、実施例１、比
較例１、２と同様の方法で蒸発、濃縮し晶析を行った。
ここで得られたスラリーを２５℃、１時間減圧濾別し、
得られた結晶量は１４２ｇ、また結晶中の残存ジメチル
カーボネート量は１０．５％であった。また、このとき
の遊離酸は、２０ｐｐｍ、遊離Ｆは、１３５ｐｐｍであ
った。この結晶をＳＵＳ３０４製容器に入れ、以下の表
２に示した条件で精製を行い（脱気は、Ｎ2で脱気置換
した）、その結果を表２に示した。
ン酸リチウムの飽和溶液４００ｇに対し、実施例１、比
較例１、２と同様の方法で蒸発、濃縮し晶析を行った。
ここで得られたスラリーを２５℃、１時間減圧濾別し、
得られた結晶量は１４２ｇ、また結晶中の残存ジメチル
カーボネート量は１０．５％であった。また、このとき
の遊離酸は、２０ｐｐｍ、遊離Ｆは、１３５ｐｐｍであ
った。この結晶をＳＵＳ３０４製容器に入れ、以下の表
２に示した条件で精製を行い（脱気は、Ｎ2で脱気置換
した）、その結果を表２に示した。
【００２０】
【表２】
【００２１】実施例７
ＰＦＡ製容器中にジエチルカーボネート中にヘキサフル
オロリン酸リチウムを３９．０％溶解させた飽和溶液４
００ｇを入れ、５０℃、１６時間蒸発、濃縮し晶析を行
った。ここで得られたスラリーを５０℃で減圧濾別し、
ＳＵＳ３０４製容器にて６０℃、１０時間、圧力範囲３
〜４ｔｏｒｒで減圧乾燥した。得られた結晶は１２２ｇ
であり、この結晶の残存ジエチルカーボネート濃度をガ
スクロマトグラフィで定量分析したところ６２００ｐｐ
ｍであった。また、このときの遊離酸は、２０ｐｐｍ、
遊離Ｆは、１３５ｐｐｍであった。その結晶をＳＵＳ３
０４製容器に入れたまま、減圧下（初期圧力：５ｔｏｒ
ｒ）で密閉し、１３５℃、３時間加熱処理した後、９０
℃まで降温しＮ2で脱気置換した。得られた結晶の残存
ジエチルカーボネート量は３００ｐｐｍ、遊離酸増加量
は２０ｐｐｍ、遊離Ｆ増加量は２５０ｐｐｍであった。
オロリン酸リチウムを３９．０％溶解させた飽和溶液４
００ｇを入れ、５０℃、１６時間蒸発、濃縮し晶析を行
った。ここで得られたスラリーを５０℃で減圧濾別し、
ＳＵＳ３０４製容器にて６０℃、１０時間、圧力範囲３
〜４ｔｏｒｒで減圧乾燥した。得られた結晶は１２２ｇ
であり、この結晶の残存ジエチルカーボネート濃度をガ
スクロマトグラフィで定量分析したところ６２００ｐｐ
ｍであった。また、このときの遊離酸は、２０ｐｐｍ、
遊離Ｆは、１３５ｐｐｍであった。その結晶をＳＵＳ３
０４製容器に入れたまま、減圧下（初期圧力：５ｔｏｒ
ｒ）で密閉し、１３５℃、３時間加熱処理した後、９０
℃まで降温しＮ2で脱気置換した。得られた結晶の残存
ジエチルカーボネート量は３００ｐｐｍ、遊離酸増加量
は２０ｐｐｍ、遊離Ｆ増加量は２５０ｐｐｍであった。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、従来の乾燥方法に比
べ、残存溶媒濃度が非常に低い高純度なヘキサフルオロ
リン酸リチウムを提供することができる。
べ、残存溶媒濃度が非常に低い高純度なヘキサフルオロ
リン酸リチウムを提供することができる。
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｈ０１Ｍ 10/40 Ｈ０１Ｍ 10/40 Ｂ
(72)発明者 徳永 敦之
山口県宇部市大字沖宇部5253番地 セン
トラル硝子株式会社化学研究所内
(72)発明者 高畑 満夫
山口県宇部市大字沖宇部5253番地 セン
トラル硝子株式会社化学研究所内
(56)参考文献 特開 平６−298507（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−298506（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C01B 25/455
Claims (2)
- 【請求項１】 ヘキサフルオロリン酸リチウムをヘキサ
フルオロリン酸リチウムとジエチルカーボネートまたは
ジメチルカーボネートからなる飽和溶液中より蒸発、濃
縮により晶析させ、濾別したものを容器に入れ密閉し１
００〜１７０℃の温度範囲で加熱した後、６０〜９０℃
の温度範囲で減圧脱気することを特徴とするヘキサフル
オロリン酸リチウムの精製法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の精製方法において、濾
別したものを容器に入れ密閉する前に、前処理として２
０〜７０℃の温度範囲で、圧力を１〜１０ｔｏｒｒに保
持したまま減圧乾燥処理し、後処理として、減圧下、ま
たは、大気圧下で容器を密閉し、１００〜１７０℃の温
度範囲で加熱した後、６０〜９０℃の温度範囲で減圧脱
気することを特徴とするヘキサフルオロリン酸リチウム
の精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31088997A JP3483107B2 (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | ヘキサフルオロリン酸リチウムの精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31088997A JP3483107B2 (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | ヘキサフルオロリン酸リチウムの精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11147705A JPH11147705A (ja) | 1999-06-02 |
| JP3483107B2 true JP3483107B2 (ja) | 2004-01-06 |
Family
ID=18010610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31088997A Expired - Fee Related JP3483107B2 (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | ヘキサフルオロリン酸リチウムの精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3483107B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3798560B2 (ja) * | 1998-11-17 | 2006-07-19 | ステラケミファ株式会社 | 六フッ化リン酸リチウムの精製法 |
| JP3973329B2 (ja) * | 1999-12-09 | 2007-09-12 | ステラケミファ株式会社 | 六フッ化リン酸リチウムの製造方法 |
| CN102180456B (zh) * | 2011-03-08 | 2012-11-28 | 江苏九九久科技股份有限公司 | 六氟磷酸锂的纯化方法及其专用装置 |
| KR101223384B1 (ko) * | 2012-06-01 | 2013-01-16 | 오씨아이머티리얼즈 주식회사 | 육불화인산리튬의 제조장치 및 제조방법 |
| CN113479914B (zh) * | 2021-08-12 | 2023-08-08 | 浙江三美化工股份有限公司 | 一种六氟磷酸锂的提纯工艺 |
-
1997
- 1997-11-12 JP JP31088997A patent/JP3483107B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11147705A (ja) | 1999-06-02 |
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