JP3482401B2 - ガラスパネルのチップ管と排気ヘッドとの接続方法およびその真空排気装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスパネルのチ
ップ管と排気ヘッドとの接続方法およびその真空排気装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰという）等のガラスパネルの製造工程には、一対の
ガラス基板の対向周縁部およびガラス製チップ管（排気
管）を封着する工程、封着されたガラスパネル内部を排
気する工程、内部へ放電ガスを充填する工程、および、
ガラス製チップ管（排気管）を封止して切断する工程と
がある。

【０００３】前記排気工程を実行する真空排気装置は、
図７に示すように、ガラスパネル１のチップ管２に接続
する排気ヘッド３と、ガラスパネル１内部を真空排気す
る真空排気機構Ａとからなる。

【０００４】前記排気ヘッド３は、図８に示すように、
大略、ヘッド本体６とシール機構１２と冷却機構１４と
蓋５とを備え、ベース板４に固定するもので、周知の封
着・排気炉あるいは排気炉（以下、総称して炉という）
の炉内に設置される。

【０００５】前記ヘッド本体６は、内部に排気路７と、
この排気路７に連通するチップ管装着部８とが形成され
るとともに、前記排気路７には真空排気管９の接続部１
０が形成され、また、前記チップ管装着部８にはシール
部材配設段部１１が形成されている。

【０００６】前記シール機構１２は、チップ管装着部８
内に装着したチップ管２の周囲を気密に保持するもの
で、バイトンなどのゴム等の中空環状の弾性材からなる
シール部材１２ａと、このシール部材１２ａの中空内に
高圧空気を供給する高圧空気供給管１３とからなり、こ
の高圧空気供給管１３からシール部材１２ａの内部空間
に高圧空気を供給することにより、シール部材１２ａを
チップ管２の周囲に圧着させる。

【０００７】前記冷却機構１４は、炉内の熱から前記ヘ
ッド本体６を保護するもので、このヘッド本体６の周囲
に配設された中空環状構造体１４ａと、この中空環状構
造体１４ａ内に冷却水の給水を行なう冷却水供給管１５
と、中空環状構造体１４ａ内から冷却水の排水を行う冷
却水排出管１６とからなる。

【０００８】なお、前記排気ヘッド３が炉外に設置され
る場合、前記冷却機構１４は備えていなくても良い。ま
た、この図８は、高圧空気供給管１３から高圧空気が供
給され、シール部材１２ａでチップ管２の外周を気密に
保持している状態である。

【０００９】前記真空排気機構Ａは、ガラスパネル１内
を粗引きするロータリーポンプ１７と、ガラスパネル１
内を高真空引きをするターボ分子ポンプ１８とからな
る。そして、前記ロータリーポンプ１７が粗引き弁１９
を介して前記排気ヘッド３に接続した真空排気管９に接
続され、前記ターボ分子ポンプ１８が主排気弁２０を介
して真空排気管９に接続されている。また、ロータリー
ポンプ１７とターボ分子ポンプ１８とは、ターボ分子ポ
ンプ１８を排気するためのフォアーライン弁２１を介し
て接続されている。

【００１０】次に、チップ管２と排気ヘッド３との接続
方法を説明する。ガラス基板の封着とチップ管２の封着
を行う封着処理とガラスパネル１内の排気処理が別々に
行われる場合には、チップ管２は、例えばフリットシー
ル２２によってガラスパネル１に固定された状態で、前
記排気ヘッド３のチップ管装着部８に装着される。一
方、チップ管２の封着処理とガラスパネル１内の排気処
理が連続して処理される場合には、チップ管２は、クリ
ップ等の治具によりシールフリットを介してガラス基板
に固定された状態で、前記排気ヘッド３のチップ管装着
部８に装着される。

【００１１】前記チップ管装着部８にチップ管２が装着
されると、高圧空気供給管１３から高圧空気がシール部
材１２ａの中空内に供給され、前記シール部材１２ａが
膨張してチップ管２の外周を気密に保持する。

【００１２】次に、ガラスパネル１内を真空状態に排気
する工程を説明する。この排気工程では、まず、ロータ
リーポンプ１７を駆動した後、粗引き弁１９を開いてガ
ラスパネル１内を粗引きする。その後、粗引き弁１９を
閉じ、フォアーライン弁２１を開いた後、主排気弁２０
を開いてガラスパネル１内を高真空引きする。なお、こ
の状態では、ターボ分子ポンプ１８は既に駆動されてい
る。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記排
気ヘッド３によるガラスパネル１のチップ管２の接続方
法では、図９に示すように、チップ管装着部８の挿入開
口８ａから外部の塵埃が進入し、その塵埃がシール部材
１２ａの表面に付着するという問題がある。そして、こ
のシール部材１２ａの表面にに塵埃が付着した場合、前
記ガラスパネル１のチップ管２とシール部材１２ａとの
密着性が大きく悪化し、チップ管２の外周を気密にシー
ルすることができなくなる。

【００１４】この問題を解決するには、チップ管２をチ
ップ管装着部８に装着する前に、毎回、シール部材１２
ａを点検し、清掃すればよいが、その作業は極めて煩雑
であるため、現実には実施されないのが実状である。そ
のため、実際に排気処理を実施して始めて問題があるこ
とが判る。

【００１５】そこで、本発明では、排気ヘッドのチップ
管装着部内に外部の塵埃が進入し、シール部材に付着す
ることを防止することを課題とするものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明のガラスパネルのチップ管と排気ヘッドの接
続方法は、ガラスパネルのチップ管を排気ヘッドのチッ
プ管装着部内でシール部材により気密に保持することで
ガラスパネルのチップ管と排気ヘッドとを接続する方法
において、前記排気ヘッドのチップ管装着部の挿入開口
からパージガスを流出させながら前記チップ管をチップ
管装着部内に装着した後、前記シール部材によりチップ
管を気密に保持するようにしている。

【００１７】また、この接続方法に適用する真空排気装
置は、ガラスパネルのチップ管を装着するチップ管装着
部、排気路および前記チップ管を気密に保持するシール
部材を有する排気ヘッドと、この排気ヘッドの排気路に
連通する真空排気管を介して接続した真空排気機構とを
備えた真空排気装置において、前記真空排気管に、開閉
弁を備えたパージガス導入管を接続し、前記排気ヘッド
の蓋に、吸引ファンを接続した吸引蓋を配設した構成と
している。

【００１８】

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従って説明する。図１は、本発明のガラスパネル１の
チップ管２と排気ヘッド３との接続方法を適用した第１
実施形態の真空排気装置を示す。この真空排気装置は、
大略、排気ヘッド３と真空排気機構Ａとパージガス供給
機構Ｂとからなる。なお、この第１実施形態の排気ヘッ
ド３および真空排気機構Ａは、従来と同一であるため、
同一符号を付して詳細な説明は省略する。

【００２０】前記パージガス供給機構Ｂはエアコンプレ
ッサ等からなり、パージガス導入管２３は、前記排気ヘ
ッド３の排気路７に接続した真空排気管９に接続されて
いる。このパージガス導入管２３には、開閉弁２４が設
けられている。

【００２１】次に、第１実施形態の真空排気装置の動作
について説明する。図２に示すように、まず、ガラスパ
ネル１のチップ管２が排気ヘッド３のチップ管装着部８
に装着される前に、開閉弁２４を開状態とし、真空排気
管９内にパージガスを供給する。なお、本実施形態で
は、供給するパージガスは空気であるが、必ずしも空気
である必要はなく、例えば、窒素ガスでも良い。また、
この時には、シール部材１２ａには高圧空気は導入され
ていない。さらに、真空排気機構Ａの粗引き弁１９およ
び主排気弁２０は閉状態とされている。

【００２２】前記真空排気管９内に導入されたパージガ
スは、チップ管装着部８の挿入開口８ａへ向けて流れ、
この挿入開口８ａから外部に排気される。

【００２３】次に、ガラス基板１ａ，１ｂの封着とチッ
プ管２の封着工程およびガラスパネル１内の排気を行う
排気工程に移行し、図１に示すように、このガラスパネ
ル１のチップ管２を排気ヘッド３のチップ管装着部８に
装着する。その後、シール部材１２ａに高圧空気を導入
し、このシール部材１２ａの内周部でチップ管２の外周
を気密にシールする。なお、前記パージガスの供給は、
このシール部材１２ａでチップ管２の外周を気密に保持
するまで行われ、その保持が完了した直後に開閉弁２４
を閉じる。

【００２４】ここで、チップ管装着部８内に塵埃が入り
込み易いのは、特に、チップ管２をチップ管装着部８に
装着する時であるが、本実施形態では、パージガスを挿
入開口８ａから外部に噴出させているため、チップ管装
着部８の挿入開口８ａから外部の塵埃が進入することを
防止できる。また、前記チップ管装着部８へチップ管２
を装着していくと、チップ管装着部８内においてチップ
管２によりパージガスが流通可能な空間が狭くなり、こ
の空間を流通するパージガスの流速は早くなる。その結
果、チップ管装着部８内に塵埃が進入し、その塵埃がシ
ール部材１２ａの表面に付着していてもその塵埃をシー
ル部材１２ａから除去して外部に排出することができ
る。よって、本実施形態の接続方法では、シール部材１
２ａを常に清浄な状態に維持することが可能であり、シ
ール部材１２ａとチップ管２との密着性を悪化させるこ
とが無い。

【００２５】そして、ガラスパネル１のチップ管２と排
気ヘッド３とを接続した後は、従来と同様に、約４５０
℃に加熱してガラス基板１ａ，１ｂおよびチップ管２を
封着する。その後、排気工程に移行し、真空排気機構Ａ
により排気ヘッド３およびチップ管２を介してガラスパ
ネル１内を１０^−４〜１０^−７Ｔｏｒｒまで真空排気し
た後、真空排気機構Ａから放電ガス供給機構に切り換
え、排気ヘッド３およびチップ管２を介してガラスパネ
ル１内に所定の放電ガスを規定圧力まで封入する。そし
て、前記放電ガスの封入が完了すると、バーナ等により
チップ管２を封止し、その後溶断する。

【００２６】図３は、本発明の第２実施形態の真空排気
装置を示す。この真空排気装置では、前記排気ヘッド３
の蓋５に、吸引ファン２７を接続して吸引機能を具備さ
せた吸引蓋２５を設けた点でのみ第１実施形態と相違す
る。

【００２７】具体的には、前記吸引蓋２５は、下端開口
の箱形状をなし、その側部に排気管２６が接続され、こ
の排気管２６に吸引ファン２７が接続されている。ま
た、この吸引蓋２５には、ヘッド本体６の挿入開口８ａ
に対応する位置にチップ管２の挿入開口２８が設けられ
ている。

【００２８】この第２実施形態では、パージガス供給機
構Ｂによって真空排気管９内にパージガスを供給してい
る間は、前記吸引ファン２７を一緒に駆動させる。これ
により、排気ヘッド３の挿入開口８ａから噴出したパー
ジガスは、排気管２６を介して炉外に常に排出される。

【００２９】したがって、チップ管装着部８の廻りに付
着していた塵埃や、フリットシール２２自体、そして、
その周辺に付着している塵埃を排気ヘッド３の周囲に撒
き散らすことを防止できる。

【００３０】図４は、第３実施形態の真空排気装置を示
す。この真空排気装置では、前記排気ヘッド３の蓋５’
からパージガスを供給するようにした点で第１実施形態
と相違する。

【００３１】前記蓋５’には、外周部からチップ管装着
部８に半径方向に貫通した一対のガス導入路２９が設け
られている。これらガス導入路２９の先端部は、挿入開
口８ａに向けて傾斜されている。また、これらガス導入
路２９には、パージガス供給機構Ｂ’に接続したパージ
ガス導入管２３’が直接接続されている。即ち、本実施
形態では、チップ管装着部８の挿入開口８ａに向けて、
常にパージガスを供給する構成としている。

【００３２】この第３実施形態では、ガス導入路２９が
挿入開口８ａとシール部材１２ａとの間に位置している
ため、チップ管２を気密に保持した状態でもパージガス
を供給することが可能である。その結果、常に排気ヘッ
ド３の挿入開口８ａの周辺に付着する塵埃を除去できる
とともに、付着を防止できる。

【００３３】図５は、第４実施形態の真空排気装置を示
す。この真空排気装置では、前記第３実施形態におい
て、蓋５’に第２実施形態と同様の吸引蓋２５を配設し
た点でのみ第３実施形態と相違する。

【００３４】この第４実施形態では、前記第３実施形態
のようにチップ管装着部８の挿入開口８ａに向けて常に
パージガスを供給できるとともに、第２実施形態と同様
に、そのパージガスを炉外に常に排出できる。そのた
め、これらの実施形態の作用、効果を併せ持った構成と
することができる。

【００３５】なお、本発明のガラスパネル１のチップ管
２と排気ヘッド３との接続方法を適用した真空排気装置
は、前記実施形態の構成に限定されるものではない。例
えば、前記第３実施形態および第４実施形態の構成で
は、チップ管装着部８内に常にパージガスを供給してい
るにも拘わらず、何らかの原因でシール部材１２ａに塵
埃が付着すると、その塵埃は除去できない。そのため、
図６に示すように、第１実施形態の構成と第４実施形態
の構成を組み合わせた構成とし、第１のパージガス供給
機構Ｂはチップ管２を気密に保持していない状態でのみ
動作させ、第２のパージガス供給機構Ｂ’は常に動作さ
せてもよい。さらに、シール機構１２は、Ｏリング方式
であってもよい。

【００３６】また、前記実施形態では、封着・排気処理
であるが排気処理であってもよい。

【００３７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のガラスパネルのチップ管と排気ヘッドとの接続方法で
は、排気ヘッドの挿入開口からパージガスを噴出させな
がらチップ管をシール部材によって気密に保持するた
め、チップ管装着部内に塵埃が流入することを防止でき
る。したがって、シール部材を常に清浄な状態に維持す
ることが可能であり、シール部材とチップ管との密着性
能を悪化させることが無い。

【００３８】また、前記方法を適用した真空排気装置で
は、真空排気管内にパージガスを供給することにより、
何らかの原因でシール部材に塵埃が付着してもその塵埃
を除去することができる。また、排気ヘッドの蓋に、吸
引ファンを接続した吸引蓋を配設することにより、チッ
プ管装着部に流入しようとする塵埃を排気ヘッドの周辺
に撒き散らすことを防止できる。そのため、排気ヘッド
の周辺をも常に清浄に維持できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施形態の真空排気装置を示す
断面図である。

【図２】 図１においてガラスパネルの装着前の状態を
示す断面図である。

【図３】 第２実施形態の真空排気装置を示す断面図で
ある。

【図４】 第３実施形態の真空排気装置を示す断面図で
ある。

【図５】 第４実施形態の真空排気装置を示す断面図で
ある。

【図６】 真空排気装置の変形例を示す断面図である。

【図７】 従来の真空排気装置の断面図である。

【図８】 従来の排気ヘッドの断面図である。

【図９】 図８においてガラスパネルの装着前の状態を
示す断面図である。

【符号の説明】

１…ガラスパネル、２…チップ管、３…排気ヘッド、７
…排気路、８…チップ管装着部、８ａ…挿入開口、９…
真空排気管、１２…シール機構、１２ａ…シール部材、
１４…冷却機構、２２…フリットシール、２３，２３’
…パージガス導入管、２４…開閉弁、２５…吸引蓋、Ａ
…真空排気機構、Ｂ，Ｂ’…パージガス供給機構。

フロントページの続き (56)参考文献 特開2000−294135（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−283504（ＪＰ，Ａ) 特開2001−273853（ＪＰ，Ａ) 特開2000−164131（ＪＰ，Ａ) 特開2002−324486（ＪＰ，Ａ) 特開2001−135237（ＪＰ，Ａ) 特開2002−175758（ＪＰ，Ａ) 特開2000−90833（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−74351（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−96675（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 9/385 F04B 37/16

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラスパネルのチップ管を排気ヘッドの
   チップ管装着部内でシール部材により気密に保持するこ
   とでガラスパネルのチップ管と排気ヘッドとを接続する
   方法において、 前記排気ヘッドのチップ管装着部の挿入開口からパージ
   ガスを流出させながら前記チップ管をチップ管装着部内
   に装着した後、前記シール部材によりチップ管を気密に
   保持することを特徴とするガラスパネルのチップ管と排
   気ヘッドとの接続方法。
2. 【請求項２】 ガラスパネルのチップ管を装着するチッ
   プ管装着部、排気路および前記チップ管を気密に保持す
   るシール部材を有する排気ヘッドと、この排気ヘッドの
   排気路に連通する真空排気管を介して接続した真空排気
   機構とを備えた真空排気装置において、 前記真空排気管に、開閉弁を備えたパージガス導入管を
   接続し、前記排気ヘッドの蓋に、吸引ファンを接続した
   吸引蓋を配設したことを特徴とする真空排気装置。