JP3453250B2 - 気液接触装置及び排煙処理装置 - Google Patents
気液接触装置及び排煙処理装置Info
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- JP3453250B2 JP3453250B2 JP15970496A JP15970496A JP3453250B2 JP 3453250 B2 JP3453250 B2 JP 3453250B2 JP 15970496 A JP15970496 A JP 15970496A JP 15970496 A JP15970496 A JP 15970496A JP 3453250 B2 JP3453250 B2 JP 3453250B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体を効率良く液
体と気液接触させる圧力損失の少ない気液接触装置、及
びこの気液接触装置により排煙の脱硫等を小型な装置構
成かつ低コストで効率良く実現できる排煙処理装置に関
する。
体と気液接触させる圧力損失の少ない気液接触装置、及
びこの気液接触装置により排煙の脱硫等を小型な装置構
成かつ低コストで効率良く実現できる排煙処理装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば排煙の脱硫や除塵を行う排
煙処理装置に使用される気液接触装置としては、充填材
の保守がめんどうな充填式の吸収塔（接触処理塔）など
に代えて、いわゆる液柱式の吸収塔を使用し、石灰石等
の吸収剤が懸濁した吸収液（吸収剤スラリ）と排煙とを
効率良く気液接触させることにより排煙中の硫黄酸化物
（主に亜硫酸ガス）やフライアッシュ等の粉塵を除去す
るものが知られている。
煙処理装置に使用される気液接触装置としては、充填材
の保守がめんどうな充填式の吸収塔（接触処理塔）など
に代えて、いわゆる液柱式の吸収塔を使用し、石灰石等
の吸収剤が懸濁した吸収液（吸収剤スラリ）と排煙とを
効率良く気液接触させることにより排煙中の硫黄酸化物
（主に亜硫酸ガス）やフライアッシュ等の粉塵を除去す
るものが知られている。
【０００３】従来の液柱式の排煙処理装置としては、例
えば実開昭５９−５３８２８号公報や特開平６−３２７
９２７号公報に開示されたものがある。
えば実開昭５９−５３８２８号公報や特開平６−３２７
９２７号公報に開示されたものがある。
【０００４】ところで、上記公報等に示された従来の液
柱式の排煙処理装置の基本構成は、排煙が通過する吸収
塔内に、長手方向に複数のノズルが設けられたスプレー
パイプを平行に複数配設し、これらスプレーパイプの各
ノズルから吸収液を上向きに、かつ、液柱式に噴射させ
ることにより、吸収液（液体）と排煙（気体）とを気液
接触させる処理を行うものであり、スプレーノズルは同
一平面内に一列に配置されていた。
柱式の排煙処理装置の基本構成は、排煙が通過する吸収
塔内に、長手方向に複数のノズルが設けられたスプレー
パイプを平行に複数配設し、これらスプレーパイプの各
ノズルから吸収液を上向きに、かつ、液柱式に噴射させ
ることにより、吸収液（液体）と排煙（気体）とを気液
接触させる処理を行うものであり、スプレーノズルは同
一平面内に一列に配置されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このため、気液接触効
率を高めるべく、スプレーノズルの配置間隔を狭くして
その配置密度を高めようとしても運転コストの面で限界
があった。すなわち、スプレーノズルの配置密度を高め
ようとして、配置間隔を単に狭くすると、当然排煙の流
れに対する抵抗が高まり塔内を通過させるための排煙の
圧力損失が増大して、運転コストが著しく高まる。
率を高めるべく、スプレーノズルの配置間隔を狭くして
その配置密度を高めようとしても運転コストの面で限界
があった。すなわち、スプレーノズルの配置密度を高め
ようとして、配置間隔を単に狭くすると、当然排煙の流
れに対する抵抗が高まり塔内を通過させるための排煙の
圧力損失が増大して、運転コストが著しく高まる。
【０００６】したがって従来では、液柱高さを高くする
か塔の水平方向寸法を拡大して吸収塔を大型化しなけれ
ば脱硫率の向上は困難であった。また逆にいえば、従来
では、脱硫率を維持しつつ塔の小型化や運転コストの低
減を図ることに限界があった。
か塔の水平方向寸法を拡大して吸収塔を大型化しなけれ
ば脱硫率の向上は困難であった。また逆にいえば、従来
では、脱硫率を維持しつつ塔の小型化や運転コストの低
減を図ることに限界があった。
【０００７】そこで本発明は、塔圧力損失の増大を回避
しつつスプレーノズルが高密度に配置されて、運転コス
トの増大を伴うことなく気液接触効率が高められた気液
接触装置、及びこの気液接触装置により排煙の脱硫等を
小型な装置構成かつ低コストで効率良く実現できる排煙
処理装置を提供することを課題としている。
しつつスプレーノズルが高密度に配置されて、運転コス
トの増大を伴うことなく気液接触効率が高められた気液
接触装置、及びこの気液接触装置により排煙の脱硫等を
小型な装置構成かつ低コストで効率良く実現できる排煙
処理装置を提供することを課題としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明は、気体が通過する接触処理塔内に複数のス
プレーパイプを平行に配設し、これらスプレーパイプの
長手方向に複数形成されたノズルから液体を上向きに液
柱状に噴射させることにより、液体と気体とを接触させ
る処理を行う気液接触装置において、前記スプレーパイ
プを、隣り合う各スプレーパイプにおける上下方向の配
置位置を異ならせて交互に２段の位置にちどり状に配設
した気液接触装置を提供する。
め、本発明は、気体が通過する接触処理塔内に複数のス
プレーパイプを平行に配設し、これらスプレーパイプの
長手方向に複数形成されたノズルから液体を上向きに液
柱状に噴射させることにより、液体と気体とを接触させ
る処理を行う気液接触装置において、前記スプレーパイ
プを、隣り合う各スプレーパイプにおける上下方向の配
置位置を異ならせて交互に２段の位置にちどり状に配設
した気液接触装置を提供する。
【０００９】このように、上下方向の配置位置が異るよ
うに交互に２段の位置にちどり状にスプレーパイプを配
設すると、多くのスプレーパイプを配置しても気体流路
を塞ぐ割合が少くなって流路抵抗の増大が大きく抑制さ
れる。そして、このようにスプレーパイプを上下方向で
ずらしてもスプレーパイプから吹上げる液柱高さを充分
とれるので気液接触塔の高さを増やさずに、小型のまま
気液接触効率を向上させることができる。
うに交互に２段の位置にちどり状にスプレーパイプを配
設すると、多くのスプレーパイプを配置しても気体流路
を塞ぐ割合が少くなって流路抵抗の増大が大きく抑制さ
れる。そして、このようにスプレーパイプを上下方向で
ずらしてもスプレーパイプから吹上げる液柱高さを充分
とれるので気液接触塔の高さを増やさずに、小型のまま
気液接触効率を向上させることができる。
【００１０】
【００１１】以上のように構成した気液接触装置におい
て、気体として排煙、液体として石灰石などの吸収剤を
懸濁させた吸収液を用いると、排煙中から少くとも亜硫
酸ガスを吸収液に効率的に吸収除去するのに好適な排煙
処理装置となる。
て、気体として排煙、液体として石灰石などの吸収剤を
懸濁させた吸収液を用いると、排煙中から少くとも亜硫
酸ガスを吸収液に効率的に吸収除去するのに好適な排煙
処理装置となる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明による装置を、実施
の一形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。図１
は、本実施形態による排煙処理装置の要部構成を示す図
であり、図２は、図１におけるＩＩ断面拡大図であっ
て、同排煙処理装置におけるスプレーパイプの配置構成
を示す図である。また図３は、前記スプレーパイプの配
置構成の詳細を説明する図である。
の一形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。図１
は、本実施形態による排煙処理装置の要部構成を示す図
であり、図２は、図１におけるＩＩ断面拡大図であっ
て、同排煙処理装置におけるスプレーパイプの配置構成
を示す図である。また図３は、前記スプレーパイプの配
置構成の詳細を説明する図である。
【００１３】この排煙処理装置は、この場合石灰石より
なる吸収剤が懸濁した吸収液（以下、吸収剤スラリとい
う。）が供給されるタンク１１と、このタンク１１の一
側部から上方に延設され、未処理排煙Ａとタンク１１内
の吸収剤スラリとを気液接触させる液柱式の導入側吸収
塔１２（接触処理塔）と、タンク１１の他側部から上方
に延設され、前記導入側吸収塔１２から導出された排煙
をタンク１１内の吸収剤スラリと再度気液接触させる液
柱式の導出側吸収塔１３（接触処理塔）とよりなる気液
接触装置１０を備えている。
なる吸収剤が懸濁した吸収液（以下、吸収剤スラリとい
う。）が供給されるタンク１１と、このタンク１１の一
側部から上方に延設され、未処理排煙Ａとタンク１１内
の吸収剤スラリとを気液接触させる液柱式の導入側吸収
塔１２（接触処理塔）と、タンク１１の他側部から上方
に延設され、前記導入側吸収塔１２から導出された排煙
をタンク１１内の吸収剤スラリと再度気液接触させる液
柱式の導出側吸収塔１３（接触処理塔）とよりなる気液
接触装置１０を備えている。
【００１４】ここで、導入側吸収塔１２は、未処理排煙
Ａを上端部から導入して排煙が下方に向って流れるいわ
ゆる並流式の吸収塔であり、導出側吸収塔１３は、処理
済排煙Ｂを導出するための排煙導出部１４がその上端部
に形成されて、導入側吸収塔１２を通過しタンク１１内
上部を経由した排煙が上方に向って流れるいわゆる向流
式の吸収塔である。
Ａを上端部から導入して排煙が下方に向って流れるいわ
ゆる並流式の吸収塔であり、導出側吸収塔１３は、処理
済排煙Ｂを導出するための排煙導出部１４がその上端部
に形成されて、導入側吸収塔１２を通過しタンク１１内
上部を経由した排煙が上方に向って流れるいわゆる向流
式の吸収塔である。
【００１５】また各吸収塔１２，１３には、スプレーパ
イプ１５，１６がそれぞれ複数平行に設けられ、これら
スプレーパイプ１５，１６には、吸収剤スラリを上方に
向って液柱状に噴射するノズル（図示略）が長手方向
（図１では横方向）に複数形成されている。なお、各ス
プレーパイプ１５，１６における各ノズルは、各スプレ
ーパイプの長手方向に例えば５００ｍｍ程度の配置間隔
で多数設けられている。
イプ１５，１６がそれぞれ複数平行に設けられ、これら
スプレーパイプ１５，１６には、吸収剤スラリを上方に
向って液柱状に噴射するノズル（図示略）が長手方向
（図１では横方向）に複数形成されている。なお、各ス
プレーパイプ１５，１６における各ノズルは、各スプレ
ーパイプの長手方向に例えば５００ｍｍ程度の配置間隔
で多数設けられている。
【００１６】そして、導出側吸収塔１３のスプレーパイ
プ１６は、隣り合う各スプレーパイプ１６において排煙
の通過方向（この場合上下方向）の配置位置が異なるよ
うに、この場合図２に示す如く交互に２段の位置にいわ
ゆるちどり状に配置されている。
プ１６は、隣り合う各スプレーパイプ１６において排煙
の通過方向（この場合上下方向）の配置位置が異なるよ
うに、この場合図２に示す如く交互に２段の位置にいわ
ゆるちどり状に配置されている。
【００１７】なお、通常の火力発電設備用の排煙処理装
置の場合、スプレーパイプ１６の外径Ｄは２００〜３０
０ｍｍである。また、図３に示すスプレーパイプ１６の
水平方向の配置間隔Ｐ／２及び上下方向の配置間隔ｈ
は、例えば５００〜７００ｍｍ程度に設定すればよい。
置の場合、スプレーパイプ１６の外径Ｄは２００〜３０
０ｍｍである。また、図３に示すスプレーパイプ１６の
水平方向の配置間隔Ｐ／２及び上下方向の配置間隔ｈ
は、例えば５００〜７００ｍｍ程度に設定すればよい。
【００１８】いずれにしろ、スプレーパイプをこのよう
に２段に上下方向の配置位置を交互に異ならせて配置す
れば、仮に全てのスプレーパイプ１６を従来のように同
一平面上に並べて配置する場合（配置間隔Ｐ／２）に比
較して、排煙流路を閉塞する割合が格段に少なくなり流
路抵抗の増大が著しく抑制される。
に２段に上下方向の配置位置を交互に異ならせて配置す
れば、仮に全てのスプレーパイプ１６を従来のように同
一平面上に並べて配置する場合（配置間隔Ｐ／２）に比
較して、排煙流路を閉塞する割合が格段に少なくなり流
路抵抗の増大が著しく抑制される。
【００１９】しかも、液柱高さ（スプレーパイプ１６か
ら吸収剤スラリを吹き上げる高さ）は通常数ｍ以上であ
るので、上記配置間隔ｈだけスプレーパイプを上下方向
にずらすことによって、吸収塔高さを増やす必要はほと
んどなく、また脱硫性能への悪影響も全くなく、スプレ
ーノズルの配置密度（液柱の分布密度）が高まることに
よって、吸収塔１３を従来同様小型なものに維持したま
ま気液接触効率（脱硫性能）を格段に向上させることが
できる。
ら吸収剤スラリを吹き上げる高さ）は通常数ｍ以上であ
るので、上記配置間隔ｈだけスプレーパイプを上下方向
にずらすことによって、吸収塔高さを増やす必要はほと
んどなく、また脱硫性能への悪影響も全くなく、スプレ
ーノズルの配置密度（液柱の分布密度）が高まることに
よって、吸収塔１３を従来同様小型なものに維持したま
ま気液接触効率（脱硫性能）を格段に向上させることが
できる。
【００２０】また、タンク１１の両側には、タンク１１
内の吸収剤スラリを吸上げる循環ポンプ１７，１８が設
けられ、循環ライン１９，２０を介して吸収剤スラリが
各スプレーパイプ１５，１６に送り込まれ、各ノズルか
ら噴射されるように構成されている。
内の吸収剤スラリを吸上げる循環ポンプ１７，１８が設
けられ、循環ライン１９，２０を介して吸収剤スラリが
各スプレーパイプ１５，１６に送り込まれ、各ノズルか
ら噴射されるように構成されている。
【００２１】さらにこの場合、導出側吸収塔１３の排煙
導出部１４には、同伴ミストを補集除去するためのミス
トエリミネータ（図示略）が設けられている。なお、こ
のミストエリミネータで補集されたミストは、例えば下
部ホッパ（図示略）へ集められホッパ低部のドレン抜き
配管を介してタンク１１内に戻る構成となっている。
導出部１４には、同伴ミストを補集除去するためのミス
トエリミネータ（図示略）が設けられている。なお、こ
のミストエリミネータで補集されたミストは、例えば下
部ホッパ（図示略）へ集められホッパ低部のドレン抜き
配管を介してタンク１１内に戻る構成となっている。
【００２２】そしてこの装置は、タンク１１内のスラリ
を攪拌しつつ酸化用の空気を微細な気泡として吹込むい
わゆるアーム回転式のエアスパージャ２１を備え、タン
ク１１内で亜硫酸ガスを吸収した吸収剤スラリと空気と
を効率良く接触させて全量酸化し石膏を得る構成となっ
ている。
を攪拌しつつ酸化用の空気を微細な気泡として吹込むい
わゆるアーム回転式のエアスパージャ２１を備え、タン
ク１１内で亜硫酸ガスを吸収した吸収剤スラリと空気と
を効率良く接触させて全量酸化し石膏を得る構成となっ
ている。
【００２３】すなわちこの装置では、吸収塔１２又は１
３でヘッダーパイプ１５又は１６から噴射され排煙と気
液接触して亜硫酸ガス及び粉塵を吸収しつつ流下する吸
収剤スラリは、いずれもタンク１１内においてエアスパ
ージャ２１により攪拌されつつ吹込まれた多数の気泡と
接触して酸化され、さらには中和反応を起こして石膏と
なる。なお、これらの処理中に起きる主な反応は以下の
化学式１における反応式（１）乃至（３）となる。
３でヘッダーパイプ１５又は１６から噴射され排煙と気
液接触して亜硫酸ガス及び粉塵を吸収しつつ流下する吸
収剤スラリは、いずれもタンク１１内においてエアスパ
ージャ２１により攪拌されつつ吹込まれた多数の気泡と
接触して酸化され、さらには中和反応を起こして石膏と
なる。なお、これらの処理中に起きる主な反応は以下の
化学式１における反応式（１）乃至（３）となる。
【００２４】
【化１】
【００２５】こうしてタンク１１内には、定常的には石
膏と吸収剤である少量の石灰石と僅かな粉塵が懸濁する
ようになっており、このタンク１１内のスラリがこの場
合スラリポンプ２２により固液分離機２３に供給され、
ろ過されて水分の少ない石膏Ｃ（通常、水分含有率１０
％程度）として採り出される。一方、固液分離機２３か
らのろ液は、吸収剤スラリを構成する水分としてスラリ
調整槽２４に供給される。
膏と吸収剤である少量の石灰石と僅かな粉塵が懸濁する
ようになっており、このタンク１１内のスラリがこの場
合スラリポンプ２２により固液分離機２３に供給され、
ろ過されて水分の少ない石膏Ｃ（通常、水分含有率１０
％程度）として採り出される。一方、固液分離機２３か
らのろ液は、吸収剤スラリを構成する水分としてスラリ
調整槽２４に供給される。
【００２６】スラリ調整槽２４は、攪拌機２５を有し、
図示省略した石灰石サイロから投入される石灰石（吸収
剤）と、固液分離機２３より送られる水とを攪拌混合し
て吸収剤スラリを生成するもので、内部の吸収剤スラリ
がスラリポンプ２６によりタンク１１に適宜供給される
ようになっている。
図示省略した石灰石サイロから投入される石灰石（吸収
剤）と、固液分離機２３より送られる水とを攪拌混合し
て吸収剤スラリを生成するもので、内部の吸収剤スラリ
がスラリポンプ２６によりタンク１１に適宜供給される
ようになっている。
【００２７】なお、運転中このスラリ調整槽２４では、
例えば図示省略したコントローラ及び流量制御弁によ
り、投入される水量が調整され、また、石灰石サイロの
例えばロータリーバルブ（図示省略）の作動が制御され
ることにより、投入される水量に応じた石灰石が適宜供
給され、所定濃度（例えば２０重量％程度）の吸収剤ス
ラリを常に一定範囲のレベル内に蓄えた状態に維持され
る。
例えば図示省略したコントローラ及び流量制御弁によ
り、投入される水量が調整され、また、石灰石サイロの
例えばロータリーバルブ（図示省略）の作動が制御され
ることにより、投入される水量に応じた石灰石が適宜供
給され、所定濃度（例えば２０重量％程度）の吸収剤ス
ラリを常に一定範囲のレベル内に蓄えた状態に維持され
る。
【００２８】また、例えばスラリ調整槽２４には、適宜
補給水（工業用水等）が供給され、気液接触装置１０に
おける蒸発等により漸次減少する水分が補われる。また
運転中には、脱硫率と石膏純度とを高く維持すべく、未
処理排煙Ａ中の亜硫酸ガス濃度やタンク内のＰＨや石灰
石濃度等がセンサにより検出され、図示省略した制御装
置によりスラリ調整槽２４への石灰石の供給量やタンク
１１への吸収剤スラリの供給量等が適宜調節される構成
となっている。
補給水（工業用水等）が供給され、気液接触装置１０に
おける蒸発等により漸次減少する水分が補われる。また
運転中には、脱硫率と石膏純度とを高く維持すべく、未
処理排煙Ａ中の亜硫酸ガス濃度やタンク内のＰＨや石灰
石濃度等がセンサにより検出され、図示省略した制御装
置によりスラリ調整槽２４への石灰石の供給量やタンク
１１への吸収剤スラリの供給量等が適宜調節される構成
となっている。
【００２９】上記排煙処理装置の気液接触装置１０で
は、前述したようにスプレーパイプ１６が流路抵抗を増
加させることなく高密度に配置され、液柱分布の高密度
化により気液接触効率が高められているので、導出側吸
収塔１３の大型化や排煙の圧力損失（排煙送給用ファン
の動力）の増大を伴うことなく、特に導出側吸収塔１３
において高い脱硫性能が達成される。
は、前述したようにスプレーパイプ１６が流路抵抗を増
加させることなく高密度に配置され、液柱分布の高密度
化により気液接触効率が高められているので、導出側吸
収塔１３の大型化や排煙の圧力損失（排煙送給用ファン
の動力）の増大を伴うことなく、特に導出側吸収塔１３
において高い脱硫性能が達成される。
【００３０】すなわち、タンク１１内の吸収剤スラリ
は、循環ポンプ１７，１８によりそれぞれ循環パイプ１
９，２０を通ってスプレーパイプ１５，１６に供給され
る。一方、排煙は、まず導入側吸収塔１２内に導入され
下降する。
は、循環ポンプ１７，１８によりそれぞれ循環パイプ１
９，２０を通ってスプレーパイプ１５，１６に供給され
る。一方、排煙は、まず導入側吸収塔１２内に導入され
下降する。
【００３１】スプレーパイプ１５に供給された吸収剤ス
ラリは、スプレーパイプ１５の各ノズルから上方へ噴射
され、上方に噴き上げられた吸収剤スラリは、頂部で分
散し次いで下降し、下降するスラリと噴き上げたスラリ
とが相互に衝突して微細な粒子状になり、微細な粒子状
になったスラリが次々に生じるようになり、粒子状のス
ラリは吸収塔１２内に略一様に分散して存在するように
なる。
ラリは、スプレーパイプ１５の各ノズルから上方へ噴射
され、上方に噴き上げられた吸収剤スラリは、頂部で分
散し次いで下降し、下降するスラリと噴き上げたスラリ
とが相互に衝突して微細な粒子状になり、微細な粒子状
になったスラリが次々に生じるようになり、粒子状のス
ラリは吸収塔１２内に略一様に分散して存在するように
なる。
【００３２】また、ノズル近傍では排煙がスラリの噴き
上げ流れに効果的に巻き込まれるので、スラリと排煙と
は効果的に混合し、まずこの並流式の吸収塔１２におい
てかなりの量の亜硫酸ガスが除去される。例えば、この
導入側吸収塔１２における吸収剤スラリの循環流量や液
柱高さを従来のものよりも低く設定したとしても、６０
〜８０％程度の脱硫率で亜硫酸ガスを吸収除去すること
が可能である。
上げ流れに効果的に巻き込まれるので、スラリと排煙と
は効果的に混合し、まずこの並流式の吸収塔１２におい
てかなりの量の亜硫酸ガスが除去される。例えば、この
導入側吸収塔１２における吸収剤スラリの循環流量や液
柱高さを従来のものよりも低く設定したとしても、６０
〜８０％程度の脱硫率で亜硫酸ガスを吸収除去すること
が可能である。
【００３３】しかも、導入側吸収塔１２では、この場
合、流路断面積が特に高い除塵性能が得られるように設
定されているため、いわゆる拡散除塵とともに衝突除塵
が有効に実現され、この導入側吸収塔１２だけで所望の
除塵率に近い除塵が達成できる。次に、導入側吸収塔１
２を流下した排煙は、タンク１１の上部を横方向に流れ
た後、この場合下部から導出側吸収塔１３に入り、この
吸収塔１３を上昇する。
合、流路断面積が特に高い除塵性能が得られるように設
定されているため、いわゆる拡散除塵とともに衝突除塵
が有効に実現され、この導入側吸収塔１２だけで所望の
除塵率に近い除塵が達成できる。次に、導入側吸収塔１
２を流下した排煙は、タンク１１の上部を横方向に流れ
た後、この場合下部から導出側吸収塔１３に入り、この
吸収塔１３を上昇する。
【００３４】この導出側吸収塔１３でも、吸収剤スラリ
が、スプレーパイプ１６の各ノズルから上方へ噴射さ
れ、導入側吸収塔１２と同様に、微細な粒子状となって
落下して、向い合って流れる排煙と接触する。また、ノ
ズル近傍では排煙がスラリの噴き上げ流れに効果的に巻
き込まれるので、スラリと排煙とは効果的に混合し、さ
らにこの向流式の吸収塔１３において残りのほとんどの
亜硫酸ガスが除去される。
が、スプレーパイプ１６の各ノズルから上方へ噴射さ
れ、導入側吸収塔１２と同様に、微細な粒子状となって
落下して、向い合って流れる排煙と接触する。また、ノ
ズル近傍では排煙がスラリの噴き上げ流れに効果的に巻
き込まれるので、スラリと排煙とは効果的に混合し、さ
らにこの向流式の吸収塔１３において残りのほとんどの
亜硫酸ガスが除去される。
【００３５】この場合、相当量の亜硫酸ガスが導入側吸
収塔１２で除去されており、しかも前述したようにスプ
レーパイプ１６が流路抵抗を増加させることなく高密度
に配置されて液柱分布の高密度化が図られているので、
体積当たりの気液接触面積が従来よりも格段に大きくな
って、最終的に９５％を大きく越える高脱硫率で亜硫酸
ガスが吸収除去される。
収塔１２で除去されており、しかも前述したようにスプ
レーパイプ１６が流路抵抗を増加させることなく高密度
に配置されて液柱分布の高密度化が図られているので、
体積当たりの気液接触面積が従来よりも格段に大きくな
って、最終的に９５％を大きく越える高脱硫率で亜硫酸
ガスが吸収除去される。
【００３６】したがって、上記気液接触装置１０を使用
した排煙処理装置によれば、従来と同程度の性能を達成
するのであれば、排煙送給用ファンの圧力、或いは循環
ポンプ１８による吸収剤スラリの循環流量や液柱高さを
従来より少なくしても所定の脱硫及び脱塵が効率良く実
現されるので、消費動力を節約して運転コストを低減で
きるとともに、吸収塔１３の塔高さや水平方向寸法を低
減し、装置を小型かつ低コストなものに維持できる。
した排煙処理装置によれば、従来と同程度の性能を達成
するのであれば、排煙送給用ファンの圧力、或いは循環
ポンプ１８による吸収剤スラリの循環流量や液柱高さを
従来より少なくしても所定の脱硫及び脱塵が効率良く実
現されるので、消費動力を節約して運転コストを低減で
きるとともに、吸収塔１３の塔高さや水平方向寸法を低
減し、装置を小型かつ低コストなものに維持できる。
【００３７】なお本発明は、以上説明した実施の形態に
限られず、各種の態様が有り得る。例えば、本発明は、
上述したような二つの吸収塔を有する気液接触装置に限
らず、一塔式の気液接触装置にも適用できる。
限られず、各種の態様が有り得る。例えば、本発明は、
上述したような二つの吸収塔を有する気液接触装置に限
らず、一塔式の気液接触装置にも適用できる。
【００３８】
【００３９】
【発明の効果】本発明の気液接触装置又はこれを使用し
た排煙処理装置によれば、スプレーパイプを隣り合う各
スプレーパイプにおける上下方向の配置位置を異ならせ
て交互に２段の位置にちどり状に配設した。このため、
気体や排煙の流路抵抗を増加させることなく、スプレー
パイプの配置密度を高めて気液接触効率の向上を図るこ
とができ、運転コストを従来同様に維持しつつ脱硫性能
の向上や装置の小型化（液柱高さの低減）を図ることが
できる。
た排煙処理装置によれば、スプレーパイプを隣り合う各
スプレーパイプにおける上下方向の配置位置を異ならせ
て交互に２段の位置にちどり状に配設した。このため、
気体や排煙の流路抵抗を増加させることなく、スプレー
パイプの配置密度を高めて気液接触効率の向上を図るこ
とができ、運転コストを従来同様に維持しつつ脱硫性能
の向上や装置の小型化（液柱高さの低減）を図ることが
できる。
【００４０】換言すれば、本発明によれば、気液接触効
率（脱硫率）を従来と同様に維持しつつ、排煙の流路抵
抗や液の供給流量を低減させて運転コストを低減させる
ことができる。。
率（脱硫率）を従来と同様に維持しつつ、排煙の流路抵
抗や液の供給流量を低減させて運転コストを低減させる
ことができる。。
【００４１】さらに、本発明による気液接触装置におい
ては、スプレーパイプを交互に２段の位置にちどり状に
配置した構成としているので、このようなスプレーパイ
プの配置によって、接触処理塔や吸収塔高さを高める必
要がほとんどなく、装置の小型化の点で特に有利とな
る。
ては、スプレーパイプを交互に２段の位置にちどり状に
配置した構成としているので、このようなスプレーパイ
プの配置によって、接触処理塔や吸収塔高さを高める必
要がほとんどなく、装置の小型化の点で特に有利とな
る。
【図１】本発明の実施の一形態である排煙処理装置の要
部構成を示す図である。
部構成を示す図である。
【図２】図１に示した排煙処理装置の気液接触装置にお
けるスプレーパイプの配置構成を示す図であって、図１
におけるＩＩ断面拡大図である。
けるスプレーパイプの配置構成を示す図であって、図１
におけるＩＩ断面拡大図である。
【図３】図２におけるスプレーパイプの配置構成の詳細
を説明する図である。
を説明する図である。
１０ 気液接触装置
１２ 導入側吸収塔（接触処理塔）
１３ 導出側吸収塔（接触処理塔）
１５，１６ スプレーパイプ
２３ 固液分離機
２４ スラリ調整槽
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 沖野 進
広島市西区観音新町四丁目６番22号 三
菱重工業株式会社広島研究所内
(72)発明者 高品 徹
広島市西区観音新町四丁目６番22号 三
菱重工業株式会社広島研究所内
(56)参考文献 特開 昭58−19729（ＪＰ，Ａ)
特開 昭51−99667（ＪＰ，Ａ)
実開 平１−122825（ＪＰ，Ｕ)
実開 平７−31125（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01D 53/14 - 53/18
B01D 53/34 - 53/85
Claims (2)
- 【請求項１】 気体が通過する接触処理塔内に複数のス
プレーパイプを平行に配設し、これらスプレーパイプの
長手方向に複数形成されたノズルから液体を上向きに液
柱状に噴射させることにより、液体と気体とを接触させ
る処理を行う気液接触装置において、前記スプレーパイ
プを、隣り合う各スプレーパイプにおける上下方向の配
置位置を異ならせて交互に２段の位置にちどり状に配設
したことを特徴とする気液接触装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の気液接触装置により排
煙を吸収液に気液接触させて、排煙中の少なくとも亜硫
酸ガスを吸収液に吸収して除去するように構成したこと
を特徴とする排煙処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15970496A JP3453250B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 気液接触装置及び排煙処理装置 |
| US08/848,838 US5840263A (en) | 1996-05-30 | 1997-05-05 | Flue gas treating process and system |
| CN97111596A CN1086306C (zh) | 1996-05-30 | 1997-05-21 | 烟气处理的方法和系统 |
| PL97320250A PL185302B1 (pl) | 1996-05-30 | 1997-05-28 | Sposób obróbki gazu spalinowego i układ do obróbki gazu spalinowego |
| TR97/00442A TR199700442A3 (tr) | 1996-05-30 | 1997-05-29 | Baca gazi muamele etme yöntemi ve sistemi. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15970496A JP3453250B2 (ja) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 気液接触装置及び排煙処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH105523A JPH105523A (ja) | 1998-01-13 |
| JP3453250B2 true JP3453250B2 (ja) | 2003-10-06 |
Family
ID=15699491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15970496A Expired - Lifetime JP3453250B2 (ja) | 1996-05-30 | 1996-06-20 | 気液接触装置及び排煙処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3453250B2 (ja) |
-
1996
- 1996-06-20 JP JP15970496A patent/JP3453250B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH105523A (ja) | 1998-01-13 |
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