JP3451155B2 - 基板回転式現像装置 - Google Patents
基板回転式現像装置Info
- Publication number
- JP3451155B2 JP3451155B2 JP31730495A JP31730495A JP3451155B2 JP 3451155 B2 JP3451155 B2 JP 3451155B2 JP 31730495 A JP31730495 A JP 31730495A JP 31730495 A JP31730495 A JP 31730495A JP 3451155 B2 JP3451155 B2 JP 3451155B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- developing solution
- liquid supply
- processing liquid
- supply nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、基板を水平姿勢
に保持して鉛直軸回りに回転させながら現像液を基板表
面へ供給して現像処理を行なう基板回転式現像装置（ス
ピンデベロッパ）に関し、特に、基板の表面へ現像液を
供給する処理液供給ノズルに係るものである。
に保持して鉛直軸回りに回転させながら現像液を基板表
面へ供給して現像処理を行なう基板回転式現像装置（ス
ピンデベロッパ）に関し、特に、基板の表面へ現像液を
供給する処理液供給ノズルに係るものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置等として使用される基板
回転式現像装置では、回転する基板の表面全体に出来る
だけ均一に現像液が供給されるようにするために、各種
型式の現像液供給ノズルが提案されている。例えば、特
公平５−６８０９２号公報に開示されている現像液供給
ノズルは、図７に示すように、筒体２の先端を閉止し
て、筒体２内においてその先端で現像液が反転するよう
にし、筒体２を鉛直姿勢に保持し、その筒体２の下端近
傍の側壁に複数個の吐出孔３を円周方向に穿設して構成
されている。現像液の供給に際しては、この現像液供給
ノズル１を図示しないノズル移動手段により、スピンチ
ャック（図示せず）に水平姿勢に保持された基板Ｗの上
方へ移動させて筒体２の下端と基板Ｗの表面とが接近す
るように配置する。そして、現像液供給配管４を通して
現像液を筒体２内へ送給すると、現像液は、筒体２の下
端内壁面に当たってその流速を減じ、側壁に設けられた
複数個の吐出孔３から水平方向へ吐出され、基板Ｗの中
心方向及び周辺方向に放射状に流出して基板Ｗの表面へ
供給され、基板Ｗの回転によって基板Ｗの表面全体に現
像液が広げられる。また、この現像液供給ノズル１で
は、基板Ｗ上に被着されたレジスト膜に対して吐出現像
液が与える衝撃が小さくなる。
回転式現像装置では、回転する基板の表面全体に出来る
だけ均一に現像液が供給されるようにするために、各種
型式の現像液供給ノズルが提案されている。例えば、特
公平５−６８０９２号公報に開示されている現像液供給
ノズルは、図７に示すように、筒体２の先端を閉止し
て、筒体２内においてその先端で現像液が反転するよう
にし、筒体２を鉛直姿勢に保持し、その筒体２の下端近
傍の側壁に複数個の吐出孔３を円周方向に穿設して構成
されている。現像液の供給に際しては、この現像液供給
ノズル１を図示しないノズル移動手段により、スピンチ
ャック（図示せず）に水平姿勢に保持された基板Ｗの上
方へ移動させて筒体２の下端と基板Ｗの表面とが接近す
るように配置する。そして、現像液供給配管４を通して
現像液を筒体２内へ送給すると、現像液は、筒体２の下
端内壁面に当たってその流速を減じ、側壁に設けられた
複数個の吐出孔３から水平方向へ吐出され、基板Ｗの中
心方向及び周辺方向に放射状に流出して基板Ｗの表面へ
供給され、基板Ｗの回転によって基板Ｗの表面全体に現
像液が広げられる。また、この現像液供給ノズル１で
は、基板Ｗ上に被着されたレジスト膜に対して吐出現像
液が与える衝撃が小さくなる。
【０００３】また、特開平５−１３３２０号公報には、
基板上へ現像液をシャワー状に吐出して供給するのでは
なく基板上へ現像液を液膜状に流出させて供給する現像
液供給ノズルが開示されている。すなわち、図８に示す
ように、同号公報に開示された現像液供給ノズル５は、
基板Ｗの直径とほぼ同じ長さを有した短形容器状の液体
収容部６の底部に、図示されていないが多数の細孔を細
かなピッチで穿設して構成されている。この現像液供給
ノズル５によって基板Ｗの表面へ現像液を供給する際に
は、予め液体収容部６内に現像液を供給し、液体収容部
６内に現像液を満たした状態として、現像液供給ノズル
５を待機させておき、スピンチャック（図示せず）上に
基板Ｗを保持させた後、図示しないノズル移動手段によ
り現像液供給ノズル５を基板Ｗの中心位置付近まで移動
させ、液体収容部６の下端面と基板Ｗの表面との間が例
えば０．５ｍｍ程度の微小間隔となるように現像液供給
ノズル５を配置する。そして、現像液供給配管７を通し
て低圧で液体収容部６内へ現像液を供給することによ
り、液体収容部６の底部の多数の細孔から現像液を滲み
出させるようにして、基板Ｗの表面へ現像液を帯状に供
給するとともに、液体収容部６の底部から現像液を滲み
出させながら基板Ｗを低速で約１／２回転させ、基板Ｗ
上に供給された現像液を現像液供給ノズル５によって押
し広げるようにする。
基板上へ現像液をシャワー状に吐出して供給するのでは
なく基板上へ現像液を液膜状に流出させて供給する現像
液供給ノズルが開示されている。すなわち、図８に示す
ように、同号公報に開示された現像液供給ノズル５は、
基板Ｗの直径とほぼ同じ長さを有した短形容器状の液体
収容部６の底部に、図示されていないが多数の細孔を細
かなピッチで穿設して構成されている。この現像液供給
ノズル５によって基板Ｗの表面へ現像液を供給する際に
は、予め液体収容部６内に現像液を供給し、液体収容部
６内に現像液を満たした状態として、現像液供給ノズル
５を待機させておき、スピンチャック（図示せず）上に
基板Ｗを保持させた後、図示しないノズル移動手段によ
り現像液供給ノズル５を基板Ｗの中心位置付近まで移動
させ、液体収容部６の下端面と基板Ｗの表面との間が例
えば０．５ｍｍ程度の微小間隔となるように現像液供給
ノズル５を配置する。そして、現像液供給配管７を通し
て低圧で液体収容部６内へ現像液を供給することによ
り、液体収容部６の底部の多数の細孔から現像液を滲み
出させるようにして、基板Ｗの表面へ現像液を帯状に供
給するとともに、液体収容部６の底部から現像液を滲み
出させながら基板Ｗを低速で約１／２回転させ、基板Ｗ
上に供給された現像液を現像液供給ノズル５によって押
し広げるようにする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特公平５−６８０９２
号公報に開示された現像液供給ノズル１では、現像液が
複数個の吐出孔３からそれぞれ異なる方向の速度成分を
持って放射状に基板Ｗ上へ供給されるため、基板Ｗの回
転によって基板全面に現像液を広げる際に、複数個の吐
出孔３から基板Ｗ上へ供給された現像液が基板の表面全
体に均一に広がらない。この結果、基板面内における現
像むら等の処理の不均一を招くという問題点があった。
号公報に開示された現像液供給ノズル１では、現像液が
複数個の吐出孔３からそれぞれ異なる方向の速度成分を
持って放射状に基板Ｗ上へ供給されるため、基板Ｗの回
転によって基板全面に現像液を広げる際に、複数個の吐
出孔３から基板Ｗ上へ供給された現像液が基板の表面全
体に均一に広がらない。この結果、基板面内における現
像むら等の処理の不均一を招くという問題点があった。
【０００５】また、特開平５−１３３２０号公報に開示
されたような現像液供給ノズル５では、液体収容部６の
底部の多数の細孔から滲出させるようにして基板Ｗ上へ
供給された現像液を、基板Ｗを低速で半回転させるだけ
で現像液供給ノズル５の下端面により基板Ｗの表面全体
に押し広げるようにする。このため、現像液の拡散流動
が不十分となり、基板面内における現像むら等の処理の
不均一を生じる心配がある。
されたような現像液供給ノズル５では、液体収容部６の
底部の多数の細孔から滲出させるようにして基板Ｗ上へ
供給された現像液を、基板Ｗを低速で半回転させるだけ
で現像液供給ノズル５の下端面により基板Ｗの表面全体
に押し広げるようにする。このため、現像液の拡散流動
が不十分となり、基板面内における現像むら等の処理の
不均一を生じる心配がある。
【０００６】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、基板上に供給された現像液が基板上
でスムーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広が
り、もって、処理の均一性を向上させることができる基
板回転式現像装置を提供することを目的とする。
されたものであり、基板上に供給された現像液が基板上
でスムーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広が
り、もって、処理の均一性を向上させることができる基
板回転式現像装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
基板保持・回転手段に水平姿勢で保持された基板の表面
に現像液を供給する処理液供給ノズルが、横長の前壁面
を有するようにし、その前壁面に、長手方向に並列させ
て複数個の吐出口を形設し、その各吐出口から現像液が
それぞれ、前記基板保持・回転手段に保持されて回転す
る基板の表面に沿った方向でかつ基板の回転方向と同一
方向へ前方に向けて吐出され、その吐出された現像液と
基板の表面との接触する角度が鋭角となるように、ノズ
ル移動手段により待機位置から処理液供給位置へ移動さ
せられた処理液供給ノズルが配置されるようにしたこと
を特徴とする。
基板保持・回転手段に水平姿勢で保持された基板の表面
に現像液を供給する処理液供給ノズルが、横長の前壁面
を有するようにし、その前壁面に、長手方向に並列させ
て複数個の吐出口を形設し、その各吐出口から現像液が
それぞれ、前記基板保持・回転手段に保持されて回転す
る基板の表面に沿った方向でかつ基板の回転方向と同一
方向へ前方に向けて吐出され、その吐出された現像液と
基板の表面との接触する角度が鋭角となるように、ノズ
ル移動手段により待機位置から処理液供給位置へ移動さ
せられた処理液供給ノズルが配置されるようにしたこと
を特徴とする。
【０００８】請求項２に係る発明は、基板保持・回転手
段に水平姿勢で保持された基板の表面に現像液を供給す
る処理液供給ノズルが、横長の前壁面を有するように
し、その前壁面に、長手方向に沿ってスリット状の吐出
口を形設し、その吐出口から現像液が、前記基板保持・
回転手段に保持されて回転する基板の表面に沿った方向
でかつ基板の回転方向と同一方向へ前方に向けて吐出さ
れ、その吐出された現像液と基板の表面との接触する角
度が鋭角となるように、ノズル移動手段により待機位置
から処理液供給位置へ移動させられた処理液供給ノズル
が配置されるようにしたことを特徴とする。
段に水平姿勢で保持された基板の表面に現像液を供給す
る処理液供給ノズルが、横長の前壁面を有するように
し、その前壁面に、長手方向に沿ってスリット状の吐出
口を形設し、その吐出口から現像液が、前記基板保持・
回転手段に保持されて回転する基板の表面に沿った方向
でかつ基板の回転方向と同一方向へ前方に向けて吐出さ
れ、その吐出された現像液と基板の表面との接触する角
度が鋭角となるように、ノズル移動手段により待機位置
から処理液供給位置へ移動させられた処理液供給ノズル
が配置されるようにしたことを特徴とする。
【０００９】請求項１に係る発明の基板回転式現像装置
では、基板の表面へ現像液を供給する際に、処理液供給
ノズルの前壁面の複数個の吐出口からそれぞれ基板上
へ、基板の表面に沿った方向にかつ基板の回転方向と同
一方向へ前方に向けて現像液が吐出され、その吐出され
た現像液が基板の表面に対して鋭角となるように接触す
るので、基板上に供給された現像液は、基板上でスムー
ズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広がり、基板
の表面全体が現像液によって均一に覆われることとな
る。
では、基板の表面へ現像液を供給する際に、処理液供給
ノズルの前壁面の複数個の吐出口からそれぞれ基板上
へ、基板の表面に沿った方向にかつ基板の回転方向と同
一方向へ前方に向けて現像液が吐出され、その吐出され
た現像液が基板の表面に対して鋭角となるように接触す
るので、基板上に供給された現像液は、基板上でスムー
ズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広がり、基板
の表面全体が現像液によって均一に覆われることとな
る。
【００１０】また、請求項２に係る発明の基板回転式現
像装置においても、基板の表面へ現像液を供給する際
に、処理液供給ノズルの前壁面のスリット状の吐出口か
ら基板上へ、基板の表面に沿った方向にかつ基板の回転
方向と同一方向へ前方に向けて現像液が吐出され、その
吐出された現像液が基板の表面に対して鋭角となるよう
に接触するので、基板上に供給された現像液は、基板上
でスムーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広が
り、基板の表面全体が現像液によって均一に覆われるこ
ととなる。
像装置においても、基板の表面へ現像液を供給する際
に、処理液供給ノズルの前壁面のスリット状の吐出口か
ら基板上へ、基板の表面に沿った方向にかつ基板の回転
方向と同一方向へ前方に向けて現像液が吐出され、その
吐出された現像液が基板の表面に対して鋭角となるよう
に接触するので、基板上に供給された現像液は、基板上
でスムーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広が
り、基板の表面全体が現像液によって均一に覆われるこ
ととなる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、この発明の最良の実施形態
について図１ないし図６を参照しながら説明する。
について図１ないし図６を参照しながら説明する。
【００１２】図１及び２は、この発明の実施の形態の１
例を示し、図１は、スピンデベロッパの処理液供給ノズ
ルと基板とだけを示し他の部分の図示を省略した斜視図
であり、図２は、その平面図である。基板Ｗを水平姿勢
に保持するスピンチャック、スピンチャックを支持する
回転軸、回転軸を回転させてスピンチャックに保持され
た基板Ｗを鉛直軸回りに回転させるスピンモータ、スピ
ンチャックに保持された基板Ｗの側方及び下方を取り囲
むように配設され基板Ｗ上から周囲へ飛散する現像液を
回収するカップ、処理液供給ノズル１０を、スピンチャ
ックに保持された基板Ｗの外周縁より外側の待機位置と
基板Ｗの直上の処理液供給位置との間で移動させるノズ
ル移動機構など、処理液供給ノズル１０以外の、図示さ
れていない構成要素は、従来のスピンデベロッパと同じ
であり、その説明を省略する。
例を示し、図１は、スピンデベロッパの処理液供給ノズ
ルと基板とだけを示し他の部分の図示を省略した斜視図
であり、図２は、その平面図である。基板Ｗを水平姿勢
に保持するスピンチャック、スピンチャックを支持する
回転軸、回転軸を回転させてスピンチャックに保持され
た基板Ｗを鉛直軸回りに回転させるスピンモータ、スピ
ンチャックに保持された基板Ｗの側方及び下方を取り囲
むように配設され基板Ｗ上から周囲へ飛散する現像液を
回収するカップ、処理液供給ノズル１０を、スピンチャ
ックに保持された基板Ｗの外周縁より外側の待機位置と
基板Ｗの直上の処理液供給位置との間で移動させるノズ
ル移動機構など、処理液供給ノズル１０以外の、図示さ
れていない構成要素は、従来のスピンデベロッパと同じ
であり、その説明を省略する。
【００１３】処理液供給ノズル１０は、横長の前壁面を
有する矩形容器状のノズル本体１２を備え、ノズル本体
１０は現像液供給源と現像液供給配管１４を通して流路
接続されている。ノズル本体１２の前壁面には、その長
手方向に並列して複数個の吐出口１６が形設されてい
る。この処理液供給ノズル１０は、ノズル移動機構によ
って待機位置から図１及び図２に示した処理液供給位置
へ移動させられたとき、各吐出口１６から吐出される現
像液１８の流出方向がそれぞれ、基板Ｗの表面に沿った
方向でかつ基板Ｗの回転方向と同一方向となるように配
置される。最良には、図２に示すように、基板Ｗの中心
Ｏを中心とした仮想円Ｃの接線方向と吐出口１６からの
現像液１８の吐出方向とが一致するように、処理液供給
ノズル１０が処理液供給位置において配置されるように
する。このように処理液供給ノズル１０を配置すること
により、各吐出口１６から基板Ｗ上へそれぞれ供給され
た現像液１８は、基板Ｗ上でスムーズに拡散流動して基
板Ｗの表面全体に均一に広がることとなり、基板Ｗの表
面全体が現像液によって速やかに覆われることとなる。
また、基板Ｗの表面に現像液が着液するときの衝撃が小
さくなり、このため、基板Ｗ上に被着されたレジスト膜
の膜減りが生じたりレジストパターン、特にアスペクト
比（レジスト膜厚／レジストパターンの線幅）の高いレ
ジストパターンの倒壊が起こったりすることが回避され
る。
有する矩形容器状のノズル本体１２を備え、ノズル本体
１０は現像液供給源と現像液供給配管１４を通して流路
接続されている。ノズル本体１２の前壁面には、その長
手方向に並列して複数個の吐出口１６が形設されてい
る。この処理液供給ノズル１０は、ノズル移動機構によ
って待機位置から図１及び図２に示した処理液供給位置
へ移動させられたとき、各吐出口１６から吐出される現
像液１８の流出方向がそれぞれ、基板Ｗの表面に沿った
方向でかつ基板Ｗの回転方向と同一方向となるように配
置される。最良には、図２に示すように、基板Ｗの中心
Ｏを中心とした仮想円Ｃの接線方向と吐出口１６からの
現像液１８の吐出方向とが一致するように、処理液供給
ノズル１０が処理液供給位置において配置されるように
する。このように処理液供給ノズル１０を配置すること
により、各吐出口１６から基板Ｗ上へそれぞれ供給され
た現像液１８は、基板Ｗ上でスムーズに拡散流動して基
板Ｗの表面全体に均一に広がることとなり、基板Ｗの表
面全体が現像液によって速やかに覆われることとなる。
また、基板Ｗの表面に現像液が着液するときの衝撃が小
さくなり、このため、基板Ｗ上に被着されたレジスト膜
の膜減りが生じたりレジストパターン、特にアスペクト
比（レジスト膜厚／レジストパターンの線幅）の高いレ
ジストパターンの倒壊が起こったりすることが回避され
る。
【００１４】処理液供給ノズル１０の、基板Ｗの表面か
らの高さは、支障の無い範囲で出来るだけ低くすること
が好ましい。すなわち、処理液供給ノズル１０を基板Ｗ
の表面に近付けて配置することにより、図３に示すよう
に、ノズル本体１２の吐出口１６から吐出された現像液
１８と基板Ｗの表面との接触する角度θが小さくなる。
この結果、先に基板Ｗの表面に供給されて基板Ｗの表面
を覆っている現像液（パドル液）に対して吐出現像液１
８が与える衝撃が緩和され、着液時の衝撃によってパド
ル液に生じる波紋が縮小されることにより、パドル液で
の気泡の発生や巻き込み、液切れの発生などが低減さ
れ、基板表面への気泡の付着による現像欠陥の発生が抑
制されることとなる。
らの高さは、支障の無い範囲で出来るだけ低くすること
が好ましい。すなわち、処理液供給ノズル１０を基板Ｗ
の表面に近付けて配置することにより、図３に示すよう
に、ノズル本体１２の吐出口１６から吐出された現像液
１８と基板Ｗの表面との接触する角度θが小さくなる。
この結果、先に基板Ｗの表面に供給されて基板Ｗの表面
を覆っている現像液（パドル液）に対して吐出現像液１
８が与える衝撃が緩和され、着液時の衝撃によってパド
ル液に生じる波紋が縮小されることにより、パドル液で
の気泡の発生や巻き込み、液切れの発生などが低減さ
れ、基板表面への気泡の付着による現像欠陥の発生が抑
制されることとなる。
【００１５】図４ないし図６は、現像液供給ノズルの具
体的構成例を示し、図４は斜視図、図５は、側断面図で
あって図６のＶ−Ｖ線切断部矢視断面図、図６は、平断
面図であって図５のVI−VI線矢視断面図である。
体的構成例を示し、図４は斜視図、図５は、側断面図で
あって図６のＶ−Ｖ線切断部矢視断面図、図６は、平断
面図であって図５のVI−VI線矢視断面図である。
【００１６】この現像液供給ノズル２０は、前方部の上
下両面がテーパー状に細く形成された矩形状の外観を有
したノズル本体２２に、現像液供給源に接続される現像
液供給配管２４を取着して構成されている。ノズル本体
２２の内部には、現像液供給配管２４の管路と連通する
現像液収容部２６が形成され、ノズル本体２２の前方部
に、現像液収容部２６と連通した４個の吐出孔２８が横
方向に並列して穿設されており、その各吐出孔２８がノ
ズル本体２２の横長の前壁面に開口して、前壁面に、そ
の長手方向に並列した４個の楕円状の吐出口３０が形設
されている。図５の側断面図において、現像液収容部２
６の縦方向の幅より吐出孔２８の縦方向の幅が小さくな
っている。このように、現像液が流れる通路が先細りと
なっていることにより、現像液供給源からの現像液の供
給圧が変動しても、吐出口３０からの現像液の吐出状態
が安定し、また、吐出口３０から吐出される現像液にエ
アー噛みが発生することが防止される。尚、吐出孔２８
は、水平方向に対して多少傾斜させるように形成しても
構わない。
下両面がテーパー状に細く形成された矩形状の外観を有
したノズル本体２２に、現像液供給源に接続される現像
液供給配管２４を取着して構成されている。ノズル本体
２２の内部には、現像液供給配管２４の管路と連通する
現像液収容部２６が形成され、ノズル本体２２の前方部
に、現像液収容部２６と連通した４個の吐出孔２８が横
方向に並列して穿設されており、その各吐出孔２８がノ
ズル本体２２の横長の前壁面に開口して、前壁面に、そ
の長手方向に並列した４個の楕円状の吐出口３０が形設
されている。図５の側断面図において、現像液収容部２
６の縦方向の幅より吐出孔２８の縦方向の幅が小さくな
っている。このように、現像液が流れる通路が先細りと
なっていることにより、現像液供給源からの現像液の供
給圧が変動しても、吐出口３０からの現像液の吐出状態
が安定し、また、吐出口３０から吐出される現像液にエ
アー噛みが発生することが防止される。尚、吐出孔２８
は、水平方向に対して多少傾斜させるように形成しても
構わない。
【００１７】以上説明した現像液供給ノズルは、その横
長の前壁面に複数個の吐出口を長手方向に並列させて形
設した構成を有しているが、横長の前壁面にその長手方
向に沿ってスリット状の吐出口を形設して現像液供給ノ
ズルを構成することもできる。また、現像液供給ノズル
の前壁面を円弧状に形成してもよい。
長の前壁面に複数個の吐出口を長手方向に並列させて形
設した構成を有しているが、横長の前壁面にその長手方
向に沿ってスリット状の吐出口を形設して現像液供給ノ
ズルを構成することもできる。また、現像液供給ノズル
の前壁面を円弧状に形成してもよい。
【００１８】このスピンデベロッパによる現像処理は、
従来の装置と同様に行なわれるが、現像液供給ノズル１
０からの現像液の吐出開始時には、基板Ｗを従来よりも
高速で回転させて、基板Ｗ上における現像液の拡散を速
やかに行なわせ、続いて、基板Ｗを低速で回転させて、
基板Ｗの表面への液盛り（パドル）を無駄無く行なわ
せ、その後に、現像液の吐出及び基板Ｗの回転を停止さ
せるようにすることが好ましい。
従来の装置と同様に行なわれるが、現像液供給ノズル１
０からの現像液の吐出開始時には、基板Ｗを従来よりも
高速で回転させて、基板Ｗ上における現像液の拡散を速
やかに行なわせ、続いて、基板Ｗを低速で回転させて、
基板Ｗの表面への液盛り（パドル）を無駄無く行なわ
せ、その後に、現像液の吐出及び基板Ｗの回転を停止さ
せるようにすることが好ましい。
【００１９】
【発明の効果】請求項１に係る発明の基板回転式現像装
置を使用して現像処理を行なうようにしたときは、処理
液供給ノズルの複数個の吐出口から吐出され基板上へ供
給された現像液が基板上でスムーズに拡散流動して基板
の表面全体に均一に広がり、また、請求項２に係る基板
回転式現像装置を使用して基板の現像処理を行なうよう
にしたときは、処理液供給ノズルのスリット状の吐出口
から吐出され基板上へ供給された現像液が基板上でスム
ーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広がり、こ
のため、基板の表面全体が現像液で均一に覆われるの
で、基板面における処理の均一性が向上し、現像むらが
防止されることとなる。
置を使用して現像処理を行なうようにしたときは、処理
液供給ノズルの複数個の吐出口から吐出され基板上へ供
給された現像液が基板上でスムーズに拡散流動して基板
の表面全体に均一に広がり、また、請求項２に係る基板
回転式現像装置を使用して基板の現像処理を行なうよう
にしたときは、処理液供給ノズルのスリット状の吐出口
から吐出され基板上へ供給された現像液が基板上でスム
ーズに拡散流動して基板の表面全体に均一に広がり、こ
のため、基板の表面全体が現像液で均一に覆われるの
で、基板面における処理の均一性が向上し、現像むらが
防止されることとなる。
【図１】この発明の実施の形態の１例を示し、スピンデ
ベロッパの処理液供給ノズルと基板とだけを示し他の部
分の図示を省略した斜視図である。
ベロッパの処理液供給ノズルと基板とだけを示し他の部
分の図示を省略した斜視図である。
【図２】図１に示した状態の平面図である。
【図３】図１に示した状態の部分拡大側面図である。
【図４】処理液供給ノズルの具体的構成例を示す斜視図
である。
である。
【図５】図４に示した処理液供給ノズルの側断面図であ
って図６のＶ−Ｖ線切断部矢視断面図である。
って図６のＶ−Ｖ線切断部矢視断面図である。
【図６】図４に示した処理液供給ノズルの平断面図であ
って図５のVI−VI線矢視断面図である。
って図５のVI−VI線矢視断面図である。
【図７】従来の処理液供給ノズルの１例を示す斜視図で
ある。
ある。
【図８】従来の処理液供給ノズルの別の例を示す斜視図
である。
である。
１０、２０ 処理液供給ノズル
１２、２２ ノズル本体
１６、３０ 吐出口
１８ 現像液
Ｗ 基板
フロントページの続き
(72)発明者 杉本 憲司
京都市伏見区羽束師古川町322番地 大
日本スクリーン製造株式会社 洛西事業
所内
(56)参考文献 特開 昭59−109273（ＪＰ，Ａ)
特開 昭57−192955（ＪＰ，Ａ)
特公 平５−68092（ＪＰ，Ｂ２)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
B05D 1/00 - 7/26
Claims (2)
- 【請求項１】 基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに
回転させる基板保持・回転手段と、 現像液を吐出する吐出口を有し、前記基板保持・回転手
段に保持された基板の表面に現像液を供給する処理液供
給ノズルと、 この処理液供給ノズルを待機位置と処理液供給位置との
間で移動させるノズル移動手段とを備えた基板回転式現
像装置において、 前記処理液供給ノズルが、横長の前壁面を有し、その前
壁面に、長手方向に並列させて複数個の吐出口を形設
し、その各吐出口から現像液がそれぞれ、前記基板保持
・回転手段に保持されて回転する基板の表面に沿った方
向でかつ基板の回転方向と同一方向へ前方に向けて吐出
され、その吐出された現像液と基板の表面との接触する
角度が鋭角となるように、前記ノズル移動手段により処
理液供給位置において処理液供給ノズルを配置したこと
を特徴とする基板回転式現像装置。 - 【請求項２】 基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに
回転させる基板保持・回転手段と、 現像液を吐出する吐出口を有し、前記基板保持・回転手
段に保持された基板の表面に現像液を供給する処理液供
給ノズルと、 この処理液供給ノズルを待機位置と処理液供給位置との
間で移動させるノズル移動手段とを備えた基板回転式現
像装置において、 前記処理液供給ノズルが、横長の前壁面を有し、その前
壁面に、長手方向に沿ってスリット状の吐出口を形設
し、その吐出口から現像液が、前記基板保持・回転手段
に保持されて回転する基板の表面に沿った方向でかつ基
板の回転方向と同一方向へ前方に向けて吐出され、その
吐出された現像液と基板の表面との接触する角度が鋭角
となるように、前記ノズル移動手段により処理液供給位
置において処理液供給ノズルを配置したことを特徴とす
る基板回転式現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31730495A JP3451155B2 (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 基板回転式現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31730495A JP3451155B2 (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 基板回転式現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09138508A JPH09138508A (ja) | 1997-05-27 |
| JP3451155B2 true JP3451155B2 (ja) | 2003-09-29 |
Family
ID=18086728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31730495A Expired - Fee Related JP3451155B2 (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 基板回転式現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3451155B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1020701C2 (nl) * | 2002-05-29 | 2003-12-02 | Stichting Energie | Werkwijze en inrichting voor het op een laag van een nanokristallijn eerste materiaal aanbrengen van een laag van een tweede materiaal. |
| JP5512508B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2014-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置および液処理方法 |
| CN110687758B (zh) * | 2019-10-23 | 2024-01-02 | 长江存储科技有限责任公司 | 晶圆显影装置及其显影方法 |
| CN115284541A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-11-04 | 浙江师范大学 | 一种热流道系统 |
-
1995
- 1995-11-10 JP JP31730495A patent/JP3451155B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09138508A (ja) | 1997-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2892476B2 (ja) | 帯状液体ノズル及び液処理装置及び液処理方法 | |
| JPH07106233A (ja) | 回転式基板処理装置 | |
| JP3451155B2 (ja) | 基板回転式現像装置 | |
| JPH0945750A (ja) | 板状物保持部材およびそれを用いた回転処理装置 | |
| JP2008016781A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JP3580664B2 (ja) | 現像装置および現像方法 | |
| JP3633775B2 (ja) | 処理液吐出ノズルおよび基板処理装置 | |
| JP3633774B2 (ja) | 処理液吐出ノズルおよび基板処理装置 | |
| JP3169666B2 (ja) | 現像装置及び現像方法 | |
| JP2800008B2 (ja) | 回転処理装置及び回転処理方法 | |
| JP3669601B2 (ja) | 薬液吐出ノズル | |
| JP3451158B2 (ja) | 基板の回転式現像処理方法及び装置 | |
| JP4011040B2 (ja) | 現像装置および現像方法 | |
| JP3832537B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
| JP3210893B2 (ja) | 処理装置および処理方法 | |
| JP3110370B2 (ja) | 半導体基板現像装置及び現像方法 | |
| JPH0822952A (ja) | 基板回転式現像処理方法及びその装置 | |
| JP3436837B2 (ja) | 基板回転式処理装置 | |
| JPH11226475A (ja) | 処理液吐出ノズルおよび基板処理装置 | |
| JP2001307986A (ja) | 半導体基板固定保持装置 | |
| JP3290773B2 (ja) | 処理装置および処理方法 | |
| JP2580082B2 (ja) | 基板の回転処理装置 | |
| JPH05275323A (ja) | 半導体基板現像処理装置 | |
| JPH0963946A (ja) | 基板回転式現像装置 | |
| JPH10270318A (ja) | 飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100711 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |