JP3440165B2 - ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハロゲ
ン化銀写真感光材料に関する。
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハロゲ
ン化銀写真感光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】グラフィック・アーツの分野において
は、網点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画
像の再生を良好ならしめるために、超硬調（特にガンマ
が１０以上）の写真特性を示す画像形成システムが必要
である。高コントラストの写真特性を得る方法として
は、古くから所謂「伝染現像効果」を利用したリス現像
方式が使用されてきたが、現像液が不安定で使いにくい
という欠点を有していた。
は、網点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画
像の再生を良好ならしめるために、超硬調（特にガンマ
が１０以上）の写真特性を示す画像形成システムが必要
である。高コントラストの写真特性を得る方法として
は、古くから所謂「伝染現像効果」を利用したリス現像
方式が使用されてきたが、現像液が不安定で使いにくい
という欠点を有していた。
【０００３】ヒドラジン化合物をハロゲン化銀写真乳剤
や現像液に添加することは、米国特許第３，７３０，７
２７号（アスコルビン酸とヒドラジンとを組合せた現像
液）、同３，２２７，５５２号（直接ポジカラー像を得
るための補助現像薬としてヒドラジンを使用）、同３，
３８６，８３１号（ハロゲン化銀感材の安定剤として脂
肪族カルボン酸のβ−モノ−フェニルヒドラジドを含
有）、同２，４１９，９７５号や、ミース(Mees)著 ザ
・セオリー・オブ・フォトグラフィク・プロセス(The T
heory of the Photographic Process) 第３版（１９６
６年）２８１頁等で知られている。これらの中で、特
に、米国特許第２，４１９，９７５号では、ヒドラジン
化合物の添加により硬調なネガチブ画像を得ることが、
開示されている。同特許明細書には塩臭化銀乳剤にヒド
ラジン化合物を添加し、１２．８というような高いｐＨ
の現像液で現像すると、ガンマ（γ）が１０をこえる極
めて硬調な写真特性が得られることが記載されている。
しかし、ｐＨが１３に近い強アルカリ現像液は、空気酸
化され易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。
ヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より
低いｐＨの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫
が試みられている。
や現像液に添加することは、米国特許第３，７３０，７
２７号（アスコルビン酸とヒドラジンとを組合せた現像
液）、同３，２２７，５５２号（直接ポジカラー像を得
るための補助現像薬としてヒドラジンを使用）、同３，
３８６，８３１号（ハロゲン化銀感材の安定剤として脂
肪族カルボン酸のβ−モノ−フェニルヒドラジドを含
有）、同２，４１９，９７５号や、ミース(Mees)著 ザ
・セオリー・オブ・フォトグラフィク・プロセス(The T
heory of the Photographic Process) 第３版（１９６
６年）２８１頁等で知られている。これらの中で、特
に、米国特許第２，４１９，９７５号では、ヒドラジン
化合物の添加により硬調なネガチブ画像を得ることが、
開示されている。同特許明細書には塩臭化銀乳剤にヒド
ラジン化合物を添加し、１２．８というような高いｐＨ
の現像液で現像すると、ガンマ（γ）が１０をこえる極
めて硬調な写真特性が得られることが記載されている。
しかし、ｐＨが１３に近い強アルカリ現像液は、空気酸
化され易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。
ヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より
低いｐＨの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫
が試みられている。
【０００４】特開平１−１７９９３９、および特開平１
−１７９９４０には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する吸
着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有する
造核剤とを含む感材を用いて、ｐＨ１１．０以下の現像
液で現像する処理方法が記載されている。しかしなが
ら、吸着基を有する化合物は、ハロゲン化銀乳剤に添加
すると、ある限界量を超えると感光性を損ったり、現像
を抑制したり、あるいは他の有用な吸着性添加物の作用
を妨げたりする害を有するため、使用量が制限され、充
分な硬調性を発現できていない。特開昭６０−１４０３
４０には、ハロゲン化銀写真感光材料に、アミン類を添
加することで硬調性が上がることが開示されている。し
かしながら、ｐＨ１１．０未満の現像液で現像する場合
においては、充分な硬調性を発現できない。特開昭５６
−１０６２４４には、ｐＨ１０〜１２の現像液中にアミ
ノ化合物を添加して、コントラスト促進させることが開
示されている。しかしながらアミン類を現像液に添加し
て用いた場合に、液の臭気や使用機器への付着による汚
れ、あるいは廃液による環境汚染などの問題があり、感
光材料中へ組み込むことが望まれているが感光材料に添
加して十分な性能が得られるものはまだ見い出されてい
ない。
−１７９９４０には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対する吸
着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を有する
造核剤とを含む感材を用いて、ｐＨ１１．０以下の現像
液で現像する処理方法が記載されている。しかしなが
ら、吸着基を有する化合物は、ハロゲン化銀乳剤に添加
すると、ある限界量を超えると感光性を損ったり、現像
を抑制したり、あるいは他の有用な吸着性添加物の作用
を妨げたりする害を有するため、使用量が制限され、充
分な硬調性を発現できていない。特開昭６０−１４０３
４０には、ハロゲン化銀写真感光材料に、アミン類を添
加することで硬調性が上がることが開示されている。し
かしながら、ｐＨ１１．０未満の現像液で現像する場合
においては、充分な硬調性を発現できない。特開昭５６
−１０６２４４には、ｐＨ１０〜１２の現像液中にアミ
ノ化合物を添加して、コントラスト促進させることが開
示されている。しかしながらアミン類を現像液に添加し
て用いた場合に、液の臭気や使用機器への付着による汚
れ、あるいは廃液による環境汚染などの問題があり、感
光材料中へ組み込むことが望まれているが感光材料に添
加して十分な性能が得られるものはまだ見い出されてい
ない。
【０００５】米国特許４９９８６０４号、および同４９
９４３６５号には、エチレンオキシドの繰り返し単位を
有するヒドラジン化合物、およびピリジニウム基を有す
るヒドラジン化合物が開示されている。しかしながら、
これらの実施例で明らかなように、硬調性が充分でな
く、実用的な現像処理条件で硬調性と必要なＤmax を得
ることは困難である。
９４３６５号には、エチレンオキシドの繰り返し単位を
有するヒドラジン化合物、およびピリジニウム基を有す
るヒドラジン化合物が開示されている。しかしながら、
これらの実施例で明らかなように、硬調性が充分でな
く、実用的な現像処理条件で硬調性と必要なＤmax を得
ることは困難である。
【０００６】ｐＨ１１．０未満の安定な現像液を用いて
超硬調な画像を得る為に、種々の検討を行ない、感材中
に特定のヒドラジン造核剤と特定の４級オニウム塩造核
促進剤を併用することにより、超硬調画像が得られるこ
とが見い出されて来た。
超硬調な画像を得る為に、種々の検討を行ない、感材中
に特定のヒドラジン造核剤と特定の４級オニウム塩造核
促進剤を併用することにより、超硬調画像が得られるこ
とが見い出されて来た。
【０００７】しかしながら、これらの方法では超硬調な
画質は得られるが、網点あるいは、線画像のエッジスム
ースネスが悪く、改良が望まれていた。
画質は得られるが、網点あるいは、線画像のエッジスム
ースネスが悪く、改良が望まれていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ｐＨ１１以下の現像液で処理したときに、超硬調か
つエッジスムースネスの良好な画像が得られるグラフィ
ックアーツ用感材を提供することである。
は、ｐＨ１１以下の現像液で処理したときに、超硬調か
つエッジスムースネスの良好な画像が得られるグラフィ
ックアーツ用感材を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】支持体上に、少なくとも
１層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層およ
び／またはその他の親水性コロイド層に、ヒドラジン基
の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分
子内水素結合を形成するノニオン性基を有することを特
徴とする少なくとも一種のヒドラジン系造核剤と、造核
促進剤を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、ｐＨ
９．５以上１１．０未満の現像液を用いて現像処理する
ことを特徴とする、ハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法、または上記造核促進剤が下記の一般式（１）、
（２）、（３）、（４）、（５）、（６）および（７）
で表される化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物
であるハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
一般式（１）
１層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層およ
び／またはその他の親水性コロイド層に、ヒドラジン基
の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分
子内水素結合を形成するノニオン性基を有することを特
徴とする少なくとも一種のヒドラジン系造核剤と、造核
促進剤を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、ｐＨ
９．５以上１１．０未満の現像液を用いて現像処理する
ことを特徴とする、ハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法、または上記造核促進剤が下記の一般式（１）、
（２）、（３）、（４）、（５）、（６）および（７）
で表される化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物
であるハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
一般式（１）
【００１０】
【化１１】
【００１１】式中、Ｙはハロゲン化銀に吸着する基を表
す。Ｘは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫
黄原子から選ばれた原子または原子群よりなる２価の連
結基を表す。Ａは２価の連結基を表す。Ｂはアミノ基、
含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換されていてもよ
い。ｍは１、２または３を表し、ｎは０または１を表
す。一般式（２）
す。Ｘは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫
黄原子から選ばれた原子または原子群よりなる２価の連
結基を表す。Ａは２価の連結基を表す。Ｂはアミノ基、
含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換されていてもよ
い。ｍは１、２または３を表し、ｎは０または１を表
す。一般式（２）
【００１２】
【化１２】
【００１３】式中、Ｒ1 、Ｒ2 は各々水素原子または脂
肪族残基を表す。Ｒ1 とＲ2 は互いに結合して環を形成
してもよい。Ｒ3 は２価の脂肪族基を表す。Ｘ1 は窒
素、酸素もしくは硫黄原子を含む２価のヘテロ環を表
す。ｎは０または１を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、４級アンモニウム塩、４級ホス
ホニウム塩または、アミジノ基を表す。一般式（３）
肪族残基を表す。Ｒ1 とＲ2 は互いに結合して環を形成
してもよい。Ｒ3 は２価の脂肪族基を表す。Ｘ1 は窒
素、酸素もしくは硫黄原子を含む２価のヘテロ環を表
す。ｎは０または１を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金
属、アルカリ土類金属、４級アンモニウム塩、４級ホス
ホニウム塩または、アミジノ基を表す。一般式（３）
【００１４】
【化１３】
【００１５】式中、Ｒ11およびＲ12は各々水素原子、炭
素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０のアルケニ
ル基または炭素数７〜３０のアラルキル基を表す。ま
た、Ｒ11とＲ12は同時に水素原子を表すことはなく、互
いに結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数
を表す。Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は各々水素原子ま
たは炭素数１〜４のアルキル基を表す。一般式（４）
素数１〜３０のアルキル基、炭素数３〜３０のアルケニ
ル基または炭素数７〜３０のアラルキル基を表す。ま
た、Ｒ11とＲ12は同時に水素原子を表すことはなく、互
いに結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数
を表す。Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は各々水素原子ま
たは炭素数１〜４のアルキル基を表す。一般式（４）
【００１６】
【化１４】
【００１７】Ｒ11とＲ12は一般式（３）におけると同じ
であり、Ｒ11′とＲ12′はＲ11とＲ12と同意義を表す。
一般式（５）
であり、Ｒ11′とＲ12′はＲ11とＲ12と同意義を表す。
一般式（５）
【００１８】
【化１５】
【００１９】Ｘ、Ｙ、Ｂは一般式（１）におけると同じ
であり、Ａ0 は少なくとも２つのアルキレンオキシユニ
ットを有する２価の連結基を表す。ｍは１、２または３
を表し、ｎは０または１を表す。一般式（６）
であり、Ａ0 は少なくとも２つのアルキレンオキシユニ
ットを有する２価の連結基を表す。ｍは１、２または３
を表し、ｎは０または１を表す。一般式（６）
【００２０】
【化１６】
【００２１】式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれアルキル
基、アルケニル基、またはアルキニル基を表し、Ｒ1 と
Ｒ2 で環を形成してもよい。Ｒ3 は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ
基またはヘテロ環基を表す。Ｌ1 は２価の連結基を表
し、Ｘは
基、アルケニル基、またはアルキニル基を表し、Ｒ1 と
Ｒ2 で環を形成してもよい。Ｒ3 は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ
基またはヘテロ環基を表す。Ｌ1 は２価の連結基を表
し、Ｘは
【００２２】
【化１７】
【００２３】を表す。Ｌ2 はアルキレン基またはアルケ
ニレン基を表し、Ｙはカルボニル基、スルホニル基、ス
ルホキシ基、ホスホリル基を表す。Ｌ3 は
ニレン基を表し、Ｙはカルボニル基、スルホニル基、ス
ルホキシ基、ホスホリル基を表す。Ｌ3 は
【００２４】
【化１８】
【００２５】を表す。Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 はそれぞれ
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す。ｎは０または１を
表す。一般式（７）
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す。ｎは０または１を
表す。一般式（７）
【００２６】
【化１９】
【００２７】式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ
置換されてもよいアルキル基、アルケニル基、またはア
ルキニル基を表す。但し、一般式（７）の化合物は、チ
オエーテル基および
置換されてもよいアルキル基、アルケニル基、またはア
ルキニル基を表す。但し、一般式（７）の化合物は、チ
オエーテル基および
【００２８】
【化２０】
【００２９】の部分構造を少なくとも１つ有する。Ｙは
置換されてもよいアルキレン基、置換されてもよいアル
ケニレン基または置換されてもよいアリーレン基を表
し、ｐは１以上の整数を表す。
置換されてもよいアルキレン基、置換されてもよいアル
ケニレン基または置換されてもよいアリーレン基を表
し、ｐは１以上の整数を表す。
【００３０】本発明では、硬調化剤として一般式
（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）で表されるヒドラジン系造
核剤が用いられる。
（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）で表されるヒドラジン系造
核剤が用いられる。
【００３１】一般式（Ａ）
【００３２】
【化２１】
【００３３】（式中、Ｒ1 はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、Ｌ1 は電子吸引基を有する２価
の連結基を表し、Ｙ1 はアニオン性基を表す。） 一般式（Ｂ）
たはヘテロ環基を表し、Ｌ1 は電子吸引基を有する２価
の連結基を表し、Ｙ1 はアニオン性基を表す。） 一般式（Ｂ）
【００３４】
【化２２】
【００３５】（式中、Ｒ2 はアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表し、Ｌ2 は２価の連結基を表し、Ｙ
2 はアニオン性基を表す。） 一般式（Ｃ）
たはヘテロ環基を表し、Ｌ2 は２価の連結基を表し、Ｙ
2 はアニオン性基を表す。） 一般式（Ｃ）
【００３６】
【化２３】
【００３７】（式中、Ｘ3 はベンゼン環に置換可能な基
を表し、Ｒ3 はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表し、Ｙ3 はアニオン性基を表す。ｍ3 は０から
４の整数でありｎ3 は１または２である。ｎ3 が１のと
きＲ3 は電子吸引性基を有する。）
を表し、Ｒ3 はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表し、Ｙ3 はアニオン性基を表す。ｍ3 は０から
４の整数でありｎ3 は１または２である。ｎ3 が１のと
きＲ3 は電子吸引性基を有する。）
【００３８】一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に関しさら
に詳細に説明する。Ｒ1 、Ｒ2 のアルキル基としては炭
素数１〜１６、好ましくは炭素数１〜１２の直鎖、分岐
鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アリル、プ
ロパルギル、２−ブテニル、２−ヒドロキシエチル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、トリチル、４−メチルベンジ
ル、２−メトキシエチル、シクロペンチル、２−アセト
アミドエチルである。
に詳細に説明する。Ｒ1 、Ｒ2 のアルキル基としては炭
素数１〜１６、好ましくは炭素数１〜１２の直鎖、分岐
鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アリル、プ
ロパルギル、２−ブテニル、２−ヒドロキシエチル、ベ
ンジル、ベンズヒドリル、トリチル、４−メチルベンジ
ル、２−メトキシエチル、シクロペンチル、２−アセト
アミドエチルである。
【００３９】アリール基としては炭素数６〜２４、好ま
しくは炭素数６〜１２のアリール基で例えば、フェニ
ル、ナフチル、ｐ−アルコキシフェニル、ｐ−スルホン
アミドフェニル、ｐ−ウレイドフェニル、ｐ−アミドフ
ェニルである。ヘテロ環基としては炭素数１〜５の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員
または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複
数であっても良く、例えば、２−フリル、２−チエニ
ル、４−ピリジルである。
しくは炭素数６〜１２のアリール基で例えば、フェニ
ル、ナフチル、ｐ−アルコキシフェニル、ｐ−スルホン
アミドフェニル、ｐ−ウレイドフェニル、ｐ−アミドフ
ェニルである。ヘテロ環基としては炭素数１〜５の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員
または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複
数であっても良く、例えば、２−フリル、２−チエニ
ル、４−ピリジルである。
【００４０】Ｒ1 、Ｒ2 として好ましくはアリール基、
芳香族ヘテロ環基またはアリール置換メチル基であり、
更に好ましくはアリール基（例えばフェニル、ナフチ
ル）である。Ｒ1 、Ｒ2 は置換基で置換されていてもよ
く、置換基としては例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシ基、アルキルまたはアリール置換アミノ基、
アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、リンサ
ンアミド基である。これらの基は更に置換されていても
よい。これらのうちスルホンアミド基、ウレイド基、ア
ミド基、アルコキシ基、ウレタン基が好ましく、スルホ
ンアミド基、ウレイド基が更に好ましい。これらの基は
可能なときは互いに連結して環を形成してもよい。
芳香族ヘテロ環基またはアリール置換メチル基であり、
更に好ましくはアリール基（例えばフェニル、ナフチ
ル）である。Ｒ1 、Ｒ2 は置換基で置換されていてもよ
く、置換基としては例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシ基、アルキルまたはアリール置換アミノ基、
アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、リンサ
ンアミド基である。これらの基は更に置換されていても
よい。これらのうちスルホンアミド基、ウレイド基、ア
ミド基、アルコキシ基、ウレタン基が好ましく、スルホ
ンアミド基、ウレイド基が更に好ましい。これらの基は
可能なときは互いに連結して環を形成してもよい。
【００４１】Ｒ3 のアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基はＲ1 で述べたものが挙げられる。アルケニル基とし
ては炭素数２〜１８好ましくは２〜１０のもので、例え
ばビニル、２−スチリルである。アルキニル基としては
炭素数２〜１８好ましくは２〜１０のもので、例えばエ
チニル、フェニルエチニルである。アルコキシ基として
は炭素数１ないし１６、好ましくは炭素数１ないし１０
の直鎖、分岐鎖または環状のアルコキシ基であり、例え
ばメトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシである。
アミノ基としては炭素数０〜１６、好ましくは炭素数１
〜１０のもので、エチルアミノ、ベンジルアミノ、フェ
ニルアミノである。ｎ3 ＝１のときＲ3としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましい。ｎ3 ＝
２のときＲ3 としてはアミノ基、アルコキシ基が好まし
い。
基はＲ1 で述べたものが挙げられる。アルケニル基とし
ては炭素数２〜１８好ましくは２〜１０のもので、例え
ばビニル、２−スチリルである。アルキニル基としては
炭素数２〜１８好ましくは２〜１０のもので、例えばエ
チニル、フェニルエチニルである。アルコキシ基として
は炭素数１ないし１６、好ましくは炭素数１ないし１０
の直鎖、分岐鎖または環状のアルコキシ基であり、例え
ばメトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシである。
アミノ基としては炭素数０〜１６、好ましくは炭素数１
〜１０のもので、エチルアミノ、ベンジルアミノ、フェ
ニルアミノである。ｎ3 ＝１のときＲ3としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましい。ｎ3 ＝
２のときＲ3 としてはアミノ基、アルコキシ基が好まし
い。
【００４２】Ｒ3 の有する電子吸引性基としては、ハメ
ットのσm の値が０．２以上のもの、好ましくは０．３
以上のもので、例えばハロゲン原子（フッ素、塩素、臭
素）、シアノ基、スルホニル基（メタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル）、スルフィニル基（メタンスルフィ
ニル）、アシル基（アセチル、ベンゾイル）、オキシカ
ルボニル基（メトキシカルボニル）、カルバモイル基
（Ｎ−メチルカルバモイル）、スルファモイル基（メチ
ルスルファモイル）、ハロゲン置換アルキル基（トリフ
ルオロメチル）、ヘテロ環基（２−ベンズオキサゾリ
ル、ピロロ）、４級オニウム基（トリフェニルホスホニ
ウム、トリアルキルアンモニウム、ピリジニウム）が挙
げられる。電子吸引基を有するＲ3 としては、例えばト
リフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、シアノメチル、メタンスルホニルメチル、アセ
チルエチル、トリフルオロメチルエチニル、エトキシカ
ルボニルメチルが挙げられる。
ットのσm の値が０．２以上のもの、好ましくは０．３
以上のもので、例えばハロゲン原子（フッ素、塩素、臭
素）、シアノ基、スルホニル基（メタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル）、スルフィニル基（メタンスルフィ
ニル）、アシル基（アセチル、ベンゾイル）、オキシカ
ルボニル基（メトキシカルボニル）、カルバモイル基
（Ｎ−メチルカルバモイル）、スルファモイル基（メチ
ルスルファモイル）、ハロゲン置換アルキル基（トリフ
ルオロメチル）、ヘテロ環基（２−ベンズオキサゾリ
ル、ピロロ）、４級オニウム基（トリフェニルホスホニ
ウム、トリアルキルアンモニウム、ピリジニウム）が挙
げられる。電子吸引基を有するＲ3 としては、例えばト
リフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、シアノメチル、メタンスルホニルメチル、アセ
チルエチル、トリフルオロメチルエチニル、エトキシカ
ルボニルメチルが挙げられる。
【００４３】Ｌ1 、Ｌ2 は２価の連結基を表し、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、二価のヘテロ環基およびそれらを−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −等の単独または組み合
わせからなる基で連結したものである。Ｌ1 、Ｌ2 はＲ
1 の置換基として述べた基で置換されていてもよい。ア
ルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、２−ブテン−１，４−イル、２
−ブチン−１，４−イルである。アルケニレン基として
は、例えばビニレンである。アルキニレン基としてはエ
チニレンである。アリーレン基としては、例えばフェニ
レンである。二価のヘテロ環基としては、例えばフラン
−１，４−ジイルである。Ｌ1 としてはアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基が好ま
しく、アルキレン基がより好ましい。さらに鎖長が炭素
数２〜３のアルキレン基が最も好ましい。Ｌ2 としては
アルキレン基、アリーレン基、−ＮＨ−アルキレン−、
−Ｏ−アルキレン−、−ＮＨ−アリーレン−が好まし
く、−ＮＨ−アルキレン−、−Ｏ−アルキレン−がより
好ましい。
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、二価のヘテロ環基およびそれらを−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −等の単独または組み合
わせからなる基で連結したものである。Ｌ1 、Ｌ2 はＲ
1 の置換基として述べた基で置換されていてもよい。ア
ルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン、トリ
メチレン、プロピレン、２−ブテン−１，４−イル、２
−ブチン−１，４−イルである。アルケニレン基として
は、例えばビニレンである。アルキニレン基としてはエ
チニレンである。アリーレン基としては、例えばフェニ
レンである。二価のヘテロ環基としては、例えばフラン
−１，４−ジイルである。Ｌ1 としてはアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基が好ま
しく、アルキレン基がより好ましい。さらに鎖長が炭素
数２〜３のアルキレン基が最も好ましい。Ｌ2 としては
アルキレン基、アリーレン基、−ＮＨ−アルキレン−、
−Ｏ−アルキレン−、−ＮＨ−アリーレン−が好まし
く、−ＮＨ−アルキレン−、−Ｏ−アルキレン−がより
好ましい。
【００４４】Ｌ1 の有する電子吸引性基としては、Ｒ3
の有する電子吸引性基として述べたものが挙げられる。
Ｌ1 として例えばテトラフルオロエチレン、フルオロメ
チレン、ヘキサフルオロトリメチレン、パーフルオロフ
ェニレン、ジフルオロビニレン、シアノメチレン、メタ
ンスルホニルエチレンが挙げられる。
の有する電子吸引性基として述べたものが挙げられる。
Ｌ1 として例えばテトラフルオロエチレン、フルオロメ
チレン、ヘキサフルオロトリメチレン、パーフルオロフ
ェニレン、ジフルオロビニレン、シアノメチレン、メタ
ンスルホニルエチレンが挙げられる。
【００４５】Ｙ1 ないしＹ3 は、アニオン性基である。
さらに具体的には、アニオン性基としてはカルボン酸、
スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸および
それらの塩が挙げられる。塩としてはアルカリ金属イオ
ン（ナトリウム、カリウム）、アルカリ土類金属イオン
（カルシウム、マグネシウム）、アンモニウム（アンモ
ニウム、トリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモ
ニウム、ピリジニウム）、ホスホニウム（テトラフェニ
ルホスホニウム）が挙げられる。Ｙ1 ないしＹ3 として
は、カルボン酸およびその塩がさらに好ましい。
さらに具体的には、アニオン性基としてはカルボン酸、
スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸および
それらの塩が挙げられる。塩としてはアルカリ金属イオ
ン（ナトリウム、カリウム）、アルカリ土類金属イオン
（カルシウム、マグネシウム）、アンモニウム（アンモ
ニウム、トリエチルアンモニウム、テトラブチルアンモ
ニウム、ピリジニウム）、ホスホニウム（テトラフェニ
ルホスホニウム）が挙げられる。Ｙ1 ないしＹ3 として
は、カルボン酸およびその塩がさらに好ましい。
【００４６】Ｘ3 のベンゼン環に置換可能な基およびそ
の好ましいものは、一般式（Ａ）のＲ1 が有する置換基
として述べたものが挙げられる。ｍ3 が２以上の時それ
ぞれは同じでも異なっていてもよい。
の好ましいものは、一般式（Ａ）のＲ1 が有する置換基
として述べたものが挙げられる。ｍ3 が２以上の時それ
ぞれは同じでも異なっていてもよい。
【００４７】Ｒ1 ないしＲ3 、またはＸ3 は写真用カプ
ラーで用いられる耐拡散基を有してもよいし、ハロゲン
化銀への吸着促進基を有してもよい。耐拡散基としては
炭素数８以上３０以下のもので、炭素数１２以上２５以
下のものが好ましい。ハロゲン化銀への吸着促進基とし
ては、好ましくはチオアミド類（例えばチオウレタン、
チオウレイド、チオアミド）、メルカプト類（例えば５
−メルカプトテトラゾール、３−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール、２−メルカプト−１，３，４−チア
ジアゾール、２−メルカプト−１，３，４−オキサジア
ゾール等のヘテロ環メルカプト、アルキルメルカプト、
アリールメルカプト）およびイミノ銀を生成する５ない
し６員の含窒素ヘテロ環（例えばベンゾトリアゾール）
である。ハロゲン化銀吸着促進基を有するものとして
は、吸着基が保護されており現像処理時に保護基が除去
されてハロゲン化銀への吸着性が高まる構造のものも含
まれる。
ラーで用いられる耐拡散基を有してもよいし、ハロゲン
化銀への吸着促進基を有してもよい。耐拡散基としては
炭素数８以上３０以下のもので、炭素数１２以上２５以
下のものが好ましい。ハロゲン化銀への吸着促進基とし
ては、好ましくはチオアミド類（例えばチオウレタン、
チオウレイド、チオアミド）、メルカプト類（例えば５
−メルカプトテトラゾール、３−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール、２−メルカプト−１，３，４−チア
ジアゾール、２−メルカプト−１，３，４−オキサジア
ゾール等のヘテロ環メルカプト、アルキルメルカプト、
アリールメルカプト）およびイミノ銀を生成する５ない
し６員の含窒素ヘテロ環（例えばベンゾトリアゾール）
である。ハロゲン化銀吸着促進基を有するものとして
は、吸着基が保護されており現像処理時に保護基が除去
されてハロゲン化銀への吸着性が高まる構造のものも含
まれる。
【００４８】一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）において、
それぞれ二つの化合物の水素原子が除去されたラジカル
どうしが結合してビス型を形成してもよい。一般式
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）において、一般式（Ａ）および
（Ｂ）が好ましく、一般式（Ａ）がより好ましい。さら
に一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）において以下に示す一
般式（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）がより好ましく、一般式
（Ｄ）が最も好ましい。一般式（Ｄ）
それぞれ二つの化合物の水素原子が除去されたラジカル
どうしが結合してビス型を形成してもよい。一般式
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）において、一般式（Ａ）および
（Ｂ）が好ましく、一般式（Ａ）がより好ましい。さら
に一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）において以下に示す一
般式（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）がより好ましく、一般式
（Ｄ）が最も好ましい。一般式（Ｄ）
【００４９】
【化２４】
【００５０】（式中、Ｒ4 、Ｘ4 、ｍ4 はそれぞれ一般
式（Ｃ）のＲ3 、Ｘ3 、ｍ3 と同義であり、Ｌ4 、Ｙ4
は一般式（Ａ）のＬ1 、Ｙ1 と同義である。）一般式
（Ｅ）
式（Ｃ）のＲ3 、Ｘ3 、ｍ3 と同義であり、Ｌ4 、Ｙ4
は一般式（Ａ）のＬ1 、Ｙ1 と同義である。）一般式
（Ｅ）
【００５１】
【化２５】
【００５２】（式中、Ｒ5 、Ｘ5 、ｍ5 はそれぞれ一般
式（Ｃ）のＲ3 、Ｘ3 、ｍ3 と同義であり、Ｌ5 、Ｙ5
は一般式（Ｂ）のＬ2 、Ｙ2 と同義である。）一般式
（Ｆ）
式（Ｃ）のＲ3 、Ｘ3 、ｍ3 と同義であり、Ｌ5 、Ｙ5
は一般式（Ｂ）のＬ2 、Ｙ2 と同義である。）一般式
（Ｆ）
【００５３】
【化２６】
【００５４】（式中、Ｒ61、Ｒ62、Ｘ6 、ｍ6 、ｎ6 、
Ｙは一般式（Ｃ）のＲ3 、Ｒ3 、Ｘ3 、ｍ3 、ｎ3 、Ｙ
3 と同義である。）
Ｙは一般式（Ｃ）のＲ3 、Ｒ3 、Ｘ3 、ｍ3 、ｎ3 、Ｙ
3 と同義である。）
【００５５】以下に本発明で用いられる造核剤の具体例
を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５６】
【化２７】
【００５７】
【化２８】
【００５８】
【化２９】
【００５９】
【化３０】
【００６０】
【化３１】
【００６１】
【化３２】
【００６２】
【化３３】
【００６３】本発明のヒドラジン系造核剤は、適当な水
混和性有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既によく知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作製して用いることができる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、ヒド
ラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
混和性有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。また、既によく知ら
れている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、ト
リクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート
あるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチル
やシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機
械的に乳化分散物を作製して用いることができる。ある
いは固体分散法として知られている方法によって、ヒド
ラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。
【００６４】本発明のヒドラジン造核剤は、支持体に対
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明の造核
剤添加量はハロゲン化銀１モルに対し１×１０-6〜１×
１０-2モルが好ましく、１×１０-5〜１×１０-3モルが
より好ましく、５×１０-5〜１×１０-3モルが最も好ま
しい。
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。本発明の造核
剤添加量はハロゲン化銀１モルに対し１×１０-6〜１×
１０-2モルが好ましく、１×１０-5〜１×１０-3モルが
より好ましく、５×１０-5〜１×１０-3モルが最も好ま
しい。
【００６５】特に、ｐＨ１１未満の本発明の現像液で処
理する場合、ハロゲン化銀写真感光材料には、ハロゲン
化銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層中に、ア
ミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体、および
ベンジルアルコール誘導体などの造核硬調化促進剤を添
加するのが好ましい。
理する場合、ハロゲン化銀写真感光材料には、ハロゲン
化銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層中に、ア
ミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体、および
ベンジルアルコール誘導体などの造核硬調化促進剤を添
加するのが好ましい。
【００６６】オニウム塩としては、特願平６−５９８１
７号に記載の一般式（Ｉ）、(II)、(III) 、(IV)の化合
物、具体的には同公報に記載のＡ−１０１〜Ａ−２５５
が好ましく用いられる。
７号に記載の一般式（Ｉ）、(II)、(III) 、(IV)の化合
物、具体的には同公報に記載のＡ−１０１〜Ａ−２５５
が好ましく用いられる。
【００６７】ジスルフィド誘導体は、ベンジルアルコー
ル誘導体としては、特願平５−２７４８１６号に記載の
Ａ−６０〜Ａ−６７が好ましく用いられる。
ル誘導体としては、特願平５−２７４８１６号に記載の
Ａ−６０〜Ａ−６７が好ましく用いられる。
【００６８】本発明では、硬調化促進剤として一般式
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）また
は（７）で表されるアミン化合物が特に好ましく用いら
れる。
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）また
は（７）で表されるアミン化合物が特に好ましく用いら
れる。
【００６９】一般式（１）で表わされる化合物について
詳細に説明する。Ｙが表わすハロゲン化銀に吸着する基
としては含窒素複素環化合物があげられる。Ｙが含窒素
複素環化合物を表わす場合は一般式（１）の化合物は下
記一般式（１−ａ）で表わされる。
詳細に説明する。Ｙが表わすハロゲン化銀に吸着する基
としては含窒素複素環化合物があげられる。Ｙが含窒素
複素環化合物を表わす場合は一般式（１）の化合物は下
記一般式（１−ａ）で表わされる。
【００７０】
【化３４】
【００７１】式中、ｐは０または１を表わし、ｍは１、
２または３を表わし、ｎは０または１を表わす。
〔（Ｘ）n −Ａ−Ｂ〕m は前記一般式（１）におけるそ
れと同義であり、Ｑは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される５また
は６員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。
２または３を表わし、ｎは０または１を表わす。
〔（Ｘ）n −Ａ−Ｂ〕m は前記一般式（１）におけるそ
れと同義であり、Ｑは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される５また
は６員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。
【００７２】Ｑによって形成される複素環としては例え
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール
類、トリアジン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリ
ン類等があげられる。
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール
類、トリアジン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリ
ン類等があげられる。
【００７３】Ｍは水素原子、アルカリ金属原子（例えば
ナトリウム原子、カリウム原子、等）、アンモニウム基
（例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチルベンジル
アンモニウム基、等）、アルカリ条件下でＭ＝Ｈまたは
アルカリ金属原子となりうる基（例えばアセチル基、シ
アノエチル基、メタンスルホニルエチル基、等）を表わ
す。また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子、等）、メルカプト基、シ
アノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、
シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル
基、等）、アリール基（例えばフェニル基、４−メタン
スルホンアミドフェニル基、４−メチルフェニル基、
３，４−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等）、アル
ケニル基（例えばアリル基、等）、アラルキル基（例え
ばベンジル基、４−メチルベンジル基、フェネチル基、
等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、
等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、４−メ
トキシフェノキシ基、等）、アルキルチオ基（例えばメ
チルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基）、
アリールチオ基（例えばフェニルチオ基）、スルホニル
基（例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、
ｐ−トルエンスルホニル基、等）、カルバモイル基（例
えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、等）、スルファモイル基（例え
ば無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、
フェニルスルファモイル基、等）、カルボンアミド基
（例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等）、スル
ホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、
等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基、等）、スルホニルオキシ基（例えばメ
タンスルホニルオキシ基、等）、ウレイド基（例えば無
置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基、等）、チオウレイド基（例え
ば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等）、アシル基（例えばアセチル基、ベンゾイル基、
等）、ヘテロ環基（例えば１−モルホリノ基、１−ピペ
リジノ基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チエ
ニル基、１−ピラゾリル基、１−イミダゾリル基、２−
テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
等）、オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、等）、オキシカルボニル
アミノ基（例えばメトキシカルボニルアミノ基、フェノ
キシカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルオキシカ
ルボニルアミノ基、等）、アミノ基（例えば無置換アミ
ノ基、ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、ア
ニリノ基、等）、カルボン酸またはその塩、スルホン酸
またはその塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよ
い。
ナトリウム原子、カリウム原子、等）、アンモニウム基
（例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチルベンジル
アンモニウム基、等）、アルカリ条件下でＭ＝Ｈまたは
アルカリ金属原子となりうる基（例えばアセチル基、シ
アノエチル基、メタンスルホニルエチル基、等）を表わ
す。また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子、等）、メルカプト基、シ
アノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、
シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル
基、等）、アリール基（例えばフェニル基、４−メタン
スルホンアミドフェニル基、４−メチルフェニル基、
３，４−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等）、アル
ケニル基（例えばアリル基、等）、アラルキル基（例え
ばベンジル基、４−メチルベンジル基、フェネチル基、
等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、
等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、４−メ
トキシフェノキシ基、等）、アルキルチオ基（例えばメ
チルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基）、
アリールチオ基（例えばフェニルチオ基）、スルホニル
基（例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、
ｐ−トルエンスルホニル基、等）、カルバモイル基（例
えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フ
ェニルカルバモイル基、等）、スルファモイル基（例え
ば無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、
フェニルスルファモイル基、等）、カルボンアミド基
（例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等）、スル
ホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基、
等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ基、等）、スルホニルオキシ基（例えばメ
タンスルホニルオキシ基、等）、ウレイド基（例えば無
置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基、等）、チオウレイド基（例え
ば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等）、アシル基（例えばアセチル基、ベンゾイル基、
等）、ヘテロ環基（例えば１−モルホリノ基、１−ピペ
リジノ基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チエ
ニル基、１−ピラゾリル基、１−イミダゾリル基、２−
テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
等）、オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、等）、オキシカルボニル
アミノ基（例えばメトキシカルボニルアミノ基、フェノ
キシカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルオキシカ
ルボニルアミノ基、等）、アミノ基（例えば無置換アミ
ノ基、ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、ア
ニリノ基、等）、カルボン酸またはその塩、スルホン酸
またはその塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよ
い。
【００７４】Ｘが表わす２価の連結基としては、例え
ば、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ1)−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ2)−、−Ｎ（Ｒ3)Ｃ
（Ｏ）−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4)−、−Ｎ（Ｒ5)ＳＯ2 −、
−Ｎ（Ｒ6)Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ7)−、−Ｎ（Ｒ8)Ｃ（Ｓ）Ｎ
（Ｒ9)−、−Ｎ（Ｒ10）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＯ2 −、−
Ｃ（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ
（Ｏ）−、等があげられるが、これらの連結基はＱとの
間に直鎖または分岐のアルキレン基（例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、１−メチルエチレン基、等）を介して結合されて
いてもよい。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ
7 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10は水素原子、それぞれ置換も
しくは無置換のアルキル基（例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ｎ−ブチル基、等）、置換もしくは無
置換のアリール基（例えばフェニル基、２−メチルフェ
ニル基、等）、置換もしくは無置換のアルケニル基（例
えばプロペニル基、１−メチルビニル基、等）、または
置換もしくは無置換のアラルキル基（例えばベンジル
基、フェネチル基、等）を表わす。
ば、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ1)−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ2)−、−Ｎ（Ｒ3)Ｃ
（Ｏ）−、−ＳＯ2 Ｎ（Ｒ4)−、−Ｎ（Ｒ5)ＳＯ2 −、
−Ｎ（Ｒ6)Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ7)−、−Ｎ（Ｒ8)Ｃ（Ｓ）Ｎ
（Ｒ9)−、−Ｎ（Ｒ10）Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＯ2 −、−
Ｃ（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ
（Ｏ）−、等があげられるが、これらの連結基はＱとの
間に直鎖または分岐のアルキレン基（例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、１−メチルエチレン基、等）を介して結合されて
いてもよい。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ
7 、Ｒ8 、Ｒ9 およびＲ10は水素原子、それぞれ置換も
しくは無置換のアルキル基（例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ｎ−ブチル基、等）、置換もしくは無
置換のアリール基（例えばフェニル基、２−メチルフェ
ニル基、等）、置換もしくは無置換のアルケニル基（例
えばプロペニル基、１−メチルビニル基、等）、または
置換もしくは無置換のアラルキル基（例えばベンジル
基、フェネチル基、等）を表わす。
【００７５】Ａは２価の連結基を表わし、２価の連結基
としては直鎖または分岐のアルキレン基（例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、１−メチルエチレン基、等）、直鎖または分岐
のアルケニレン基（例えばビニレン基、１−メチルビニ
レン基、等）、直鎖または分岐のアラルキレン基（例え
ばベンジリデン基、等）、アリーレン基（例えばフェニ
レン、ナフチレン、等）等が挙げられる。Ａで表わされ
る上記の基はＸとＡは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。Ｂの置換もしくは無置換のアミノ基は一般式
（１−ｂ）で表わされるものである。
としては直鎖または分岐のアルキレン基（例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、１−メチルエチレン基、等）、直鎖または分岐
のアルケニレン基（例えばビニレン基、１−メチルビニ
レン基、等）、直鎖または分岐のアラルキレン基（例え
ばベンジリデン基、等）、アリーレン基（例えばフェニ
レン、ナフチレン、等）等が挙げられる。Ａで表わされ
る上記の基はＸとＡは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。Ｂの置換もしくは無置換のアミノ基は一般式
（１−ｂ）で表わされるものである。
【００７６】
【化３５】
【００７７】式中、Ｒ11、Ｒ12は同一であっても異なっ
てもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数
１〜３０のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル
基を表わし、これらの基は直鎖（例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル
基、アリル基、３−ブテニル基、ベンジル基、１−ナフ
チルメチル基、等）、分岐（例えばiso プロピル基、ｔ
−オクチル基、等）または環状（例えばシクロヘキシル
基、等）、でもよい。
てもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数
１〜３０のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル
基を表わし、これらの基は直鎖（例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル
基、アリル基、３−ブテニル基、ベンジル基、１−ナフ
チルメチル基、等）、分岐（例えばiso プロピル基、ｔ
−オクチル基、等）または環状（例えばシクロヘキシル
基、等）、でもよい。
【００７８】又、Ｒ11とＲ12は連結して環を形成しても
よく、その中に１つまたはそれ以上のヘテロ原子（例え
ば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など）を含んだ飽和の
ヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、例え
ばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙
げることができる。又、Ｒ11、Ｒ12の置換基としては例
えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン
原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子であ
る。）、ヒドロキシ基、炭素数２０以下のアルコキシカ
ルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基など）、炭素数２０以下のアルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基など）、炭素数２０以下の単環式の
アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−トリルオ
キシ基など）、炭素数２０以下のアシルオキシ基（例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、炭
素数２０以下のアシル基（例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など）、カルバモイル
基（例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など）、スルファモイル基（例えばスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノス
ルホニル基、ピペリジノスルホニル基など）、炭素数２
０以下のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミ
ノ基など）、スルホンアミド基（エチルスルホンアミド
基、ｐ−トルエンスルホンアミド基など）、炭素数２０
以下のカルボンアミド基（例えばメチルカルボンアミド
基、フェニルカルボンアミド基など）、炭素数２０以下
のウレイド基（例えばメチルウレイド基、フェニルウレ
イド基など）、アミノ基などが挙げられる。
よく、その中に１つまたはそれ以上のヘテロ原子（例え
ば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など）を含んだ飽和の
ヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、例え
ばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙
げることができる。又、Ｒ11、Ｒ12の置換基としては例
えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン
原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子であ
る。）、ヒドロキシ基、炭素数２０以下のアルコキシカ
ルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基など）、炭素数２０以下のアルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基など）、炭素数２０以下の単環式の
アリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−トリルオ
キシ基など）、炭素数２０以下のアシルオキシ基（例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、炭
素数２０以下のアシル基（例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など）、カルバモイル
基（例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など）、スルファモイル基（例えばスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノス
ルホニル基、ピペリジノスルホニル基など）、炭素数２
０以下のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミ
ノ基など）、スルホンアミド基（エチルスルホンアミド
基、ｐ−トルエンスルホンアミド基など）、炭素数２０
以下のカルボンアミド基（例えばメチルカルボンアミド
基、フェニルカルボンアミド基など）、炭素数２０以下
のウレイド基（例えばメチルウレイド基、フェニルウレ
イド基など）、アミノ基などが挙げられる。
【００７９】Ｂの含窒素ヘテロ環は、少なくとも１つ以
上の窒素原子を含んだ５または６員環であり、それらの
環は置換基を有していてもよく、また他の環と縮合して
いてもよい。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾリ
ル基、ピリジル基、チアゾリル基などが挙げられる。
上の窒素原子を含んだ５または６員環であり、それらの
環は置換基を有していてもよく、また他の環と縮合して
いてもよい。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾリ
ル基、ピリジル基、チアゾリル基などが挙げられる。
【００８０】一般式（１）のうち好ましいものとして
は、下記一般式（１−ｍ）、（１−ｎ）、（１−ｏ）ま
たは（１−ｐ）で表わされる化合物が挙げられる。
は、下記一般式（１−ｍ）、（１−ｎ）、（１−ｏ）ま
たは（１−ｐ）で表わされる化合物が挙げられる。
【００８１】
【化３６】
【００８２】式中、−（Ｘ）n −Ａ−Ｂ、Ｍ、ｍは前記
一般式（１−ａ）のそれと同義である。Ｚ1 、Ｚ2 およ
びＺ3 は前記一般式（１−ａ）における−（Ｘ）n −Ａ
−Ｂと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数２０以
下のアルコキシ基（例えばメトキシ基）、ヒドロキシ
基、ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基
を表わし、その置換基としては前記一般式（１−ｂ）に
おけるＲ11、Ｒ12の置換基の中から選ぶことができる。
但しＺ1 、Ｚ2 及びＺ3 の内の少なくとも１つは−
（Ｘ）n −Ａ−Ｂと同義である。またこれら複素環は一
般式（１）の複素環に適用される置換基で置換されても
よい。次に一般式（１）で表わされる化合物例を示すが
本発明はこれに限定されるものではない。
一般式（１−ａ）のそれと同義である。Ｚ1 、Ｚ2 およ
びＺ3 は前記一般式（１−ａ）における−（Ｘ）n −Ａ
−Ｂと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数２０以
下のアルコキシ基（例えばメトキシ基）、ヒドロキシ
基、ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基
を表わし、その置換基としては前記一般式（１−ｂ）に
おけるＲ11、Ｒ12の置換基の中から選ぶことができる。
但しＺ1 、Ｚ2 及びＺ3 の内の少なくとも１つは−
（Ｘ）n −Ａ−Ｂと同義である。またこれら複素環は一
般式（１）の複素環に適用される置換基で置換されても
よい。次に一般式（１）で表わされる化合物例を示すが
本発明はこれに限定されるものではない。
【００８３】
【化３７】
【００８４】
【化３８】
【００８５】
【化３９】
【００８６】
【化４０】
【００８７】
【化４１】
【００８８】次に一般式（２）で表される化合物につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００８９】Ｒ1 、Ｒ2 は各々水素原子又は脂肪族残基
を表わす。Ｒ1 とＲ2 は互に結合して環を形成してもよ
い。Ｒ3 は二価の脂肪族基を表わす。Ｘは窒素、酸素も
しくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わす。ｎは０
または１を表わす。Ｍは水素原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム
塩又はアミジノ基を表わす。Ｒ1 、Ｒ2 の脂肪族残基と
しては、各々炭素１〜１２のアルキル基、アルケニル基
およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当な基で置換
されていてもよい。アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デ
シル基、ドデシル基、イソプロピル基、sec −ブチル
基、シクロヘキシル基などである。アルケニル基として
は例えばアリル基、２−ブテニル基、２−ヘキセニル
基、２−オクテニル基などである。アルキル基としては
例えばプロパルギル基、２−ペンチニル基などがある。
置換基としては、フェニル基、置換フェニル基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等である。
を表わす。Ｒ1 とＲ2 は互に結合して環を形成してもよ
い。Ｒ3 は二価の脂肪族基を表わす。Ｘは窒素、酸素も
しくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わす。ｎは０
または１を表わす。Ｍは水素原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム
塩又はアミジノ基を表わす。Ｒ1 、Ｒ2 の脂肪族残基と
しては、各々炭素１〜１２のアルキル基、アルケニル基
およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当な基で置換
されていてもよい。アルキル基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デ
シル基、ドデシル基、イソプロピル基、sec −ブチル
基、シクロヘキシル基などである。アルケニル基として
は例えばアリル基、２−ブテニル基、２−ヘキセニル
基、２−オクテニル基などである。アルキル基としては
例えばプロパルギル基、２−ペンチニル基などがある。
置換基としては、フェニル基、置換フェニル基、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等である。
【００９０】Ｒ1 とＲ2 とで環を形成する場合として
は、炭素又は窒素・酸素の組合せからなる５員又は６員
の炭素環又はヘテロ環で、特に飽和の環が好ましく、例
えばピロリジル、ピペリジル、モルホリル、ピペラジ
ル、４−メチル−ピペラジル、などがあげられる。Ｒ1
とＲ2 として特に好ましいものは炭素原子数１〜３のア
ルキル基で更に好ましくはエチル基である。
は、炭素又は窒素・酸素の組合せからなる５員又は６員
の炭素環又はヘテロ環で、特に飽和の環が好ましく、例
えばピロリジル、ピペリジル、モルホリル、ピペラジ
ル、４−メチル−ピペラジル、などがあげられる。Ｒ1
とＲ2 として特に好ましいものは炭素原子数１〜３のア
ルキル基で更に好ましくはエチル基である。
【００９１】Ｒ3 の二価の脂肪族基としては−Ｒ4 −又
は−Ｒ4 Ｓ−が好ましい。ここでＲ4 は二価の脂肪族残
基で、好ましくは炭素数１〜６の飽和及び不飽和のもの
で、例えば−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−（ＣＨ2)
3 −、−（ＣＨ2)4 −、−（ＣＨ2)6 −、−ＣＨ2 ＣＨ
＝ＣＨＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ＝ＣＣＨ2 −、−ＣＨ2Ｃ
Ｈ（ＣＨ3)ＣＨ2 −などである。
は−Ｒ4 Ｓ−が好ましい。ここでＲ4 は二価の脂肪族残
基で、好ましくは炭素数１〜６の飽和及び不飽和のもの
で、例えば−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−（ＣＨ2)
3 −、−（ＣＨ2)4 −、−（ＣＨ2)6 −、−ＣＨ2 ＣＨ
＝ＣＨＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ＝ＣＣＨ2 −、−ＣＨ2Ｃ
Ｈ（ＣＨ3)ＣＨ2 −などである。
【００９２】Ｒ4 の好ましい炭素数としては２〜４のも
ので、Ｒ4 としてさらに好ましくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −及
び−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 である。なお（Ｘ）n のｎが０
のときのＲ3 は−Ｒ4 −だけを表わす。
ので、Ｒ4 としてさらに好ましくは−ＣＨ2 ＣＨ2 −及
び−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 である。なお（Ｘ）n のｎが０
のときのＲ3 は−Ｒ4 −だけを表わす。
【００９３】Ｘのヘテロ環としては、窒素、酸素又は硫
黄を含む５及び６員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オ
キサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、
ベンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾ
ールとチアジアゾールが好ましい。
黄を含む５及び６員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オ
キサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、
ベンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾ
ールとチアジアゾールが好ましい。
【００９４】Ｍのアルカリ金属としては、Ｎａ+ 、
Ｋ+ 、Ｌｉ+ などである。アルカリ土類金属としては、
Ｃａ++、Ｍｇ++、などがある。Ｍの四級アンモニウム塩
としては、炭素数４〜３０からなるもので、例えば（Ｃ
Ｈ3)4 Ｎ+ 、（Ｃ2 Ｈ5)4 Ｎ+ 、（Ｃ4 Ｈ9)4 Ｎ+ 、Ｃ
6 Ｈ5 ＣＨ2 Ｎ+ （ＣＨ3)3 、Ｃ16Ｈ33Ｎ+ （ＣＨ3)3
などである。四級ホスホニウム塩としては、（Ｃ4 Ｈ9)
4 Ｐ+ 、Ｃ16Ｈ3 Ｐ+ （ＣＨ3)3 、Ｃ6 Ｈ3 ＣＨ2 Ｐ+
（ＣＨ3)などである。
Ｋ+ 、Ｌｉ+ などである。アルカリ土類金属としては、
Ｃａ++、Ｍｇ++、などがある。Ｍの四級アンモニウム塩
としては、炭素数４〜３０からなるもので、例えば（Ｃ
Ｈ3)4 Ｎ+ 、（Ｃ2 Ｈ5)4 Ｎ+ 、（Ｃ4 Ｈ9)4 Ｎ+ 、Ｃ
6 Ｈ5 ＣＨ2 Ｎ+ （ＣＨ3)3 、Ｃ16Ｈ33Ｎ+ （ＣＨ3)3
などである。四級ホスホニウム塩としては、（Ｃ4 Ｈ9)
4 Ｐ+ 、Ｃ16Ｈ3 Ｐ+ （ＣＨ3)3 、Ｃ6 Ｈ3 ＣＨ2 Ｐ+
（ＣＨ3)などである。
【００９５】一般式（２) で表わされる化合物の無機酸
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあ
り、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンス
ルホン酸塩などがある。以下に一般式（２）で表わされ
る化合物の具体例を挙げる。
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあ
り、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンス
ルホン酸塩などがある。以下に一般式（２）で表わされ
る化合物の具体例を挙げる。
【００９６】
【化４２】
【００９７】
【化４３】
【００９８】
【化４４】
【００９９】
【化４５】
【０１００】
【化４６】
【０１０１】次に上記一般式（３）、（４）で表わされ
る化合物について詳しく説明する。
る化合物について詳しく説明する。
【０１０２】Ｒ1 およびＲ2 は同じであっても異ってい
てもよく、各々水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基
（置換基を有するものを含む。例えばメチル基、エチル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、
２−エチルヘキシル基、メトキシエチル基、エチルチオ
エチル基、ジメチルアミノエチル基、ｎ−デジル基、ｎ
−ドデシル基、フェノキシエチル基、２，４−ジ−ｔ−
アミルフェノキシエチル基、ｎ−オクタデシル基、等）
炭素数３〜３０のアルケニル基（置換基を有するものを
含む。例えばアリル基、ブテニル基、ペンテニル基、
等）または炭素数７〜３０のアラルキル基（置換基を有
するものを含む。例えばフェネチル基、ベンジル基、４
−メトキシベンジル基、４−ｔ−ブチルベンジル基、
２，４−ジ−ｔ−アミルフェネチル基、等）を表わす。
てもよく、各々水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基
（置換基を有するものを含む。例えばメチル基、エチル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、
２−エチルヘキシル基、メトキシエチル基、エチルチオ
エチル基、ジメチルアミノエチル基、ｎ−デジル基、ｎ
−ドデシル基、フェノキシエチル基、２，４−ジ−ｔ−
アミルフェノキシエチル基、ｎ−オクタデシル基、等）
炭素数３〜３０のアルケニル基（置換基を有するものを
含む。例えばアリル基、ブテニル基、ペンテニル基、
等）または炭素数７〜３０のアラルキル基（置換基を有
するものを含む。例えばフェネチル基、ベンジル基、４
−メトキシベンジル基、４−ｔ−ブチルベンジル基、
２，４−ジ−ｔ−アミルフェネチル基、等）を表わす。
【０１０３】またＲ1 とＲ2 は一体化して置換されてい
てもよいアルキレンとなり窒素原子とともに環を形成し
てもよい。（例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、２
−メチルピペリジン環、ヘキサメチレンイミン環、
等）。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は同じであっても異
っていてもよく各々水素原子、炭素数１〜４の低級アル
キル基（好ましくは置換基を有さない低級アルキル基。
例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、等）を表
わす。
てもよいアルキレンとなり窒素原子とともに環を形成し
てもよい。（例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、２
−メチルピペリジン環、ヘキサメチレンイミン環、
等）。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は同じであっても異
っていてもよく各々水素原子、炭素数１〜４の低級アル
キル基（好ましくは置換基を有さない低級アルキル基。
例えば、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、等）を表
わす。
【０１０４】ここでＲ1 およびＲ2 が置換基を有する場
合その置換基としては例えばハロゲン原子（例えば塩素
原子、臭素原子、等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、等）、アリー
ルオキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−ア
ミルフェノキシ基、等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ基、等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ
基、等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基、等）、アミノ基（例えば無置換ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、等）、カルボンアミド基
（例えばアセトアミド基、等）、スルホンアミド基（例
えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド
基、等）、オキシカルボニルアミノ基（例えばメトキシ
カルボニルアミノ基、等）、ウレイド基（例えば無置換
ウレイド、３，３−ジメチルウレイド基、等）、チオウ
レイド基（例えば無置換チオウレイド基、３−フェニル
チオウレイド基、等）、アシル基（例えばアセチル基、
ベンゾイル基、等）オキシカルボニル基（例えばメトキ
シカルボニル基、等）、カルバモイル基（例えばメチル
カルバモイル基、４−メチルフェニルカルバモイル基、
等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、
等）、スルファモイル基（例えばメチルスルファモイル
基、４−メトキシフェニルスルファモイル基、等）、カ
ルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩等があ
げられる。
合その置換基としては例えばハロゲン原子（例えば塩素
原子、臭素原子、等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、等）、アリー
ルオキシ基（例えばフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−ア
ミルフェノキシ基、等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ基、等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ
基、等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基、等）、アミノ基（例えば無置換ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、等）、カルボンアミド基
（例えばアセトアミド基、等）、スルホンアミド基（例
えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド
基、等）、オキシカルボニルアミノ基（例えばメトキシ
カルボニルアミノ基、等）、ウレイド基（例えば無置換
ウレイド、３，３−ジメチルウレイド基、等）、チオウ
レイド基（例えば無置換チオウレイド基、３−フェニル
チオウレイド基、等）、アシル基（例えばアセチル基、
ベンゾイル基、等）オキシカルボニル基（例えばメトキ
シカルボニル基、等）、カルバモイル基（例えばメチル
カルバモイル基、４−メチルフェニルカルバモイル基、
等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、
等）、スルファモイル基（例えばメチルスルファモイル
基、４−メトキシフェニルスルファモイル基、等）、カ
ルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩等があ
げられる。
【０１０５】一般式（３）、（４）中、好ましくはＲ1
およびＲ2 は各々炭素数１〜３０のアルキル基または炭
素数７〜３０のアラルキル基を表わし、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ
5 およびＲ6 は水素原子を表わし、ｎは３〜２０の整数
を表わす。一般式（３）、（４）中、より好ましくはＲ
1 およびＲ2 は各々炭素数５〜２０のアルキル基を表わ
す。以下に一般式（３）、（４）で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるも
のではない。
およびＲ2 は各々炭素数１〜３０のアルキル基または炭
素数７〜３０のアラルキル基を表わし、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ
5 およびＲ6 は水素原子を表わし、ｎは３〜２０の整数
を表わす。一般式（３）、（４）中、より好ましくはＲ
1 およびＲ2 は各々炭素数５〜２０のアルキル基を表わ
す。以下に一般式（３）、（４）で表わされる化合物の
具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるも
のではない。
【０１０６】
【化４７】
【０１０７】
【化４８】
【０１０８】
【化４９】
【０１０９】
【化５０】
【０１１０】
【化５１】
【０１１１】
【化５２】
【０１１２】
【化５３】
【０１１３】
【化５４】
【０１１４】次に一般式（５）の化合物について説明す
る。式中、Ａ0 以外の説明は一般式（１）の説明と同様
である。Ａ0 は少なくとも２つのアルキレンオキシユニ
ットを有する２価の連結基を表わすが好ましくは
る。式中、Ａ0 以外の説明は一般式（１）の説明と同様
である。Ａ0 は少なくとも２つのアルキレンオキシユニ
ットを有する２価の連結基を表わすが好ましくは
【０１１５】
【化５５】
【０１１６】を表わす。Ｒ1 ′、Ｒ2 ′、Ｒ3 ′および
Ｒ4 ′は各々水素原子、炭素数１〜４のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、等）を表わし、ｑは２〜５０の整数を表わす。以下
に一般式（５）で示される化合物の具体例をあげるが本
発明はこれらに限定されるものではない。
Ｒ4 ′は各々水素原子、炭素数１〜４のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、等）を表わし、ｑは２〜５０の整数を表わす。以下
に一般式（５）で示される化合物の具体例をあげるが本
発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１７】
【化５６】
【０１１８】
【化５７】
【０１１９】
【化５８】
【０１２０】
【化５９】
【０１２１】
【化６０】
【０１２２】
【化６１】
【０１２３】
【化６２】
【０１２４】次に一般式（６）の化合物について詳しく
説明する。
説明する。
【０１２５】一般式（６）において、Ｒ1 、Ｒ2 で表さ
れる基としてはそれぞれアルキル基（例えば、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル、
ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、ブテニル
等）、アルキニル基（例えばプロパギル、ブチニル等）
等が挙げられる。これらはさらに置換基（例えばアリー
ル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド
基、カルボンアミド基、ウレイド基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アミノ基、アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基等）で置換されていてもよく、Ｒ1
とＲ2 で連結して環（例えばピぺリジン、ピぺラジン、
モルホリン、ピロリジン等）を形成してもよい。Ｒ1 及
びＲ2 としては、アルキル基が好ましく炭素数２〜２０
のアルキル基が最も好ましい。
れる基としてはそれぞれアルキル基（例えば、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル、
ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、ブテニル
等）、アルキニル基（例えばプロパギル、ブチニル等）
等が挙げられる。これらはさらに置換基（例えばアリー
ル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド
基、カルボンアミド基、ウレイド基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アミノ基、アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基等）で置換されていてもよく、Ｒ1
とＲ2 で連結して環（例えばピぺリジン、ピぺラジン、
モルホリン、ピロリジン等）を形成してもよい。Ｒ1 及
びＲ2 としては、アルキル基が好ましく炭素数２〜２０
のアルキル基が最も好ましい。
【０１２６】Ｒ3 で表される基としては、アルキル基
（例えばメチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、オク
チル、ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、ブ
テニル等）、アルキニル基（例えばプロパギル、ブチニ
ル等）、アリール基（例えばフェニル、ナフチル等）、
又はヘテロ環基（例えばチエニル、フリル、ピリジル
等）等が挙げられる。
（例えばメチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、オク
チル、ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、ブ
テニル等）、アルキニル基（例えばプロパギル、ブチニ
ル等）、アリール基（例えばフェニル、ナフチル等）、
又はヘテロ環基（例えばチエニル、フリル、ピリジル
等）等が挙げられる。
【０１２７】これらはさらにＲ1 及びＲ2 について説明
した置換基と同様の置換基で置換されていてもよい。
した置換基と同様の置換基で置換されていてもよい。
【０１２８】Ｌ1 は２価の連結基、好ましくは置換され
てもよいアルキレン基を有する基（ただし、アルキレン
基は
てもよいアルキレン基を有する基（ただし、アルキレン
基は
【０１２９】
【化６３】
【０１３０】と結合する）を表す。
【０１３１】Ｌ1 で表される２価の連結基の中で、より
好ましいものとしては、炭素数１〜１０のアルキレン
基、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と、以下に示
す基の組み合わせよりなる基が挙げられる。
好ましいものとしては、炭素数１〜１０のアルキレン
基、又は、炭素数１〜１０のアルキレン基と、以下に示
す基の組み合わせよりなる基が挙げられる。
【０１３２】
【化６４】
【０１３３】Ｘは
【０１３４】
【化６５】
【０１３５】を表す。
【０１３６】Ｌ2 はアルキレン基（例えばメチレン、エ
チレン、プロピレン、ブチレン等）又はアルケニレン基
（例えばプロぺニレン、ブテニレン等）を表し、好まし
くは炭素数１〜４のアルキレン基、より好ましい基とし
てはメチレン基、エチレン基が挙げられる。Ｙはカルボ
ニル基、スルホニル基、スルホキシ基、又はホスホリル
基を表すが、カルボニル基又はスルホニル基が好まし
い。Ｌ3 は
チレン、プロピレン、ブチレン等）又はアルケニレン基
（例えばプロぺニレン、ブテニレン等）を表し、好まし
くは炭素数１〜４のアルキレン基、より好ましい基とし
てはメチレン基、エチレン基が挙げられる。Ｙはカルボ
ニル基、スルホニル基、スルホキシ基、又はホスホリル
基を表すが、カルボニル基又はスルホニル基が好まし
い。Ｌ3 は
【０１３７】
【化６６】
【０１３８】を表す。
【０１３９】Ｚ1 、Ｚ2 及びＺ3 はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。Ｚ1 、Ｚ2 及びＺ3 は、それぞ
れ水素原子、アルキル基又はアリール基が好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
又はヘテロ環基を表す。Ｚ1 、Ｚ2 及びＺ3 は、それぞ
れ水素原子、アルキル基又はアリール基が好ましい。
【０１４０】ｎは０又は１を表す。
【０１４１】一般式（６）で示される化合物の具体例を
以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１４２】
【化６７】
【０１４３】
【化６８】
【０１４４】
【化６９】
【０１４５】
【化７０】
【０１４６】
【化７１】
【０１４７】
【化７２】
【０１４８】
【化７３】
【０１４９】
【化７４】
【０１５０】
【化７５】
【０１５１】
【化７６】
【０１５２】一般式（７）について詳しく説明する。
【０１５３】一般式（７）において、Ｒ1 、Ｒ2 で表さ
れる基としてはそれぞれアルキル基（例えば、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル、
ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、２−メチ
ルアリル、ブテニル等）、アルキニル基（例えばプロパ
ルギル、ブチニル等）等が挙げられる。これらはさらに
置換基（例えばアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヒドロキシル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホンアミド基、カルボンアミ
ド基、ウレイド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基等）で置換されていてもよく、Ｒ1 とＲ2で連結して
環（例えばピぺリジン、ピぺラジン、モルホリン、ピロ
リジン等）を形成してもよい。Ｒ1 及びＲ2 としては、
アルキル基、アルケニル基が好ましく炭素数２〜２０の
アルキル基及び炭素数３〜２０のアルケニル基が好まし
い。
れる基としてはそれぞれアルキル基（例えば、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、オクチル、
ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、２−メチ
ルアリル、ブテニル等）、アルキニル基（例えばプロパ
ルギル、ブチニル等）等が挙げられる。これらはさらに
置換基（例えばアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ヒドロキシル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホンアミド基、カルボンアミ
ド基、ウレイド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基等）で置換されていてもよく、Ｒ1 とＲ2で連結して
環（例えばピぺリジン、ピぺラジン、モルホリン、ピロ
リジン等）を形成してもよい。Ｒ1 及びＲ2 としては、
アルキル基、アルケニル基が好ましく炭素数２〜２０の
アルキル基及び炭素数３〜２０のアルケニル基が好まし
い。
【０１５４】Ｒ3 で表される基としては、アルキル基
（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチ
ル、ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、ブテ
ニル等）、アルキニル基（例えばプロパルギル、ブチニ
ル等）、アリール基（例えばフェニル、ナフチル等）、
又はヘテロ環基（例えばチエニル、フリル、ピリジル
等）等が挙げられる。
（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチ
ル、ドデシル等）、アルケニル基（例えばアリル、ブテ
ニル等）、アルキニル基（例えばプロパルギル、ブチニ
ル等）、アリール基（例えばフェニル、ナフチル等）、
又はヘテロ環基（例えばチエニル、フリル、ピリジル
等）等が挙げられる。
【０１５５】これらはさらにＲ1 及びＲ2 について説明
した置換基と同様の置換基で置換されていてもよい。
した置換基と同様の置換基で置換されていてもよい。
【０１５６】一般式（７）の化合物の中で、より好まし
いものとしては、下記一般式（７−Ａ）及び（７−Ｂ）
の化合物が挙げられる。
いものとしては、下記一般式（７−Ａ）及び（７−Ｂ）
の化合物が挙げられる。
【０１５７】
【化７７】
【０１５８】式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｙ、ｐは、一般式
（７）中のそれと、同義の基を表す。Ｌは２価の脂肪族
基を表し、Ｊ1 及びＪ2 は２価の連結基を表し、ｍ及び
ｎは０または１を表す。Ｒは、水素原子、脂肪族基、芳
香族基またはヘテロ環基を表す。
（７）中のそれと、同義の基を表す。Ｌは２価の脂肪族
基を表し、Ｊ1 及びＪ2 は２価の連結基を表し、ｍ及び
ｎは０または１を表す。Ｒは、水素原子、脂肪族基、芳
香族基またはヘテロ環基を表す。
【０１５９】Ｌで表される２価の脂肪族基としては、ア
ルキレン基（好ましくは炭素数１〜２０のもの）、アル
ケニレン基（好ましくは炭素数３〜２０のもの）が挙げ
られるが、Ｌとしてはアルキレン基が好ましく、炭素数
２〜１０のアルキレン基がより好ましい。
ルキレン基（好ましくは炭素数１〜２０のもの）、アル
ケニレン基（好ましくは炭素数３〜２０のもの）が挙げ
られるが、Ｌとしてはアルキレン基が好ましく、炭素数
２〜１０のアルキレン基がより好ましい。
【０１６０】Ｌとしては、エチレン、トリメチレン、テ
トラメチレン基が最も好ましい。
トラメチレン基が最も好ましい。
【０１６１】Ｌはさらに適当な置換基（例えばアルキル
基、アリール基等）で置換されていてもよい。
基、アリール基等）で置換されていてもよい。
【０１６２】Ｊ1 及びＪ2 で表される２価の連結基とし
ては、以下に示す基、以下に示す基の組み合わせからな
る基、及びそれらに適当な置換基（例えばアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環
基、ヘテロ環オニウム基、アミノ基、アンモニウム基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基、ウレイド基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ヒドロキシル基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル
基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル
基、アシルオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、チオ
アシル基、チオアシルアミノ基、チオウレイド基等）を
有する基が挙げられる。
ては、以下に示す基、以下に示す基の組み合わせからな
る基、及びそれらに適当な置換基（例えばアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環
基、ヘテロ環オニウム基、アミノ基、アンモニウム基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基、ウレイド基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ヒドロキシル基、アル
コキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル
基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル
基、アシルオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、チオ
アシル基、チオアシルアミノ基、チオウレイド基等）を
有する基が挙げられる。
【０１６３】−ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ6 Ｈ4
−、ピリジンジイル、−Ｎ（Ｚ1)−（Ｚ1 は水素原子、
アルキル基、またはアリール基を表す）、−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、ｍ及びｎ
は、それぞれ０又は１を表すが、ともに０であることが
最も好ましい。
−、ピリジンジイル、−Ｎ（Ｚ1)−（Ｚ1 は水素原子、
アルキル基、またはアリール基を表す）、−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −、−ＣＨ＝Ｎ−、ｍ及びｎ
は、それぞれ０又は１を表すが、ともに０であることが
最も好ましい。
【０１６４】Ｙは、アルキレン基（例えばエチレン、プ
ロピレン、トリメチレン、テトラメチレン等）、アルケ
ニレン基（例えばビニレン、プロぺニレン、１−ブテニ
レン、２−ブテニレン等）、アリーレン基（例えばフェ
ニレン等）、及びこれらに適当な置換基（例えばＪ1 及
びＪ2 が有する適当な置換基として前記のもの等）を有
する基を表す。
ロピレン、トリメチレン、テトラメチレン等）、アルケ
ニレン基（例えばビニレン、プロぺニレン、１−ブテニ
レン、２−ブテニレン等）、アリーレン基（例えばフェ
ニレン等）、及びこれらに適当な置換基（例えばＪ1 及
びＪ2 が有する適当な置換基として前記のもの等）を有
する基を表す。
【０１６５】Ｙは、アルキレン基が好ましく、エチレ
ン、プロピレン、トリメチレン基がより好ましい。
ン、プロピレン、トリメチレン基がより好ましい。
【０１６６】Ｒで表される脂肪族基としては、直鎖、分
岐または環状のアルキル基、アルケニル基またはアルキ
ニル基（好ましくはアルキル部分の炭素数１〜２０のア
ルキル基及びアルケニル、アルキニル部分の炭素数２〜
２０のアルケニル基、アルキニル基）が挙げられる。
岐または環状のアルキル基、アルケニル基またはアルキ
ニル基（好ましくはアルキル部分の炭素数１〜２０のア
ルキル基及びアルケニル、アルキニル部分の炭素数２〜
２０のアルケニル基、アルキニル基）が挙げられる。
【０１６７】Ｒで表される芳香族基としては、単環（例
えばベンゼン等）、または縮合環（例えばナフタレン
等）のアリール基が好ましい。
えばベンゼン等）、または縮合環（例えばナフタレン
等）のアリール基が好ましい。
【０１６８】Ｒで表されるヘテロ環基としては、単環ま
たは縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる
一つのヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、５員環
（例えばピロール、チオフェン、フラン、イミダゾー
ル、ピラゾール、チアゾール、オキサゾール、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、ピロリン、ピロリジン、イ
ミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、テトラヒ
ドロフラン等）、６員環（例えばピリジン、ピラジン、
ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ジチイン、ジオ
キシン、ピぺリジン、モルホリン、キヌクリジン等）及
びこれらとシクロアルキル環（例えばシクロぺンタン、
シクロヘキサン、シクロヘプタン等）、シクロアルケニ
ル環（例えばシクロぺンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン等）、芳香環（例えばベンゼン、ナフタレン
等）及びヘテロ環（例えばピロール、イミダゾール、ピ
リジン、ピラジン、ピリミジン等）との縮合環のものが
好ましい。
たは縮合環の少なくとも窒素、硫黄、酸素から選ばれる
一つのヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、５員環
（例えばピロール、チオフェン、フラン、イミダゾー
ル、ピラゾール、チアゾール、オキサゾール、チアジア
ゾール、オキサジアゾール、ピロリン、ピロリジン、イ
ミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、テトラヒ
ドロフラン等）、６員環（例えばピリジン、ピラジン、
ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ジチイン、ジオ
キシン、ピぺリジン、モルホリン、キヌクリジン等）及
びこれらとシクロアルキル環（例えばシクロぺンタン、
シクロヘキサン、シクロヘプタン等）、シクロアルケニ
ル環（例えばシクロぺンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン等）、芳香環（例えばベンゼン、ナフタレン
等）及びヘテロ環（例えばピロール、イミダゾール、ピ
リジン、ピラジン、ピリミジン等）との縮合環のものが
好ましい。
【０１６９】次に本発明の一般式（７）で示される化合
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【０１７０】
【化７８】
【０１７１】
【化７９】
【０１７２】
【化８０】
【０１７３】
【化８１】
【０１７４】
【化８２】
【０１７５】
【化８３】
【０１７６】これらの一般式（１）、（２）、（３）、
（４）、（５）、（６）および（７）の化合物の添加量
は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが１．０
×１０-3〜０．５ｇ／m2、好ましくは５．０×１０-3〜
０．３ｇ／m2の範囲で用いるのが望ましい。またこれら
の化合物は複数の種類を併用してもよい。
（４）、（５）、（６）および（７）の化合物の添加量
は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが１．０
×１０-3〜０．５ｇ／m2、好ましくは５．０×１０-3〜
０．３ｇ／m2の範囲で用いるのが望ましい。またこれら
の化合物は複数の種類を併用してもよい。
【０１７７】また、これらの化合物は適当な水混和性有
機溶媒、例えば、アルコール類（メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類
（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既に良く知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、微細な分
散物にして用いることもできる。
機溶媒、例えば、アルコール類（メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類
（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既に良く知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、微細な分
散物にして用いることもできる。
【０１７８】本発明において用いられるハロゲン化銀乳
剤のハロゲン組成に特別な制限はないが、本発明の目的
をより効果的に達成するうえで、塩化銀含有率５０モル
％以上の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。沃
化銀の含有率は５モル％を下回ること、特に２モル％よ
り少ないことが好ましい。
剤のハロゲン組成に特別な制限はないが、本発明の目的
をより効果的に達成するうえで、塩化銀含有率５０モル
％以上の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。沃
化銀の含有率は５モル％を下回ること、特に２モル％よ
り少ないことが好ましい。
【０１７９】本発明において、スキャナー露光の様な高
照度露光に適した感光材料及び線画撮影用感光材料は、
高コントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウ
ム化合物を含有する。本発明に用いられるロジウム化合
物として、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。たとえば、ハロゲン化ロジウム（III)化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウ
ム(III) 錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキ
サアミンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(II
I) 錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、
水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウ
ム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われ
る方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液（たとえば塩
酸、臭酸、フッ酸等）、あるいはハロゲン化アルカリ
（たとえばＫＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＮａＢｒ等）を
添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを
用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジ
ウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して
溶解させることも可能である。添加量は、ハロゲン化銀
乳剤の銀１モル当たり１×１０-8〜５×１０-6モル、好
ましくは５×１０-8〜１×１０-6モルである。これらの
化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳
剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができる
が、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組
み込まれることが好ましい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Physique Photograp
hique (Paul Montel 社刊、１９６７年）、G.F.Dufin
著 Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Pres
s 刊、１９６６年）、V.L.Zelikman et al著Making and
Coating Photographic Emulsion (The Focal Press
刊、１９６４年）などに記載された方法を用いて調製す
ることができる。
照度露光に適した感光材料及び線画撮影用感光材料は、
高コントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウ
ム化合物を含有する。本発明に用いられるロジウム化合
物として、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。たとえば、ハロゲン化ロジウム（III)化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウ
ム(III) 錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキ
サアミンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(II
I) 錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、
水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウ
ム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われ
る方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液（たとえば塩
酸、臭酸、フッ酸等）、あるいはハロゲン化アルカリ
（たとえばＫＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＮａＢｒ等）を
添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを
用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジ
ウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して
溶解させることも可能である。添加量は、ハロゲン化銀
乳剤の銀１モル当たり１×１０-8〜５×１０-6モル、好
ましくは５×１０-8〜１×１０-6モルである。これらの
化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳
剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができる
が、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組
み込まれることが好ましい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Physique Photograp
hique (Paul Montel 社刊、１９６７年）、G.F.Dufin
著 Photographic Emulsion Chemistry (The Focal Pres
s 刊、１９６６年）、V.L.Zelikman et al著Making and
Coating Photographic Emulsion (The Focal Press
刊、１９６４年）などに記載された方法を用いて調製す
ることができる。
【０１８０】可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させ
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法（いわゆる逆混合法）
を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のｐＡｇを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭５３−８２４
０８号、同５５−７７７３７号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズを均一にするためには、英
国特許第１，５３５，０１６号、特公昭４８−３６８９
０、同５２−１６３６４号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第４，２４２，４４
５号、特開昭５５−１５８１２４号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動係数が２
０％以下、特に好ましくは１５％以下である。単分散ハ
ロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒子サイズは０．５μｍ
以下であり、特に好ましくは０．１μｍ〜０．４μｍで
ある。
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法（いわゆる逆混合法）
を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のｐＡｇを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭５３−８２４
０８号、同５５−７７７３７号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズを均一にするためには、英
国特許第１，５３５，０１６号、特公昭４８−３６８９
０、同５２−１６３６４号に記載されているように、硝
酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に
応じて変化させる方法や、英国特許第４，２４２，４４
５号、特開昭５５−１５８１２４号に記載されているよ
うに水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和
度を越えない範囲において早く成長させることが好まし
い。本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動係数が２
０％以下、特に好ましくは１５％以下である。単分散ハ
ロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒子サイズは０．５μｍ
以下であり、特に好ましくは０．１μｍ〜０．４μｍで
ある。
【０１８１】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
【０１８２】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、４０℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たと
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のｐＨ、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
１モル当り１０-7〜１０-2モルであり、より好ましくは
１０-5〜１０-3モルである。
黄増感剤を添加して、４０℃以上の高温で乳剤を一定時
間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たと
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のｐＨ、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
１モル当り１０-7〜１０-2モルであり、より好ましくは
１０-5〜１０-3モルである。
【０１８３】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および／または非不安定型セレン化
合物を添加して４０℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭４４−１５７４８号、同４３−１３４８９号、
特願平２−１３０９７号、同２−２２９３００号、同３
−１２１７９８号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平３−１２１７９８号中の一般式（VIII)
および(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および／または非不安定型セレン化
合物を添加して４０℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭４４−１５７４８号、同４３−１３４８９号、
特願平２−１３０９７号、同２−２２９３００号、同３
−１２１７９８号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平３−１２１７９８号中の一般式（VIII)
および(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
【０１８４】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平４−
１４６７３９号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第１，６２３，４９９号、同第
３，３２０，０６９号、同第３，７７２，０３１号、英
国特許第２３５，２１１号、同第１，１２１，４９６
号、同第１，２９５，４６２号、同第１，３９６，６９
６号、カナダ特許第８００，９５８号、特願平２−３３
３８１９号、同３−５３６９３号、同３−１３１５９８
号、同４−１２９７８７号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
（J.Chem.Soc.Chem.Commun.)６３５（１９８０），ibid
１１０２（１９７９），ibid ６４５（１９７９）、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション（J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
１，２１９１（１９８０）、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ
・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・ア
ンド・テルリウム・カンパウンズ（The Chemistry of O
rganic Serenium and Tellunium Compounds),Vol １
（１９８６）、同 Vol ２（１９８７）に記載の化合物
を用いることができる。特に特願平４−１４６７３９号
中の一般式（II）(III)(IV) で示される化合物が好まし
い。
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平４−
１４６７３９号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第１，６２３，４９９号、同第
３，３２０，０６９号、同第３，７７２，０３１号、英
国特許第２３５，２１１号、同第１，１２１，４９６
号、同第１，２９５，４６２号、同第１，３９６，６９
６号、カナダ特許第８００，９５８号、特願平２−３３
３８１９号、同３−５３６９３号、同３−１３１５９８
号、同４−１２９７８７号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
（J.Chem.Soc.Chem.Commun.)６３５（１９８０），ibid
１１０２（１９７９），ibid ６４５（１９７９）、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション（J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
１，２１９１（１９８０）、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ
・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・ア
ンド・テルリウム・カンパウンズ（The Chemistry of O
rganic Serenium and Tellunium Compounds),Vol １
（１９８６）、同 Vol ２（１９８７）に記載の化合物
を用いることができる。特に特願平４−１４６７３９号
中の一般式（II）(III)(IV) で示される化合物が好まし
い。
【０１８５】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀１モル当
たり１０-8〜１０-2モル、好ましくは１０-7〜１０-3モ
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、ｐＨとしては５〜８、ｐＡｇとし
ては６〜１１、好ましくは７〜１０であり、温度として
は４０〜９５℃、好ましくは４５〜８５℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀１
モル当たり１０-7〜１０-2モル程度を用いることができ
る。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀
粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム
塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよ
い。本発明においては、還元増感を用いることができ
る。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルム
アミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いること
ができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許
（ＥＰ）−２９３，９１７に示される方法により、チオ
スルホン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いられ
る感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよい
し、二種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、
ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増
感の条件の異なるもの）併用してもよい。
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀１モル当
たり１０-8〜１０-2モル、好ましくは１０-7〜１０-3モ
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、ｐＨとしては５〜８、ｐＡｇとし
ては６〜１１、好ましくは７〜１０であり、温度として
は４０〜９５℃、好ましくは４５〜８５℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀１
モル当たり１０-7〜１０-2モル程度を用いることができ
る。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀
粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム
塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよ
い。本発明においては、還元増感を用いることができ
る。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルム
アミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いること
ができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許
（ＥＰ）−２９３，９１７に示される方法により、チオ
スルホン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いられ
る感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよい
し、二種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、
ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増
感の条件の異なるもの）併用してもよい。
【０１８６】本発明において、返し用感光材料として特
に適したハロゲン化銀乳剤は９０モル％以上より好まし
くは９５モル％以上、が塩化銀からなるハロゲン化銀で
あり、臭化銀を０〜１０モル％含む塩臭化銀もしくは塩
沃臭化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が増加す
ると明室下でのセーフライト安全性の悪化、あるいはγ
が低下して好ましくない。
に適したハロゲン化銀乳剤は９０モル％以上より好まし
くは９５モル％以上、が塩化銀からなるハロゲン化銀で
あり、臭化銀を０〜１０モル％含む塩臭化銀もしくは塩
沃臭化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が増加す
ると明室下でのセーフライト安全性の悪化、あるいはγ
が低下して好ましくない。
【０１８７】また、本発明の返し用感光材料に用いるハ
ロゲン化銀乳剤は、遷移金属錯体を含むことが望まし
い。遷移金属としては、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｃｒ、などがあげられる。配位子としては、ニトロ
シル及びチオニトロシル架橋配位子、ハロゲン化物配位
子（フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物）、シアン
化物配位子、シアネート配位子、チオシアネート配位
子、セレノシアネート配位子、テルロシアネート配位
子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配
位子が存在する場合には、配位子の１つ又は２つを占め
ることが好ましい。
ロゲン化銀乳剤は、遷移金属錯体を含むことが望まし
い。遷移金属としては、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｃｒ、などがあげられる。配位子としては、ニトロ
シル及びチオニトロシル架橋配位子、ハロゲン化物配位
子（フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物）、シアン
化物配位子、シアネート配位子、チオシアネート配位
子、セレノシアネート配位子、テルロシアネート配位
子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配
位子が存在する場合には、配位子の１つ又は２つを占め
ることが好ましい。
【０１８８】具体的には、ロジウム原子を含有せしめる
には、単塩、錯塩など任意の形の金属塩にして粒子調製
時に添加することができる。ロジウム塩としては、一塩
化ロジウム、二塩化ロジウム、三塩化ロジウム、ヘキサ
クロロロジウム酸アンモニウム等が挙げられるが、好ま
しく水溶性の三価のロジウムのハロゲン錯化合物例えば
ヘキサクロロロジウム（III)酸もしくはその塩（アンモ
ニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩など）である。こ
れらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀１モル
当り１．０×１０-6モル〜１．０×１０-3モルの範囲で
用いられる。好ましくは、１．０×１０-5モル〜１．０
×１０-3モル、特に好ましくは５．０×１０-5モル〜
５．０×１０-4モルである。
には、単塩、錯塩など任意の形の金属塩にして粒子調製
時に添加することができる。ロジウム塩としては、一塩
化ロジウム、二塩化ロジウム、三塩化ロジウム、ヘキサ
クロロロジウム酸アンモニウム等が挙げられるが、好ま
しく水溶性の三価のロジウムのハロゲン錯化合物例えば
ヘキサクロロロジウム（III)酸もしくはその塩（アンモ
ニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩など）である。こ
れらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀１モル
当り１．０×１０-6モル〜１．０×１０-3モルの範囲で
用いられる。好ましくは、１．０×１０-5モル〜１．０
×１０-3モル、特に好ましくは５．０×１０-5モル〜
５．０×１０-4モルである。
【０１８９】又、以下の遷移金属錯体も好ましい。
１ 〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-2
２ 〔Ｒｕ（ＮＯ）2 Ｃｌ4 〕-1
３ 〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ2 Ｏ）Ｃｌ4 〕-1
４ 〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-2
５ 〔Ｒｈ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-2
６ 〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ5 〕-2
７ 〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ4 〕-2
８ 〔Ｒｈ（ＮＯ）2 Ｃｌ4 〕-1
９ 〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ2 Ｏ）Ｃｌ4 〕-1
10 〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ5 〕-2
11 〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｂｒ5 〕-2
12 〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ5 〕-2
13 〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-2
14 〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-3
15 〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-1
16 〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ4 （ＴｅＣＮ）〕-2
17 〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｉ5 〕-2
18 〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ4 （ＳｅＣＮ）〕-2
19 〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）4 〕-2
20 〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ5 〕-2
【０１９０】本発明に用いられる分光増感色素として
は、特に制約はない。本発明に用いる増感色素の添加量
は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等により異なる
が、ハロゲン化銀１モル当り４×１０-6〜８×１０-3モ
ルノ範囲で用いられる。例えば、ハロゲン化銀粒子サイ
ズが０．２〜１．３μｍの場合には、ハロゲン化銀粒子
の表面積１m2当り、２×１０-7〜３．５×１０-6モルの
添加量範囲が好ましく、特に６．５×１０-7〜２．０×
１０-6モルの添加量範囲が好ましい。
は、特に制約はない。本発明に用いる増感色素の添加量
は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等により異なる
が、ハロゲン化銀１モル当り４×１０-6〜８×１０-3モ
ルノ範囲で用いられる。例えば、ハロゲン化銀粒子サイ
ズが０．２〜１．３μｍの場合には、ハロゲン化銀粒子
の表面積１m2当り、２×１０-7〜３．５×１０-6モルの
添加量範囲が好ましく、特に６．５×１０-7〜２．０×
１０-6モルの添加量範囲が好ましい。
【０１９１】本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えば RESEARCH DISCLOSURE I tem １７６４３ IV −
Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、同 Item １８３
１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もしくは引
用された文献に記載されている。特に各種スキャナー光
源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利
に選択することができる。例えばＡ）アルゴンレーザー
光源に対しては、特開昭６０−１６２２４７号、特開平
２−４８６５３号、米国特許２，１６１，３３１号、西
独特許９３６，０７１号、特願平３−１８９５３２号記
載のシンプルメロシアニン類、Ｂ）ヘリウム−ネオンレ
ーザー光源に対しては、特開昭５０−６２４２５号、同
５４−１８７２６号、同５９−１０２２２９号に示され
た三核シアニン色素類、Ｃ）ＬＥＤ光源及び赤色半導体
レーザーに対しては特公昭４８−４２１７２号、同５１
−９６０９号、同５５−３９８１８号へ特開昭６２−２
８４３４３号、特開平２−１０５１３５号に記載された
チアカルボシアニン類、Ｄ）赤外半導体レーザー光源に
対しては特開昭５９−１９１０３２号、特開昭６０−８
０８４１号に記載されたトリカルボシアニン類、特開昭
５９−１９２２４２号、特開平３−６７２４２号の一般
式(IIIａ）、一般式(IIIｂ）に記載された４−キノリン
核を含有するジカルボシアニン類などが有利に選択され
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強
色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素ととも
に、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視
光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す
物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強色増
感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はリサー
チ・ディスクロージャー（Research Disclosure) １７
６巻１７６４３（１９７８年１２月発行）第２３頁IVの
Ｊ項に記載されている。
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えば RESEARCH DISCLOSURE I tem １７６４３ IV −
Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、同 Item １８３
１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もしくは引
用された文献に記載されている。特に各種スキャナー光
源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利
に選択することができる。例えばＡ）アルゴンレーザー
光源に対しては、特開昭６０−１６２２４７号、特開平
２−４８６５３号、米国特許２，１６１，３３１号、西
独特許９３６，０７１号、特願平３−１８９５３２号記
載のシンプルメロシアニン類、Ｂ）ヘリウム−ネオンレ
ーザー光源に対しては、特開昭５０−６２４２５号、同
５４−１８７２６号、同５９−１０２２２９号に示され
た三核シアニン色素類、Ｃ）ＬＥＤ光源及び赤色半導体
レーザーに対しては特公昭４８−４２１７２号、同５１
−９６０９号、同５５−３９８１８号へ特開昭６２−２
８４３４３号、特開平２−１０５１３５号に記載された
チアカルボシアニン類、Ｄ）赤外半導体レーザー光源に
対しては特開昭５９−１９１０３２号、特開昭６０−８
０８４１号に記載されたトリカルボシアニン類、特開昭
５９−１９２２４２号、特開平３−６７２４２号の一般
式(IIIａ）、一般式(IIIｂ）に記載された４−キノリン
核を含有するジカルボシアニン類などが有利に選択され
る。これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強
色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素ととも
に、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視
光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す
物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強色増
感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はリサー
チ・ディスクロージャー（Research Disclosure) １７
６巻１７６４３（１９７８年１２月発行）第２３頁IVの
Ｊ項に記載されている。
【０１９２】アルゴンレーザー光源に対しては、下記の
色素が特に好ましく用いられる。
色素が特に好ましく用いられる。
【０１９３】
【化８４】
【０１９４】
【化８５】
【０１９５】ヘリウム−ネオン光源に対しては、前記の
他に特願平４−２２８７４５の８頁の下から１行目から
１３頁の上から４行目に記載の一般式（Ｉ）で表わされ
る増感色素が特に好ましい。具体例を下記に示すが、こ
れらの他に特願平４−２２８７４５号の一般式（Ｉ）記
載のものがいずれも好ましく用いられる。
他に特願平４−２２８７４５の８頁の下から１行目から
１３頁の上から４行目に記載の一般式（Ｉ）で表わされ
る増感色素が特に好ましい。具体例を下記に示すが、こ
れらの他に特願平４−２２８７４５号の一般式（Ｉ）記
載のものがいずれも好ましく用いられる。
【０１９６】
【化８６】
【０１９７】
【化８７】
【０１９８】ＬＥＤ光源及び赤外半導体レーザーに対し
ては、下記にあげる色素が特に好ましく用いられる。
ては、下記にあげる色素が特に好ましく用いられる。
【０１９９】
【化８８】
【０２００】
【化８９】
【０２０１】赤外半導体レーザー光源に対しては、下記
にあげる色素が好ましく用いられる。
にあげる色素が好ましく用いられる。
【０２０２】
【化９０】
【０２０３】
【化９１】
【０２０４】
【化９２】
【０２０５】カメラ撮影などの白色光源に対しては、特
願平５−２０１２５４号に記載の一般式（IV）の増感色
素（２０頁１４行目から２２頁２３行目）が好ましく用
いられる。具体的化合物例を下記に示す。
願平５−２０１２５４号に記載の一般式（IV）の増感色
素（２０頁１４行目から２２頁２３行目）が好ましく用
いられる。具体的化合物例を下記に示す。
【０２０６】
【化９３】
【０２０７】
【化９４】
【０２０８】
【化９５】
【０２０９】
【化９６】
【０２１０】本発明で感光材料を現像処理する際の現像
液には、通常用いられる添加剤（例えば、現像主薬、ア
ルカリ剤、ｐＨ緩衝剤、保恒剤、キレート剤）を含有す
ることができる。本発明の現像処理には、公知の方法の
いずれかを用いることもできるし、現像処理液には公知
のものを用いることができる。本発明に使用する現像液
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類、あるいはアスコルビン酸誘導体を含むこ
とが好ましく、更に現像能力の点でジヒドロキシベンゼ
ン類と１−フェニル−３−ピラゾリドン類の組合せ、ジ
ヒドロキシベンゼン類とｐ−アミノフェノール類の組合
せ、アスコルビン酸誘導体と１−フェニル−３−ピラゾ
リドン類の組合せまたは、アスコルビン酸誘導体とｐ−
アミノフェノール類の組合せが好ましい。
液には、通常用いられる添加剤（例えば、現像主薬、ア
ルカリ剤、ｐＨ緩衝剤、保恒剤、キレート剤）を含有す
ることができる。本発明の現像処理には、公知の方法の
いずれかを用いることもできるし、現像処理液には公知
のものを用いることができる。本発明に使用する現像液
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類、あるいはアスコルビン酸誘導体を含むこ
とが好ましく、更に現像能力の点でジヒドロキシベンゼ
ン類と１−フェニル−３−ピラゾリドン類の組合せ、ジ
ヒドロキシベンゼン類とｐ−アミノフェノール類の組合
せ、アスコルビン酸誘導体と１−フェニル−３−ピラゾ
リドン類の組合せまたは、アスコルビン酸誘導体とｐ−
アミノフェノール類の組合せが好ましい。
【０２１１】本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像
主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。本発明に用いるアスコルビン
酸誘導体現像主薬としてはアスコルビン酸、その立体異
性体であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩（ナト
リウム、カリウム塩）などがある。本発明に用いる１−
フェニル−３−ピラゾリドン又はその誘導体の現像主薬
としては１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニ
ル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニ
ル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリ
ドンなどがある。本発明に用いるｐ−アミノフェノール
系現像主薬としてはＮ−メチル−ｐ−アミノフェノー
ル、ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）−ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（４−ヒドロキシフ
ェニル）グリシン等があるが、なかでもＮ−メチル−ｐ
−アミノフェノールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン
系現像主薬は通常０．０５〜０．８モル／リットルの量
で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、０．２〜
０．６モル／リットルの範囲である。またジヒドロキシ
ベンゼン類と１−フェニル−３−ピラゾリドン類もしく
はｐ−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を０．０５〜０．６モル／リットル、さらに好ましく
は０．２〜０．５モル／リットル、後者を０．０６モル
／リットル以下、さらに好ましくは０．０３モル／リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。アスコルビン酸誘
導体現像主薬は通常０．０５〜０．８モル／リットルの
量で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、０．２
〜０．６モル／リットルの範囲である。またアスコルビ
ン酸誘導体と１−フェニル−３−ピラゾリドン類もしく
はｐ−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を０．０５〜０．６モル／リットル、さらに好ましく
は０．２〜０．５モル／リットル、後者を０．０６モル
／リットル以下、さらに好ましくは０．０３モル／リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。
主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。本発明に用いるアスコルビン
酸誘導体現像主薬としてはアスコルビン酸、その立体異
性体であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩（ナト
リウム、カリウム塩）などがある。本発明に用いる１−
フェニル−３−ピラゾリドン又はその誘導体の現像主薬
としては１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニ
ル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニ
ル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリ
ドンなどがある。本発明に用いるｐ−アミノフェノール
系現像主薬としてはＮ−メチル−ｐ−アミノフェノー
ル、ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）−ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（４−ヒドロキシフ
ェニル）グリシン等があるが、なかでもＮ−メチル−ｐ
−アミノフェノールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン
系現像主薬は通常０．０５〜０．８モル／リットルの量
で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、０．２〜
０．６モル／リットルの範囲である。またジヒドロキシ
ベンゼン類と１−フェニル−３−ピラゾリドン類もしく
はｐ−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を０．０５〜０．６モル／リットル、さらに好ましく
は０．２〜０．５モル／リットル、後者を０．０６モル
／リットル以下、さらに好ましくは０．０３モル／リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。アスコルビン酸誘
導体現像主薬は通常０．０５〜０．８モル／リットルの
量で用いられるのが好ましい。特に好ましくは、０．２
〜０．６モル／リットルの範囲である。またアスコルビ
ン酸誘導体と１−フェニル−３−ピラゾリドン類もしく
はｐ−アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前
者を０．０５〜０．６モル／リットル、さらに好ましく
は０．２〜０．５モル／リットル、後者を０．０６モル
／リットル以下、さらに好ましくは０．０３モル／リッ
トル以下の量で用いるのが好ましい。
【０２１２】本発明に用いる保恒剤としては亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は０．２０モル／リットル以上、特に０．３モ
ル／リットル以上用いられるが、余りに多量添加すると
現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は１．２モル
／リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、０．
３５〜０．７モル／リットルである。ジヒドロキシベン
ゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用してア
スコルビン酸誘導体を少量使用しても良い。アスコルビ
ン酸誘導体としては、アスコルビン酸、その立体異性体
であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩（ナトリウ
ム、カリウム塩）などがあるが、エリソルビン酸ナトリ
ウムを用いることが素材コストの点で好ましい。添加量
はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で
０．０３〜０．１２の範囲が好ましく、特に好ましくは
０．０５〜０．１０の範囲である。保恒剤としてアスコ
ルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化
合物を含まないことが好ましい。
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は０．２０モル／リットル以上、特に０．３モ
ル／リットル以上用いられるが、余りに多量添加すると
現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は１．２モル
／リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、０．
３５〜０．７モル／リットルである。ジヒドロキシベン
ゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用してア
スコルビン酸誘導体を少量使用しても良い。アスコルビ
ン酸誘導体としては、アスコルビン酸、その立体異性体
であるエリソルビン酸やそのアルカリ金属塩（ナトリウ
ム、カリウム塩）などがあるが、エリソルビン酸ナトリ
ウムを用いることが素材コストの点で好ましい。添加量
はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で
０．０３〜０．１２の範囲が好ましく、特に好ましくは
０．０５〜０．１０の範囲である。保恒剤としてアスコ
ルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化
合物を含まないことが好ましい。
【０２１３】ｐＨの設定のために用いるアルカリ剤には
通常の水溶性無機アルカリ金属塩（例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム）を用いることができる。現像液のｐＨは９．０〜１
２．０であることが好ましく、さらに好ましくはｐＨを
９．５〜１１．０に設定することにより安定な処理シス
テムを構築することができる。
通常の水溶性無機アルカリ金属塩（例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム）を用いることができる。現像液のｐＨは９．０〜１
２．０であることが好ましく、さらに好ましくはｐＨを
９．５〜１１．０に設定することにより安定な処理シス
テムを構築することができる。
【０２１４】上記の以外に用いられる添加剤としては、
臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤；エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤；ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノ
ールアミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進
剤；メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物
をカブリ防止剤又は黒ポツ（black pepper）防止剤とし
て含んでもよい。具体的には、５−ニトロインダゾー
ル、５−ｐ−ニトロベンゾイルアミノインダゾール、１
−メチル−５−ニトロインダゾール、６−ニトロインダ
ゾール、３−メチル−５−ニトロインダゾール、５−ニ
トロベンズイミダゾール、２−イソプロピル−５−ニト
ロベンズイミダゾール、５−ニトロベンズトリアゾー
ル、４−〔（２−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオ〕ブタンスルホン酸ナトリウム、
５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオー
ル、メチルベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリ
アゾール、２−メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙
げることができる。これらカブリ防止剤の量は、通常、
現像液１リットル当り０．０１〜１０mmolであり、より
好ましくは０．１〜２mmolである。
臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤；エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤；ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノ
ールアミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進
剤；メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物
をカブリ防止剤又は黒ポツ（black pepper）防止剤とし
て含んでもよい。具体的には、５−ニトロインダゾー
ル、５−ｐ−ニトロベンゾイルアミノインダゾール、１
−メチル−５−ニトロインダゾール、６−ニトロインダ
ゾール、３−メチル−５−ニトロインダゾール、５−ニ
トロベンズイミダゾール、２−イソプロピル−５−ニト
ロベンズイミダゾール、５−ニトロベンズトリアゾー
ル、４−〔（２−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオ〕ブタンスルホン酸ナトリウム、
５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオー
ル、メチルベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリ
アゾール、２−メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙
げることができる。これらカブリ防止剤の量は、通常、
現像液１リットル当り０．０１〜１０mmolであり、より
好ましくは０．１〜２mmolである。
【０２１５】更に本発明の現像液中には各種の有機・無
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有
機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カル
ボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハク
酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるがこれらに限定されるものではな
い。
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有
機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カル
ボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コハク
酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン
酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等
を挙げることができるがこれらに限定されるものではな
い。
【０２１６】アミノポリカルボン酸としては、イミノ二
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、１，２−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、１，３−ジアミノ−２
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭５２−２５６３２号、同５５−６７
７４７号、同５７−１０２６２４号、及び特公昭５３−
４０９００号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、１，２−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、１，３−ジアミノ−２
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭５２−２５６３２号、同５５−６７
７４７号、同５７−１０２６２４号、及び特公昭５３−
４０９００号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
【０２１７】有機ホスホン酸としては、米国特許３２１
４４５４号、同３７９４５９１号、及び西独特許公開２
２２７６３９号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第１８１巻、Item １８１７０（１９７９
年５月号）等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス（メチレンホスホン
酸）、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー１８１７０号、特開
昭５７−２０８５５４号、同５４−６１１２５号、同５
５−２９８８３号及び同５６−９７３４７号等に記載の
化合物を挙げることができる。
４４５４号、同３７９４５９１号、及び西独特許公開２
２２７６３９号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第１８１巻、Item １８１７０（１９７９
年５月号）等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス（メチレンホスホン
酸）、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー１８１７０号、特開
昭５７−２０８５５４号、同５４−６１１２５号、同５
５−２９８８３号及び同５６−９７３４７号等に記載の
化合物を挙げることができる。
【０２１８】有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭
５２−１０２７２６号、同５３−４２７３０号、同５４
−１２１１２７号、同５５−４０２４号、同５５−４０
２５号、同５５−１２６２４１号、同５５−６５９５５
号、同５５−６５９５６号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー１８１７０号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液１リットル当り好ましく
は、１×１０-4〜１×１０-1モル、より好ましくは１×
１０-3〜１×１０-2モルである。
５２−１０２７２６号、同５３−４２７３０号、同５４
−１２１１２７号、同５５−４０２４号、同５５−４０
２５号、同５５−１２６２４１号、同５５−６５９５５
号、同５５−６５９５６号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー１８１７０号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液１リットル当り好ましく
は、１×１０-4〜１×１０-1モル、より好ましくは１×
１０-3〜１×１０-2モルである。
【０２１９】さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として特
開昭５６−２４３４７号、特公昭５６−４６５８５号、
特公昭６２−２８４９号、特開平４−３６２９４２号記
載の化合物を用いることができる。また、現像ムラ防止
剤として特開昭６２−２１２６５１号記載の化合物、溶
解助剤として特開昭６１−２６７７５９号記載の化合物
を用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。
開昭５６−２４３４７号、特公昭５６−４６５８５号、
特公昭６２−２８４９号、特開平４−３６２９４２号記
載の化合物を用いることができる。また、現像ムラ防止
剤として特開昭６２−２１２６５１号記載の化合物、溶
解助剤として特開昭６１−２６７７５９号記載の化合物
を用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。
【０２２０】本発明に用いられる現像液には、緩衝剤と
して炭酸塩、特開昭６２−１８６２５９号に記載のホウ
酸、特開昭６０−９３４３３号に記載の糖類（例えばサ
ッカロース）、オキシム類（例えばアセトオキシム）、
フェノール類（例えば５−スルホサリチル酸）、第３リ
ン酸塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩）などが用い
られ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用いられる。現像処
理温度及び時間は相互に関係し、全処理時間との関係に
おいて決定されるが、一般に現像温度は約２０℃〜約５
０℃、好ましくは２５〜４５℃で、現像時間は５秒〜２
分、好ましくは７秒／１分３０秒である。ハロゲン化銀
黒白写真感光材料１平方メートルを処理する際に、現像
液の補充液量は５００ミリリットル以下、好ましくは４
００ミリリットル以下である。処理液の搬送コスト、包
装材料コスト、省スペース等の目的で、処理液を濃縮化
し、使用時に希釈して用いるようにすることは好ましい
ことである。現像液の濃縮化のためには、現像液に含ま
れる塩成分をカリウム塩化することが有効である。
して炭酸塩、特開昭６２−１８６２５９号に記載のホウ
酸、特開昭６０−９３４３３号に記載の糖類（例えばサ
ッカロース）、オキシム類（例えばアセトオキシム）、
フェノール類（例えば５−スルホサリチル酸）、第３リ
ン酸塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩）などが用い
られ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用いられる。現像処
理温度及び時間は相互に関係し、全処理時間との関係に
おいて決定されるが、一般に現像温度は約２０℃〜約５
０℃、好ましくは２５〜４５℃で、現像時間は５秒〜２
分、好ましくは７秒／１分３０秒である。ハロゲン化銀
黒白写真感光材料１平方メートルを処理する際に、現像
液の補充液量は５００ミリリットル以下、好ましくは４
００ミリリットル以下である。処理液の搬送コスト、包
装材料コスト、省スペース等の目的で、処理液を濃縮化
し、使用時に希釈して用いるようにすることは好ましい
ことである。現像液の濃縮化のためには、現像液に含ま
れる塩成分をカリウム塩化することが有効である。
【０２２１】本発明の定着工程で使用する定着液は、チ
オ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により
酒石酸、クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢
酸、５−スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロ
ン、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五
酢酸、ニトリロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。
近年の環境保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が
好ましい。本発明に用いられる定着液の定着剤としては
チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであ
り、定着速度の点からはチオ硫酸アンモニウムが好まし
いが、近年の環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが
使われても良い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変
えることができ、一般には約０．１〜約２モル／リット
ルである。特に好ましくは０．２〜１．５モル／リット
ルである。定着液には所望により、硬膜剤（例えば水溶
性アルミニウム化合物）、保恒剤（例えば、亜硫酸塩、
重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衝剤（例えば、酢酸）、ｐＨ調整
剤（例えば、アンモニア、硫酸）、キレート剤、界面活
性剤、湿潤剤、定着促進剤を含むことができる。界面活
性剤としては、例えば硫酸化物、スルフォン化物などの
アニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開
昭５７−６７４０号公報記載の両性界面活性剤などが挙
げられる。また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤
剤としては、例えばアルカノールアミン、アルキレング
リコールなどが挙げられる。定着促進剤としては、例え
ば特公昭４５−３５７５４号、同５８−１２２５３５
号、同５８−１２２５３６号各公報記載のチオ尿素誘導
体、分子内に３重結合を持つアルコール、米国特許第４
１２６４５９号記載のチオエーテル化合物、特開平４−
２２９８６０号記載のメソイオン化合物などが挙げら
れ、また特開平２−４４３５５号記載の化合物を用いて
もよい。また、ｐＨ緩衝剤としては、例えば酢酸、リン
ゴ酸、こはく酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マレイ
ン酸、グリコール酸、アジピン酸などの有機酸、ホウ
酸、リン酸塩、亜硫酸塩などの無機緩衝剤が使用でき
る。好ましいものとして酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用い
られる。ここでｐＨ緩衝剤は、現像液の持ち込みによる
定着剤のｐＨ上昇を防ぐ目的で使用され、０．０１〜
１．０モル／リットル、より好ましくは０．０２〜０．
６モル／リットル程度用いる。また、色素溶出促進剤と
して、特開昭６４−４７３９号記載の化合物を用いるこ
ともできる。
オ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により
酒石酸、クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢
酸、５−スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロ
ン、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五
酢酸、ニトリロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。
近年の環境保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が
好ましい。本発明に用いられる定着液の定着剤としては
チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであ
り、定着速度の点からはチオ硫酸アンモニウムが好まし
いが、近年の環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが
使われても良い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変
えることができ、一般には約０．１〜約２モル／リット
ルである。特に好ましくは０．２〜１．５モル／リット
ルである。定着液には所望により、硬膜剤（例えば水溶
性アルミニウム化合物）、保恒剤（例えば、亜硫酸塩、
重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衝剤（例えば、酢酸）、ｐＨ調整
剤（例えば、アンモニア、硫酸）、キレート剤、界面活
性剤、湿潤剤、定着促進剤を含むことができる。界面活
性剤としては、例えば硫酸化物、スルフォン化物などの
アニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開
昭５７−６７４０号公報記載の両性界面活性剤などが挙
げられる。また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤
剤としては、例えばアルカノールアミン、アルキレング
リコールなどが挙げられる。定着促進剤としては、例え
ば特公昭４５−３５７５４号、同５８−１２２５３５
号、同５８−１２２５３６号各公報記載のチオ尿素誘導
体、分子内に３重結合を持つアルコール、米国特許第４
１２６４５９号記載のチオエーテル化合物、特開平４−
２２９８６０号記載のメソイオン化合物などが挙げら
れ、また特開平２−４４３５５号記載の化合物を用いて
もよい。また、ｐＨ緩衝剤としては、例えば酢酸、リン
ゴ酸、こはく酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マレイ
ン酸、グリコール酸、アジピン酸などの有機酸、ホウ
酸、リン酸塩、亜硫酸塩などの無機緩衝剤が使用でき
る。好ましいものとして酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用い
られる。ここでｐＨ緩衝剤は、現像液の持ち込みによる
定着剤のｐＨ上昇を防ぐ目的で使用され、０．０１〜
１．０モル／リットル、より好ましくは０．０２〜０．
６モル／リットル程度用いる。また、色素溶出促進剤と
して、特開昭６４−４７３９号記載の化合物を用いるこ
ともできる。
【０２２２】本発明の定着液中の硬膜剤としては、水溶
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は０．０１モル〜０．２モル／リットル、さら
に好ましくは０．０３〜０．０８モル／リットルであ
る。定着温度は、約２０℃〜約５０℃、好ましくは２５
〜４５℃で、定着時間は５秒〜１分、好ましくは７秒〜
５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に
対して６００ml／m2以下であり、特に５００ml／m2以下
が好ましい。
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は０．０１モル〜０．２モル／リットル、さら
に好ましくは０．０３〜０．０８モル／リットルであ
る。定着温度は、約２０℃〜約５０℃、好ましくは２５
〜４５℃で、定着時間は５秒〜１分、好ましくは７秒〜
５０秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に
対して６００ml／m2以下であり、特に５００ml／m2以下
が好ましい。
【０２２３】現像、定着処理が済んだ感光材料は、次い
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料１m2当り、２
０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０
も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式（例えば２
段、３段など）が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭６３−１８
３５０号、同６２−２８７２５号などに記載のスクイズ
ローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けるこ
とがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問題
となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィル
ター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法で
水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応じ
て補充することによって生ずる水洗又は安定化浴からの
オーバーフロー液の一部又は全部は特開昭６０−２３５
１３３号に記載されているようにその前の処理工程であ
る定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および／また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭６３−１６３４５
６号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平２−２０１３５７号、同２−１３２
４３５号、同１−１０２５５３号、特開昭４６−４４４
４６号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Ｂｉ、Ａｌなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜ｐＨ調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤（オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など）等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平４−３９６５２号、特
開平５−２４１３０９号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は０〜５
０℃、５秒〜２分が好ましい。
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料１m2当り、２
０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０
も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式（例えば２
段、３段など）が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭６３−１８
３５０号、同６２−２８７２５号などに記載のスクイズ
ローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けるこ
とがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問題
となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィル
ター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法で
水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応じ
て補充することによって生ずる水洗又は安定化浴からの
オーバーフロー液の一部又は全部は特開昭６０−２３５
１３３号に記載されているようにその前の処理工程であ
る定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および／また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭６３−１６３４５
６号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平２−２０１３５７号、同２−１３２
４３５号、同１−１０２５５３号、特開昭４６−４４４
４６号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Ｂｉ、Ａｌなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜ｐＨ調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤（オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など）等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平４−３９６５２号、特
開平５−２４１３０９号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は０〜５
０℃、５秒〜２分が好ましい。
【０２２４】本発明に用いられる処理液は特開昭６１−
７３１４７号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することが好ましい。本発明に用いられる処理液は粉剤
および固形化しても良い。その方法は、公知のものを用
いることができるが、特開昭６１−２５９９２１号、特
開平４−８５５３３号、特開平４−１６８４１号記載の
方法を使用することが好ましい。特に好ましくは特開昭
６１−２５９９２１号記載の方法である。補充量を低減
する場合には処理槽の空気との接触面積を小さくするこ
とによって液の蒸発、空気酸化を防止することが好まし
い。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第
３０２５７７９号明細書、同第３５４５９７１号明細書
などに記載されており、本明細書においては単にローラ
ー搬送型プロセッサーとして言及する。ローラー搬送型
プロセッサーは現像、定着、水洗及び乾燥の四工程から
なっており、本発明の方法も、他の工程（例えば、停止
工程）を除外しないが、この四工程を踏襲するのが最も
好ましい。水洗工程の代わりに安定工程による四工程で
も構わない。
７３１４７号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することが好ましい。本発明に用いられる処理液は粉剤
および固形化しても良い。その方法は、公知のものを用
いることができるが、特開昭６１−２５９９２１号、特
開平４−８５５３３号、特開平４−１６８４１号記載の
方法を使用することが好ましい。特に好ましくは特開昭
６１−２５９９２１号記載の方法である。補充量を低減
する場合には処理槽の空気との接触面積を小さくするこ
とによって液の蒸発、空気酸化を防止することが好まし
い。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第
３０２５７７９号明細書、同第３５４５９７１号明細書
などに記載されており、本明細書においては単にローラ
ー搬送型プロセッサーとして言及する。ローラー搬送型
プロセッサーは現像、定着、水洗及び乾燥の四工程から
なっており、本発明の方法も、他の工程（例えば、停止
工程）を除外しないが、この四工程を踏襲するのが最も
好ましい。水洗工程の代わりに安定工程による四工程で
も構わない。
【０２２５】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
に関しては、特に制限は無く、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1) 界面活性剤 特開平２−１２２３６号公報第９頁右上欄７行目か ら同右下欄７行目、及び特開平２−１８５４２号公 報第２頁左下欄１３行目から同第４頁右下欄１８行 目。 2) カブリ防止剤 特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下欄１９ 行目から同第１８頁右上欄４行目及び同右下欄１行 目から５行目、さらに特開平１−２３７５３８号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 3) ポリマーラテックス 特開平２−１０３５３６号公報第１８頁左下欄１２ 行目から同２０行目。 4) 酸基を有する化合物 特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右下欄６行 目から同第１９頁左上欄１行目。 5) マット剤、滑り剤、 特開平２−１０３５３６号公報第１９頁左上欄１５ 可塑剤 行目から同第１９頁右上欄１５行目。 6) 硬膜剤 特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右上欄５行 目から同第１７行目。 7) 染料 特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下欄１行 目から同１８行目の染料、同２−２９４６３８号公 報及び特願平３−１８５７７３号に記載の固体染料 。 8) バインダー 特開平２−１８５４２号公報第３頁右下欄１行目か ら２０行目。 9）黒ポツ防止剤 米国特許第４９５６２５７号及び特開平１−１１８ ８３２号公報に記載の化合物。 10）モノメチン化合物 特開平２−２８７５３２号公報の一般式（II）の化 合物（特に化合物例II−１ないしII−２６）。 11）ジヒドロキシベンゼ 特開平３−３９９４８号公報第１１頁左上欄から第 ン類 １２頁左下欄の記載、及びＥＰ４５２７７２Ａ号公 報に記載の化合物
に関しては、特に制限は無く、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることが出来る。 項 目 該 当 箇 所 1) 界面活性剤 特開平２−１２２３６号公報第９頁右上欄７行目か ら同右下欄７行目、及び特開平２−１８５４２号公 報第２頁左下欄１３行目から同第４頁右下欄１８行 目。 2) カブリ防止剤 特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下欄１９ 行目から同第１８頁右上欄４行目及び同右下欄１行 目から５行目、さらに特開平１−２３７５３８号公 報に記載のチオスルフィン酸化合物。 3) ポリマーラテックス 特開平２−１０３５３６号公報第１８頁左下欄１２ 行目から同２０行目。 4) 酸基を有する化合物 特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右下欄６行 目から同第１９頁左上欄１行目。 5) マット剤、滑り剤、 特開平２−１０３５３６号公報第１９頁左上欄１５ 可塑剤 行目から同第１９頁右上欄１５行目。 6) 硬膜剤 特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右上欄５行 目から同第１７行目。 7) 染料 特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下欄１行 目から同１８行目の染料、同２−２９４６３８号公 報及び特願平３−１８５７７３号に記載の固体染料 。 8) バインダー 特開平２−１８５４２号公報第３頁右下欄１行目か ら２０行目。 9）黒ポツ防止剤 米国特許第４９５６２５７号及び特開平１−１１８ ８３２号公報に記載の化合物。 10）モノメチン化合物 特開平２−２８７５３２号公報の一般式（II）の化 合物（特に化合物例II−１ないしII−２６）。 11）ジヒドロキシベンゼ 特開平３−３９９４８号公報第１１頁左上欄から第 ン類 １２頁左下欄の記載、及びＥＰ４５２７７２Ａ号公 報に記載の化合物
【０２２６】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【０２２７】実施例１
＜ハロゲン化銀写真感光材料の作成＞
乳剤調整
以下の方法で乳剤Ａを調整した。
〔乳剤Ａ〕硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリ
ウムと銀１モルあたり３．５×１０-7モルに相当するＫ
3 ＩｒＣｌ6 と２．０×１０-7モルに相当するＫ2 Ｒｈ
（Ｈ2 Ｏ）Ｃｌ5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ０．２５μｍ、塩
化銀含有率７０モル％の塩臭化銀粒子を調製した。
ウムと銀１モルあたり３．５×１０-7モルに相当するＫ
3 ＩｒＣｌ6 と２．０×１０-7モルに相当するＫ2 Ｒｈ
（Ｈ2 Ｏ）Ｃｌ5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ０．２５μｍ、塩
化銀含有率７０モル％の塩臭化銀粒子を調製した。
【０２２８】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀１モルあたりゼラチン４０ｇを加
え、さらに銀１モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム７ｍｇとベンゼンスルフィン酸２ｍｇを加えた
後、ｐＨ６．０、ｐＡｇ７．５に調整し、銀１モル当た
り２ｍｇのチオ硫酸ナトリウムおよび４ｍｇの塩化金酸
を加えて６０゜Ｃで最適感度になるように化学増感し
た。その後、安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル
−１，３，３ａ，７−テトラザインデン１５０ｍｇを加
え、さらに防腐剤としてプロキセル１００ｍｇを加え
た。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ０．２５μ
ｍ、塩化銀含有率７０モル％の塩臭化銀立方体粒子であ
った。（変動係数１０％）
法により水洗し、銀１モルあたりゼラチン４０ｇを加
え、さらに銀１モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム７ｍｇとベンゼンスルフィン酸２ｍｇを加えた
後、ｐＨ６．０、ｐＡｇ７．５に調整し、銀１モル当た
り２ｍｇのチオ硫酸ナトリウムおよび４ｍｇの塩化金酸
を加えて６０゜Ｃで最適感度になるように化学増感し
た。その後、安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル
−１，３，３ａ，７−テトラザインデン１５０ｍｇを加
え、さらに防腐剤としてプロキセル１００ｍｇを加え
た。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ０．２５μ
ｍ、塩化銀含有率７０モル％の塩臭化銀立方体粒子であ
った。（変動係数１０％）
【０２２９】塗布試料の作成
塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、ＵＬ層、ＥＭ層、ＰＣ層、ＯＣ層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、ＵＬ層、ＥＭ層、ＰＣ層、ＯＣ層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
【０２３０】（ＵＬ層）ゼラチン水溶液に、ゼラチンに
対し３０ｗｔ％のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン０．５ｇ／ｍ2 になるように塗布した。
対し３０ｗｔ％のポリエチルアクリレートの分散物を添
加し、ゼラチン０．５ｇ／ｍ2 になるように塗布した。
【０２３１】（ＥＭ層）上記乳剤Ａに、増感色素として
下記化合物（Ｓ−１）を銀１モルあたり５×１０-4モ
ル、（Ｓ−２）を５×１０-4モル加え、さらに銀１モル
あたり３×１０-4モルの下記（ａ）で示されるメルカプ
ト化合物、４×１０-4モルの（ｂ）で示されるメルカプ
ト化合物、４×１０-4モルの（ｃ）で示されるトリアジ
ン化合物、２×１０-3モルの５−クロル−８−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物（Ａ）を５×１０-4モル、下記
化合物（ｐ）を５×１０-4モル、硬調化促進剤を表１に
示すように添加した。さらに、ハイドロキノン１００ｍ
ｇ、Ｎ−オレイル−Ｎ−メチルタウリンナトリウム塩を
３０ｍｇ／ｍ2 塗布されるように添加した。次に表１に
示す造核剤を５×１０-4 mol／Agmol 、（ｄ）で示され
る水溶性ラテックスを２００ｍｇ／ｍ2 、ポリエチルア
クリレートの分散物を２００ｍｇ／ｍ2 、メチルアクリ
レートと２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスル
ホン酸ナトリウム塩と２−アセトアセトキシエチルメタ
クリレートのラテックス共重合体（重量比８８：５：
７）を２００ｍｇ／ｍ2 、平均粒径０．０２μｍのコロ
イダルシリカを２００ｍｇ／ｍ2 、さらに硬膜剤として
１，３−ジビニルスルホニル−２−プロパノールを２０
０ｍｇ／ｍ2 を加えた。溶液のｐＨは酢酸を用いて５．
６５に調製した。それらを塗布銀量３．５ｇ／ｍ2 にな
るように塗布した。
下記化合物（Ｓ−１）を銀１モルあたり５×１０-4モ
ル、（Ｓ−２）を５×１０-4モル加え、さらに銀１モル
あたり３×１０-4モルの下記（ａ）で示されるメルカプ
ト化合物、４×１０-4モルの（ｂ）で示されるメルカプ
ト化合物、４×１０-4モルの（ｃ）で示されるトリアジ
ン化合物、２×１０-3モルの５−クロル−８−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物（Ａ）を５×１０-4モル、下記
化合物（ｐ）を５×１０-4モル、硬調化促進剤を表１に
示すように添加した。さらに、ハイドロキノン１００ｍ
ｇ、Ｎ−オレイル−Ｎ−メチルタウリンナトリウム塩を
３０ｍｇ／ｍ2 塗布されるように添加した。次に表１に
示す造核剤を５×１０-4 mol／Agmol 、（ｄ）で示され
る水溶性ラテックスを２００ｍｇ／ｍ2 、ポリエチルア
クリレートの分散物を２００ｍｇ／ｍ2 、メチルアクリ
レートと２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスル
ホン酸ナトリウム塩と２−アセトアセトキシエチルメタ
クリレートのラテックス共重合体（重量比８８：５：
７）を２００ｍｇ／ｍ2 、平均粒径０．０２μｍのコロ
イダルシリカを２００ｍｇ／ｍ2 、さらに硬膜剤として
１，３−ジビニルスルホニル−２−プロパノールを２０
０ｍｇ／ｍ2 を加えた。溶液のｐＨは酢酸を用いて５．
６５に調製した。それらを塗布銀量３．５ｇ／ｍ2 にな
るように塗布した。
【０２３２】（ＰＣ層）ゼラチン水溶液にゼラチンに対
して５０ｗｔ％のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤（ｗ）を５ｍｇ／ｍ2 、１，５−ジヒド
ロキシ−２−ベンズアルドキシムを１０ｍｇ／ｍ2 塗布
されるように添加し、ゼラチン０．５ｇ／ｍ2 になるよ
うに塗布した。
して５０ｗｔ％のエチルアクリレートの分散物および、
下記界面活性剤（ｗ）を５ｍｇ／ｍ2 、１，５−ジヒド
ロキシ−２−ベンズアルドキシムを１０ｍｇ／ｍ2 塗布
されるように添加し、ゼラチン０．５ｇ／ｍ2 になるよ
うに塗布した。
【０２３３】（ＯＣ層）ゼラチン０．５ｇ／ｍ2 、平均
粒子サイズ約３．５μｍの不定形なＳｉＯ2 マット剤４
０ｍｇ／ｍ2 、メタノールシリカ０．１ｇ／ｍ2 、ポリ
アクリルアミド１００ｍｇ／ｍ2 とシリコーンオイル２
０ｍｇ／ｍ2 および塗布助剤として下記構造式（ｅ）で
示されるフッ素界面活性剤５ｍｇ／ｍ2 とドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム１００ｍｇ／ｍ2 を塗布し
た。
粒子サイズ約３．５μｍの不定形なＳｉＯ2 マット剤４
０ｍｇ／ｍ2 、メタノールシリカ０．１ｇ／ｍ2 、ポリ
アクリルアミド１００ｍｇ／ｍ2 とシリコーンオイル２
０ｍｇ／ｍ2 および塗布助剤として下記構造式（ｅ）で
示されるフッ素界面活性剤５ｍｇ／ｍ2 とドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム１００ｍｇ／ｍ2 を塗布し
た。
【０２３４】
【化９７】
【０２３５】本発明の造核剤と促進剤の比較化合物とし
て下記の化合物を使用した。
て下記の化合物を使用した。
【０２３６】
【化９８】
【０２３７】これらの塗布試料は下記組成のバック層お
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン ３ｇ／ｍ2 ラテックス ポリエチルアクリレート ２ｇ／ｍ2 界面活性剤 ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ４０mg／ｍ2
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン ３ｇ／ｍ2 ラテックス ポリエチルアクリレート ２ｇ／ｍ2 界面活性剤 ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ４０mg／ｍ2
【０２３８】
【化９９】
【０２３９】
ＳｎＯ2 ／Ｓｂ（重量比９０／１０、平均粒径０．２０μｍ）
染料 染料〔ａ〕、染料〔ｂ〕、染料〔ｃ〕の混合物
染料〔ａ〕 ７０ｍｇ／ｍ2
染料〔ｂ〕 ７０ｍｇ／ｍ2
染料〔ｃ〕 ９０ｍｇ／ｍ2
【０２４０】
【化１００】
【０２４１】
〔バック保護層〕
ゼラチン ０．８ｍｇ／ｍ2
ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径４．５μｍ） ３０ｍｇ／ｍ2
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 １５ｍｇ／ｍ2
ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １５ｍｇ／ｍ2
酢酸ナトリウム ４０ｍｇ／ｍ2
【０２４２】＜写真性能の評価＞
(1) 露光、現像処理
上記の試料を４８８ｎｍにピークを持つ干渉フィルター
を介し、ステップウェッジを通して発光時間１０-5ｓｅ
ｃのキセノンフラッシュ光で露光し、下記組成の現像液
Ａを用いて３５℃で３０秒間現像した後、定着、水洗、
乾燥処理を行った。
を介し、ステップウェッジを通して発光時間１０-5ｓｅ
ｃのキセノンフラッシュ光で露光し、下記組成の現像液
Ａを用いて３５℃で３０秒間現像した後、定着、水洗、
乾燥処理を行った。
【０２４３】
現像液Ａ
水酸化カリウム ３５．０ｇ
ジエチレントリアミン−五酢酸 ２．０ｇ
炭酸カリウム １２．０ｇ
メタ重亜硫酸ナトリウム ４０．０ｇ
臭化カリウム ３．０ｇ
ハイドロキノン ２５．０ｇ
５−メチルベンゾトリアゾール ０．０８ｇ
４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェニル
−３−ピラゾリドン ０．４５ｇ
２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−２−チオキソ
−４−（１Ｈ）−キナゾリノン ０．０４ｇ
２−メルカプトベンツイミダゾール−５−スルホン酸
ナトリウム ０．１５ｇ
エリソルビン酸ナトリウム ３．０ｇ
水酸化カリウムを加えて、水を加えて１リットルとし
ｐＨを１０．５に合わせる。
【０２４４】定着液は、下記処方の物を用いた。
（定着液処方）
チオ硫酸アンモニウム ３５９．１ｇ
エチレンジアミン四酢酸 ２Ｎａ ２水塩 ０．０９ｇ
チオ硫酸ナトリウム ５水塩 ３２．８ｇ
亜硫酸ナトリウム ６４．８ｇ
ＮａＯＨ ３７．２ｇ
氷酢酸 ８７．３ｇ
酒石酸 ８．７６ｇ
グルコン酸ナトリウム ６．６ｇ
硫酸アルミニウム ２５．３ｇ
ｐＨ（硫酸または水酸化ナトリウムで調整） ４．８５
水を加えて ３リットル
【０２４５】(2) 画像のコントラスト
画像のコントラストを示す指標（ガンマ）としては、特
性曲線のｆｏｇ＋濃度０．１の点からｆｏｇ＋濃度３．
０の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値として
表した。すなわち、ガンマ＝（３．０−０．１）／〔ｌ
ｏｇ（濃度３．０を与える露光量）−（濃度０．１を与
える露光量）〕であり、ガンマ値は大きいほど硬調な写
真特性であることを示している。本実施例では、網点の
スムースネスを造核活性を合わせたところで評価する
為、促進剤の添加量により、ガンマが１８〜２０になる
ように調整した。ガンマがこれ以上になっても、これ以
下になっても、網点のスムースネスは悪化傾向になる。
性曲線のｆｏｇ＋濃度０．１の点からｆｏｇ＋濃度３．
０の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値として
表した。すなわち、ガンマ＝（３．０−０．１）／〔ｌ
ｏｇ（濃度３．０を与える露光量）−（濃度０．１を与
える露光量）〕であり、ガンマ値は大きいほど硬調な写
真特性であることを示している。本実施例では、網点の
スムースネスを造核活性を合わせたところで評価する
為、促進剤の添加量により、ガンマが１８〜２０になる
ように調整した。ガンマがこれ以上になっても、これ以
下になっても、網点のスムースネスは悪化傾向になる。
【０２４６】(3) 網点のスムースネスの評価
クロスフィールド（株）製のアルゴン光源カラースキャ
ナーＭ−６５６を使用して１００線にて５０％の平網を
塗布感材に出力し、前記の処理条件で現像処理を行い、
２００倍のルーペで網点のスムースネスを目視評価し
た。評価結果は、（良）５〜１（悪）の５点法で表１に
整理した。実用的には４点以上が必要である。
ナーＭ−６５６を使用して１００線にて５０％の平網を
塗布感材に出力し、前記の処理条件で現像処理を行い、
２００倍のルーペで網点のスムースネスを目視評価し
た。評価結果は、（良）５〜１（悪）の５点法で表１に
整理した。実用的には４点以上が必要である。
【０２４７】
【表１】
【０２４８】＜結果＞表１から、本発明の造核剤と促進
剤を併用したときのみ、網点のスムースネスが予想外に
大幅に良化することがわかる。本発明の構成により、高
ガンマで網点のスムースネスの良好なアルゴンレーザー
スキャナー用感材を得ることができた。
剤を併用したときのみ、網点のスムースネスが予想外に
大幅に良化することがわかる。本発明の構成により、高
ガンマで網点のスムースネスの良好なアルゴンレーザー
スキャナー用感材を得ることができた。
【０２４９】実施例２
＜ハロゲン化銀写真感光材料の作成＞
乳剤調整
以下の方法で乳剤Ｂを調整した。
〔乳剤Ｂ〕銀１モル当たり１mgの下記構造式のセレン増
感剤、１mgのチオ硫酸ナトリウムおよび４mgの塩化金酸
を加えて６０℃で最適感度になるように化学増感するこ
と以外は乳剤Ａと同様に調整した。
感剤、１mgのチオ硫酸ナトリウムおよび４mgの塩化金酸
を加えて６０℃で最適感度になるように化学増感するこ
と以外は乳剤Ａと同様に調整した。
【０２５０】
【化１０１】
【０２５１】塗布試料の作成
実施例１のＥＭ層の増感色素の代わりに下記の化合物
（Ｓ−３）を銀１モルあたり２．１×１０-4モル添加す
ること、ＥＭ層の乳剤として乳剤Ｂを使用したこと以外
は実施例１と同様にして試料を作成した。
（Ｓ−３）を銀１モルあたり２．１×１０-4モル添加す
ること、ＥＭ層の乳剤として乳剤Ｂを使用したこと以外
は実施例１と同様にして試料を作成した。
【０２５２】
【化１０２】
【０２５３】＜写真性能の評価＞
(1) 露光、現像処理
上記の試料を６３３ｎｍにピークを持つ干渉フィルター
を介し、ステップウェッジを通して発光時間１０-6ｓｅ
ｃのキセノンフラッシュ光で露光した。実施例１に記載
の現像液Ａを用いて３５℃で３０秒間現像をした後、定
着（実施例１と同じ）、水洗、乾燥処理を行った。
を介し、ステップウェッジを通して発光時間１０-6ｓｅ
ｃのキセノンフラッシュ光で露光した。実施例１に記載
の現像液Ａを用いて３５℃で３０秒間現像をした後、定
着（実施例１と同じ）、水洗、乾燥処理を行った。
【０２５４】画像のコントラスト、および網点のスムー
スネスの評価は、実施例１と同様に行った。但し、露光
には、サイテックス（株）製のＨｅ−Ｎｅ光源カラース
キャナー ドレブ８００を使用した。
スネスの評価は、実施例１と同様に行った。但し、露光
には、サイテックス（株）製のＨｅ−Ｎｅ光源カラース
キャナー ドレブ８００を使用した。
【０２５５】＜結果＞本発明の造核剤と促進剤を用いる
ことにより、高ガンマで網点のスムースネスの良好なヘ
リウムネオンレーザースキャナー用感材を得ることがで
きた。
ことにより、高ガンマで網点のスムースネスの良好なヘ
リウムネオンレーザースキャナー用感材を得ることがで
きた。
【０２５６】実施例３
＜ハロゲン化銀写真感光材料の作成＞実施例２のＥＭ層
の増感色素を下記の化合物（Ｓ−４）に変えたこと以外
は実施例２と同様にして試料を作成した。
の増感色素を下記の化合物（Ｓ−４）に変えたこと以外
は実施例２と同様にして試料を作成した。
【０２５７】
【化１０３】
【０２５８】＜写真性能の評価＞上記の試料を７８０ｎ
ｍにピークを持つ干渉フィルターを介し、ステップウェ
ッジを通して発光時間１０-6ｓｅｃのキセノンフラッシ
ュ光で露光した。、実施例１に記載の現像液Ａを用いて
３５℃で３０秒間現像をした後、定着（実施例１と同
じ）、水洗、乾燥処理を行った。画像のコントラストの
評価、網点のスムースネスの評価は、実施例１と同様に
行った。但し、露光には、富士写真フイルム（株）製の
ＬＤ光源カラースキャナーラックススキャン４５００を
使用した。 ＜結果＞本発明の造核剤と促進剤を用いることにより、
高ガンマで網点のスムースネスの良好な半導体レーザー
スキャナー用感材を得ることができた。
ｍにピークを持つ干渉フィルターを介し、ステップウェ
ッジを通して発光時間１０-6ｓｅｃのキセノンフラッシ
ュ光で露光した。、実施例１に記載の現像液Ａを用いて
３５℃で３０秒間現像をした後、定着（実施例１と同
じ）、水洗、乾燥処理を行った。画像のコントラストの
評価、網点のスムースネスの評価は、実施例１と同様に
行った。但し、露光には、富士写真フイルム（株）製の
ＬＤ光源カラースキャナーラックススキャン４５００を
使用した。 ＜結果＞本発明の造核剤と促進剤を用いることにより、
高ガンマで網点のスムースネスの良好な半導体レーザー
スキャナー用感材を得ることができた。
【０２５９】実施例４
＜ハロゲン化銀写真感光材料の作成＞実施例２のＥＭ層
の増感色素を下記の化合物（Ｓ−５）に変えたこと以外
は実施例２と同様にして試料を作成した。
の増感色素を下記の化合物（Ｓ−５）に変えたこと以外
は実施例２と同様にして試料を作成した。
【０２６０】
【化１０４】
【０２６１】＜写真性能の評価＞上記の試料をステップ
ウェッジを通して３２００°Ｋのタングステン光で露光
した。実施例１に記載の現像液Ａを用いて３５℃で３０
秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を行った。定着
液としてはＧＲ−Ｆ１（富士写真フイルム株式会社製）
を用いた。画像のコントラストの評価は、実施例１と同
様に行った。網点のスムースネスの評価は、コンタクト
スクリーンを通して、タングステン光で露光した感材を
２００倍ルーペで観察した。
ウェッジを通して３２００°Ｋのタングステン光で露光
した。実施例１に記載の現像液Ａを用いて３５℃で３０
秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処理を行った。定着
液としてはＧＲ−Ｆ１（富士写真フイルム株式会社製）
を用いた。画像のコントラストの評価は、実施例１と同
様に行った。網点のスムースネスの評価は、コンタクト
スクリーンを通して、タングステン光で露光した感材を
２００倍ルーペで観察した。
【０２６２】＜結果＞本発明の造核剤と促進剤を用いる
ことにより、高ガンマで網点のスムースネスの良好な撮
影感材を得ることができた。
ことにより、高ガンマで網点のスムースネスの良好な撮
影感材を得ることができた。
【０２６３】実施例５
実施例１〜４で使用した現像液Ａのかわりに、下記現像
液Ｂ、Ｃを使用して、実施例１〜４で作成した感材をそ
れぞれの実施例の条件で現像処理を行った。
液Ｂ、Ｃを使用して、実施例１〜４で作成した感材をそ
れぞれの実施例の条件で現像処理を行った。
【０２６４】
現像液Ｂ
水酸化カリウム 35 ｇ
ジエチレントリアミン５酢酸 2 ｇ
炭酸カリウム 100 ｇ
臭化カリウム 3 ｇ
５−メチルベンゾトリアゾール 0.08ｇ
２−メルカプトベンツイミダゾール−５−
スルホン酸ナトリウム 0.15ｇ
２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−
２−チオキソ−４−（１Ｈ）−キナゾリノン 0.03ｇ
メタ重亜硫酸ナトリウム 54ｇ
４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェ
ニル−３−ピラゾリドン 0.45ｇ
ハイドロキノン 30ｇ
エリソルビン酸ナトリウム 3ｇ
水を加えて 1 リットル
ｐＨを調整して 10.5
【０２６５】
現像液Ｃ
水酸化ナトリウム 10.0 ｇ
ジエチレントリアミン五酢酸 1.5 ｇ
炭酸カリウム 15.0 ｇ
臭化カリウム 3.0 ｇ
５−メチルベンゾトリアゾール 0.10ｇ
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール 0.02ｇ
亜硫酸カリウム 10.0 ｇ
２−メルカプトベンツイミダゾール−５−ス
ルホン酸ナトリウム 0.15ｇ
４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェ
ニル−３−ピラゾリドン 0.40ｇ
エリソルビン酸ナトリウム 30.0 ｇ
水酸化カリウムを加えて、水を加えて１リットルとし
ｐＨを１０．７に合わせる。
【０２６６】また、現像液Ｂは保存形態が固形のものか
ら調整した。固形処理剤の製造方法は、プラスチック物
質にコーティングしたアルミニウム箔よりなる袋に現像
液の成分を固体で積層にして詰めた。積層の順序は上か
ら、 第一層 ハイドロキノン 第二層 その他の成分 第三層 重亜硫酸ナトリウム 第四層 炭酸カリウム 第五層 水酸化カリウムペレット にし、慣用の方法で排気し、系内を真空にしてシールし
た。
ら調整した。固形処理剤の製造方法は、プラスチック物
質にコーティングしたアルミニウム箔よりなる袋に現像
液の成分を固体で積層にして詰めた。積層の順序は上か
ら、 第一層 ハイドロキノン 第二層 その他の成分 第三層 重亜硫酸ナトリウム 第四層 炭酸カリウム 第五層 水酸化カリウムペレット にし、慣用の方法で排気し、系内を真空にしてシールし
た。
【０２６７】＜結果＞実施例１〜４の現像処理に、上記
現像液Ｂ、Ｃを用いても、同様の結果が得られた。
現像液Ｂ、Ｃを用いても、同様の結果が得られた。
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03C 1/06 501
G03C 1/295
G03C 5/29
G03C 1/035
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体上に、少なくとも１層の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層および／またはその
他の親水性コロイド層に、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）ま
たは（Ｃ）で表される少なくとも一種のヒドラジン系造
核剤と、造核促進剤を含有するハロゲン化銀写真感光材
料を、ｐＨ９．５以上１１．０未満の現像液を用いて現
像処理することを特徴とする、ハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。一般式（Ａ） 【化１】 （式中、Ｒ 1 はアルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表し、Ｌ 1 は電子吸引基を有する２価の連結基を表
し、Ｙ 1 はアニオン性基を表す。） 一般式（Ｂ） 【化２】 （式中、Ｒ 2 はアルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表し、Ｌ 2 は２価の連結基を表し、Ｙ 2 はアニオン
性基を表す。） 一般式（Ｃ） 【化３】 （式中、Ｘ 3 はベンゼン環に置換可能な基を表し、Ｒ 3
はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミノ基を表し、
Ｙ 3 はアニオン性基を表す。ｍ 3 は０から４の整数であ
り、ｎ 3 は１また は２である。ｎ 3 が１のときＲ 3 は電
子吸引性基を有する。） - 【請求項２】 支持体上に、少なくとも１層の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層および／またはその
他の親水性コロイド層に、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）ま
たは（Ｃ）で表される少なくとも一種のヒドラジン系造
核剤と、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（６）および（７）で表される化合物から選ば
れる少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料を、ｐＨ９．５以上１１．
０未満の現像液を用いて現像処理することを特徴とす
る、ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式（１） 【化４】 （式中、Ｙはハロゲン化銀に吸着する基を表す。Ｘは水
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子または原子群よりなる２価の連結基を表
す。Ａは２価の連結基を表す。Ｂはアミノ基、含窒素ヘ
テロ環を表し、アミノ基は置換されていてもよい。ｍは
１、２または３を表し、ｎは０または１を表す。） 一般式（２） 【化５】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は各々水素原子または脂肪族残基を
表す。Ｒ1 とＲ2 は互いに結合して環を形成してもよ
い。Ｒ3 は２価の脂肪族基を表す。Ｘ1 は窒素、酸素も
しくは硫黄原子を含む２価のヘテロ環を表す。ｎは０ま
たは１を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ
土類金属、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩ま
たは、アミジノ基を表す。） 一般式（３） 【化６】 （式中、Ｒ11およびＲ12は各々水素原子、炭素数１〜３
０のアルキル基、炭素数３〜３０のアルケニル基または
炭素数７〜３０のアラルキル基を表す。また、Ｒ11とＲ
12は同時に水素原子を表すことはなく、互いに結合して
環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は各々水素原子または炭素
数１〜４のアルキル基を表す。） 一般式（４） 【化７】 （Ｒ11とＲ12は、それぞれ独立に、一般式（３）におけ
ると同じであり、Ｒ11′とＲ12′はＲ11とＲ12と同意義
を表す。） 一般式（５） 【化８】 （Ｘ、Ｙ、Ｂは一般式（１）におけると同じであり、Ａ
o は少なくとも２つのアルキレンオキシユニットを有す
る２価の連結基を表す。ｍは１、２または３を表し、ｎ
は０または１を表す。） 一般式（６） 【化９】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれぞれアルキル基、アルケ
ニル基、またはアルキニル基を表し、Ｒ1 とＲ2 で環を
形成してもよい。Ｒ3 は水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基またはヘ
テロ環基を表す。Ｌ1 は２価の連結基を表し、Ｘは 【化１０】 を表す。Ｌ2 はアルキレン基またはアルケニレン基を表
し、Ｙはカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基ま
たはホスホリル基を表す。Ｌ3 は 【化１１】 を表す。Ｚ1 、Ｚ2 およびＺ3 はそれぞれ水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基ま
たはヘテロ環基を表す。ｎは０または１を表す。） 一般式（７） 【化１２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ置換されて
もよいアルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基
を表す。但し、一般式（７）の化合物は、チオエーテル
基および 【化１３】 の部分構造を少なくとも１つ有する。Ｙは置換されても
よいアルキレン基、置換されてもよいアルケニレン基ま
たは置換されてもよいアリーレン基を表し、ｐは１以上
の整数を表す。） 一般式（Ａ） 【化１４】 （式中、Ｒ 1 はアルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表し、Ｌ 1 は電子吸引基を有する２価の連結基を表
し、Ｙ 1 はアニオン性基を表す。） 一般式（Ｂ） 【化１５】 （式中、Ｒ 2 はアルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表し、Ｌ 2 は２価の連結基を表し、Ｙ 2 はアニオン
性基を表す。） 一般式（Ｃ） 【化１６】 （式中、Ｘ 3 はベンゼン環に置換可能な基を表し、Ｒ 3
はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミノ基を表し、
Ｙ 3 はアニオン性基を表す。ｍ 3 は０から４の整数であ
りｎ 3 は１または２である。ｎ 3 が１のときＲ 3 は電子
吸引性基を有する。） - 【請求項３】 該ハロゲン化銀乳剤が塩化銀含有率５０
モル％以上で、かつ化学増感されていることを特徴とす
る請求項１または２に記載のハロゲン化銀写真感光材料
処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15119495A JP3440165B2 (ja) | 1995-02-03 | 1995-05-26 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3781795 | 1995-02-03 | ||
| JP7-37817 | 1995-02-03 | ||
| JP15119495A JP3440165B2 (ja) | 1995-02-03 | 1995-05-26 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08272023A JPH08272023A (ja) | 1996-10-18 |
| JP3440165B2 true JP3440165B2 (ja) | 2003-08-25 |
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ID=26376961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15119495A Expired - Fee Related JP3440165B2 (ja) | 1995-02-03 | 1995-05-26 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3440165B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4086554B2 (ja) | 2002-01-30 | 2008-05-14 | 富士フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1995
- 1995-05-26 JP JP15119495A patent/JP3440165B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08272023A (ja) | 1996-10-18 |
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