JP3431614B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマディスプレイパネル及び表示装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表示デバイスに用いる
プラズマディスプレイパネルに関し、特に詳細なセル構
造のプラズマディスプレイパネルに適した製造方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハイビジョンをはじめとする高品
位で大画面のテレビに対する期待が高まっている中で、
ＣＲＴ，液晶ディスプレイ（ＬＣＤ），プラズマディス
プレイパネル（Plasma Display Panel，以下ＰＤＰと記
載する）といった各ディスプレイの分野において、これ
に適したディスプレイの開発が進められている。

【０００３】従来からテレビのディスプレイとして広く
用いられているＣＲＴは、解像度・画質の点で優れてい
るが、画面の大きさに伴って奥行き及び重量が大きくな
る点で４０インチ以上の大画面には不向きである。ま
た、ＬＣＤは、消費電力が少なく、駆動電圧も低いとい
う優れた性能を有しているが、大画面を作製するのに技
術上の困難性があり、視野角にも限界がある。

【０００４】これに対して、ＰＤＰは、小さい奥行きで
大画面を実現することが可能であって、既に４０インチ
クラスの製品も開発されている。ＰＤＰは一般的に、表
面に電極を配したフロントカバープレートとバックプレ
ートとが、電極を対向した状態で平行に配され、両プレ
ート間の間隙は隔壁で仕切られ、隔壁と隔壁との間の溝
に赤，緑，青の蛍光体層が形成されると共に放電ガスが
封入された構成であって、その製造は、隔壁を配設した
バックプレートの溝に蛍光体層を形成し、その上にフロ
ントカバープレートを重ねて放電ガスを封入することに
よって行う。そして、駆動回路で電極に印加して駆動を
行うようになっている。

【０００５】ＰＤＰの発光原理は、基本的に蛍光灯と同
様であって、駆動回路が電極に印加して放電すると放電
ガスから紫外線が放出され、蛍光体層の蛍光体粒子
（赤，緑，青）がこの紫外線を受けて励起発光するが、
放電エネルギが紫外線へ変換する効率や、蛍光体におけ
る可視光への変換効率が低いので、蛍光灯のように高い
輝度を得ることは難しい現状である。

【０００６】ＰＤＰは駆動方式によって直流型（ＤＣ
型）と交流型（ＡＣ型）とに大別される。ＤＣ型では電
極が放電空間に露出しているのに対して、ＡＣ型では電
極上に誘電体ガラス層が配設されている。また隔壁の形
状も違いがあって、一般的にＡＣ型では隔壁がストライ
プ状に配設されているのに対して、ＤＣ型では隔壁が井
桁状に配設されている。この点で、ＡＣ型の方が微細な
セル構造のパネルを形成するのに適している。

【０００７】ところで、ディスプレイの高品位化に対す
る要求が高まるにつれて、ＰＤＰにおいても微細なセル
構造のものが望まれている。例えば、従来のＮＴＳＣで
はセル数が６４０×４８０で、４０インチクラスではセ
ルピッチが０．４３ｍｍ×１．２９ｍｍ、１セル面積が
約０．５５ｍｍ²であったが、フルスペックのハイビジ
ョンテレビの画素レベルでは、画素数が１９２０×１１
２５となり、４２インチクラスでのセルピッチは０．１
５ｍｍ×０．４８ｍｍ、１セルの面積は０．０７２ｍｍ
²の細かさとなる。

【０００８】このような詳細なセル構造のＰＤＰを実用
化するためには、従来よりもセルの発光効率を高める必
要があり、そのために、蛍光体の改良等の研究がなされ
ている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このような背景のもと
に、蛍光体層の形成に関して以下のような課題がある。
蛍光体層を形成する方法としては、図２５に示すように
スクリーン印刷法で蛍光体ペーストを隔壁間の凹部に充
填して焼成する方法が多く用いられているが、微細なセ
ル構造のＰＤＰに対しては、スクリーン印刷法は適用が
難しい。

【００１０】即ち、セルピッチが０．１〜０．１５ｍｍ
程度の場合、隔壁間の溝幅は０．０８〜０．１ｍｍ程度
と非常に狭くなってしまうが、スクリーン印刷で用いる
蛍光体インキは粘度が高いので（通常、数万センチポイ
ズ）、狭い隔壁間に精度良く高速に蛍光体インキを流し
込むことは困難である。また、微細な構造のスクリーン
板を作成することも困難である。

【００１１】また、高い発光効率のＰＤＰを得るために
は、バックプレートの表面上だけでなく隔壁の側面にも
蛍光体層が配設され且つ放電空間が確保されるような構
成とすることが望ましいということができる。スクリー
ン印刷法でもってこのような望ましい形状の蛍光体層を
形成しようとすれば、蛍光体ペーストの粘度等の印刷条
件を調整するなどしてプレートの表面及び隔壁の側面に
蛍光体ペーストを適量づつ付着させる必要があるが、好
適な印刷条件に調整することは難しく、実際にはなかな
か隔壁の側面に蛍光体ペーストが付着しにくいという問
題がある。

【００１２】スクリーン印刷法以外の蛍光体層の形成方
法として、フォトレジストフィルム法やインキジェット
法も知られている。フォトレジストフィルム法は、特開
平６−２７３９２５号公報に開示されているように、各
色蛍光体を含む紫外線感光性樹脂のフィルムを、隔壁と
隔壁の間に埋め込み、該当する色の蛍光体層を形成しよ
うとする部分だけに露光現像を施し、露光しない部分を
洗い流す方法であって、この方法によれば、セルピッチ
が小さい場合にも、ある程度精度良く隔壁間にフィルム
を埋め込むことが可能である。しかしながら、３色各色
について、フィルムの埋め込み，露光現像及び洗い流し
を順次行う必要があるため、製造工程が複雑であると共
に混色が生じやすいという問題があり、更に、蛍光体は
比較的高価であるにもかかわらず洗い流された蛍光体を
回収することは困難なためコスト高になるという問題も
ある。

【００１３】一方、インキジェット法は、特開昭５３−
７９３７１号公報や特開平８−１６２０１９号公報に開
示されているように、蛍光体と有機バインダーからなる
インキ液を加圧してノズルから噴射させながら走査する
ことにより、所望のパターンでインキ液を絶縁基板上に
付着させる方法であって、狭い隔壁間の凹部にも精度良
くインキを塗布することが可能である。

【００１４】しかしながら、このような従来のインキジ
ェット法では、噴射されたインキが液滴となって間欠的
に付着するので、隔壁がストライプ状に配設されている
場合、隔壁間の溝に一定の膜厚で塗布することが難し
い。また、スクリーン印刷法と同様、インキ液が凹部の
底面に集中して付着し側面には付着しにくいという問題
がある。

【００１５】ところで、このようなＰＤＰにおいて、隔
壁間の凹部に先ず反射層を形成し、その反射層の上に蛍
光体層を形成することによってパネル輝度を向上させる
技術も知られている（例えば、特開平４−３３２４３０
号公報）。反射層の形成方法としては、蛍光体層と同
様、反射材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布
することによって形成する方法が知られているが、蛍光
体層の形成と同様の問題、即ち、反射材ペーストが詳細
なセル構造に適用しにくく、隔壁の側面に付着しにくい
という問題がある。

【００１６】また、蛍光体層や反射層の形成に関して
は、蛍光体や反射体材料が隔壁の上面に付着しやすいと
いう問題もある。この場合、バックプレートとフロント
カバープレートを封着する際に、隔壁の上部とフロント
カバープレートとの密着性が損なわれやすくなる。ま
た、ＰＤＰにおいては、電極形成に関する問題もある。
即ち、従来のＰＤＰにおいて、表示電極やアドレス電極
は、巾が１３０μｍ〜１５０μｍ程度であって、通常、
スクリーン印刷法で形成されているが、上述のようにハ
イビジョンテレビの画素レベルの場合は電極幅を７０μ
ｍ程度にする必要があり、更に高精細度の２０インチの
ＳＸＧＡ（画素数が１２８０×１０２４）では電極幅を
５０μｍ前後とする必要があるので、スクリーン印刷法
で電極を形成するのは困難である。

【００１７】本発明は、上記課題に鑑み、隔壁の側面に
対しても容易に蛍光体層や反射層を形成することのでき
るＰＤＰの製造方法を提供することを第１の目的とす
る。また、蛍光体層や反射層を形成する際に、蛍光体や
反射体が隔壁の上面に付着するのを防止することを第２
の目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るため、本発明は、隔壁間に凹部が形成されたプレート
を作成する工程において、凹部の底面より側面の方が、
蛍光体インキあるいは反射材インキに対する吸着力が大
きくなるよう形成することとした。また、上記第２の目
的は、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工
程において、隔壁の上面より側面の方が、蛍光体インキ
或は反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成
することによって達成できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】〔実施の形態１〕 （ＰＤＰの全体的な構成及び製法について）図１は、本
発明の一実施の形態に係る交流面放電型ＰＤＰの概略断
面図である。図１ではセルが１つだけ示されているが、
赤，緑，青の各色を発光するセルが交互に多数配列され
てＰＤＰが構成されている。

【００２０】このＰＤＰは、前面ガラス基板１１上に放
電電極１２と誘電体ガラス層１３が配された前面パネル
と、背面ガラス基板１５上にアドレス電極１６，隔壁１
７，蛍光体層１８が配された背面パネルとを張り合わ
せ、前面パネルと背面パネルの間に形成される放電空間
１９内に放電ガスが封入された構成となっており、この
ＰＤＰは、図２に示す駆動回路によって、放電電極１２
とアドレス電極１６に印加して駆動するようになってい
る。

【００２１】なお、図１では、便宜上、放電電極１２が
断面で表示されているが、実際には、放電電極１２はア
ドレス電極１６と直交マトリックスを組むように、図１
の紙面に沿った方向に配設されている。 前面パネルの作製：前面パネルは、前面ガラス基板１１
上に放電電極１２を形成し、その上を鉛系の誘電体ガラ
ス層１３で覆い、更に誘電体ガラス層１３の表面に保護
層１４を形成することによって作製する。

【００２２】放電電極１２は銀からなる電極であって、
電極用の銀ペーストをスクリーン印刷し焼成することに
よって形成する従来の方法で形成することもできるが、
本実施形態では、後述するようにインキジェット方式を
用いて形成する。誘電体ガラス層１３は、例えば、７０
重量％の酸化鉛［ＰｂＯ］，１５重量％の酸化硼素［Ｂ
₂Ｏ₃］，１０重量％の酸化硅素［ＳｉＯ₂］及び５重量
％の酸化アルミニウムと有機バインダ［α − ターピネ
オールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの］と
を混合してなる組成物を、スクリーン印刷法で塗布した
後、５２０℃で２０分間焼成することによって膜厚約３
０μｍに形成する。

【００２３】保護層１４は、酸化マグネシウム（Ｍｇ
Ｏ）からなるものであって、例えば、スパッタリング法
によって０．５μｍの膜厚に形成する。 背面パネルの作製：背面ガラス基板１５上に、放電電極
１２と同様にインキジェット方式を用いて、アドレス電
極１６を形成する。

【００２４】次に、ガラス材料をくり返しスクリーン印
刷した後、焼成することによって隔壁１７を形成する。
そして、隔壁１７の間の溝に蛍光体層１８を形成する。
この蛍光体層１８の形成方法については後で詳述する
が、ノズルから蛍光体インキを連続的に噴射しながら走
査する方法で蛍光体インキを塗布し、焼成することによ
って形成する。

【００２５】なお、本実施形態では、４０インチクラス
のハイビジョンデレビに合わせて、隔壁の高さは０．１
〜０．１５ｍｍ、隔壁のピッチは０．１５〜０．３ｍｍ
とする。 パネル張り合わせによるＰＤＰの作製：次に、このよう
に作製した前面パネルと背面パネルとを封着用ガラスを
用いて張り合せると共に、隔壁１７で仕切られた放電空
間１９内を高真空（例えば８×１０-7Ｔｏｒｒ）に排気
した後、放電ガス（例えばＨｅ−Ｘｅ系，Ｎｅ−Ｘｅ系
の不活性ガス）を所定の圧力で封入することによってＰ
ＤＰを作製する。

【００２６】次に、ＰＤＰを駆動する回路ブロックを図
２のように実装して、ＰＤＰ表示装置を作製する。な
お、本実施形態では、放電ガスにおけるＸｅの含有量を
５体積％以上とし、封入圧力を５００〜８００Ｔｏｒｒ
の範囲に設定する。 （電極及び蛍光体層の形成方法について）図３は、放電
電極１２，アドレス電極１６及び蛍光体層１８を形成す
る際に用いるインキ塗布装置２０の概略構成図である。

【００２７】図３に示されるように、インキ塗布装置２
０において、サーバ２１には電極材インキまたは蛍光体
インキが貯えられており、加圧ポンプ２２は、このイン
キを加圧してヘッダ２３に供給する。ヘッダ２３には、
インキ室２３ａ及びノズル２４が設けられており、加圧
されてインキ室２３ａに供給されたインキは、ノズル２
４から連続的に噴射されるようになっている。

【００２８】このヘッダ２３は、金属材料を機械加工並
びに放電加工することによって、インキ室２３ａやノズ
ル２４の部分も含めて一体成形されたものである。電極
材インキは、電極材料である銀粒子が、ガラス粒子、バ
インダ及び溶剤成分等と共に適度な粘度となるように調
合されたものである。蛍光体インキは、各色蛍光体粒
子、シリカ、バインダ、溶剤成分等が適度な粘度となる
ように調合されたものである。

【００２９】蛍光体インキを構成する蛍光体粒子として
は、一般的にＰＤＰの蛍光体層に使用されているものを
用いることができる。その、その具体例としては、 青色蛍光体： ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺ 緑色蛍光体： ＢａＡｌ₁₂Ｏ₁₉：ＭｎあるいはＺｎ₂Ｓ
ｉＯ₄：Ｍｎ 赤色蛍光体： （Ｙ_xＧｄ_1-x）ＢＯ₃：Ｅｕ³⁺あるいはＹ
ＢＯ₃：Ｅｕ³⁺ を挙げることができる。

【００３０】ノズルの目づまりや粒子の沈殿を抑制する
ために、電極材インキに用いる銀粒子及びガラス粒子並
びに蛍光体インキに用いる蛍光体粒子の平均粒径は５μ
ｍ以下とするのがよい。また、蛍光体が良好な発光効率
を得るために、蛍光体の平均粒径は０．５μｍ以上とす
るのがよい。従って、ここでは、銀粒子、ガラス粒子及
び蛍光体は、０．５〜５μｍ（２〜３μｍ）の範囲にあ
るものを用いる。

【００３１】また、蛍光体インキの粘度は２５℃で１０
００センチポアズ以下（１０〜１０００センチポアズ）
の範囲内に、電極材インキは１００〜１０００センチポ
アズに調整することが望ましい。添加剤としてのシリカ
の粒径は０．０１〜０．０２μｍで、添加量は１〜１０
重量％が好ましく、更に、分散剤を０．１〜５重量％，
可塑剤を０．１〜１重量％添加することが望ましい。

【００３２】ノズル２４の口径は、ノズルの目詰まりを
防止するために４５μｍ以上で、隔壁１７間の溝幅Ｗよ
りも小さく、通常は４５〜１５０μｍ範囲に設定するこ
とが望ましい。なお、サーバ２１内では、インキ中の粒
子（電極材料や蛍光体粒子など）が沈殿しないように、
サーバ２１内に取り付けられた撹拌機（不図示）でイン
キが混合撹拌されながら貯蔵されている。

【００３３】加圧ポンプ２２の加圧力は、ノズル２４か
ら噴射されるインキの流れが連続流となるように調整す
る。ヘッダ２３は、前面ガラス基板１１又は背面ガラス
基板１５上を走査されるようになっている。このヘッダ
２３の走査は、本実施の形態ではヘッダ２３を直線駆動
するヘッダ走査機構（不図示）によってなされるが、ヘ
ッダ２３を固定してガラス基板を直線駆動してもよい。

【００３４】ヘッダ２３を走査しながら、ノズル２４か
らインキを連続的なインキ流２５（ジェットライン）を
形成するように噴射することによって、ガラス基板上に
インキがライン状に均一的に塗布される。なお、インキ
塗布装置２０において、図４に示すように、ヘッダ２３
に複数のノズルを設置し、各ノズルから並行してインキ
を噴射しながら走査するような構成とするもできる（図
４において、矢印Ａが走査方向）。このように複数のノ
ズル２４を設ければ、１回の操作で複数のインキのライ
ン２５を塗布することができる。

【００３５】このようにして、インキ塗布装置２０を用
いて、前面ガラス基板１１上に電極材インキを塗布する
ことにより放電電極１２を形成し、背面ガラス基板１５
上に電極材インキを塗布することによりアドレス電極１
６を形成する。なお、このように形成された放電電極１
２及びアドレス電極１６は、誘電体ガラス層１３及び隔
壁１７の焼成時に、共に焼成される。

【００３６】一方、インキ塗布装置２０による蛍光体イ
ンキの塗布は、背面ガラス基板１５上を隔壁１７に沿っ
て、赤，青，緑の各色ごとに行う。そして、赤，緑，青
の蛍光体インキを順に所定の溝に塗布して乾燥した後、
パネルを焼成（約５００℃で１０分間）することによっ
て、蛍光体層１８が形成される。このように、蛍光体層
１８は、従来のインキジェット法のようにインキが液滴
となって塗布されるのではなく、インキが連続的に塗布
されて形成されたものなので、層の厚さが均一的であ
る。

【００３７】なお、このようなインキ塗布装置におい
て、１つのヘッダに赤，青，緑の３つのインキ室及び各
色のノズルを設けて、３色の蛍光体インキを並行して噴
射するような構成にすれば、一回の走査で３色の蛍光体
インキを塗布することもできる。 〔実施の形態２〕本実施の形態のＰＤＰの構成及び製法
は、実施の形態１と同様であるが、蛍光体層の形成方法
に若干の違いがある。以下、背面ガラス基板１５の隔壁
間の溝への蛍光体層の形成方法について説明する。

【００３８】図５は、本実施形態で蛍光体層１８を形成
する際に用いるインキ塗布装置の概略構成図である。ま
た、図６はその塗布動作を示す部分拡大斜視図である。
このインキ塗布装置２０も、実施の形態１で用いる装置
と同様のものであって、サーバ２１には蛍光体インキが
貯えられており、加圧ポンプ２２は、この蛍光体インキ
を加圧してヘッダ２３に供給する。またヘッダ２３に
は、インキ室２３ａ及び複数のノズル２４が設けられて
おり、加圧供給された蛍光体インキは、インキ室２３ａ
から各ノズル２４に分配されて連続的に噴射されるよう
になっている。

【００３９】ただし、本実施形態のインキ塗布装置２０
においては、各ノズル２４の噴射方向は、図５，６に示
されるように、背面ガラス基板１５に対して垂直ではな
く片方の隔壁の方に傾斜している（図７のＡではこの傾
斜角がθで表されている）。この傾斜によって、各ノズ
ル２４から噴射されるインキ流２５は、隔壁間の溝の中
央部ではなく、隔壁の側面に衝突するようになってい
る。

【００４０】従って、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝
に蛍光体インキが均一的に塗布される点は実施の形態１
と同様であるが、本実施形態では、更に隔壁１７の側面
の上部にも蛍光体インキを塗布することができるので、
より発光面積の広い蛍光体層１８を形成することができ
る。以下、図４〜７を参照しながら、インキ塗布装置２
０の動作及び効果について、更に具体的に説明する。

【００４１】インキ塗布装置２０において、ヘッダ２３
は、赤，青，緑の各色ごとに備えられ、各色のヘッダ２
３に開設されているノズル２４のピッチは、セルピッチ
の３倍に設定されており、図５，６に示されるように、
ヘッダ２３の走査に伴って２つおきの溝に蛍光体インキ
が充填されるようになっている。ヘッダ２３を図４の矢
印Ａの方向に走査しながら所定の溝に蛍光体インキを充
填した後、ヘッダ２３を回転させて端部２３ｂと端部２
３ｃの位置を入れ替えて、再び矢印Ａの方向（または矢
印Ａと逆の方向）に走査しながら上記の蛍光体インキを
充填した溝に再度蛍光体インキを充填することによっ
て、両方の隔壁の側面に蛍光体インキを付着させること
ができる。

【００４２】図７は、本実施形態の蛍光体インキの塗布
方法の効果を説明する図である。図７のＡにおいて、２
４ａは最初にヘッダ２３を走査するときのノズル２４の
姿勢を表し、２５ａはその姿勢で形成される連続的なイ
ンキ流を表しており、２４ｂは、再びヘッダ２３を走査
するときのノズル２４の姿勢を表し、２５ｂはその姿勢
で連続的に形成されるインキ流を表している。

【００４３】インキ流２５ａ並びにインキ流２５ｂは、
背面ガラス基板１５に対して垂直な方向から左右の隔壁
の方向に角度θだけ傾斜しているので、インキ流２５
ａ，２５ｂを各隔壁１７の側面上端部に衝突させた後、
当該側面を伝って底面に流れる様にすれば、各隔壁の側
面の上部まで蛍光体インキを付着させることができる。
図中の実線２６は、このようにして充填された蛍光体イ
ンキの液面を表している。

【００４４】一方、図７のＢは、ノズル２４から噴射さ
れるインキ流２５が、隔壁間の溝の中央部に、背面ガラ
ス基板１５に対して垂直にあたっている場合の様子を示
しているが、この場合、隔壁の側面に蛍光体インキが付
着されにくく、塗布された蛍光体インキの液面は図中の
実線２７のような傾向を示す。なお、本実施形態のイン
キ塗布装置２０のヘッダ２３において、インキを塗布す
る溝の両側面に向けて２つのノズル２４を配設し、２つ
のノズルから並行して蛍光体インキを噴射するようにす
れば、１回の走査で溝の両側面に蛍光体インキを付着さ
せることができる。

【００４５】〔実施の形態３〕本実施の形態のＰＤＰの
全体的な構成及び製法も、実施の形態１と同様である
が、蛍光体層の形成時における蛍光体インキの塗布方法
が異なっている。図８は、本実施の形態における蛍光体
インキの塗布方法を説明する図であって、隔壁１７に沿
って背面ガラス基板１５並びにインキ塗布装置のヘッダ
を切断した断面を表している。なお、図中矢印Ａは走査
方向を示す。

【００４６】本実施形態のインキ塗布装置は、実施の形
態１のインキ塗布装置２０と同様であるが、図８に示す
ように、ヘッダ３３には、インキ室３３ａ及び複数のノ
ズル３４に加えて、空気室３３ｂと複数の空気噴射ノズ
ル３６が設けられ、空気室３３ｂにはコンプレッサ（不
図示）から圧縮空気が送り込まれるようになっている。

【００４７】空気噴射ノズル３６は、各ノズル３４の後
方側（ヘッダ３３の走査方向に対して後方側）に配設さ
れている。このような構成のインキ塗布装置を用いるこ
とによって、ノズル３４から噴出された蛍光体インキ
は、連続的なインキ流を形成し、隔壁間の溝に塗布され
（図９のＡ参照）、その直後に、空気噴射ノズル３６か
ら噴出される空気流３７が、溝の中央部に塗布されてい
る蛍光体インキを押さえつけて（図９のＢの矢印３７ａ
参照）隔壁１７の側面方向に押しのけると共に、当該空
気流３７は、蛍光体インキの液面３８に沿って流れ（図
９のＢの矢印３７ｂ参照）、蛍光体インキを隔壁１７の
側面に沿って立ち上がらせる。

【００４８】この空気流３７は、蛍光体インキ３５を立
ち上げると共にその乾燥も行うので、側面に立ち上げら
れた蛍光体インキは側面に固定される。このようにし
て、隔壁の側面に対する蛍光体層の形成を容易に行うこ
とができる。空気流３７の幅は、隔壁間の寸法よりも小
さく設定することはもちろんであるが、空気流の運動量
は、蛍光体インキの塗布量や物性或は蛍光体インキと隔
壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。

【００４９】なお、本実施形態のインキ塗布装置におい
て、空気室３３ｂに加熱した圧縮空気を供給して、空気
噴射ノズル３６から加熱された空気を噴射するようにす
れば、空気流による蛍光体インキの乾燥力が向上し、隔
壁の側面に対する蛍光体の付着量が増大する。 〔実施の形態４〕本実施の形態は、実施の形態３と同様
であるが、蛍光体形成時において、隔壁間の溝に塗布さ
れた蛍光体インキに、空気流以外の外力を加えて隔壁の
側面に立ち上がらせる。

【００５０】図１０に示すヘッダ４３においては、ノズ
ル４４のすぐ後方にインキ撹拌ロッド４６が設けられて
いる。なお、図中矢印Ａは走査方向を示す。このヘッダ
４３を用いる場合、ノズル４４から溝に充填された蛍光
体インキ４８は、ロッド４６により隔壁の側面に押し付
けられ、この側面に沿って立ち上げられるので、側面の
上部にまで蛍光体インキが付着される。

【００５１】なお、ロッド４６のインキ液面への浸入深
さなどは、蛍光体インキの充填量や物性、或は蛍光体イ
ンキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。ま
た、図面による説明は省略するが、隔壁間の溝に蛍光体
インキを塗布した後に、ロッドを走査する代わりに、隔
壁に沿った方向に支持したワイヤを溝内に挿入して溝の
中央部に充填されている蛍光体インキを押しのけて隔壁
の側面に付着させることによっても同様の効果を得るこ
とができる。

【００５２】この他に、蛍光体インキを溝に塗布した後
に、背面ガラス基板を振動させることによって、蛍光体
インキを隔壁の側面に立ち上げたり、或は、背面ガラス
基板を反転させて、蛍光体インキが重力により隔壁の側
面を伝って流れるようにするといった方法を用いること
もでき、同様の効果を期待することができる。なお、上
記実施の形態２〜４で説明した蛍光体層の形成工程にお
いて、背面ガラス基板を加熱しながら行うと、隔壁の側
面に付着された蛍光体インキの溶剤成分が速く蒸発して
インキ流動性がなくなるので、隔壁側面への蛍光体層の
形成を更に良好に行うことができる。

【００５３】この場合、背面ガラス基板の加熱温度は、
２００℃以下とすることが望ましい。 〔実施の形態５〕本実施の形態は、実施の形態１と同様
であるが、蛍光体層の形成時において、蛍光体インキを
架橋させた状態でノズルを走査する点が異なっている。

【００５４】図１１は、本実施形態における蛍光体イン
キの塗布の様子を示す概略断面図である。インキ塗布装
置の構成は、図３のインキ塗布装置２０と同様である
が、走査時において、ノズル２４から吐出される蛍光体
インキ５０が、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝の内面
との間で表面張力によって架橋される状態を保ちながら
走査を行う。

【００５５】このようにインキを表面張力によって架橋
する状態を保つために、ノズル２４とバックプレートと
の距離を適切に保つことが必要であって、通常、この距
離を５μｍ〜１ｍｍの範囲に設定することによって、安
定した塗布を得る事ができる。ノズル２４の口径（ノズ
ル径）は、隔壁の間隔やインキの吐出量によって最適値
が存在するが、通常４５〜１５０μｍの範囲とすること
が好ましい。

【００５６】このようにインキを架橋しながらノズルを
走査すれば、ノズル２４から吐出される蛍光体インキ
は、走査速度にかかわらず、背面ガラス基板１５の隔壁
間の溝に安定して連続塗布することができる。即ち、本
実施の形態によれは、走査の速度を遅くしてもインキの
連続流を形成できるため、高速で走査するための高価な
装置は不要となる。

【００５７】従って、安価なインキ塗布装置で均一な塗
布を実現することができる。また、ノズルと隔壁の側面
との間でインキの架橋を形成しながら走査すれば、隔壁
の側面の上部にもインキを付着させることができる。蛍
光体インキとしては、上記実施の形態１で説明したもの
と同様のものを用いればよいが、インキを架橋しない状
態で塗布する場合は、高粘度の蛍光体インキや表面張力
の大きい蛍光体インキをノズルから噴出しても連続流を
形成することが難しいのに対して、本実施形態のように
架橋を形成した状態で塗布すれば、比較的高粘度の蛍光
体インキや表面張力の大きい蛍光体インキを用いても、
連続流を形成することができる。

【００５８】従って、使用する蛍光体インキの粘度や表
面張力の制約が少なくなり、インキ材料の選択幅はより
広いということができる。なお、このように蛍光体イン
キを架橋しながら塗布する方法は、図４に示した複数の
ノズル２４を持つヘッダ２３を用いて行うことも可能で
ある。また、１つのヘッダに赤，青，緑の３つのインキ
室及び各色のノズルを設けて３色の蛍光体インキを並行
して塗布するような構成にすれば、一回の走査で３色の
蛍光体インキを塗布することもできる。

【００５９】ところで、蛍光体インキを安定して連続塗
布するためには、インキの塗布を開始する前に、ノズル
先端と背面ガラス基板１５の溝との間がインキで架橋さ
れた状態を形成することが望ましい。この架橋形成の方
法として、次のようなものが考えられる。 ノズルを走査する前に、背面ガラス基板１５の端部
でノズルを一旦静止させて、ノズルからインキをある程
度吐出することによって、ノズル先端と背面ガラス基板
１５との間に架橋を形成する。

【００６０】 ノズル先端と背面ガラス基板１５の距
離を走査時の距離よりも接近させた状態で、の架橋形
成を行う。その後、走査時の距離に引き離して塗布を行
う。 まず、図１２に示されるように、背面ガラス基板１
５の端部１５ｃにインキ６０を塗布しておく。この塗布
のために、端部１５ｃにインキ６０を塗布する機構をイ
ンキ塗布装置に別個に設けてもよいが、ノズル２４を端
部１５ｃに位置させて、ノズルからインキを吐出するこ
とによって端部１５ｃに蛍光体インキ６０を塗布するこ
とができる。或は、背面ガラス基板１５をインキ塗布装
置に装着する前に、別の装置や道具を用いて、端部１５
ｃにインキ６０を塗布しておいてもよい。

【００６１】次に、ノズル先端をインキ６０に接触させ
て架橋を形成する。引き続き、ノズルを走査させながら
ノズルからインキ吐出させて塗布する。この方法によれ
ば、架橋の形成と塗布の動作を連続的に行うことができ
る。 〔実施の形態６〕図１３は、本実施の形態における蛍光
体インキの塗布の様子を示す図である。

【００６２】本実施の形態は、実施の形態５と同様であ
って、蛍光体インキを架橋した状態で塗布するが、隔壁
間の溝にノズルを挿入した状態で塗布を行う。このよう
に、ノズル２４を溝の中に挿入した状態で走査すること
により、実施の形態５と同様、インキを架橋した状態で
均一的に溝に塗布することができる。更に、ノズル２４
が溝の中央部に存在するインキを押しのけ、隔壁の側面
の上部にまでインキを付着させる働きもなすので、隔壁
側面に蛍光体層を形成しやすい。

【００６３】ノズル２４の外径は隔壁間の距離よりも小
さいことはもちろんであるが、ノズル２４のインキ液面
への浸入深さなどは、蛍光体インキの充填量や物性、或
は蛍光体インキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整
する。 〔実施の形態７〕本実施形態のＰＤＰの構成及び製法
は、実施の形態１のＰＤＰと同様であるが、隔壁１７及
び蛍光体層１８の形成方法に違いがある。

【００６４】即ち、本実施形態では、蛍光体インキの隔
壁１７の側面に対する接触角が、９０°以下であって且
つ凹部（溝）の底面に対する接触角よりも小さくなるよ
うに、隔壁を形成する材料を選択して隔壁１７を形成す
る。このように調整することによって、蛍光体インキが
隔壁１７の側面に付着しやすくなる。隔壁１７は、スク
リーン印刷法などの方法で作製することができるが、以
下に説明するように、溶射法によって形成することもで
きる。

【００６５】図１４は、溶射法による隔壁の形成方法の
説明図である。まず、アドレス電極１６を形成した背面
ガラス基板１５（図１４のＡ）の表面を、アクリル系感
光樹脂でできたドライフィルム８１で覆う（図１４の
Ｂ）。フォトリソグラフィによって、このドライフィル
ム８１をパターニングする。即ち、ドライフィルム８１
の上にフォトマスク８２を被せて、隔壁を形成しようと
する部分だけに紫外光（ＵＶ）を照射し（図１４の
Ｃ）、現像することによって、隔壁を形成する部分のド
ライフィルム８１を除去し、隔壁を形成しない部分だけ
にドライフィルム８１のマスクを形成する（図１４のＤ
参照）。なお、現像は、１％程度のアルカリ水溶液（具
体的には炭酸ナトリウム水溶液）中で行う。

【００６６】そして、これに隔壁の原材料であるアルミ
ナとガラスの混合物をプラズマ溶射する。図１５は、プ
ラズマ溶射についての説明図である。このプラズマ溶射
装置９０では、陰極９１と陽極９２の間に電圧を印可し
て、陰極９１の先端にアーク放電を発生させ、その中に
アルゴンガスとを送り込み、プラズマジェットを発生さ
せる。そして、原材料（アルミナとガラスの混合物）の
粉末をこの中に送り込んで、原材料をプラズマジェット
の中で溶融して基板１５の表面に吹き付ける。これによ
って、基板１５の表面には、原材料の膜８４が形成され
る。

【００６７】このようにして、膜８４が形成された基板
１５（図１４のＥ）を、剥離液（水酸化ナトリウム溶
液）に浸して、ドライフィルム８１のマスクを除去する
（リフトオフ法）。これに伴って、原材料の膜８４の
中、ドライフィルム８１のマスク上に形成された部分８
４ｂは除去され、基板１５上に直接形成された部分８４
ａだけが残り、これが隔壁１７となる（図１４のＦ）。

【００６８】上述のように、蛍光体インキの基板１５に
対する接触角よりも隔壁１７に対する接触角が小さくな
るよう、アルミナとガラスの混合物で隔壁１７を形成す
ることによって、隔壁の側面１７０ｂ（図１７のＡ参
照）の蛍光体インキに対する吸着力を、凹部の底面１７
０ａ（図１７のＡ参照）の蛍光体インキに対する吸着力
よりも大きくすることができる。なお、隔壁の材料とし
て、この他に、アルミナ、ジルコニア、ジルコニアとガ
ラスとの混合物を用いても蛍光体インキに対する吸着力
を同様に調整することが可能である。

【００６９】図１６は、蛍光体層１８を形成する際に用
いるインキ塗布装置１００の概略構成図である。このイ
ンキ塗布装置１００は、図３のインキ塗布装置２０と同
様の構成であって、ヘッダ１０３には、複数の突出した
ノズル２４が設けられており、蛍光体インキはインキ室
１０３ａから各ノズル２４に分配されて連続的に吐出さ
れるようになっている。

【００７０】用いる蛍光体インキとしては、実施の形態
１で説明したものと同様のものを用いればよいが、凹部
の側面１７０ｂに付着しやすいような組成とするのが好
ましく、バインダとしてエチルセルロースを０．１〜１
０重量％用い、溶剤としてターピネオール（Ｃ₁₀Ｈ
₁₈Ｏ）を用いると比較的良好な結果を得る。また、これ
以外に、用いる溶剤としてはジエチレングリコールメチ
ルエーテルなどの有機溶剤や水を挙げる事ができ、バイ
ンダーとしては、ＰＭＭＡやポリビニルアルコールなど
の高分子を挙げる事ができる。

【００７１】ノズル２４の口径は、隔壁１７間の溝幅Ｗ
よりも小さく、通常は１５０μｍ以下に、またノズルの
目詰まりを防止するために４５μｍ以上に設定する。こ
のインキ塗布装置１００を用いて、以下のように、ノズ
ル２４と凹部１７０の内面との間で蛍光体インキを架橋
させながら蛍光体インキを塗布する。まず、ヘッダ１０
３を背面ガラス基板１５の端部に位置させ、ノズル２４
と背面ガラス基板１５の凹部１７０の内面とを十分に接
近させるか接触させて、ノズル２４から少量の蛍光体イ
ンキを吐出することによって、蛍光体インキの表面張力
で架橋を形成する。

【００７２】続いて、ヘッダ１０３を走査しながら、加
圧ポンプ２２を作動してノズル２４から蛍光体インキを
連続的に吐出することによって、背面ガラス基板１５の
凹部１７０に蛍光体インキを塗布する。このとき、ノズ
ル２４と底面１７０ａとの距離を小さく（通常１ｍｍ以
下）維持し、背面ガラス基板１５の凹部１７０の内面と
ノズル２４の間に形成されている蛍光体インキの表面張
力による架橋を維持しながら走査する。

【００７３】なお、走査中は、ノズル２４と背面ガラス
基板１５とが接触しないようにすることが望ましいが、
背面ガラス基板１５の凹部１７０の表面には若干の凹凸
が存在するので、ノズル２４と凹部１７０の底面１７０
ａとの間隔を５μｍ以上とすることが望ましい。走査時
における加圧ポンプ２２の圧力は、凹部１７０への充填
量及びノズル２４の走査速度に基づいて、適当な吐出量
となるように調整する。

【００７４】本実施形態では、数十ｍｍ／ｓ程度のゆっ
くりとした速度で走査を行い、加圧ポンプ２２の圧力を
小さく設定して吐出量を小さくするが、蛍光体インキの
架橋によって連続流が形成されるので、蛍光体インキを
凹部１７０に均一的に塗布し、均一的な蛍光体層を形成
することができる。なお、凹部１７０の側面１７０ｂに
も蛍光体インキを多く付着させるために、凹部１７０へ
蛍光体インキの充填量は、凹部１７０の空間容積の８０
％以上となるよう設定し、蛍光体インキ中の蛍光体の含
有量を２０〜６０重量％の範囲に設定することが望まし
い。

【００７５】（効果についての説明）図１７のＡは、本
実施形態のように隔壁のインキに対する吸着力を調整し
た場合において、凹部に充填された蛍光体インキの乾燥
過程を示す模式図である。本実施形態では、凹部１７０
の側面１７０ｂの蛍光体インキに対する吸着力が、底面
１７０ａの蛍光体インキに対する吸着力より大きいため
に、乾燥中に蛍光体インキが底面１７０ａの方に落ちて
しまうことがなく、凹部の側面１７０ｂにも付着して残
る。

【００７６】また、本図に示すように、蛍光体インキを
凹部１７０の空間容積の８０％以上を占めるように充填
すれば、蛍光体インキを側面１７０ｂに付着させる効果
が顕著である。一方、図１７のＢは、凹部の側面の蛍光
体インキに対する吸着力が、底面の蛍光体インキに対す
る吸着力より小さい場合における、蛍光体インキの乾燥
過程を示す模式図である。この場合、図に示すように、
乾燥中に蛍光体インキが底面の方に落ちやすく、側面に
は残りにくい。

【００７７】以上のように、本実施形態のＰＤＰの製造
方法によれば、蛍光体層を隔壁に沿って均一に形成する
ことができ、且つ凹部の側面にも蛍光体層を付着させる
ことができる。従って、発光輝度の高いＰＤＰを作製す
ることができる。なお、隔壁１７の材料は、上記の材料
に限られるものではなく、蛍光体インキの隔壁１７の側
面に対する接触角が、凹部の底面に対する接触角よりも
小さくなるように選択すればよい。ただし、蛍光体イン
キの隔壁１７の側面に対する接触角は９０°以下である
ことが、当該側面に対する良好な付着を得る上で好まし
い。

【００７８】また、本実施の形態においては、隔壁１７
の材料として、蛍光体インキの隔壁１７に対する接触角
が背面ガラス基板１５より小さくなるようなものを選択
することによって、隔壁１７の側面の蛍光体インキに対
する吸着力が凹部底面の蛍光体インキに対する吸着力よ
りも小さくなるよう調整したが、蛍光体インキに対する
吸着力は、蛍光体インキの表面に対する接触角のみなら
ず、表面粗さにも影響される。即ち、表面粗さが大きい
ほど、蛍光体インキに対する吸着力が大きくなる。

【００７９】従って、凹部の側面の表面粗さを凹部の底
面の表面粗さより大きくすることによっても同様の効果
を得ることができる。この表面粗さの調整は、予め基板
１５の表面を研磨して表面粗さを小さくしたり、溶射法
で隔壁を形成するときのプラズマ溶射の条件（例えば、
アルゴンガスの流量や印加電圧）を表面粗さが大きくな
るように調整したり、スクリーン印刷法で隔壁を形成す
る場合には焼成温度を低くして表面粗さを大きくすると
いった方法で行うことができる。

【００８０】また、蛍光体インキの凹部の側面に対する
接触角を凹部の底面に対する接触角よりも小さくし、且
つ、凹部の側面の表面粗さを底面の表面粗さよりも大き
くすれば、効果はより顕著なものとなる。なお、本実施
の形態では、ノズルから蛍光体インキを架橋しながら塗
布する場合について説明したが、他の塗布方式でも同様
に実施できる。例えば、通常のインキジェット方式やス
クリーン印刷法を用いた場合でも、凹部の側面の蛍光体
インキに対する吸着力を底面の蛍光体インキに対する吸
着力より大きくすれば、同様の効果を得る事ができる。

【００８１】〔実施の形態８〕本実施の形態のＰＤＰの
製造方法は、実施の形態７と同様であるが、実施の形態
７では、隔壁の材料を選択することによって、蛍光体イ
ンキの凹部の側面に対する接触角を凹部の底面に対する
接触角よりも大きくしたのに対して、本実施の形態で
は、蛍光体インキの凹部の底面に対する接触角を大きく
する被膜を形成することによって、蛍光体インキの凹部
の側面に対する接触角を凹部の底面に対する接触角より
も大きく調整する。

【００８２】このような凹部の底面への被膜の形成は、
例えば、背面ガラス基板１５の表面にポリテトラフルオ
ロエチレンをはじめとするフッ素樹脂を高温で溶融して
スピンコート法で塗布し、背面ガラス基板１５上にアド
レス電極１６と隔壁１７とを形成することによって行う
ことができる。そして、このような被膜を形成した後、
実施の形態７と同様に蛍光体インキを凹部に充填すれ
ば、蛍光体インキの凹部の側面に対する接触角の方が底
面に対する接触角よりも大きいので、上記図１７のＡに
示すように、側面に蛍光体インキが多く付着する。

【００８３】そして、これを焼成することによって、凹
部の底面と側面とに良好な蛍光体層が形成される。な
お、上記の被膜をフッ素樹脂のような有機化合物で形成
した場合は、蛍光体層の焼成時に被膜が焼失されるの
で、出来上がったＰＤＰには被膜が残らない。なお、本
実施の形態では、インキジェット方式で塗布する場合に
ついて説明したが、塗布方式はこれに限らない。例えば
スクリーン印刷法の場合でも、蛍光体ペーストの凹部の
側面に対する接触角を底面に対する接触角より小さくす
れば、同様の効果を得る事ができる。

【００８４】〔実施の形態９〕図１８は、本実施の形態
における蛍光体インキ塗布の様子を示す図である。本実
施の形態におけるＰＤＰの製造方法は、実施の形態７の
製造方法と同様であるが、背面ガラス基板１５に隔壁１
７を形成した後、隔壁１７の上面の蛍光体インキに対す
る吸着性を、隔壁１７の側面の蛍光体インキに対する吸
着性よりも小さくし、その後に蛍光体インキを塗布する
点が異なっている。

【００８５】隔壁１７の上面の蛍光体インキに対する吸
着性を、隔壁１７の側面の蛍光体インキに対する吸着性
よりも小さくする方法としては、図１８に示すように、
隔壁１７の上面に撥水性材料からなる撥水膜１１０を形
成する方法を挙げることができる。この撥水膜１１０
は、ポリテトラフルオロエチレンをはじめとするフッ素
樹脂を隔壁１７の上面に塗布することによって形成する
ことができる。

【００８６】具体的には、実施の形態７で説明した溶射
法による隔壁形成の工程において、基板１５に隔壁材料
の膜８４を形成した後（図１４のＥの状態）、ドライフ
ィルム８１のマスクを除去する前に、溶融したフッ素樹
脂をスピンコート法で塗布すれば、隔壁１７の上面にフ
ッ素樹脂からなる撥水膜１１０を形成することができ
る。

【００８７】このように、隔壁１７の上面の蛍光体イン
キに対する吸着性を小さくすることによって、蛍光体イ
ンキを塗布するときに、隔壁の上面に蛍光体インキが付
着するのを防止することができる。従って、前面パネル
と背面パネルとを張り合せて封着用ガラスで封着すると
きに、隔壁上面に付着した蛍光体で封着が妨げられると
いう問題を解消できる。また、撥水膜１１０は、蛍光体
層の焼成時に焼失されるため、作製されたＰＤＰには残
らない。

【００８８】なお、隔壁１７の上面の蛍光体インキに対
する吸着力を小さくする方法として、この他に、例えば
隔壁１７の上面を研磨することによって、隔壁１７の上
面の表面粗さを小さくする方法も挙げることができる。
なお、本実施の形態では、蛍光体をインキジェット方式
で塗布する場合について説明したが、塗布する方式はこ
れに限らず、他の方式でも適用できる。例えばスクリー
ン印刷法で塗布する場合でも、隔壁の上面の蛍光体ペー
ストに対する吸着力を側面の蛍光体ペーストに対する吸
着力より小さくすれば、同様の効果を得る事ができる。

【００８９】〔実施の形態１０〕本実施の形態は、基本
的には上記実施の形態５と同じであるが、ノズルの外径
が隔壁間の溝幅よりも大きく設定されている。図１９
は、本実施形態のインキ塗布装置の概略を示す断面図で
ある。このインキ塗布装置１２０は、サーバ１２１内に
蛍光体インキが入れられ、蛍光体粒子の沈殿が生じない
ように内部で混合撹拌されている。そして、サーバ１２
１内の蛍光体インキは、図示しない加圧手段で加圧する
と、ノズル１２２から吐出される。

【００９０】また、サーバ１２１は、走査機構（不図
示）によって、背面ガラス基板１５上の隔壁１７に沿っ
て、図１９の表裏方向に走査できるようになっている。
走査時においては、ノズル１２２から吐出される蛍光体
インキ１２３が、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝の内
面との間で表面張力によって架橋される状態を保ちなが
ら走査を行う。

【００９１】ノズル１２２の外径は、隔壁１７の間隔よ
りも大きく且つ隣の溝まではみ出さない程度に設定され
ている。こうすれば、隔壁１７とノズル１２２間の距離
が比較的短くなるので、蛍光体インキが架橋しやすくな
り、更に、背面ガラス基板１５のたわみ等によって塗布
中にノズル先端と隔壁頂部とが接触したとしても、ノズ
ル１２２の吐出口が閉塞しない。

【００９２】蛍光体インキの架橋状態を維持するため、
走査時のノズル１２２の先端と隔壁１７との距離は、１
ｍｍ以下に設定することが好ましい。 〔実施の形態１１〕本実施の形態は、実施の形態５と同
様であるが、ノズルの先端の形状に違いがある。

【００９３】図２０は、本実施の形態における蛍光体イ
ンキ塗布装置の要部概略図である。実施の形態５のノズ
ル２４では先端の開口縁が背面ガラス基板１５の表面に
対して平行であったのに対して、本実施形態のノズル１
２４は、先端の開口縁が背面ガラス基板１５の表面に対
して傾斜している。このようなノズル１２４を用いて
も、実施の形態５と同様、インキを架橋した状態で均一
的に溝に塗布することができる。

【００９４】架橋しやすくするために、ノズル１２４の
先端と背面ガラス基板の表面との距離は１ｍｍ以下に設
定する。ノズル１２４の先端を隔壁間の溝の中に挿入し
た状態で走査すれば、ノズル１２４が溝の中央部に存在
するインキを押しのける働きをなすので、溝の側面にイ
ンキが付着しやすい。

【００９５】また、ノズル１２４は、先端の開口面が傾
斜しているので、背面ガラス基板１５のたわみ等によっ
て塗布中にノズル先端と背面ガラス基板とが接触したと
しても、ノズル１２４の吐出口が閉塞しないので安定し
てインキを連続塗布できる。背面ガラス基板の表面に対
するノズル１２４の開口面の傾斜角は、１０°〜９０°
の範囲とするのがよい。

【００９６】なお、図２０のノズル１２４は、先端の開
口面が傾斜しているが、ノズルの形状としては、開口縁
端の少なくとも一部が、開口縁端の先端よりもガラス基
板から離間した形状に形成されていれば、同様の効果を
奏する。例えば、次のようなの変形例を挙げることがで
きる。図２１に示すノズル１２５のように、ノズル先端
が階段状に開口されたもの。

【００９７】図２２に示すノズル１２６のように、ノズ
ルの途中が曲げられることによって、ノズルの先端の開
口面１２６ａが背面ガラス基板１５の表面に対して傾斜
しているもの。図２３に示すノズル１２７のように、ノ
ズルの先端に２方向に開口面１２７ａが形成され、各開
口面が背面ガラス基板１５の表面１５ａ（１５ｂ）に対
し傾斜を有しているもの。なお、図２３において、実線
１５ａは、背面ガラス基板１５の表面がノズル１２７の
先端に接触している様子を示し、１点鎖線１５ｂは、こ
れが離れている様子を示している。

【００９８】このようなノズル１２５〜１２７を用いて
も、背面ガラス基板１５の表面にノズルの先端を接した
ときに開口面が閉塞しないので、ノズルを背面ガラス基
板１５の表面に接触させながら走査しても安定して連続
的なインキ塗布を行うことが可能である。 〔実施の形態１２〕図２４は、本実施の形態に係るＰＤ
Ｐの概略断面図である。このＰＤＰの構成及び製法は、
上記実施の形態１のＰＤＰ（図１参照）と同様である
が、隔壁１７の間の溝に反射層１３０が配設され、その
反射層１３０の上に蛍光体層１８が配設されている。こ
のように反射層１３０を配設することによって、パネル
の輝度を向上（１０〜２０％）させることができる。

【００９９】反射層１３０の形成並びに蛍光体層１８
は、上記実施の形態１の図３に示したようなインキ塗布
装置を用いて、反射材インキ並びに蛍光体インキを塗布
することによって形成する。反射材インキは、反射材料
とバインダーと溶剤成分とが調合されたものであって、
反射材料としては、酸化チタンやアルミナなどの反射率
の高い白色粉末を用いることができるが、特に、平均粒
径５μｍ以下の酸化チタンが良好である。

【０１００】本実施形態の反射層形成方法においては、
上記実施の形態７，８で説明した蛍光体層の形成方法を
反射層１３０の形成に適用して、隔壁１７の側面の反射
材インキに対する吸着力が、凹部（溝）の底面の反射材
インキに対する吸着力よりも大きくなるようにする。即
ち、隔壁１７の側面に対する反射材インキの接触角が凹
部の底面に対する反射材インキの接触角よりも小さくな
るよう、隔壁の材料を選択したり、隔壁１７の側面の表
面粗さを凹部の底面の表面粗さより大きくしたりする。
これによって、上記図１７のＡで説明したように、反射
材インキが隔壁１７の側面に付着しやすくなるので、Ｐ
ＤＰの輝度の向上に寄与することになる。

【０１０１】反射材インキは、凹部の側面１７０ｂに付
着しやすいようにするため、バインダとしてエチルセル
ロースを０．１〜１０重量％用い、溶剤としてターピネ
オール（Ｃ₁₀Ｈ₁₈Ｏ）を用いることが好ましい。また、
これ以外にも、好ましい溶剤としてジエチレングリコー
ルメチルエーテルなどの有機溶剤や水を挙げる事がで
き、バインダーとしては、ＰＭＭＡやポリビニルアルコ
ールなどの高分子を挙げる事ができる。

【０１０２】反射層の厚さを均一にするために、インキ
粘度は低いこと（２５℃で１〜１０００センチポアズ）
が望ましい。また、凹部１７０の側面１７０ｂにも反射
材インキを多く付着させるために、凹部１７０への反射
材インキの充填量は、凹部１７０の空間容積の８０％以
上となるよう設定し、反射材インキ中の反射材料の含有
量を２０〜６０重量％の範囲に設定することが望まし
い。

【０１０３】〔実施の形態１３〕本実施形態のＰＤＰの
構成も、実施の形態１２のＰＤＰと同様であって、反射
層１３０が配設されている（図２４参照）。また、製法
も基本的に実施の形態１２で説明した方法と同様である
が、本実施形態では、隔壁１７の上面の反射材インキに
対する吸着性を、隔壁１７の側面の反射材インキに対す
る吸着性よりも小さくする点が異なっている。

【０１０４】反射材インキに対する吸着性の調整は、実
施の形態９の図１８に示すように、隔壁１７の上面に撥
水性材料からなる撥水膜１１０を形成することによっ
て、隔壁の側面に対する反射材インキの接触角よりも、
隔壁の上面に対する接触角を大きくすることによってな
すことができる。或は、隔壁側面の表面粗さより、隔壁
上面の表面粗さを小さくすることによってもなすことが
できる。

【０１０５】このようにして反射材インキを塗布すれ
ば、隔壁の上面に反射材インキが付着しにくく、仮に付
着したとしても、乾燥時に隔壁側面の方へ移動するの
で、隔壁の上面には反射材インキが残りにくい。従っ
て、前面パネルと背面パネルとを張り合せて封着用ガラ
スで封着するときに、隔壁上面に付着した反射材料によ
って封着が妨げられるという問題を解消できる。

【０１０６】〔実施の形態１４〕本実施形態のＰＤＰの
構成は、実施の形態１２のＰＤＰと同様であって、反射
層１３０が配設されている（図２４参照） 反射層１３０の形成並びに蛍光体層１８は、上記実施の
形態１の図３に示したようなインキ塗布装置を用いて、
反射材インキ並びに蛍光体インキを塗布することによっ
て形成する。

【０１０７】本実施の形態では、上記実施の形態５で説
明した蛍光体層の形成方法を反射層１３０の形成に適用
して、反射材インキを、表面張力によって架橋される状
態でノズルを走査することによって隔壁間に連続的に塗
布し、その後、これを乾燥して焼成することによって反
射層１３０を形成する。反射材インキの架橋状態を維持
するため、走査時のノズルの先端と隔壁１７との距離
は、０μｍ〜１ｍｍの範囲に設定することが好ましい。

【０１０８】この反射層形成方法によれば、実施の形態
５で説明したのと同様の効果、即ち、安価なインキ塗布
装置で均一に反射材インキを塗布でき、広い範囲の粘度
や表面張力の反射材インキを用いることができるという
効果を奏する。次に、このように形成した反射層１３０
の上に、実施の形態５と同様の方法で蛍光体インキを塗
布して蛍光体層１８を形成する。

【０１０９】なお、反射層１３０は、上記の反射材イン
キを用いて、実施の形態６，１０，１１で説明した方法
を応用して塗布することによっても形成することがで
き、これと同様の効果を奏する。 （その他の事項）なお、上記実施の形態１〜１４では、
ＡＣ型のＰＤＰを例にとって説明したが、ＡＣ型に限ら
れず、隔壁がストライプ状に配設されたＰＤＰにおいて
も同様に実施することができる。

【０１１０】また、上記実施の形態７，８，９，１２，
１３のように、蛍光体インキや反射材インキに対する隔
壁及び凹部底面の吸着力を調整することによってインキ
の付着状態を調整する技術は、隔壁が井桁状に配設され
たＤＣ型のＰＤＰにおいても適用することができ、同様
の効果を奏する。

【０１１１】

【実施例】（実施例１〜５）実施の形態１に基づいて実
施例１〜５のＰＤＰを作製した。表１に、実施例１〜５
で用いる電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキ
の組成並びにインキ粘度を掲載する。

【０１１２】実施例１〜５において、青色蛍光体として
はＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、緑色蛍光体としてはＺ
ｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、赤色蛍光体としては（Ｙ_xＧｄ_1-x）
ＢＯ ₃：Ｅｕ³⁺を用いた。

【０１１３】

【表１】

【０１１４】表中の電極材インキ（銀インキ）に用いた
ガラスの組成は、酸化鉛（ＰｂＯ）７０重量％、酸化ケ
イ素（ＳｉＯ₂）１５重量％、酸化硼素（Ｂ₂Ｏ₃）１５
重量％である。また、バインダとして用いたエチルセル
ローズの分子量は２０万、アクリル樹脂の分子量は１０
万である。実施例１では、ノズル径５０μｍのノズルを
用い、ノズル先端と背面ガラス基板と距離を１ｍｍに保
って走査しながら電極材インキを吐出して、電極幅６０
μｍの電極１２，１６を形成した。

【０１１５】隔壁１７の間隔（セルピッチ）は０．１５
ｍｍに、高さは０．１５ｍｍに設定した。放電ガスは、
１０％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガ
スを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。実施例２〜
５では、ノズル径４５μｍのノズルで、電極幅５０μｍ
で電極１２，１６を形成し、隔壁１７の間隔（セルピッ
チ）は０．１０６ｍｍ、高さ０．１０ｍｍに設定した。

【０１１６】放電ガスは、２０％のキセノン（Ｘｅ）ガ
スを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力６００Ｔ
ｏｒｒとした。実施例１〜５のＰＤＰについて、放電維
持電圧１５０Ｖ周波数３０ＫＨｚで放電させて輝度を測
定した。なお、輝度測定の条件は、以下の実施例におい
ても同様である。

【０１１７】紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心と
するＸｅの分子線による励起波長であった。輝度の測定
結果は、表１に示すような値であった。

【０１１８】

【表２】

【０１１９】表２に、以下の実施例６〜１３で用いる電
極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキの組成、イ
ンキ粘度並びにパネルの輝度測定結果を掲載した。実施
例６〜１３においても、青色蛍光体としてはＢａＭｇＡ
ｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、緑色蛍光体としてはＺｎ₂ＳｉＯ₄：
Ｍｎ、赤色蛍光体としては（Ｙ_xＧｄ_1-x）ＢＯ₃：Ｅｕ
³⁺を用いた。

【０１２０】（実施例６）実施の形態２に基づき、表２
のＮｏ．６に示した組成，粘度範囲の電極材インキ（Ａ
ｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製し
た。放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネ
オン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとし
た。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長
は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励
起波長であった。

【０１２１】（実施例７）実施の形態３に基づき、表２
のＮｏ．７に示した組成，粘度範囲の電極材インキ（Ａ
ｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製し
た。放電ガスは、６％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネ
オン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとし
た。

【０１２２】パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。 （実施例８）実施の形態５に基づき、表２のＮｏ．８に
示した組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体イ
ンキを用いてＰＤＰを作製した。

【０１２３】蛍光体インキを塗布するときには、蛍光体
インキの粘度は、２５℃で１０〜１０００センチポアズ
とし、ノズル径８０μｍのノズルを用い、０.５ｋｇｆ
／ｃｍ²で加圧すると、ノズルから蛍光体インキが吐出
され、ノズルの先端部と隔壁１７間に蛍光体インキが表
面張力によって架橋された。ノズルの先端とバックプレ
ートとの距離を１００μｍに保ちながら、背面ガラス基
板１５を５０ｍｍ／ｓの速度で移動して走査することに
よって、蛍光体インキを連続的に隔壁間の溝に塗布する
ことができた。

【０１２４】なお、この条件ではインキの吐出量が少な
いため、架橋を形成しない状態で蛍光体インキをこれと
同じ吐出条件でノズルから吐出した場合には連続流は形
成されない。各色の蛍光体インキを塗布した後、約５０
０℃で１０分間焼成して蛍光体層を形成した。

【０１２５】放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガス
を含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力６００Ｔｏ
ｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。 （実施例９）実施の形態６に基づき、上記表２のＮｏ．
９に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体
インキを用いてＰＤＰを作製した。

【０１２６】隔壁の高さは１２０μｍに設定した。蛍光
体インキを塗布するときには、ノズル先端と背面ガラス
基板１５との距離を２０μｍに設定した。蛍光体インキ
の粘度は、２５℃で１０〜１０００センチポアズとし
た。、放電ガスは、１０％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含
むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒ
とした。

【０１２７】パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。 （実施例１０）実施の形態７に基づいて、上記表２のＮ
ｏ．１０に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び
蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製した。ＰＤＰの作製
を行った。

【０１２８】背面パネルの隔壁は、アルミナとガラスの
混合物を用いて形成し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μ
ｍ、高さ１２０μｍとした。形成した隔壁の側面１７０
ｂ及び凹部１７０の底面１７０ａに対する蛍光体インキ
の接触角を目視で測定した。また、表面粗さを、ＪＩＳ
規格の表面粗さ測定法（十点平均粗さ）に従って測定し
た。

【０１２９】蛍光体インキの側面１７０ｂに対する接触
角が約８°で、側面１７０ｂの表面粗さが約５μｍであ
り、蛍光体インキの底面１７０ａに対する接触角が約１
３°で、底面１７０ａの表面粗さが約０．５μｍであっ
た。ノズル４４はノズル径が８０μｍのものを用い、走
査時においては、ノズル先端と凹部の底面との距離は１
００μｍに設定し、０．５ｋｇｆ／ｃｍ²で加圧しなが
ら５０ｍｍ／ｓの速度で走査することにより、蛍光体イ
ンキを凹部の空間容積の約９０％に充填されるよう塗布
した。

【０１３０】各色の蛍光体インキを充填し乾燥した後、
約５００℃で１０分間焼成することによって、蛍光体層
を形成した。形成した各色蛍光体層の断面形状をＳＥＭ
で観察したところ、凹部の底面での平均は厚さ約２０μ
ｍ、側面での平均厚さは約２５μｍで、均一的に蛍光体
層が形成されていることが確認された。

【０１３１】放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガス
を含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力８００Ｔｏ
ｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。 （実施例１１）実施の形態９に基づいて、上記表２のＮ
ｏ．１１に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び
蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。

【０１３２】背面パネルの隔壁は、アルミナを用いて形
成し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍ
であって、隔壁の上面に、ポリテトラフルオロエチレン
からなる撥水膜を形成した。形成した隔壁の側面に対す
る蛍光体インキの接触角は約５°であった。また、隔壁
の上面の撥水膜に対する蛍光体インキの接触角は約３０
°であった。

【０１３３】ノズルはノズル径が１００μｍのものを用
い、走査時においては、ノズル先端と凹部の底面との距
離は１００μｍに設定し、０．７ｋｇｆ／ｃｍ²で加圧
しながら１００ｍｍ／ｓの速度で走査することにより、
蛍光体インキを凹部の空間容積の約９０％に充填される
よう塗布した。各色の蛍光体インキを塗布して乾燥した
後、約５００℃で１０分間焼成することによって、蛍光
体層を形成した。

【０１３４】形成した各色蛍光体層の断面形状をＳＥＭ
で観察したところ、凹部の底面だけでなく側面にも、平
均厚さ約２０μｍで均一的に蛍光体層が形成されている
ことが確認された。また、通常、このような比較的直径
の大きなノズルを用いた場合、インキ注入中に隔壁の上
部にもインキが付着しやすいが、本実施例では、蛍光体
が隔壁の上面に付着することはなかった。これは、隔壁
上面の蛍光体インキに対する吸着力が、隔壁側面より小
さいため、隔壁上面に付着したインキが乾燥とともに隔
壁側面へ移動したためと考えられる。

【０１３５】放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガス
を含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏ
ｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。なお、本実施例のＰＤＰ作製
方法において、隔壁の上面に撥水膜を形成する代わり
に、隔壁の上面を研磨してその表面粗さを小さくした
（隔壁の側面の表面粗さは約５μｍで、隔壁の上面の表
面粗さは約０．５μｍ）場合も、隔壁の上面に蛍光体が
付着することなく、凹部に蛍光体層を均一に塗布するこ
とができた。

【０１３６】（実施例１２）実施の形態１０に基づい
て、上記表２のＮｏ．１２に示す組成の電極材インキ
（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製
を行った。隔壁１７の間の距離は１１０μｍである。ノ
ズル１２２は、内径８０μｍ、外径１２０μｍのものを
用い、走査時におけるノズル１２２の先端と隔壁１７頂
部との距離は２０μｍに設定した。

【０１３７】蛍光体インキは、せん断速度２００ｓｅｃ
^-1における粘度を１０〜１０００センチポアズに調合し
てサーバ１２１に入れた。そして、０.５ｋｇｆ／ｃｍ²
で加圧すると、ノズル１２２から蛍光体インキ１２３が
吐出され、ノズル１２２の先端部と隔壁１７間に蛍光体
インキ１２３が表面張力によって架橋された。この状態
で、背面ガラス基板１５を５０ｍｍ／ｓの速度で移動し
て走査することによって、蛍光体インキを連続的に隔壁
間の溝に塗布することができた。

【０１３８】放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガス
を含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏ
ｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。 （実施例１３）実施の形態１１に基づいて、上記表２の
Ｎｏ．１３に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及
び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。

【０１３９】隔壁１７間の距離を１１０μｍ、ノズル１
２４の内径６０μｍ、外径１００μｍ、背面ガラス基板
の表面に対するノズル１２４の開口面の傾斜を４５°と
し、ノズル１２４の先端と背面ガラス基板１５の表面と
の距離を２０μｍに設定した。これにより、蛍光体イン
キを連続的に安定して隔壁間の溝に塗布することができ
た。

【０１４０】放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガス
を含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏ
ｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。表３に、以下の実施例１４〜
１７で用いる電極材インキ（Ａｇインキ）、反射材イン
キ、蛍光体インキの組成、インキ粘度並びにパネルの輝
度測定結果を掲載する。

【０１４１】

【表３】

【０１４２】実施例１４〜１７においても、青色蛍光体
としてはＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ ²⁺、緑色蛍光体とし
てはＺｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、赤色蛍光体としては（Ｙ_xＧ
ｄ_1-x）ＢＯ₃：Ｅｕ³⁺を用いた。 （実施例１４）実施の形態１２に基づいて、上記表３の
Ｎｏ．１４に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ），
反射材インキ及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を
行った。

【０１４３】隔壁は、アルミナとガラスの混合物で形成
し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍと
した。反射材インキは、反射材料として平均粒径３μｍ
の酸化チタンを４５重量％、バインダーとしてエチルセ
ルロースを１．８重量％、溶剤としてターピネオールを
５３．２重量％用い、粘度は２５℃で５０センチポアズ
に調整した。

【０１４４】反射材インキの隔壁に対する接触角は約８
°であった。また、凹部の底面（背面ガラス基板１５）
に対する接触角は約１３°であった。ノズルはノズル径
が８０μｍのものを用い、走査時のノズル先端と背面ガ
ラス基板１５との距離は１００μｍに設定した。０.５
ｋｇｆ／ｃｍ²で加圧すると、ノズルから反射材インキ
が吐出され、架橋が形成された。この状態で背面ガラス
基板を隔壁の方向に走査することにより、インキを連続
的に隔壁間の溝に注入し、反射材インキを凹部の空間容
積の約９０％充填されるよう塗布した。

【０１４５】塗布した反射材インキを乾燥した後、約５
００℃で１０分間焼成することによって反射層を形成し
た。形成された反射層の断面塗布形状をＳＥＭで観察し
たところ、反射材料は溝の底面だけでなく隔壁側面にも
厚さ約２０μｍで均一に塗布されていることが確認され
た。

【０１４６】そして、この反射層の上に、これと同様の
方法で蛍光体インキを塗布して蛍光体層を形成した。放
電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン
（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
パネル輝度は表３に示す通りであり、紫外線の波長は、
主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波
長であった。

【０１４７】なお、本実施例では、反射材インキの隔壁
に対する接触角が小さくなるように調整したが、表面粗
さが約０．５μｍの背面ガラス基板１５に対して、表面
粗さが約５μｍのガラス隔壁を形成したものを用い、隔
壁間の溝に反射材インキを塗布した場合にも、これと同
様、隔壁の側面上にも厚さ２０μｍの均一な反射層を形
成することができた。

【０１４８】（実施例１５）実施の形態１３に基づい
て、上記表３のＮｏ．１５に示す組成の電極材インキ
（Ａｇインキ），反射材インキ及び蛍光体インキを用い
てＰＤＰの作製を行った。隔壁はアルミナで形成し、ピ
ッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍとした。
隔壁上面には、ポリテトラフルオロエチレンからなる撥
水膜を形成した。

【０１４９】反射材インキは、反射材料として粒径０．
５μｍのアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）を４５重量％、バインダ
ーとしてポリビニルアルコールを１．０重量％、溶剤と
して水を５４重量％用い、粘度は２５℃で１００センチ
ポアズに調整した。反射材インキの隔壁側面に対する接
触角は約５°、また、反射材インキの隔壁上部に対する
接触角は約３０°であった。

【０１５０】ノズルは、ノズル径が１００μｍのものを
用い、走査時におけるノズル先端と隔壁との距離を１０
０μｍに設定した。加圧器により０.７ｋｇｆ／ｃｍ²で
加圧すると、ノズルから反射材インキが吐出され架橋し
た。この状態で背面パネル基板を１００ｍｍ／ｓの速度
で隔壁に沿った方向に走査することにより、反射材イン
キを連続的に隔壁間の溝に注入し、反射材インキを溝の
容積の約９０％に充填されるよう塗布した。

【０１５１】塗布した反射材インキを乾燥した後、約５
００℃で１０分間焼成することによって反射層を形成し
た。このような比較的直径の大きなノズルを用いた場
合、通常は、インキ注入中に隔壁上部にインキが残りや
すいが、本実施例の方法で反射層を形成した後、その断
面塗布形状をＳＥＭで観察したところ、反射材料は隔壁
上面には付着することなく、溝の内面に厚さ約２０μｍ
で均一に塗布されていることが確認された。

【０１５２】そして、この反射層の上に、実施例１０と
同様の方法で蛍光体層を形成した。放電ガスは、５％の
キセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用
い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。パネル輝度は表３
に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを
中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。

【０１５３】なお、本実施例では、反射材インキの隔壁
に対する接触角が小さくなるように調整したが、ガラス
隔壁の側面の表面粗さを約５μｍ、ガラス隔壁の上面の
表面粗さを約０．５μｍに形成し、隔壁間の溝に反射材
インキを塗布した場合にも、これと同様、隔壁の側面上
にも厚さ２０μｍの均一な反射層を形成することができ
た。

【０１５４】（実施例１６）実施の形態１４に基づい
て、上記表３のＮｏ．１６に示す組成の電極材インキ
（Ａｇインキ），反射材インキ及び蛍光体インキを用い
てＰＤＰの作製を行った。隔壁間の距離は１１０μｍと
し、ノズルは、内径８０μｍ、外径１２０μｍのものを
用い、ノズルの先端と隔壁頂部との距離は２０μｍに設
定した。

【０１５５】反射材インキは、反射材料として平均粒径
０．５〜５μｍの酸化チタンを３０〜６０重量％、バイ
ンダーとしてエチルセルロースを０．１〜１０重量％、
溶剤としてターピネオールを３０〜６０重量％用い、粘
度は２５℃で１０〜１０００センチポアズに調整した。
加圧器により０.５ｋｇｆ／ｃｍ²で加圧すると、ノズル
から反射材インキが吐出され、ノズルの先端部と隔壁１
７の側面との間に反射材インキが表面張力によって架橋
された。

【０１５６】この状態で、背面ガラス基板１５を５０ｍ
ｍ／ｓの速度で移動して走査することによって、反射材
インキを連続的に隔壁間の溝に塗布することができた。
乾燥した後、約５００℃で１０分間焼成することによっ
て、反射層を形成することができた。そして、この反射
層の上に、実施例１０と同様の方法で蛍光体層を形成し
た。

【０１５７】放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガス
を含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏ
ｒｒとした。パネル輝度は表３に示す通りであり、紫外
線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線
による励起波長であった。 （実施例１７）実施の形態１４に基づいて、上記表３の
Ｎｏ．１７に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ），
反射材インキ及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を
行った。

【０１５８】用いた反射材インキは上記実施例１６と同
様のものであるが、実施例１３と同様の開口面が傾斜し
て形成されたノズル１２４（図２０参照）を用いて塗布
した。即ち、隔壁１７間の距離を１１０μｍ、ノズル１
２４の内径６０μｍ、外径１００μｍ、背面ガラス基板
の表面に対するノズル１２４の開口面の傾斜を４５°と
し、ノズル１２４の先端と背面ガラス基板１５の表面と
の距離を２０μｍに設定した。 これにより、反射材イ
ンキを連続的に安定して隔壁間の溝に塗布することがで
きた。

【０１５９】そして、この反射層の上に、実施例１０と
同様の方法で蛍光体層を形成した。放電ガスは、５％の
キセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用
い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。パネル輝度は表３
に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを
中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。

【０１６０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、隔壁が
ストライプ状に配設されたプレートにおける隔壁間の溝
に蛍光体層或は反射層を形成する工程において、蛍光体
インキ或は反射材インキをノズルから連続流となるよう
吐出させながらノズルを隔壁に沿って走査するという方
法で蛍光体インキ或は反射材インキを塗布するようにす
ることによって、微細なセル構造の場合でも、容易に精
度良く蛍光体層や反射層を形成することが可能であっ
て、且つ隔壁がストライプ状の場合に、隔壁間の溝に蛍
光体層や反射層を均一的に形成することができる。

【０１６１】ここで、ノズルを隔壁の側面に向けた状態
で蛍光体インキを噴出しながら、当該ノズルを隔壁に沿
って走査すれば、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層
や反射層を形成することもできる。また、蛍光体層を形
成する工程において、隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布
した後、塗布された蛍光体インキに対して外力を加えて
隔壁の側面に付着させることによっても、隔壁の側面に
対しても容易に蛍光体層を形成することができる。

【０１６２】また、隔壁間の溝とノズルとが蛍光体イン
キの表面張力で架橋する状態を保ちながらノズルを隔壁
に沿って走査することによっても、微細なセル構造の場
合でも、容易に精度良く蛍光体層や反射層を形成するこ
とが可能であって、且つ隔壁がストライプ状の場合に、
隔壁間の溝に蛍光体層や反射層を均一的に形成すること
ができ、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層や反射層
を形成することもできる。

【０１６３】また、隔壁間に凹部が形成されたプレート
を作成する工程において、凹部の底面より側面の方が、
蛍光体インキあるいは反射材インキに対する吸着力が大
きくなるよう形成することによっても、隔壁の側面に対
して容易に蛍光体層や反射層を形成することができる。
また、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工
程において、隔壁の上面より側面の方が、蛍光体インキ
或は反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成
することによって、蛍光体層や反射層を形成する際に、
蛍光体や反射体が隔壁の上面に付着するのを防止するこ
とができる。

【０１６４】また、プレートに電極をストライプ状に配
設する工程において、電極材料を含有するインキをノズ
ルから連続流となるよう吐出させながらノズルを走査す
ることによってインキを塗布するという方法を用いるこ
とにより、微細なセル構造の場合にも、表示電極やアド
レス電極を容易に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る交流面放電型ＰＤ
Ｐの概略断面図である。

【図２】本発明の一実施の形態に係るＰＤＰの概略駆動
ブロック図である。

【図３】実施の形態１で、放電電極，アドレス電極及び
蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構
成図である。

【図４】上記インキ塗布装置の一例を用いた充填動作を
示す斜視図である。

【図５】実施の形態２で蛍光体層を形成する際に用いる
インキ塗布装置の概略構成図である。

【図６】図５のインキ塗布装置の動作を示す部分拡大斜
視図である。

【図７】実施の形態２における蛍光体インキの塗布方法
の効果を説明する図である。

【図８】実施の形態３における蛍光体インキの塗布方法
を説明する図である。

【図９】実施の形態３における蛍光体インキの塗布方法
を説明する図である。

【図１０】実施の形態４における蛍光体インキの塗布方
法を説明する図である。

【図１１】実施の形態５における蛍光体インキの塗布の
様子を示す概略断面図である。

【図１２】実施の形態５におけるインキの架橋形成方法
の一例を示す図である。

【図１３】実施の形態６における蛍光体インキの塗布の
様子を示す図である。

【図１４】溶射法による隔壁の形成方法の説明図であ
る。

【図１５】プラズマ溶射についての説明図である。

【図１６】実施の形態７に係るインキ塗布装置の概略構
成図である。

【図１７】実施の形態８の製造方法で、凹部に充填され
た蛍光体インキの乾燥過程を示す模式図、並びにその比
較図である。

【図１８】実施の形態９における蛍光体インキ塗布の様
子を示す図である。

【図１９】実施の形態１０のインキ塗布装置の概略を示
す断面図である。

【図２０】実施の形態１１における蛍光体インキ塗布装
置の要部概略図である。

【図２１】実施の形態１１におけるノズルの変形例を示
す図である。

【図２２】実施の形態１１におけるノズルの変形例を示
す図である。

【図２３】実施の形態１１におけるノズルの変形例を示
す図である。

【図２４】実施の形態１２に係るＰＤＰの概略断面図で
ある。

【図２５】従来のスクリーン印刷法で蛍光体ペーストを
隔壁間の凹部に塗布する様子を示す図である。

【符号の説明】

１１ 前面ガラス基板 １２ 放電電極 １３ 誘電体ガラス層 １４ 保護層 １５ 背面ガラス基板 １６ アドレス電極 １７ 隔壁 １８ 蛍光体層 １９ 放電空間 ２０ インキ塗布装置 ２１ サーバ ２２ 加圧ポンプ ２３ ヘッダ ２４ ノズル ３３ ヘッダ ３３ａ インキ室 ３３ｂ 空気室 ３４ ノズル ３６ 空気噴射ノズル ４３ ヘッダ ４４ ノズル ４６ インキ撹拌ロッド ９０ プラズマ溶射装置 １００ インキ塗布装置 １１０ 撥水膜 １２０ インキ塗布装置 １２２ ノズル １２４〜１２７ ノズル １３０ 反射層 １７０ 凹部 １７０ａ 凹部の底面 １７０ｂ 凹部の側面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平9−151789 (32)優先日 平成９年６月10日(1997．6．10) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平9−162254 (32)優先日 平成９年６月19日(1997．6．19) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平9−198347 (32)優先日 平成９年７月24日(1997．7．24) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 河村 浩幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 加道 博行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平10−199421（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−213905（ＪＰ，Ａ) 特開2000−76996（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01J 9/227 H01J 9/02 H01J 11/02

Claims (29)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された第
   １のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に蛍光体インキを塗布するこ
   とによって蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
   と、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
   ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
   テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
   であって、 前記プレート作成ステップで作成する第１のプレート
   は、 前記凹部の底面より側面の方が、蛍光体インキに対する
   吸着力が大きいことを特徴とするプラズマディスプレイ
   パネルの製造方法。
2. 【請求項２】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された第
   １のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に蛍光体インキを塗布するこ
   とによって蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
   と、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
   ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
   テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
   であって、 前記プレート作成ステップで作成する第１のプレート
   は、 蛍光体インキの凹部底面に対する接触角より凹部側面に
   対する接触角の方が小さいことを特徴とするプラズマデ
   ィスプレイパネルの製造方法。
3. 【請求項３】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された第
   １のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に蛍光体インキを塗布するこ
   とによって蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
   と、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
   ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
   テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
   であって、 前記プレート作成ステップは、 蛍光体インキに対する吸着力を低下させる膜を、前記凹
   部の底面に形成する膜形成サブステップを備えることを
   特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 【請求項４】 前記プレート作成ステップでは、 前記凹部の側面に対する蛍光体インキの接触角が９０°
   以下となるよう第１のプレートを作成することを特徴と
   する請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造
   方法。
5. 【請求項５】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された第
   １のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に蛍光体インキを塗布するこ
   とによって蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップ
   と、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
   ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
   テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
   であって、 前記プレート作成ステップで作成する第１のプレート
   は、 前記凹部の底面より側面の方が、表面粗さが大きいこと
   を特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
6. 【請求項６】 前記蛍光体層形成ステップでは、 蛍光体インキが前記凹部の８０％以上充填されるように
   塗布することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記
   載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
7. 【請求項７】 前記蛍光体層形成ステップでは、 蛍光体インキをノズルから吐出させて前記凹部に塗布す
   ることにより蛍光体層を形成することを特徴とする請求
   項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
   ルの製造方法。
8. 【請求項８】 前記蛍光体層形成ステップで用いる蛍光
   体インキは、 ２５℃においてせん断速度が２００ｓｅｃ^-1における粘
   度が１〜１０００センチポアズであることを特徴とする
   請求項７記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
   法。
9. 【請求項９】 前記蛍光体層形成ステップで用いる蛍光
   体インキは、 蛍光体の含量が、２０〜６０重量％であることを特徴と
   する請求項７または８記載のプラズマディスプレイパネ
   ルの製造方法。
10. 【請求項１０】 前記蛍光体層形成ステップで用いる蛍
    光体インキに含まれる蛍光体は、 平均粒径が０．５μｍ〜５．０μｍであることを特徴と
    する請求項７〜９のいずれかに記載のプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
11. 【請求項１１】 前記蛍光体層形成ステップで用いる蛍
    光体インキは、 ターピネオールと蛍光体粉末とエチルセルロースとから
    なり、 蛍光体インキ中のエチルセルロースの含有量が０．１〜
    １０重量％であることを特徴とする請求項７〜１０のい
    ずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
12. 【請求項１２】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された
    第１のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に反射材インキを塗布するこ
    とによって反射層を形成する反射層形成ステップと、 隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布して前記反射層の上に
    蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップと、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
    ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
    テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
    であって、 前記プレート作成ステップで作成する第１のプレート
    は、 前記凹部の底面より側面の方が、反射材インキに対する
    吸着力が大きいことを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
13. 【請求項１３】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された
    第１のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に反射材インキを塗布するこ
    とによって反射層を形成する反射層形成ステップと、 隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布して前記反射層の上に
    蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップと、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
    ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
    テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
    であって、 前記プレート作成ステップで作成する第１のプレート
    は、 反射材インキの凹部底面に対する接触角より凹部側面に
    対する接触角の方が小さいことを特徴とするプラズマデ
    ィスプレイパネルの製造方法。
14. 【請求項１４】 前記プレート作成ステップでは、 前記凹部の側面に対する反射材インキの接触角が９０°
    以下となるよう第１のプレートを作成することを特徴と
    する請求項１３記載のプラズマディスプレイパネルの製
    造方法。
15. 【請求項１５】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成された
    第１のプレートを作成するプレート作成ステップと、 前記第１のプレートの凹部に反射材インキを塗布するこ
    とによって反射層を形成する反射層形成ステップと、 隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布して前記反射層の上に
    蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップと、 前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレ
    ートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封着ス
    テップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法
    であって、 前記プレート作成ステップで作成する第１のプレート
    は、 前記凹部の底面より側面の方が、表面粗さが大きいこと
    を特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
16. 【請求項１６】 前記反射層形成ステップでは、 反射材インキが前記凹部の８０％以上充填されるように
    塗布することを特徴とする請求項１２〜１５のいずれか
    に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
17. 【請求項１７】 前記反射層形成ステップで用いる反射
    材インキは、 反射材インキが酸化チタンであることを特徴とする請求
    項１２〜１６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
18. 【請求項１８】 前記反射層形成ステップでは、 反射材インキをノズルから吐出させて前記凹部に塗布す
    ることにより反射層を形成することを特徴とする請求項
    １２〜１７のいずれかに記載のプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法。
19. 【請求項１９】 前記反射層形成ステップで用いる反射
    材インキは、 ２５℃における粘度が１〜１０００センチポアズである
    ことを特徴とする請求項１８記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
20. 【請求項２０】 前記反射層形成ステップで用いる反射
    材インキは、 反射材の含量が、２０〜６０重量％であることを特徴と
    する請求項１８または１９記載のプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
21. 【請求項２１】 前記蛍光体層形成ステップで用いる反
    射材インキに含まれる反射材は、 平均粒径が０．５μｍ〜５．０μｍであることを特徴と
    する請求項１８〜２０のいずれかに記載のプラズマディ
    スプレイパネルの製造方法。
22. 【請求項２２】 前記反射層形成ステップで用いる反射
    材インキは、 ターピネオールと反射材とエチルセルロースとからな
    り、 反射材インキ中のエチルセルロースの含有量が０．１〜
    １０重量％であることを特徴とする請求項１８〜２１の
    いずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
23. 【請求項２３】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成され、
    当該凹部に蛍光体インキを塗布することによって蛍光体
    層が形成されており、当該凹部の底面より側面の方が蛍
    光体インキに対する吸着力が大きく形成されている第１
    のプレートと、 前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第
    ２のプレートとが、 ガス媒体が封入された状態で封着されてなることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
24. 【請求項２４】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成され、
    当該凹部に蛍光体インキを塗布することによって蛍光体
    層が形成されており、蛍光体インキの凹部底面に対する
    接触角より凹部側面に対する接触角の方が小さく形成さ
    れている第１のプレートと、 前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第
    ２のプレートとが、 ガス媒体が封入された状態で封着されてなることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
25. 【請求項２５】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成され、
    当該凹部に蛍光体インキを塗布することによって蛍光体
    層が形成されており、当該凹部の底面より側面の方が表
    面粗さが大きく形成されている第１のプレートと、 前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第
    ２のプレートとが、 ガス媒体が封入された状態で封着されてなることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
26. 【請求項２６】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成され、
    当該凹部には、反射材インキを塗布することによって反
    射層が形成され、更にその上に蛍光体インキを塗布する
    ことによって蛍光体層が形成されており、当該凹部の底
    面より側面の方が反射材インキに対する吸着力が大きく
    形成されている第１のプレートと、 前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第
    ２のプレートとが、 ガス媒体が封入された状態で封着されてなることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
27. 【請求項２７】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成され、
    当該凹部には、反射材インキを塗布することによって反
    射層が形成され、更にその上に蛍光体インキを塗布する
    ことによって蛍光体層が形成されており、反射材インキ
    の凹部底面に対する接触角より凹部側面に対する接触角
    の方が小さく形成されている第１のプレートと、 前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第
    ２のプレートとが、 ガス媒体が封入された状態で封着されてなることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
28. 【請求項２８】 隔壁と隔壁との間に凹部が形成され、
    当該凹部には、反射材インキを塗布することによって反
    射層が形成され、更にその上に蛍光体インキを塗布する
    ことによって蛍光体層が形成されており、当該凹部の底
    面より側面の方が表面粗さが大きく形成されている第１
    のプレートと、 前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第
    ２のプレートとが、 ガス媒体が封入された状態で封着されてなることを特徴
    とするプラズマディスプレイパネル。
29. 【請求項２９】 請求項２３〜２８記載のプラズマディ
    スプレイパネルと、 当該プラズマディスプレイパネルを駆動する駆動回路と
    を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル
    表示装置 。