JP3429659B2 - 光電子発生方法及び装置 - Google Patents
光電子発生方法及び装置Info
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- JP3429659B2 JP3429659B2 JP02589898A JP2589898A JP3429659B2 JP 3429659 B2 JP3429659 B2 JP 3429659B2 JP 02589898 A JP02589898 A JP 02589898A JP 2589898 A JP2589898 A JP 2589898A JP 3429659 B2 JP3429659 B2 JP 3429659B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトカソード表
面に対して斜めの方向から光ビームを照射して、フォト
カソード正面から光電子を発生させる光電子発生方法及
び装置に係り、特に、発生した電子を高周波（ＲＦ）加
速したとき、低いエミッタンスを得ることが可能な光電
子発生方法及び装置に関する。
面に対して斜めの方向から光ビームを照射して、フォト
カソード正面から光電子を発生させる光電子発生方法及
び装置に係り、特に、発生した電子を高周波（ＲＦ）加
速したとき、低いエミッタンスを得ることが可能な光電
子発生方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ライナック等の直線加速器やサイクロト
ロン等の回転加速器を含む電子加速器における電子源に
は、従来、一般的にサーマルカソードから発生する熱電
子が利用されてきたため、発生する電子束を短パルス、
低エミッタンスにすることが困難であった。
ロン等の回転加速器を含む電子加速器における電子源に
は、従来、一般的にサーマルカソードから発生する熱電
子が利用されてきたため、発生する電子束を短パルス、
低エミッタンスにすることが困難であった。
【０００３】従って、近年、フォトカソードから発生す
る光電子を利用する方法が、発生する電子束を短パルス
化することが可能であるため、用いられるようになって
いる。このような光電子発生装置の一つに、図８に示す
如く、レーザ照射により発生する光電子をマイクロ波で
加速する高周波（ＲＦ）ガン１０がある。
る光電子を利用する方法が、発生する電子束を短パルス
化することが可能であるため、用いられるようになって
いる。このような光電子発生装置の一つに、図８に示す
如く、レーザ照射により発生する光電子をマイクロ波で
加速する高周波（ＲＦ）ガン１０がある。
【０００４】このＲＦガン１０では、ターゲットである
フォトカソード１２の表面上に短いパルスのレーザ光８
を照射することによって、フォトカソード１２の表面か
ら光電子を飛び出させている。
フォトカソード１２の表面上に短いパルスのレーザ光８
を照射することによって、フォトカソード１２の表面か
ら光電子を飛び出させている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、通常、
レーザ光８はフォトカソード１２の表面に対して垂直で
はなく、ある入射角θをもって斜めに入射されるため、
例えばレーザ光８の断面形状が円形であったとすると、
フォトカソード１２表面上の光ビーム形状は、図８中に
示した如く、ビーム入射方向（図の上下方向）に長い楕
円形になってしまい、発生した電子をＲＦ加速したと
き、低いエミッタンスが得られないという問題点を有し
ていた。
レーザ光８はフォトカソード１２の表面に対して垂直で
はなく、ある入射角θをもって斜めに入射されるため、
例えばレーザ光８の断面形状が円形であったとすると、
フォトカソード１２表面上の光ビーム形状は、図８中に
示した如く、ビーム入射方向（図の上下方向）に長い楕
円形になってしまい、発生した電子をＲＦ加速したと
き、低いエミッタンスが得られないという問題点を有し
ていた。
【０００６】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、発生した電子をＲＦ加速したとき、
低いエミッタンスを得ることを課題とする。
くなされたもので、発生した電子をＲＦ加速したとき、
低いエミッタンスを得ることを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、フォトカソー
ド表面に対して斜めの方向から光ビームを照射して、フ
ォトカソード正面から光電子を発生させる際に、前記フ
ォトカソードに入射される光ビームの断面形状を、フォ
トカソード表面上の光ビーム形状が真円又は略円形とな
るような楕円形として、前記課題を解決したものであ
る。
ド表面に対して斜めの方向から光ビームを照射して、フ
ォトカソード正面から光電子を発生させる際に、前記フ
ォトカソードに入射される光ビームの断面形状を、フォ
トカソード表面上の光ビーム形状が真円又は略円形とな
るような楕円形として、前記課題を解決したものであ
る。
【０００８】本発明は、又、同様の光電子発生装置にお
いて、前記フォトカソードに入射される光ビームの断面
形状を、フォトカソード表面上の光ビーム形状が真円又
は略円形となるような楕円形とするビーム楕円化手段を
設けて、同様に前記課題を解決したものである。
いて、前記フォトカソードに入射される光ビームの断面
形状を、フォトカソード表面上の光ビーム形状が真円又
は略円形となるような楕円形とするビーム楕円化手段を
設けて、同様に前記課題を解決したものである。
【０００９】更に、前記フォトカソードの直前で、前記
光ビームの断面形状をモニタする手段を設けたものであ
る。
光ビームの断面形状をモニタする手段を設けたものであ
る。
【００１０】又、前記ビーム楕円化手段を、ブリュース
タープリズムとしたものである。
タープリズムとしたものである。
【００１１】更に、前記ブリュースタープリズムを少な
くとも４個用いて、該プリズム群の前後で光ビームの光
軸が変化しないようにしたものである。
くとも４個用いて、該プリズム群の前後で光ビームの光
軸が変化しないようにしたものである。
【００１２】更に、複数のプリズムをギアやベルトで連
結して、互いに連動して角度調整可能としたものであ
る。
結して、互いに連動して角度調整可能としたものであ
る。
【００１３】又、前記ビーム楕円化手段を、少なくとも
１対のシリンドリカルレンズとして、該シリンドリカル
レンズの前後で光ビームの光軸が変化しないようにした
ものである。
１対のシリンドリカルレンズとして、該シリンドリカル
レンズの前後で光ビームの光軸が変化しないようにした
ものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
施形態を詳細に説明する。
【００１５】本実施形態に係るフォトカソード照射用レ
ーザ光学系は、図１に示す如く、断面形状が円形のレー
ザパルスビーム４２を発生するレーザ光源４０と、例え
ば反射ミラー４４によって方向変換されたレーザパルス
ビーム４２を集束して、ＲＦガン１０のフォトカソード
１２に斜めの方向から入射するための伝送光学系５０と
を、主に備えている。
ーザ光学系は、図１に示す如く、断面形状が円形のレー
ザパルスビーム４２を発生するレーザ光源４０と、例え
ば反射ミラー４４によって方向変換されたレーザパルス
ビーム４２を集束して、ＲＦガン１０のフォトカソード
１２に斜めの方向から入射するための伝送光学系５０と
を、主に備えている。
【００１６】前記伝送光学系５０は、例えば、反射ミラ
ー４４で方向変換された、図２（ａ）に示すような、ビ
ームの進行と垂直な方向の位置ｒに関する断面強度分布
を有するレーザパルスビーム４２を、図２（ｂ）に示す
ような分布とするための空間フィルタ（例えばピンホー
ルアパーチャ）５２と、該空間フィルタ５２を通過した
レーザパルスのビーム径を広げるためのビームエクスパ
ンダ５４と、該ビームエクスパンダ５４によって広げら
れた、図２（ｃ）に示すような強度分布形状のうち、両
端部分を遮蔽するためのマスク５６と、該マスク５６の
開口部を通過した、断面が略矩形状のレーザパルスビー
ムを集束し、図２（ｄ）に示すような幅の狭い断面強度
分布として、前記フォトカソード１２に照射するための
凸レンズ５８と、該凸レンズ５８によって集束されたレ
ーザビーム４２の方向を変換して、前記ＲＦガン１０の
フォトカソード１２に照射するための反射ミラー６０と
を備えている。
ー４４で方向変換された、図２（ａ）に示すような、ビ
ームの進行と垂直な方向の位置ｒに関する断面強度分布
を有するレーザパルスビーム４２を、図２（ｂ）に示す
ような分布とするための空間フィルタ（例えばピンホー
ルアパーチャ）５２と、該空間フィルタ５２を通過した
レーザパルスのビーム径を広げるためのビームエクスパ
ンダ５４と、該ビームエクスパンダ５４によって広げら
れた、図２（ｃ）に示すような強度分布形状のうち、両
端部分を遮蔽するためのマスク５６と、該マスク５６の
開口部を通過した、断面が略矩形状のレーザパルスビー
ムを集束し、図２（ｄ）に示すような幅の狭い断面強度
分布として、前記フォトカソード１２に照射するための
凸レンズ５８と、該凸レンズ５８によって集束されたレ
ーザビーム４２の方向を変換して、前記ＲＦガン１０の
フォトカソード１２に照射するための反射ミラー６０と
を備えている。
【００１７】このような伝送光学系５０において、従来
は、どの場所においても、レーザパルスビーム４２の断
面形状が円形であったのに対し、本発明では、前記伝送
光学系５０の任意の場所に、図３に示すような、例えば
２個のブリュースタープリズム７０、７２からなるビー
ム楕円化装置６８を挿入して、レーザパルスビーム４２
の断面形状を、ビーム入射方向（図３の上下方向）が短
い楕円形としている。
は、どの場所においても、レーザパルスビーム４２の断
面形状が円形であったのに対し、本発明では、前記伝送
光学系５０の任意の場所に、図３に示すような、例えば
２個のブリュースタープリズム７０、７２からなるビー
ム楕円化装置６８を挿入して、レーザパルスビーム４２
の断面形状を、ビーム入射方向（図３の上下方向）が短
い楕円形としている。
【００１８】例えば、１個のブリュースタープリズム７
０を用い、直径ａのレーザビームを該プリズム７０に垂
直入射すると、プリズム７０の出側における図３の縦方
向のビーム径ｂは、次式で表わされる。
０を用い、直径ａのレーザビームを該プリズム７０に垂
直入射すると、プリズム７０の出側における図３の縦方
向のビーム径ｂは、次式で表わされる。
【００１９】
ｂ＝（cos θｂ／cos θ）＊ａ …（１）
【００２０】ここで、θｂはブリュースター角、θはプ
リズムの頂角である。この場合、横方向幅はａのままで
あるため、楕円率αは次式で表わされる。
リズムの頂角である。この場合、横方向幅はａのままで
あるため、楕円率αは次式で表わされる。
【００２１】
α＝ｂ／ａ＝（cos θｂ／cos θ） …（２）
【００２２】同様に、図３に示す如く、２個のブリュー
スタープリズム７０、７２を用いた場合には、楕円率α
は、次式に示す如くとなり、より高い楕円率の楕円ビー
ムが得られる。
スタープリズム７０、７２を用いた場合には、楕円率α
は、次式に示す如くとなり、より高い楕円率の楕円ビー
ムが得られる。
【００２３】
α＝ｃ／ａ＝（cos θｂ／cos θ）2 …（３）
【００２４】ここで、ｃは、２個のプリズム７０、７２
を出た後の出射レーザビーム幅（短軸方向）である。
を出た後の出射レーザビーム幅（短軸方向）である。
【００２５】なお、伝送光学系５０に挿入するブリュー
スタープリズムの数は、１個あるいは２個に限定され
ず、例えば図４に示す如く、４個組合せて用いることも
できる。この場合、楕円率αは、次式に示す如くとな
る。
スタープリズムの数は、１個あるいは２個に限定され
ず、例えば図４に示す如く、４個組合せて用いることも
できる。この場合、楕円率αは、次式に示す如くとな
る。
【００２６】
α＝ｅ／ａ＝（cos θｂ／cos θ）4 …（４）
【００２７】ここで、ｅは、４個のプリズム７０、７
２、７４、７６を出た後の出射レーザビーム幅（短軸方
向）である。
２、７４、７６を出た後の出射レーザビーム幅（短軸方
向）である。
【００２８】例えば、プリズムに用いたガラスの屈折率
ｎ＝１．５の場合、ブリュースター角θｂ＝５６°とな
り、プリズムの頂角θ＝３４°であれば、楕円率αは
０．２０７となる。
ｎ＝１．５の場合、ブリュースター角θｂ＝５６°とな
り、プリズムの頂角θ＝３４°であれば、楕円率αは
０．２０７となる。
【００２９】図４に示す如く、プリズムを４個組合せた
場合には、出射光軸を入射光軸と同一に戻すことが可能
となり、従来の伝送光学系に対するプリズムの挿入や除
去が容易となる。
場合には、出射光軸を入射光軸と同一に戻すことが可能
となり、従来の伝送光学系に対するプリズムの挿入や除
去が容易となる。
【００３０】なお、プリズムの数は２個あるいは４個に
限定されず、１個、３個又は５個以上とすることができ
る。
限定されず、１個、３個又は５個以上とすることができ
る。
【００３１】本実施形態においては、ブリュースタープ
リズムを用いているので、偏平率を容易に変えることが
できる。
リズムを用いているので、偏平率を容易に変えることが
できる。
【００３２】又、前記のように複数のプリズムを用いる
場合、角度の微調整が大変であるが、図５に例示する如
く、ギヤ８０、８２を有するプリズム角度連動装置７８
を設け、各プリズム７０、７２を該ギヤ８０、８２で連
結し、角度の微調整の際に、それぞれが連動するように
して、調整を容易とすることができる。なお、図５の例
では、ギヤを用いていたが、ギヤの代わりにプーリとベ
ルトの組合せを用いることも可能である。
場合、角度の微調整が大変であるが、図５に例示する如
く、ギヤ８０、８２を有するプリズム角度連動装置７８
を設け、各プリズム７０、７２を該ギヤ８０、８２で連
結し、角度の微調整の際に、それぞれが連動するように
して、調整を容易とすることができる。なお、図５の例
では、ギヤを用いていたが、ギヤの代わりにプーリとベ
ルトの組合せを用いることも可能である。
【００３３】又、フォトカソード１２に入射される光ビ
ームの断面形状を、ビーム入射方向が短い楕円形とする
ビーム楕円化装置は、前記ブリュースタープリズムを用
いたものに限定されず、図６に示すビーム楕円化装置８
４の如く、例えば２つのシリンドリカルレンズ８６、８
８を組合せて構成することができる。
ームの断面形状を、ビーム入射方向が短い楕円形とする
ビーム楕円化装置は、前記ブリュースタープリズムを用
いたものに限定されず、図６に示すビーム楕円化装置８
４の如く、例えば２つのシリンドリカルレンズ８６、８
８を組合せて構成することができる。
【００３４】この場合には、光軸が変化しないので、従
来の伝送光学系に対する配設が容易である。
来の伝送光学系に対する配設が容易である。
【００３５】更に、図７に示す如く、フォトカソード１
２の直前にハーフミラー９２を有するビーム断面モニタ
装置９０を設け、該ハーフミラー９２によって取り出し
た光ビームをスクリーン９４上に写し出すことにより、
フォトカソード１２に照射される光ビームの断面形状を
モニタできるようにすることも可能である。
２の直前にハーフミラー９２を有するビーム断面モニタ
装置９０を設け、該ハーフミラー９２によって取り出し
た光ビームをスクリーン９４上に写し出すことにより、
フォトカソード１２に照射される光ビームの断面形状を
モニタできるようにすることも可能である。
【００３６】このようにすれば、フォトカソード１２表
面上の光ビームの断面形状を確実に円形に近付けること
ができる。
面上の光ビームの断面形状を確実に円形に近付けること
ができる。
【００３７】なお、前記空間フィルタ５２を、ビームの
進行と垂直な方向の位置によって透過率の異なるガウシ
アンフィルタとして、該空間フィルタ５２を通過するレ
ーザビームの断面形状を、きれいなガウス分布に整形す
ることもできる。光路中に挿入する空間フィルタの種類
は、ピンボールアバーチャやガウシアンフィルタに限定
されず、レーザビームの断面形状をトップフラットな形
状や、他の自由な形に整形することもできる。
進行と垂直な方向の位置によって透過率の異なるガウシ
アンフィルタとして、該空間フィルタ５２を通過するレ
ーザビームの断面形状を、きれいなガウス分布に整形す
ることもできる。光路中に挿入する空間フィルタの種類
は、ピンボールアバーチャやガウシアンフィルタに限定
されず、レーザビームの断面形状をトップフラットな形
状や、他の自由な形に整形することもできる。
【００３８】なお、前記実施形態においては、本発明
が、ライナック等の電子加速器に光電子を入射するため
のＲＦガンに適用されていたが、本発明の適用対象はこ
れに限定されない。
が、ライナック等の電子加速器に光電子を入射するため
のＲＦガンに適用されていたが、本発明の適用対象はこ
れに限定されない。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、照射する光ビームがフ
ォトカソード表面上で真円又は略円形となるため、発生
した電子を例えばＲＦ加速したとき、低いエミッタンス
を得ることが可能となる。
ォトカソード表面上で真円又は略円形となるため、発生
した電子を例えばＲＦ加速したとき、低いエミッタンス
を得ることが可能となる。
【図１】本発明の実施形態におけるフォトカソード照射
用レーザ光学系の全体構成を示す光路図
用レーザ光学系の全体構成を示す光路図
【図２】前記フォトカソード照射用レーザ光学系の各所
におけるビーム強度分布の変化を示す線図
におけるビーム強度分布の変化を示す線図
【図３】前記フォトカソード照射用レーザ光学系の伝送
光学系に挿入される、本発明によるブリュースタープリ
ズムを２個用いたビーム楕円化装置の構成例及び作用を
示す平面図及び断面図
光学系に挿入される、本発明によるブリュースタープリ
ズムを２個用いたビーム楕円化装置の構成例及び作用を
示す平面図及び断面図
【図４】同じくプリズムを４個用いたビーム楕円化装置
の構成例を示す平面図及び断面図
の構成例を示す平面図及び断面図
【図５】同じくプリズム角度連動装置の構成例を示す平
面図
面図
【図６】同じく一対のシリンドリカルレンズを用いたビ
ーム楕円化装置の構成例を示す平面図
ーム楕円化装置の構成例を示す平面図
【図７】同じくビーム断面モニタ装置の構成例を示す光
路図
路図
【図８】従来のＲＦガンへのレーザ光の入射状態を示す
断面図
断面図
８…レーザ光
１０…高周波（ＲＦ）ガン
１２…フォトカソード
４０…レーザ光源
４２…レーザパルスビーム
４４…反射ミラー
５０…伝送光学系
５２…空間フィルタ
５４…ビームエクスパンダ
５６…マスク
５８…凸レンズ
６８、８４…ビーム断面楕円化装置
７０、７２、７４、７６…ブリュースタープリズム
７８…プリズム角度連動装置
８０、８２…ギヤ
８６、８８…シリンドリカルレンズ
９０…ビーム断面モニタ装置
９２…ハーフミラー
９４…スクリーン
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 37/073
H01J 1/34
G21K 1/00
Claims (7)
- 【請求項１】フォトカソード表面に対して斜めの方向か
ら光ビームを照射して、フォトカソード正面から光電子
を発生させる際に、 前記フォトカソードに入射される光ビームの断面形状
を、フォトカソード表面上の光ビーム形状が真円又は略
円形となるような楕円形としたことを特徴とする光電子
発生方法。 - 【請求項２】フォトカソード表面に対して斜めの方向か
ら光ビームを照射して、フォトカソード正面から光電子
を発生させる光電子発生装置において、 前記フォトカソードに入射される光ビームの断面形状
を、フォトカソード表面上の光ビーム形状が真円又は略
円形となるような楕円形とするビーム楕円化手段を設け
たことを特徴とする光電子発生装置。 - 【請求項３】請求項２において、更に、前記フォトカソ
ードの直前で、前記光ビームの断面形状をモニタする手
段が設けられていることを特徴とする光電子発生装置。 - 【請求項４】請求項２又は３において、前記ビーム楕円
化手段が、ブリュースタープリズムであることを特徴と
する光電子発生装置。 - 【請求項５】請求項４において、前記ブリュースタープ
リズムが少なくとも４個用いられ、該プリズム群の前後
で光ビームの光軸が変化しないようにされていることを
特徴とする光電子発生装置。 - 【請求項６】請求項４又は５において、複数のプリズム
がギアやベルトで連結され、互いに連動して角度調整可
能とされていることを特徴とする光電子発生装置。 - 【請求項７】請求項２又は３において、前記ビーム楕円
化手段が、少なくとも１対のシリンドリカルレンズであ
ることを特徴とする光電子発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02589898A JP3429659B2 (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 光電子発生方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02589898A JP3429659B2 (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 光電子発生方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11224630A JPH11224630A (ja) | 1999-08-17 |
| JP3429659B2 true JP3429659B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=12178621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02589898A Expired - Fee Related JP3429659B2 (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 光電子発生方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3429659B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5963453B2 (ja) | 2011-03-15 | 2016-08-03 | 株式会社荏原製作所 | 検査装置 |
| CN105328330B (zh) * | 2015-10-29 | 2017-05-10 | 广东正业科技股份有限公司 | 一种co2激光器及其外光路传输方法、系统 |
| CN115616792A (zh) * | 2022-11-29 | 2023-01-17 | 天津凯普林激光科技有限公司 | 一种光束整形方法、光束整形装置及紫外激光器 |
-
1998
- 1998-02-06 JP JP02589898A patent/JP3429659B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11224630A (ja) | 1999-08-17 |
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Legal Events
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