JPH10282363A - 光ファイバ導光器 - Google Patents
光ファイバ導光器Info
- Publication number
- JPH10282363A JPH10282363A JP9085325A JP8532597A JPH10282363A JP H10282363 A JPH10282363 A JP H10282363A JP 9085325 A JP9085325 A JP 9085325A JP 8532597 A JP8532597 A JP 8532597A JP H10282363 A JPH10282363 A JP H10282363A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- optical fiber
- mode
- binary optics
- areas
- Prior art date
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- Withdrawn
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- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＴＥＭnmモードのレーザビームを可及的に
ＴＥＭ00に近い強度分布、即ちきれいなガウシアン分布
のレーザビームに変換し、あるいは、ＴＥＭnmモードの
レーザビームの各領域の位相を備えて、光ファイバに導
光する光学系を提供する。 【解決手段】 ビームの各領域の位相をそのモード次
数に応じて反転させて該各領域の位相が一致するよう
に、その入射する領域の厚みをビームの各領域の元の位
相に応じた厚みのバイナリーオプティクスにより、溝は
あるもののビーム全体の電界振幅の符号が一致する。す
ると、ある程度出力位置から離間した位置では利用可能
な略ガウシアン分布のビームとなる。あるいは、モード
次数に応じて反転させて該各領域の位相が一致するよう
に、その入射する領域の厚みをビームの各領域の元の位
相に応じた厚みの位相シフト板により、位相の揃ったビ
ームとなる。このようなビームを集束させて光ファイバ
に導光する。
ＴＥＭ00に近い強度分布、即ちきれいなガウシアン分布
のレーザビームに変換し、あるいは、ＴＥＭnmモードの
レーザビームの各領域の位相を備えて、光ファイバに導
光する光学系を提供する。 【解決手段】 ビームの各領域の位相をそのモード次
数に応じて反転させて該各領域の位相が一致するよう
に、その入射する領域の厚みをビームの各領域の元の位
相に応じた厚みのバイナリーオプティクスにより、溝は
あるもののビーム全体の電界振幅の符号が一致する。す
ると、ある程度出力位置から離間した位置では利用可能
な略ガウシアン分布のビームとなる。あるいは、モード
次数に応じて反転させて該各領域の位相が一致するよう
に、その入射する領域の厚みをビームの各領域の元の位
相に応じた厚みの位相シフト板により、位相の揃ったビ
ームとなる。このようなビームを集束させて光ファイバ
に導光する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高次横モードのレ
ーザビームを、強度がガウシアン分布をなすビームに変
換した後、或いは位相を揃えた後、光ファイバに導光す
るための光学系に関するものである。
ーザビームを、強度がガウシアン分布をなすビームに変
換した後、或いは位相を揃えた後、光ファイバに導光す
るための光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザ発振器を用いたレーザ加工を行う
方法の１つとして、レーザ光を一旦光ファイバに導光し
た後、照射する方法がある。レーザ光がファイバに導入
されると、ファイバの持つ自由度の高いフレキシブルな
自在性により任意の場所に自由にファイバの出射端を持
っていくことができる。このとき、ビーム品質の高いレ
ーザ光は容易にファイバに導光でき、細いファイバを用
いることによりファイバから出射した後、高密度に集光
することができる。しかし、このような高ビーム品質を
与えるレーザはその出力が制限される。一般に、レーザ
が大出力になるほどビーム品質が悪くなり、光ファイバ
に導光しにくくなる。こうして、直径が大きいファイバ
を使用せざるを得なくなり、ファイバから出射した後の
集光性が悪くなる。
方法の１つとして、レーザ光を一旦光ファイバに導光し
た後、照射する方法がある。レーザ光がファイバに導入
されると、ファイバの持つ自由度の高いフレキシブルな
自在性により任意の場所に自由にファイバの出射端を持
っていくことができる。このとき、ビーム品質の高いレ
ーザ光は容易にファイバに導光でき、細いファイバを用
いることによりファイバから出射した後、高密度に集光
することができる。しかし、このような高ビーム品質を
与えるレーザはその出力が制限される。一般に、レーザ
が大出力になるほどビーム品質が悪くなり、光ファイバ
に導光しにくくなる。こうして、直径が大きいファイバ
を使用せざるを得なくなり、ファイバから出射した後の
集光性が悪くなる。
【０００３】一方、回折光学素子であるバイナリーオプ
ティクスは、その断面構造が光の波長オーダの階段状と
なっており、進行する光の波面は階段の厚みの違いによ
りその進行方向が変えられる。即ち、光の透過長が隣の
階段と異なるために、光の位相がずれ、光の干渉効果に
より回折して光路が曲げられる。階段の繰り返しピッチ
は光路長を一波長だけ違える幅として与えられる。例え
ばＹＡＧレーザ光を集光する目的のバイナリーオプティ
クスはその階段構造として幅が数μｍ、暑さが１μｍ程
度のものである。例えば同心円状のパターンからなるバ
イナリーオプティクスは凸レンズのような単レンズの機
能を有している。凸レンズ機能のバイナリーオプティク
スは、入射した平行光線を一点、即ち焦点に集めるよう
に働く（例えば、G. J. Swanson et al., US Patent 48
95790, (1990)参照）。
ティクスは、その断面構造が光の波長オーダの階段状と
なっており、進行する光の波面は階段の厚みの違いによ
りその進行方向が変えられる。即ち、光の透過長が隣の
階段と異なるために、光の位相がずれ、光の干渉効果に
より回折して光路が曲げられる。階段の繰り返しピッチ
は光路長を一波長だけ違える幅として与えられる。例え
ばＹＡＧレーザ光を集光する目的のバイナリーオプティ
クスはその階段構造として幅が数μｍ、暑さが１μｍ程
度のものである。例えば同心円状のパターンからなるバ
イナリーオプティクスは凸レンズのような単レンズの機
能を有している。凸レンズ機能のバイナリーオプティク
スは、入射した平行光線を一点、即ち焦点に集めるよう
に働く（例えば、G. J. Swanson et al., US Patent 48
95790, (1990)参照）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したレ
ーザ発振器にあたっては、特にレーザ出力が大きくなる
と、高次のモードで発振しやすく、中心に２つに分割さ
れたＴＥＭ10モードや４つに分割されたＴＥＭ11モー
ド、更にマトリックス状の斑点模様の形状を有するＴＥ
Ｍnmモードになり、ビーム品質が低下しがちである。こ
のようなモードのレーザ光はうまく集束させてファイバ
に導光することが困難であった。
ーザ発振器にあたっては、特にレーザ出力が大きくなる
と、高次のモードで発振しやすく、中心に２つに分割さ
れたＴＥＭ10モードや４つに分割されたＴＥＭ11モー
ド、更にマトリックス状の斑点模様の形状を有するＴＥ
Ｍnmモードになり、ビーム品質が低下しがちである。こ
のようなモードのレーザ光はうまく集束させてファイバ
に導光することが困難であった。
【０００５】本発明は、かかる状況に鑑みてなされたも
のであり、ＴＥＭnmモードのレーザビームを可及的にＴ
ＥＭ00に近い強度分布、即ちきれいなガウシアン分布の
レーザビームに変換し、あるいは、ＴＥＭnmモードのレ
ーザビームの各領域の位相を備えて、ファイバに導光す
る光学系を提供することを目的とする。
のであり、ＴＥＭnmモードのレーザビームを可及的にＴ
ＥＭ00に近い強度分布、即ちきれいなガウシアン分布の
レーザビームに変換し、あるいは、ＴＥＭnmモードのレ
ーザビームの各領域の位相を備えて、ファイバに導光す
る光学系を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、まず、高次モードのレーザビームを、強
度がガウシアン分布をなすビームに変換するべく、前記
ビームの光軸を中心として該光軸に直行する面に形成さ
れた回折格子よりなるバイナリーオプティクスに於て、
前記ビームの各領域の位相をそのモード次数に応じて反
転させて該各領域に位相が一致するように、前記ビーム
の前記各領域に応じて、対応する各領域の厚みを変え、
このバイナリーオプティクスを透過させたレーザ光を光
ファイバに導光するようにし、若しくは、位相シフト板
に於て、前記ビームの各領域の位相をそのモード次数に
応じて反転させて該各領域の位相が一致するように、前
記ビームの前記各領域に応じて、対応する各領域の厚み
を変え、該位相シフト板を透過させたレーザ光を光ファ
イバに導光するようにした光ファイバ導光器を提供す
る。
めに本発明は、まず、高次モードのレーザビームを、強
度がガウシアン分布をなすビームに変換するべく、前記
ビームの光軸を中心として該光軸に直行する面に形成さ
れた回折格子よりなるバイナリーオプティクスに於て、
前記ビームの各領域の位相をそのモード次数に応じて反
転させて該各領域に位相が一致するように、前記ビーム
の前記各領域に応じて、対応する各領域の厚みを変え、
このバイナリーオプティクスを透過させたレーザ光を光
ファイバに導光するようにし、若しくは、位相シフト板
に於て、前記ビームの各領域の位相をそのモード次数に
応じて反転させて該各領域の位相が一致するように、前
記ビームの前記各領域に応じて、対応する各領域の厚み
を変え、該位相シフト板を透過させたレーザ光を光ファ
イバに導光するようにした光ファイバ導光器を提供す
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して本発
明を詳細に説明する。
明を詳細に説明する。
【０００８】図１に本発明が適用されたレーザ加工装置
の第１の実施形態に於ける要部構成を示す。例えば平均
出力１００Ｗのレーザ加工のＮｄ：ＹＡＧレーザの共振
器１から出力された光は焦点距離の異なる２枚のレンズ
の組み合わせで構成されるビーム拡大器２を介して拡大
され、平行光に変換された後、バイナリーオプティクス
３に入射するようになっている。このレーザ光はビーム
形状が円形をなし、その光軸がバイナリーオプティクス
３の中心Ｏと一致するように入射するものとする。そし
て、ビーム変形された光は平行光にするためのバイナリ
ーオプティクス４を介して光ファイバ７に導光される。
このとき、低質成分は光ファイバには入れないため除去
される。光ファイバに導光されたレーザ光は公知のレー
ザ加工に用いられることとなる。
の第１の実施形態に於ける要部構成を示す。例えば平均
出力１００Ｗのレーザ加工のＮｄ：ＹＡＧレーザの共振
器１から出力された光は焦点距離の異なる２枚のレンズ
の組み合わせで構成されるビーム拡大器２を介して拡大
され、平行光に変換された後、バイナリーオプティクス
３に入射するようになっている。このレーザ光はビーム
形状が円形をなし、その光軸がバイナリーオプティクス
３の中心Ｏと一致するように入射するものとする。そし
て、ビーム変形された光は平行光にするためのバイナリ
ーオプティクス４を介して光ファイバ７に導光される。
このとき、低質成分は光ファイバには入れないため除去
される。光ファイバに導光されたレーザ光は公知のレー
ザ加工に用いられることとなる。
【０００９】ここで、共振器１内にはビームの横モード
を固定するためのアパチャー部材１０が設けられてい
る。これは共振器１から出力されるビームの横モードを
リングモード等時間的に変化するモードではなく固定さ
れた１つのＴＥＭnmモードとするべく、固定するべきモ
ードに応じた形状及び数の開口を設けた遮蔽部材であ
る。本形態ではＴＥＭ11モードに固定するべく、共振器
１のリヤミラー１ａとアウトプットミラー１ｂとの間に
窓形の開口のアパチャー部材１０を設けている。これ以
外に、各種形状の開口を有するアパチャー部材により任
意のＴＥＭnmモードに固定できる。
を固定するためのアパチャー部材１０が設けられてい
る。これは共振器１から出力されるビームの横モードを
リングモード等時間的に変化するモードではなく固定さ
れた１つのＴＥＭnmモードとするべく、固定するべきモ
ードに応じた形状及び数の開口を設けた遮蔽部材であ
る。本形態ではＴＥＭ11モードに固定するべく、共振器
１のリヤミラー１ａとアウトプットミラー１ｂとの間に
窓形の開口のアパチャー部材１０を設けている。これ以
外に、各種形状の開口を有するアパチャー部材により任
意のＴＥＭnmモードに固定できる。
【００１０】図２に本発明が適用されたレーザ加工装置
の第２の実施形態に於ける要部構成を示す。Ｎｄ：ＹＡ
Ｇレーザの共振器１から出力された光はビーム拡大器２
を介して拡大され、平行光に変換された後、位相シフト
板５に入射するようになっている。そして、位相を揃え
られたレーザビームはレンズ６を介して光ファイバ７に
導光される。光ファイバに導光されたレーザ光は公知の
レーザ加工に用いられることとなる。
の第２の実施形態に於ける要部構成を示す。Ｎｄ：ＹＡ
Ｇレーザの共振器１から出力された光はビーム拡大器２
を介して拡大され、平行光に変換された後、位相シフト
板５に入射するようになっている。そして、位相を揃え
られたレーザビームはレンズ６を介して光ファイバ７に
導光される。光ファイバに導光されたレーザ光は公知の
レーザ加工に用いられることとなる。
【００１１】バイナリーオプティクス３、４は半導体微
細加工技術を利用し、石英基板（直径８０ｍｍ）にマス
クをかけ露光した後、エッチングして図３（ａ）のＶ−
Ｖ線についてみた図３（ｂ）、Ｖ′−Ｖ′線についてみ
た図３（ｃ）に示すような断面形状に作製される。ここ
でバイナリーオプティクス３は光軸Ｏを中心として左右
の厚みが、一方の位相をπだけ遅らせる（または進ませ
る）分だけ異なっている。位相シフト板５についても同
様に、エッチングして図４（ａ）のＶ−Ｖ線について見
た図４（ｂ）、Ｖ′−Ｖ′線について見た図４（ｃ）に
示すような断面形状に作製される。
細加工技術を利用し、石英基板（直径８０ｍｍ）にマス
クをかけ露光した後、エッチングして図３（ａ）のＶ−
Ｖ線についてみた図３（ｂ）、Ｖ′−Ｖ′線についてみ
た図３（ｃ）に示すような断面形状に作製される。ここ
でバイナリーオプティクス３は光軸Ｏを中心として左右
の厚みが、一方の位相をπだけ遅らせる（または進ませ
る）分だけ異なっている。位相シフト板５についても同
様に、エッチングして図４（ａ）のＶ−Ｖ線について見
た図４（ｂ）、Ｖ′−Ｖ′線について見た図４（ｃ）に
示すような断面形状に作製される。
【００１２】図５は本実施例におけるバイナリーオプテ
ィクス３による光路変換及び位相変換、バイナリーオプ
ティクス４による平行光への変換の模式図を示す。上記
したアパチャー部材１０により共振器１内にてＴＥＭ11
モードに固定されたレーザビームは、バイナリーオプテ
ィクス３に入射する時点では左右前後４つのピークを有
するが、図では手前の左右２つのピークのみを示す。そ
して、その中央が暗い明暗パターンとなっている（Ａ
部）。その電界振幅は左右、即ちＯを原点としてｘ＞０
とｘ＜０とで符号が異なり、即ち位相がπだけずれてい
る（Ｂ部）。
ィクス３による光路変換及び位相変換、バイナリーオプ
ティクス４による平行光への変換の模式図を示す。上記
したアパチャー部材１０により共振器１内にてＴＥＭ11
モードに固定されたレーザビームは、バイナリーオプテ
ィクス３に入射する時点では左右前後４つのピークを有
するが、図では手前の左右２つのピークのみを示す。そ
して、その中央が暗い明暗パターンとなっている（Ａ
部）。その電界振幅は左右、即ちＯを原点としてｘ＞０
とｘ＜０とで符号が異なり、即ち位相がπだけずれてい
る（Ｂ部）。
【００１３】このようなレーザビームがバイナリーオプ
ティクス３に入射すると中心付近に集光するように回折
を起こさせるばかりでなく、右半分または左半分のいず
れか一方の位相をπだけシフトさせ電界振幅が同符号と
なるようにしてバイナリーオプティクス４で平行光に戻
す。すると、その強度分布（Ｃ部）及び電界振幅（Ｄ
部）は中央部のキャップがあることを除くとガウシアン
分布に近いものになる。
ティクス３に入射すると中心付近に集光するように回折
を起こさせるばかりでなく、右半分または左半分のいず
れか一方の位相をπだけシフトさせ電界振幅が同符号と
なるようにしてバイナリーオプティクス４で平行光に戻
す。すると、その強度分布（Ｃ部）及び電界振幅（Ｄ
部）は中央部のキャップがあることを除くとガウシアン
分布に近いものになる。
【００１４】ここで、図５のＣ部に示すような強度分布
はガウシアンビームが中央部のギャップの幅に相当する
幅Ｄの線上遮蔽物を通過する問題に帰着する（図６）。
これは幅Ｄのスリットによるフラウンホーファー回折と
相補的な関係にあるので、バイナリーオプティクス４の
中心から直線距離Ｒ0、光軸から距離ｘ0の地点における
電界振幅Ｅ（ｘ0）は、
はガウシアンビームが中央部のギャップの幅に相当する
幅Ｄの線上遮蔽物を通過する問題に帰着する（図６）。
これは幅Ｄのスリットによるフラウンホーファー回折と
相補的な関係にあるので、バイナリーオプティクス４の
中心から直線距離Ｒ0、光軸から距離ｘ0の地点における
電界振幅Ｅ（ｘ0）は、
【００１５】
【数１】
【００１６】となる。ここで、ωはビーム半径、ｋは波
数、ｉは虚数単位である。つまり、ガウシアン分布か
ら、幅Ｄのスリットから回折された成分を差し引いてや
れば良い。出射光の中心を遮蔽することによる回折成分
はバイナリーオプティクスから離れる（Ｒが大になる）
に従い左右に散らばる。
数、ｉは虚数単位である。つまり、ガウシアン分布か
ら、幅Ｄのスリットから回折された成分を差し引いてや
れば良い。出射光の中心を遮蔽することによる回折成分
はバイナリーオプティクスから離れる（Ｒが大になる）
に従い左右に散らばる。
【００１７】上記した回折成分はバイナリーオプティク
ス４によって平行光とすることができないことから、図
５のＥ部に示すようにファーフィールドではビームクォ
リティーの悪い成分が中心から離間した位置に発生す
る。この回折成分を除くには、バイナリーオプティクス
４から入射した光をレンズ６で絞ってその焦点位置近傍
にて光ファイバ７に通す（図７）。このようにすると左
右に散らばった回折成分は光ファイバ７を通ることがで
きない。
ス４によって平行光とすることができないことから、図
５のＥ部に示すようにファーフィールドではビームクォ
リティーの悪い成分が中心から離間した位置に発生す
る。この回折成分を除くには、バイナリーオプティクス
４から入射した光をレンズ６で絞ってその焦点位置近傍
にて光ファイバ７に通す（図７）。このようにすると左
右に散らばった回折成分は光ファイバ７を通ることがで
きない。
【００１８】図２に記した実施例に於ける位相シフト板
による位相変換後についても、ビーム形状がガウシアン
には変換されないことを除いて、上記のように議論でき
る。
による位相変換後についても、ビーム形状がガウシアン
には変換されないことを除いて、上記のように議論でき
る。
【００１９】同様に最大出力が得られる高次モードＴＥ
Ｍnmについてもそのモードに応じたバイナリーオプティ
クスを用いてガウシアンビームに近いビームに変換で
き、その後上記同様に、ビームクォリティーの悪い部分
を空間分離し、良い成分のみを光ファイバに導光するこ
とができる。また、モードに応じた位相シフト板を用い
て位相を揃えることができ、その後上記同様に、光ファ
イバに導光することができる。
Ｍnmについてもそのモードに応じたバイナリーオプティ
クスを用いてガウシアンビームに近いビームに変換で
き、その後上記同様に、ビームクォリティーの悪い部分
を空間分離し、良い成分のみを光ファイバに導光するこ
とができる。また、モードに応じた位相シフト板を用い
て位相を揃えることができ、その後上記同様に、光ファ
イバに導光することができる。
【００２０】
【発明の効果】かかる構成の集光光学系は、まず、ビー
ムの各領域の位相をそのモード次数に応じて反転させて
該各領域の位相が一致するように、その入射する領域の
厚みをビームの各領域の元の位相に応じた厚みとするこ
とで、溝はあるももののビーム全体の電界振幅の符号が
一致する。更に、略ガウシアン分布のビームにも変形で
き、容易に光ファイバに導光することができる。
ムの各領域の位相をそのモード次数に応じて反転させて
該各領域の位相が一致するように、その入射する領域の
厚みをビームの各領域の元の位相に応じた厚みとするこ
とで、溝はあるももののビーム全体の電界振幅の符号が
一致する。更に、略ガウシアン分布のビームにも変形で
き、容易に光ファイバに導光することができる。
【図１】本発明が適用されたレーザ加工装置の第１の実
施形態を示す要部構成図。
施形態を示す要部構成図。
【図２】本発明が適用されたレーザ加工装置の第２のの
実施形態を示す要部構成図。
実施形態を示す要部構成図。
【図３】（ａ）は本発明によるバイナリーオプティクス
の平面図、（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線について見た断面
図、（ｃ）は（ａ）のＶ′−Ｖ′線について見た断面
図。
の平面図、（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線について見た断面
図、（ｃ）は（ａ）のＶ′−Ｖ′線について見た断面
図。
【図４】（ａ）は本発明による位相シフト板の平面図、
（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線についてみた断面図、（ｃ）
は（ａ）のＶ′−Ｖ′線について見た断面図。
（ｂ）は（ａ）のＶ−Ｖ線についてみた断面図、（ｃ）
は（ａ）のＶ′−Ｖ′線について見た断面図。
【図５】本発明によるバイナリーオプティクスによる光
路変換及び位相変換、及びこれらの返還後のビームの平
行光への変換を示す模式図。
路変換及び位相変換、及びこれらの返還後のビームの平
行光への変換を示す模式図。
【図６】本発明によるバイナリーオプティクスを通過し
たＴＥＭ11モードのレーザビームの強度分布を説明する
ために模式化した説明図。
たＴＥＭ11モードのレーザビームの強度分布を説明する
ために模式化した説明図。
【図７】本発明が適用されたレーザ加工装置の光ファイ
バ導光部の構成を示す図。
バ導光部の構成を示す図。
１ 共振器 １ａ リヤミラー １ｂ アウトプットミラー ２ ビーム拡大器 ３、４ バイナリーオプティクス ５ 位相シフト板 ６ レンズ ７ 光ファイバ １０ アパチャー部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｓ 3/18 Ｇ０２Ｂ 27/00 Ｅ
Claims (2)
- 【請求項１】 高次横モードのレーザビームを光ファ
イバに導光するべく、前記レーザビームの各領域の位相
をそのモード次数に応じて反転させて該各領域の位相が
一致するように、前記レーザビームの前記各領域に応じ
て、対応する各領域の厚みを変えたバイナリーオプティ
クスにより強度がガウシアン分布をなすビームに変換し
た後、レンズで集束させて光ファイバに導光することを
特徴とする光ファイバ導光器。 - 【請求項２】 高次横モードのレーザビームを光ファ
イバに導光するべく、前記レーザビームの各領域の位相
をそのモード次数に応じて反転させて該各領域の位相が
一致するように、前記レーザビームの前記各領域に応じ
て、対応する各領域の厚みを変えた位相シフト板により
変換した後、レンズで集束させて光ファイバに導光する
ことを特徴とする光ファイバ導光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9085325A JPH10282363A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 光ファイバ導光器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9085325A JPH10282363A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 光ファイバ導光器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10282363A true JPH10282363A (ja) | 1998-10-23 |
Family
ID=13855486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9085325A Withdrawn JPH10282363A (ja) | 1997-04-03 | 1997-04-03 | 光ファイバ導光器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10282363A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019053277A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-04-04 | アスフェリコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 交替ビーム密度プロファイルを有する近接場ビーム密度分布のための光学モジュールシステム |
| CN110658632A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-01-07 | 中国原子能科学研究院 | 匀化的非相干光源装置 |
-
1997
- 1997-04-03 JP JP9085325A patent/JPH10282363A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019053277A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-04-04 | アスフェリコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 交替ビーム密度プロファイルを有する近接場ビーム密度分布のための光学モジュールシステム |
| CN110658632A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-01-07 | 中国原子能科学研究院 | 匀化的非相干光源装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040706 |