JP3408796B2 - アミノブテン誘導体の製造方法 - Google Patents

アミノブテン誘導体の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗消化性潰瘍治療
剤を製造するための中間体及びヒスタミンＨ2 受容体拮
抗作用に基づく酸分泌抑制作用を有する抗消化性潰瘍治
療剤として有用なアミノブテン誘導体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般式（Ｉ−１）
【化１５】 及び一般式（Ｉ−２）
【化１６】 （式中、Ｒ1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、Ｒ2 は水素原子、アルコキシル基、置
換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の
芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基で
ある。）で表されるアミノブテン誘導体は、抗消化性潰
瘍治療剤を製造するための中間体として知られている
（特開昭63-2253715参照）。
【０００３】更に、下記一般式
【化１７】 （式中、Ｒ11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−２−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基、ピペリジノ
メチル基又はジメチルアミノメチル基であり、ｎは０，
１又は２である。）で表されるアミノブテン誘導体は、
ピリジルオキシ誘導体とも呼ばれ、ヒスタミンＨ2 受容
体拮抗作用に基づく酸分泌抑制作用を有する抗消化性潰
瘍治療剤及びかかる治療剤を製造するための中間体とし
て知られている（特開昭63-2253715参照）。
【０００４】一般式
【化１８】 で表されるアミノブテン誘導体は、従来、ハロゲン化合
物にフタルイミド化合物を反応させ、該ハロゲン化合物
にアミノ基を導入する、いわゆるガブリエル反応により
製造されている。
【０００５】別法として、上記の式（Ｉ−２）のアミノ
ブテン誘導体は、上記の反応において使用するフタルイ
ミド化合物の代わりに、アジド化合物を用いる方法（特
開平2-1219695 参照）が知られている。更に、ジオキサ
ピエン誘導体を用いる別の方法（特開平3-2093495 参
照）も知られている。
【０００６】しかしながら、上記の方法は、上記アミノ
ブテン誘導体の製造に際し、工程数が多いこと、高価な
試薬が必要であること、副生成物が多く、アミノブテン
誘導体の収率が低いこと及びかかる副生成物から目的物
であるアミノブテン誘導体を分離することが極めて困難
である等の理由により、工業的製造方法としては、多く
の問題点を有するものである。
【０００７】更に、一般式（Ｉ−１）で表されるアミノ
ブテン誘導体は、従来一般式（Ｉ−２）のアミノブテン
誘導体をアシル化して得ているが、上記の如く製造が困
難な一般式（Ｉ−２）のアミノブテン誘導体を出発物質
として一般式（Ｉ−１）で表されるアミノブテン誘導体
を得ることは困難である。
【０００８】従って、ピリジルオキシ誘導体と呼ばれる
一般式（Ｉ−３）のアミノブテン誘導体は、アミン化合
物とカルボン酸化合物とを反応させることにより、製造
することができる（特開昭63-225371 、及び特開平1-19
3247参照）が、上記のピリジルオキシ誘導体を製造する
ための出発物質として使用するアミン化合物の従来の製
造方法は、製造工程数が多いこと、高価な試薬を使用す
る複雑な処理が必要であること、副生成物の生成が多
く、目的とするアミン化合物の収率が極めて低いこと等
の問題がある。
【０００９】一方、一般式（Ｉ−３）のアミノブテン誘
導体を製造するためのもう一つの出発物質であるカルボ
ン酸化合物は、活性化エステル誘導体として使用されて
おり、活性化エステル誘導体を合成するに際しては、高
価な試薬を使用しなければならない。更に、前記のアミ
ン化合物とカルボン酸化合物との縮合反応では、多量の
副生成物が生成し、一般式（Ｉ−３）の目的とするアミ
ノブテン誘導体をその副生成物から分離するため、複雑
な操作を要する。従って、上記の方法は、（Ｉ−３）の
アミノブテン誘導体の工業的製造方法としては適するも
のではない。
【００１０】前記アミノブテン誘導体を製造するための
中間体として使用さるアミノブテノ−ル
【化１９】 は、従来、（１）アミノブテノ−ルを接触還元する方法
［Andree Marszak-Flenry et al., Bull. Soc. Chim. F
rance,６, 1270 (1963) ］、（２）ジヒドロオキサジン
を還元的に開環する方法［O. Wichterle et. al., Coll
ect. Czech. Chem. Commun, 15, 309 (1905)］、及び
（３）フタルイミドで保護されたアミノブテノ−ルから
脱保護によりアミノブテノ−ルを遊離させる方法（特開
平3-209349）により製造されている。
【００１１】前記（１）の方法は、選択的にアミノブテ
ノ−ルを得るように接触還元反応を停止させることが困
難であり、また生成物の二重結合の幾何異性をコントロ
−ルすることも困難であるという欠点を有している。さ
らに、前記（２）の方法は、アミノブテノ−ルの合成の
原料であるジヒドロオキサジンを工業的に得ることは難
しいという欠点を有し、さらに前記（３）の方法は、操
作が煩雑であり、目的とするアミノブテノ−ルの単離が
非常に困難であるという欠点を有している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の第一
の目的は、前記の従来の方法に見られる欠点を有しない
下記一般式（Ｉ）
【化２０】 （式中、Ｒ1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、Ｒ2 は水素原子、アルコキシル基、置
換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の
芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基で
あり、Ｒ3 は水素原子、置換若しくは無置換のアシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホニル基又は置換ア
ルキル基である。）で表されるアミノブテン誘導体の製
造方法を提供することである。
【００１３】本発明の第二の目的は、下記一般式（Ｉ−
１）
【化２１】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記一般式（Ｉ）において定義
した基と同一である。）で表されるアミノブテン誘導体
の製造方法を提供することである。
【００１４】本発明の第三の目的は、下記一般式（Ｉ−
２）
【化２２】 （式中、Ｒ1 は、前記一般式（Ｉ）において定義した基
と同一である。）で表されるアミノブテン誘導体の製造
方法を提供することである。
【００１５】本発明の第四の目的は、ピリジルオキシ誘
導体と呼ばれる下記一般式（Ｉ−３）
【化２３】 （式中、Ｒ11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−２−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基、ピペリジノ
メチル基、又はジメチルアミノメチル基である。）で表
されるアミノブテン誘導体の製造方法を提供することで
ある。
【００１６】本発明の第五の目的は、下記一般式（Ｉ−
３ａ）
【化２４】 （式中、Ｒ11は前記一般式（Ｉ−３）において定義した
基と同一であり、ｍはｎ＋１、ただしｎは０又は１であ
る。）で表されるアミノブテン誘導体の製造方法を提供
することである。
【００１７】前記のアミノブテン誘導体のいずれか又は
全部は、抗消化性潰瘍治療剤を製造するための中間体と
して、あるいはヒスタミンＨ2受容体拮抗作用に基づく
酸分泌抑制作用を有する抗消化性潰瘍治療剤として有用
である。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、以下の反応を用いることにより目的とするアミノ
ブテン誘導体が容易に且つ大量に得られることを見い出
し、本発明を完成させた。すなわち、前記一般式（Ｉ）
で表されるアミノブテン誘導体を製造する本発明の第一
の目的は、一般式（II）で表されるブテン誘導体と、一
般式（II）で表されるアミド誘導体とを、下記の反応式
（Ａ）に従って反応させることにより達成することがで
きる。
【化２５】 （Ｒ1 ，Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ前記一般式（Ｉ）で
定義された基と同一であり、Ｘは水酸基、ハロゲン原
子、スルホニルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキ
シカルボニルオキシ基であるか、Ｒ1 と一体となり、環
状の亜硫酸エステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを
形成する基であり、Ｙはアルカリ金属原子、アルカリ土
類金属原子又は水素原子である。）
【００１９】一般式（Ｉ−１）で表されるアミノブテン
誘導体を製造する本発明の第二の目的は、前記反応式
（Ａ）において、Ｒ3 が水素である一般式（III)のアミ
ド誘導体を用いるか、下記の反応式（Ｂ）に従い、一般
式（Ｉａ）で表されるアミノブテン誘導体に対し、脱保
護を行うことにより達成することができる。
【化２６】 （式中、Ｒ1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、Ｒ2 は水素、アルコキシル基、置換若
しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換の芳香
族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基であ
り、Ｒ3aは置換若しくは無置換のアシル基、アルコキシ
カルボニル基、スルホニル基又は置換アルキル基であ
る。）
【００２０】前記一般式（Ｉ−２）で表されるアミノブ
テン誘導体を製造する本発明の第三の目的は、下記の反
応式（Ｃ）に従い、一般式（Ｉ）で表されるアミノブテ
ン誘導体に対し脱保護を行うか、下記の一般式（Ｄ）に
従い、前記一般式（Ｉ−１）で表されるアミノブテン誘
導体に対し、脱保護を行うことにより達成することがで
きる。
【化２７】
【００２１】一般式（Ｉ−３）で表されるアミノブテン
誘導体を製造する本発明の第四の目的は、前記の反応式
（Ａ）に従う縮合反応を行うことにより達成することが
できる。
【化２８】
【００２２】より具体的には、一般式（II）のブテン誘
導体としては、Ｒ1 が下記の基であるブテン誘導体
【化２９】 （式中、Ｒ11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
ニル−２−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、１、３−ジオキソラン−２−イル基、ピペリジノ
メチル基、ジメチルアミノ基であり、Ｘはハロゲン原
子、水酸基、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエン
スルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基で
ある。）を用い、一般式（III)で表されるアミン誘導体
としては、Ｒ2 が
【化３０】 （式中、ｎは、０，１又は２である。）であり、Ｒ3が
水素原子である一般式（III)のアミド誘導体を用いるこ
とにより、下記一般式（Ｉ−３）
【化３１】 で表されるアミノブテン誘導体を製造することができ
る。
【００２３】上記の一般式（Ｉ−３）で表されるアミノ
ブテン誘導体は、ピリジルオキシ誘導体とも呼ばれる。
【００２４】一般式（Ｉ−３ａ）で表されるアミノブテ
ンを製造する本発明の第五の目的は、前記一般式（Ｉ−
３）で表されるアミノブテン誘導体を酸化することによ
り達成することができる。
【化３２】 （式中、Ｒ11は、前記一般式（Ｉ−３）において定義し
た基と同一であり、ｍはｎ＋１である、但し、ｎは０、
１又は２である。）
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明によれば、前述の通り、下
記の反応式（Ａ）に従い、一般式（Ｉ−２）で表される
ブテン誘導体と一般式（III)で表されるアミド誘導体と
を反応させ、一般式（Ｉ）で表されるアミン誘導体を製
造する方法が提供される。
【化３３】 （式中、Ｒ1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
複素環基であり、Ｘは水酸基、ハロゲン原子、スルホニ
ルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニル
オキシ基であるか、Ｒ1 と一体となり、環状の亜硫酸エ
ステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基で
あり、Ｙはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又
は水素原子であり、Ｒ2 は水素原子、アルコキシル基、
置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換
の芳香族炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環基で
あり、Ｒ3 は水素原子、置換若しくは無置換のアシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホニル基又は置換ア
ルキル基である。）
【００２６】前記一般式（II）のブテン誘導体におい
て、Ｒ1 で表される水酸基の保護基の例としては、テト
ラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、ベンジルオキ
シメチル基、エトキシエチル基、２−メトキシエチル
基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル
基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメ
チルシリル基、ホルミル基、アセチル基、ｎ−プロピオ
ニル基、ｉｓｏ−プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、ｉ
ｓｏ−ブチリル基、バレリル基、ｉｓｏ−バレリル基、
ピバロイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブトキ
シカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボ
ニル基、フェニルオキシカルボニル基等を挙げることが
できる。
【００２７】一般式（II）で表されるブテン誘導体にお
いて、Ｒ1 で表される芳香族炭化水素基の例としては、
フェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、３−（テト
ラヒドロピラニル−２−オキシメチル）フェニル基、３
−（メトキシメトキシメチル）フェニル基、３−ホルミ
ルフェニル基、３−（ジエトキシメチル）フェニル基、
３−（１，３−ジオキソラン−２−イル）フェニル基、
３−（ピペリジノメチル）フェニル基、３−（ジメチル
アミノメチル）フェニル基、４−（テトラヒドロピラニ
ル−２−オキシメチル）フェニル基、４−（メトキシメ
トキシメチル）フェニル基、４−ホルミルフェニル基、
４−（ジエトキシメチル）フェニル基、４−（１，３−
ジオキソラン−２−イル）フェニル基、４−（ピペリジ
ノメチル）フェニル基、４−（ジメチルアミノメチル）
フェニル基、２−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ
メチル）フェニル基、２−（メトキシメトキシメチル）
フェニル基、２−ホルミルフェニル基、２−（ジエトキ
シメチル）フェニル基、２−（１，３−ジオキソラン−
２−イル）フェニル基、２−（ピペリジノメチル）フェ
ニル基、２−（ジメチルアミノメチル）フェニル基等を
挙げることができる。
【００２８】一般式（II）で表されるアミノブテン誘導
体において、Ｒ1 で表される複素環基の例としては、ピ
リジル基、キノリル基、ｉｓｏ−キノリル基、チエニル
基、フリル基、３−（テトラヒドロピラニル−２−オキ
シメチル）−２−ピリジル基、３−（メトキシメトキシ
メチル）−２−ピリジル基、３−ホルミル−２−ピリジ
ル基、３−（ジエトキシメチル）−２−ピリジル基、３
−（１，３−ジオキソラン−２−イル）−２−ピリジル
基、３−（ピペリジノメチル）−２−ピリジル基、３−
（ジメチルアミノメチル）−２−ピリジル基、４−（テ
トラヒドロピラニル−２−オキシメチル）−２−ピリジ
ル基、４−（メトキシメトキシメチル）−２−ピリジル
基、４−ホルミル−２−ピリジル基、４−（ジエトキシ
メチル）−２−ピリジル基、４−（１，３−ジオキソラ
ン−２−イル）−２−ピリジル基、４−（ピペリジノメ
チル）−２−ピリジル基、４−（ジメチルアミノメチ
ル）−２−ピリジル基、５−（テトラヒドロピラニル−
２−オキシメチル）−２−ピリジル基、５−（メトキシ
メトキシメチル）−２−ピリジル基、５−ホルミル−２
−ピリジル基、５−（ジエトキシメチル）−２−ピリジ
ル基、５−（１，３−ジオキソラン−２−イル）−２−
ピリジル基、５−（ピペリジノメチル）−２−ピリジル
基、５−（ジメチルアミノメチル）−２−ピリジル基等
を挙げることができる。
【００２９】一般式（II）で表される前記ブテン誘導体
において、Ｘで表されるハロゲン原子の例としては、塩
素原子、臭素原子、沃素原子などを挙げることができ
る。更に、前記一般式（II）で表されるブテン誘導体に
おいて、Ｘで表されるスルホニルオキシ基の例として
は、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−
トルエンスルホニルオキシ基、イミダゾスルホニルオキ
シ基等を挙げることができる。前記一般式（II）で表さ
れるブテン誘導体において、Ｘで表されるアシルオキシ
基の例としては、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ
基、ｎ−プロピオニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピオニル
オキシ基、ｎ−ブチリルオキシ基、ｉｓｏ−ブチリルオ
キシ基、バレリルオキシ基、ｉｓｏ−バレリルオキシ
基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフト
イルオキシ基等が挙げられる。
【００３０】前記一般式（II）で表されるブテン誘導体
において、Ｘで表されるアルコキシカルボニルオキシ基
の例としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシ
カルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニルオキ
シ基、アリルオキシカルボニルオキシ基、ベンジルオキ
シカルボニルオキシ基、９−フルオレニルメトキシカル
ボニルオキシ基、フェニルオキシカルボニルオキシ基等
を挙げることができる。
【００３１】一般式（II）のブテン誘導体の具体例とし
ては、４，７−ジヒドロ−１，３，２−ジオキサチエピ
ン−２−オキシド、４，７−ジヒドロ−１，３，２−ジ
オキサチエピン−２、２−ジオキシド、４，７−ジヒド
ロ−１，３，２−ジオキセピン−２−オキシド等を挙げ
ることができる。
【００３２】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｙで表されるアルカリ金属原子の例としては、リチ
ウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム
原子、セシウム原子等が挙げられ、Ｙで表されるアルカ
リ土類金属原子の例としては、マグネシウム原子、カル
シウム原子等を挙げることができる。
【００３３】更に、前記一般式（III)のアミド誘導体に
おいて、Ｒ2 で表されるアルコキシ基の例としては、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉｓｏ−ブトキ
シ基、ｔ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等を挙げるこ
とができる。
【００３４】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｒ2で表されるアルキル基の例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル
基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフル
オロメチル基、ベンジル基、フルフリルチオメチル基、
フルフリルスルフィニルメチル基、フルフリルスルホニ
ルメチル基等を挙げることができる。
【００３５】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｒ2 で表される芳香族炭化水素基の例としては、フ
ェニル基、ナフチル基、アンスリル基等を挙げることが
できる。これらの芳香族炭素基は、アルキル基、アルコ
キシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基等の置換
基を有していてもよい。
【００３６】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｒ2で表される複素環基の例としては、ピリジル
基、キノリル基、ｉｓｏ−キノリル基、チエニル基、フ
リル基等を挙げることができきるられ、これらの複素環
基は、更にアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基等の置換基を有していてもよ
い。
【００３７】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｒ3 で表されるアシル基の例としては、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリ
ル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリク
ロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、フェニルア
セチル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、フロイル基、
テノイル基、ニコチイル基、ｉｓｏ−ニコチイル基等を
挙げることができる。
【００３８】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｒ3で表されるアルコキシカルボニル基の例として
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｉ
ｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基、フェ
ニルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００３９】前記一般式（III)のアミド誘導体におい
て、Ｒ3 で表されるスルホニル基の例としては、メタン
スルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ベン
ゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、イミダ
ゾスルホニル基等を挙げることができる。前記一般式
（III)のアミド誘導体において、Ｒ3 で表される置換ア
ルキル基の例としては、ベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、２，４−ジメトキシベンジル基等を挙げること
ができる。
【００４０】次の反応式（Ａ）に従い、一般式（II）の
ブテン誘導体と、一般式（III)のアミド誘導体とを反応
させ、一般式（Ｉ）のアミノブテン誘導体を製造するに
際し、一般式（II）のブテン誘導体は、入手が容易な２
−ブテン−１，４−ジオ−ルから容易に製造することが
できる。
【化３４】
【００４１】一般式（II）ブテン誘導体において、Ｘ
は、前記のいずれかの基を表し、これは一般式（III)の
アミド誘導体と縮合反応をするものである。
【００４２】一般式（II）のブテン誘導体と一般式（II
I)のアミド誘導体との反応は、両者を混合すればよく、
これにより一般式（Ｉ）のアミノブテン誘導体を得るこ
とができる。かかる反応を円滑に進めるため、塩基の存
在下反応させることが好ましい。使用することができる
塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、ｐ−ブトキシカリウム、
ナトリウムメトキシド等のアルコキシド、水素化ナトリ
ウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金属類、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属原子類、トリエチル
アミン、ピリジン等の有機アミン類等を挙げることがで
きる。塩基の使用量は、通常前記一般式（II）で表され
るブテン誘導体に対し、０．１〜２．０当量である。
【００４３】上記の反応を行うにあたっては、不活性溶
媒中で行うことが望ましく、例えば、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素基、ＴＨＦ、ジオキサン、ＤＭＥ
等のエ−テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、メ
チルエチルケトン、アセトン、アセトニトリル、ＤＭ
Ｆ、ジメチルアセトアミド、ＤＭＳＯ等を用いることが
できる。
【００４４】上記反応は、−１００℃〜２００℃で進行
するが、効率よく反応を行うには、０℃〜１００℃で行
うことが好ましい。
【００４５】更に、反応を更に効率よく行うためには、
硫酸テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、クラ
ウンエ−テル類、ヘキサデシルトリブチルアンモニウム
ブロミド等の触媒を用いることができる。その使用量
は、前記一般式（II）で表されるブテン誘導体に対し、
０．００１〜１当量である。
【００４６】下記一般式（Ｉ−１）のアミノブテン誘導
体は、前記と同様に製造することができる。
【化３５】 （式中、Ｒ1 又はＲ2 はそれぞれ一般式（Ｉ）で定義し
た基と同一である。）
【００４７】具体的には、以下に示す反応式に従い、一
般式（II）のブテン誘導体と一般式(III−１）のアミド
誘導体とを反応させることにより、一般式（Ｉ−１）の
アミノブテン誘導体を製造することができる。
【化３６】 （式中、Ｒ2 は一般式（III)で定義した基と同一であ
る。）
【００４８】更に、本発明によれば、一般式（II−１）
のピリジルブテニル誘導体と一般式(III−２）のアセト
アミド誘導体とを反応させることにより、以下のように
ピリジルオキシ誘導体と呼ばれる一般式（Ｉ−２）のア
ミノブテン誘導体を製造することができる。
【化３７】 （式中、Ｒ11は、ヒドロキシメチル基、テトラヒドロピ
ラニル−２−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
ル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基、ピペリジノ
メチル基又はジメチルアミノメチル基であり、Ｘは水酸
基、塩素原子、臭素原子又は沃素原子等のハロゲン原
子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−
トルエンスルホニルオキシ基又はイミダゾスルホニルオ
キシ基等の置換スルホニルオキシ基であり、ｎは０，１
又は２である。）
【００４９】前記一般式（II−１）で表されるピリジル
オキシブテニル誘導体は、例えば、４位に置換基を有す
る２−クロロピリジン誘導体と２−ブテノ−ル誘導体と
を反応させることにより、容易に製造することができ
る。
【００５０】前記一般式（II−２）で表されるアセトア
ミド誘導体は、フルフリルメルカプタンと２−クロロア
セトアミドとを反応させるか、２−フルフリルスルフニ
ル酢酸＝ｐ−ニトロフェノ−ルエステルとアンモニアと
を反応させることにより製造することができる。
【００５１】前記一般式（II−１）で表されるピリジル
オキシブテニル誘導体と前記一般式(III−２）で表され
るアセトアミド誘導体との反応は、両者を混合すればよ
いが、反応を円滑に行うためには、塩基の存在下反応さ
せることが好ましい。この反応に使用するすることがで
きる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルコキシド、水素化ナトリウム、水素化
リチウム等の水素化アルカリ金属類、ナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属原子類、トリエチルアミン、ピリ
ジン等の有機アミン類等を挙げることができる。塩基の
使用量は、通常前記一般式（II−１）で表されるピリジ
ルオキシブテニル誘導体に対し、０．１〜２．０当量で
ある。
【００５２】上記の反応は、不活性溶媒中で行うことが
望ましく、不活性溶媒として、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ＴＨＦ、ジオキ
サン、ＤＭＥ等のエ−テル類、ジクロロメタン、クロロ
ホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢
酸エチル、メチルエチルケトン、アセトニトリル、ＤＭ
Ｆ、ジメチルアセトアミド、ＤＭＳＯ等を用いることが
できる。
【００５３】上記反応は−１００℃〜２００℃で進行す
るが、効率よく反応を行うには、０℃〜１００℃で行う
ことが好ましい。
【００５４】上記の反応を更に効率よく行うためには、
例えば硫酸テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチ
ルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウ
ム、クラウンエ−テル、ヘキサデシルトリブチルホスホ
ニウムブロミド等の触媒を用いることができる。その使
用量は、前記一般式（II−１）で表されるピリジルオキ
シブテニル誘導体に対し、０．００１〜１当量である。
【００５５】更に本発明によれば、次の反応式に従い、
前記一般式（II−１）のピリジルオキシブテニル誘導体
と、一般式(III−３）のイミド誘導体とを反応させるこ
とにより、一般式（Ｉ−３）のアミノブテン誘導体を製
造することができる。
【化３８】 （式中、Ｒ11及びＸはそれぞれ前記に定義した基と同一
であり、Ｒ12は水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブテニル基、ペンチル基又はヘキシル基等の炭素
数１〜６のアルキル基、フェニル基又はナフチル基等の
芳香族炭化水素基、但し該基は置換基を有してもよい、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６
のアルコキシル基、フェノキシ基又はナフチルオキシ等
のアリ−ルオキシ基であり、ｎは０、１又は２であ
る。）
【００５６】前記一般式(III−３）のイミド誘導体は、
フルフリルメルカプタンと２−クロロアセトアミドとを
反応させた後、アシル化するか、２−フルフリルスルフ
ニル酢酸＝ｐ−ニトロフェニルとアンモニアとを反応さ
せ、これにより生成した中間体をアシル化することによ
り製造することができる。
【００５７】前記一般式（II−１）のピリジルオキシブ
テニル誘導体と、前記一般式(III−３）のイミド誘導体
との反応は、両者を混合することにより、一般式（Ｉ−
３）のアミノブテン誘導体を得ることができるが、反応
を円滑に行うためには、塩基の存在下反応させることが
好ましい。
【００５８】上記の反応に使用することができる塩基と
しては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
の水酸化アルカリ類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等
の炭酸アルカリ類、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルコキシド
類、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属類、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属
類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類等を
挙げることができる。塩基の使用量は、通常前記一般式
（II−１）で表されるピリジルオキシブテニル誘導体に
対し、０．１〜２．０当量である。
【００５９】反応を行うにあたっては不活性溶媒中で行
うことが望ましく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ＴＨＦ、ジオキサン、ＤＭ
Ｅ等のエ−テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、
メチルエチルケトン、アセトン、アセトニトリル、ＤＭ
Ｆ、ジメチルアセトアミド、ＤＭＳＯ等を用いることが
できる。
【００６０】上記反応は−１００℃〜２００℃で進行す
るが、効率よく反応を行うには、０℃〜１００℃で行う
ことが好ましい。
【００６１】上記反応を更に効率よく行うためには、例
えば硫酸テトラブチルアンモニウム、塩化テトラブチル
アンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、
クラウンエ−テル、ヘキサデシルトリブチルホスホニウ
ムブロミド等の触媒を用いることができる。その使用量
は、前記一般式（II−１）で表されるピリジルブテニル
誘導体に対し、０．００１〜１当量である。
【００６２】本発明によれば、前記一般式（Ｉ−１）で
表されるアミノブテン誘導体は、次の反応式（Ｂ）に従
い、一般式（Ｉａ）で表されるアミノブテン誘導体に対
し、脱保護を行うことにより製造することができる。
【化３９】
【００６３】更に本発明によれば、下記の反応式（Ｃ）
に従い、前記一般式（Ｉ）で表されるアミノブテン誘導
体に対し、脱保護を行うか、あるいは下記反応式（Ｄ）
に従い、前記一般式（Ｉ−１）で表されるアミノブテン
誘導体に対し、脱保護を行うことにより、一般式（Ｉ−
２）のアミノブテン誘導体を製造することができる。
【化４０】
【００６４】上記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）にお
いて、Ｒ1 、Ｒ2 又はＲ3 はそれぞれ前記一般式（Ｉ）
のアミノブテン誘導体において定義したものと同一であ
り、Ｒ3aは置換若しくは無置換のアシル基、アルコキシ
カルボニル基、スルホニル基又は置換アルキル基を示
す。
【００６５】一般式（Ｉａ）のアミノブテン誘導体にお
いて、Ｒ3aで表されるアシル基としては、例えば、ホル
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バ
レリル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、ト
リクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、フェニ
ルアセチル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、フロイル
基、テノイル基、ニコチノイル基、ｉｓｏ−ニコチノイ
ル基である。
【００６６】前記一般式（Ｉａ）のアミノブテン誘導体
において、Ｒ3aで表されるアルコキシカルボニル基とし
ては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
ｉｓｏ−ブトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニル
メトキシカルボニル基、フェニルオキシカルボニル基が
ある。
【００６７】前記一般式（Ｉａ）のアミノブテン誘導体
において、Ｒ3aで表されるスルホニル基としては、例え
ば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニ
ル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル
基、イミダゾスルホニル基がある。
【００６８】前記一般式（Ｉａ）のアミド誘導体におい
て、Ｒ3aで表される置換アルキル基としては、例えば、
ベンジル基、４−メトキシベンジル基、２，４−ジメト
キシベンジル基がある。
【００６９】前記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）にお
いて、Ｒ2 ＣＯ−、Ｒ3a又はＲ3 のうち、少なくとも一
つがアシル基のときは、下記（１−１）、（１−２）、
（１−３）及び（１−４）のいずれかの方法により脱保
護を行うことができる。
【００７０】（１−１） 酸またはアルカリの存在下
で、反応温度−１０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜１
２０℃で加溶媒分解する方法。
【００７１】この加溶媒分解に用いることができる酸と
しては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、シュウ
酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、
トリクロロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファ−
スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸等の有機酸が挙げられる。
【００７２】上記加溶媒分解において使用される塩基と
しては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキ
シド、アンモニア水等が挙げられる。
【００７３】上記加溶媒分解において使用できる溶媒と
しては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエ
トキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−
ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタ
ノ−ル等のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水等が
挙げられる。これらの溶媒は単一でも混合しても用いる
ことができる。
【００７４】（１−２） 水、メタノ−ル、エタノ−
ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル又はｔ−ブ
タノ−ル等のアルコ−ル中において、前記一般式（Ｉ
ａ）、（Ｉ）及び（Ｉ−１）のいずれかのアミノブテン
誘導体とヒドラジンとを反応温度、−１０℃〜１５０
℃、好ましくは０℃〜１２０℃で反応させる方法。
【００７５】（１−３） 下記のいずれかの溶媒中にお
いて、前記一般式（Ｉａ）、（Ｉ）及び（Ｉ−１）のい
ずれかのアミノブテン誘導体と、水素化硼素リチウム、
水素化硼素ナトリウム又は水素化アルミニウムリチウム
等の金属水素化合物とを反応させる方法。反応温度は、
−１０℃〜１５０℃で、好ましくは０℃〜１２０℃であ
る。
【００７６】上記の反応に使用できる溶媒としては、例
えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、テト
ラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジメトキシエタ
ン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、ｉｓｏ−
プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル等のア
ルコ−ル、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、シメチルスルホキシド、水等が挙
げられる。これらの溶媒は単一もしくは混合しても用い
ることができる。
【００７７】（Ｉ−４） 前記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及
び（Ｄ）において、Ｒ2 ＣＯ−、Ｒ3a又はＲ3 のうち、
少なくとも一つがホルミル基のとき、脱保護は下記のい
ずれかの非プロトン性溶媒中において、第一級アミン又
は、第二級アミンのいずれかと前記一般式（Ｉａ）、
（Ｉ）又は（Ｉ−１）のアミノブテン誘導体のいずれか
とを反応させる方法。反応温度は、−１０℃〜１５０℃
で、好ましくは０℃〜１２０℃である。
【００７８】上記反応で用いることができる第一級アミ
ンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プ
ロピルアミン、ｉｓｏ−プロピルアミン、ブチルアミ
ン、ｉｓｏ−ブチルアミン、ｓ−ブチルアミン、ｔ−ブ
チルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミンが
挙げられる。また第二級アミンとしては、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ピロジリン、ピペリジン、モルホリ
ン、ピペラジン等が挙げられる。
【００７９】非プロトン性溶媒としては、例えば、ジク
ロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ベ
ンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエ−
テル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これら
の溶媒は単一でも混合しても用いることができる。
【００８０】前記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）にお
いて、Ｒ2 ＣＯ−、Ｒ3a又はＲ3 のうち、少なくとも一
つがホルミル基のときには、別法として下記のいずれか
の溶媒中において、前記一般式（Ｉａ）、（Ｉ）又は
（Ｉ−１）のいずれかのアミノブテン誘導体と過酸化水
素等の酸化剤とを反応温度−１０℃〜１５０℃、好まし
くは、０℃〜１２０℃で反応させることにより、脱保護
を行うことができる。
【００８１】上記反応に使用することができる溶媒とし
ては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキサン、ジエト
キシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、
ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−
ル等のアルコ−ル、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、水等が挙げられる。これらの溶媒は
単一もしくは混合して用いることができる。
【００８２】前記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）にお
いて、Ｒ2 ＣＯ−、Ｒ3a又はＲ3 のうち、少なくとも一
つがスルホニル基のときには、下記（２−１）、（２−
２）及び（２−３）のいずれかの方法により、脱保護を
行うことができる。
【００８３】（２−１） 反応温度−１０℃〜１５０
℃、好ましくは０℃〜１２０℃において、酸の存在下で
加溶媒分解する方法。
【００８４】上記の加溶媒分解において使用することが
できる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸、臭化水
素酸、過塩素酸等の無機酸、シュウ酸、フマル酸、マレ
イン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ｐ
−トルエンスルホン酸、カンファ−スルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸
を挙げることができる。
【００８５】上記加溶媒分解において使用することがで
きる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、
エタノ−ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、
ｔ−ブタノ−ル等のアルコ−ル、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水、酢酸等の溶媒を挙げることができる。これらの
溶媒は、単一もしくは混合して使用することができる。
【００８６】（２ー２） 溶媒中において、前記一般式
（Ｉ−ａ）、（Ｉ）又は（Ｉ−１）のアミノブテン誘導
体のいずれかとリチウム、ナトリウム等のアルカリ金属
原子とを反応温度−７８℃〜１００℃、好ましくは−７
８℃〜０℃で反応させる方法。
【００８７】上記の反応に使用することができる溶媒と
しては、例えば、液体アンモニア、メタノール、エタノ
ール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブ
タノール等のアルコール、メチルアミン、エチルアミ
ン、エチレンジアミン等の低級アミンが挙げられる。
【００８８】（２ー３） 溶媒中において、前記一般式
（Ｉａ）、（Ｉ）又は（Ｉ−１）のアミノブテン誘導体
のいずれかとナトリウムアマルガムとを反応温度−１０
℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜１２０℃で反応させる
方法。
【００８９】上記の脱保護反応に使用することができる
溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、１、４−
ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、メタノ
ール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール，ｎ−ブタノ
ール、ｔ−ブタノール等のアルコール、水、酢酸等が挙
げられる。これらの溶媒は、単独もしくは混合して使用
することができる。
【００９０】前記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）にお
いて、Ｒ2 ＣＯ−、Ｒ3a又はＲ3 の少なくとも一つが、
アルコキシカルボニル基のときには、下記（３−１）又
は（３−２）のいずれかの方法により脱保護を行うこと
ができる。
【００９１】（３−１） アルカリの存在下、反応温度
−１０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜１２０℃で加溶
媒分解する方法。
【００９２】上記加溶媒分解において使用することがで
きる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、ア
ンモニア水等が挙げられる。
【００９３】上記加溶媒分解において使用することがで
きる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエーテル類、メタノール、
エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノール等のアルコール、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等が挙げられる。これらの溶媒は、単一もしくは
混合して使用することができる。
【００９４】（３−２） 酸又は酸とスカベンジャーの
存在下、反応温度−１０℃〜１５０℃、好ましくは、０
℃〜１２０℃で加溶媒分解する方法。
【００９５】上記の加溶媒分解に使用することができる
酸としては、例えば塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、シュ
ウ酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、トリクロロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンフ
ァースルホン酸、メタンスルホン酸、及びトリフルオロ
メタンスルホン酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化
亜鉛、臭化マグネシウム、塩化第二鈴、四塩化チタン、
酸弗化硼素等の酸類を挙げることができる。
【００９６】上記加溶媒分解において使用することがで
きる溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホ
ルム等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の
芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、１、４−ジオキ
サン、ジメトキシエタン等のエーテル類、メタノール、
エタノール，ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノール等のアルコール、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等を挙げることができる。これらの溶媒は、単一
もしくは混合して使用することができる。
【００９７】上記加溶媒分解において使用することがで
きるスカベンジャーとしては、例えば、フェノール、チ
オフェノール、アニソール、チオアニソール、クレゾー
ル、チオクレゾール、ジメチルスルフィド等を挙げるこ
とができる。
【００９８】前記反応式（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）にお
いて、Ｒ2 ＣＯ−、Ｒ3a、又はＲ3の少なくとも一つ
が、置換アルキルのときには、下記（４−１）及び（４
−２）のいずれかの方法により脱保護を行うことができ
る。
【００９９】（４−１） 溶媒の存在下、又は無溶媒で
酸を反応温度、−１０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜
１２０℃で反応させ加溶媒分解する方法。
【０１００】上記の加溶媒分解で使用することができる
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、蓚
酸、フマル酸、マレイン酸、トリフルオロ酢酸、トリク
ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファ−スルホン
酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等の有機酸等を挙げることができる。
【０１０１】上記加溶媒分解で使用することができる溶
媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲ
ン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメト
キシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、
ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−
ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水を挙げる
ことができる。これらの溶媒は、単一もしくは混合して
使用することができる。
【０１０２】（４−２） 下記のいずれかの溶媒中にお
いて、前記一般式（Ｉａ）、（Ｉ）又は（Ｉ−１）のア
ミノブテン誘導体のいずれかと、２，３−ジクロロ−
５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）、
テトラクロロ−１，２−ベンゾキノン、テトラクロロ−
１，４−ベンゾキノン等の酸化剤を−１０℃〜１５０
℃、好ましくは０℃〜１２０℃で反応させ脱保護する方
法。
【０１０３】上記酸化反応に使用することができる溶媒
としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジメ
トキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ−
ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブタ
ノ−ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水を挙
げることができる。これらの溶媒は、単一もしくは混合
して使用することができる。
【０１０４】具体的には、一般式（Ｉ−２）のピジルオ
キシ誘導体は、前記の一般式（Ｉ−３）のアセトイミド
誘導体に対し、上記の脱保護を下記の反応式に従って行
うことにより製造することができる。
【化４１】 （式中、Ｒ11及びＲ12は、それぞれ前記に定義した基と
同一であり、ｎは０又は１，２である。）
【０１０５】前記一般式（Ｉ−２）のピリジルオキシ誘
導体において、ｎは０又は１のとき、前記一般式（Ｉ−
２）のピリジル誘導体を酸化することにより、下記の一
般式（Ｉ−２ａ）のピリジルオキシ誘導体を製造するこ
とができる。
【化４２】 （式中、Ｒ11は前記一般式（Ｉ−２）で定義した基と同
一であり、ｍはｎ＋１、ただしｎは０又は１である。）
【０１０６】更に、本発明によれば前期反応式（Ａ）に
おいて、前記一般式（Ｉａ）、（Ｉ）又は（Ｉ−１）の
アミノ誘導体のいずれかのＲ1 が水酸基の保護基である
ときには、下記（Ａ−１）、（Ａ−２）及び（Ａ−３）
のいずれかの方法により、前記一般式（Ｉａ）、（Ｉ）
又は（Ｉ−１）のアミノブテン誘導体のいずれかを脱保
護をすることによりアモノブテノール誘導体を製造する
ことができる。
【０１０７】（Ａ−１） 酸、酸とスカベンジャー又は
アルカリの存在下、−１０℃〜１５０℃、好ましくは０
℃〜１２０℃で加溶媒分解する方法。
【０１０８】上記の加溶媒分解で使用することができる
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸、シ
ュウ酸、フマル酸、マレイン酸、酢酸、トリフルオロ酢
酸、トリクロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、カンファ
−スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタン
スルホン酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、
臭化マグネシウム、塩化第二鈴、四塩化チタン、酸弗化
硼素等の類酸を挙げることができる。
【０１０９】上記加溶媒分解で使用することができるア
ルカリとしては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、カリウム、
ｔ−ブトキシド、アンモニア水等を挙げることができ
る。
【０１１０】上記加溶媒分解で使用することができる溶
媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
ジメトキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ
−ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブ
タノ−ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水
を挙げることができる。これらの溶媒は、単一もしくは
混合して使用することができる。
【０１１１】上記加溶媒分解において使用することがで
きるスカベンジャーとしては、例えば、フェノール、チ
オフェノール、アニソール、チオアニソール、クレゾー
ル、チオクレゾール、及びジメチルスルフィド等を挙げ
ることができる。
【０１１２】（Ａ−２） 水、メタノール、エタノ−
ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル又はｔ−ブ
タノ−ル等のアルコール中において、前記一般式（Ｉ
ａ）、（Ｉ）又は（Ｉ−１）のアミノブテン誘導体のい
ずれかとヒドラジンとを反応温度−１０℃〜１５０℃、
好ましくは０℃〜１２０℃で反応させる方法。
【０１１３】（Ａ−３） 下記のいずれかの溶媒中にお
いて、反応温度−１０℃〜１５０℃、好ましくは０℃〜
１２０℃で前記一般式（Ｉａ）、（Ｉ）又は（Ｉ−１）
のアミノブテン誘導体のいずれかと、弗化ナトリウム、
弗化カリウム、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化硼
素リチウム又は弗化水素酸等の弗化物と反応させ加溶媒
分解する方法。
【０１１４】上記加溶媒分解で使用することができる溶
媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
ジメトキシエタン等のエ−テル類、メタノ−ル、エタノ
−ル、ｉｓｏ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−ブ
タノ−ル等のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、水等を挙げることができ
る。これらの溶媒は、単一もしくは混合して使用するこ
とができる。
【０１１５】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。これらは
本発明を説明するためのものであり、これら実施例によ
って本発明は限定されないものとする。
【０１１６】（参考例１）（Ｚ）−４−ピペリジノメチ
ル−２−（４−テトラヒドロピラニルオキシ−２−ブテ
ニルオキシ）−ピリジン
【化４３】 水素化ナトリウム１．１０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）をＴ
ＨＦ２０ｍｌに懸濁させ、室温で４−テトラヒドロピラ
ニルオキシ−２−（Ｚ）−ブテノール４．３１ｇ（０．
０２５ｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下し、２
０分撹拌した。２−クロル−４−ピペリジノメチルピリ
ジン２．１０ｇ（０．０１ｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）溶液、続いてＤＭＦ（２ｍｌ）を加え、１６時間加
熱還流した。反応後溶媒を留去し、残留物をクロロホル
ムにとり、１Ｎ−塩酸水溶液で抽出した。水層に無水炭
酸カリウムを加えて塩基性とし、クロロホルムで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥、溶媒を留去し
て（Ｚ）−４−ピペリジノメチル−２−（４−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−２−ブテニルオキシ）−ピリジン
を３．１０ｇ（収率８９％）得た。
【０１１７】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．９５（８Ｈ，ｍ），２．３５−２．５５（４
Ｈ，ｍ），３．４７（２Ｈ，ｓ），３．５０−３．５８
（１Ｈ，ｍ），３．９５−４．０５（１Ｈ，ｍ），４．
３３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．９０（１Ｈ，ｂ
ｒ−ｔ，Ｊ＝２Ｈｚ），４．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），５．６８−５．７８（１Ｈ，ｍ），５．８４−
５．９４（１Ｈ，ｍ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．９
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ）．
【０１１８】（参考例２）（Ｚ）−４−〔４−（ピペリ
ジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテノール
【化４４】 （Ｚ）−４−ピペリジノメチル−２−（４−テトラヒド
ロピラニルオキシ−２−ブテニルオキシ）−ピリジン
５．０ｇ（０．０１４ｍｏｌ）をメタノール６０ｍｌに
溶解し、氷冷下ｐ−トルエンスルホン酸・一水和物６．
０ｇ（０．０３２ｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。飽
和重曹水で塩基性にした後溶媒を濃縮し、酢酸エチルで
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後溶媒を
留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、（Ｚ）−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピ
リジル−２−オキシ〕−２−ブテノールを３．１ｇ（収
率８２％）得た。 沸点 １７７−１７９℃／２ｍｍＨｇ1 Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４０−１．５５
（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．７０（４Ｈ，ｍ），２．
３５−２．５５（４Ｈ，ｍ），３．４７（２Ｈ，ｓ），
３．９０（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），４．３３（２Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ），５．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），
５．７０−５．８０（１Ｈ，ｍ），５．８４−５．９４
（１Ｈ，ｍ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．９３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ）．
【０１１９】化合物はシュウ酸塩としてエタノールより
再結晶した。 融点 １２３．４−１２４．４℃
【０１２０】（参考例３）２−フルフリルチオアセトア
ミド
【化４５】 ２−フルフリルメルカプタン１１．４ｇ（０．１ｍｏ
ｌ）、２−クロルアセトアミド９．４ｇ（０．１ｍｏ
ｌ）をアセトニトリル１００ｍｌに溶解し、無水炭酸カ
リウム１３．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を加えて、３時間加
熱還流した。終了後溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに
とり、水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、有機層を乾燥
して、溶媒を留去した。残留物をヘキサン−酢酸エチル
混合溶媒から再結晶して、２−フルフリルチオアセトア
ミドを１６．４ｇ（収率９６％）を得た。
【０１２１】融点 ６６．９−６７．６℃（再結晶溶媒
ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）1 Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．２１（２Ｈ，
ｓ），３．７９（２Ｈ，ｓ），５．９０−６．１５（１
Ｈ，ｂｒ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．
３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．４５−６．
８０（１Ｈ，ｂｒ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈ
ｚ）． ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：３４００，３２８０，１６４０，
１５０５，１４１０，１４００，１３８５，１２６０，
１２２５，１１５０，１００５，９４０，７４５． 元素分析 分子式Ｃ7 Ｈ9 ＮＯ2 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ４９．１０ ５．３０ ８．１８ １８．７３ 実測値 ４９．１０ ５．３０ ８．２４ １８．９６
【０１２２】（参考例４）２−フルフリルスルフィニル
アセトアミド
【化４６】 ２−フルフリルスルフィニル酢酸＝ｐ−ニトロフェニル
３．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）をエタノール３０ｍｌに懸濁
し、２８％アンモニア水２０ｍｌを加えて１時間加熱還
流した。反応終了後溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル
から再結晶して、２−フルフリルスルフィニルアセトア
ミドを１．２ｇ得た。
【０１２３】融点 １４４．６〜１４５．３℃1 Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．３０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ），３．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈ
ｚ），４．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．２６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），５．４８−５．６６（１
Ｈ，ｂｒ），６．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２Ｈ
ｚ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），６．８４−
６．９６（１Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈ
ｚ）．
【０１２４】（参考例５）Ｎ−アセチル−２−フルフリ
ルチオアセトアミド
【化４７】 ２−フルフリルチオアセトアミド８．５６ｇ（０．０５
ｍｏｌ）、無水酢酸５．６１ｇ（０．０５５ｍｏｌ）、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン６．１１ｇ（０．０５
ｍｏｌ）をピリジン５０ｍｌに溶解し、８０℃で１６時
間撹拌した。溶媒を留去し残留物を酢酸エチルにとり、
水、１Ｎ−塩酸水溶液、水（３回）、飽和食塩水で洗浄
し、有機層を乾燥し、溶媒を留去し、Ｎ−アセチル−２
−フルフリルチオアセトアミドを７．１１ｇ得た。
【０１２５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：２．３
５（３Ｈ，ｓ），３．３６（２Ｈ，ｓ），３．７９（２
Ｈ，ｓ），６．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．３
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．７０−８．９５（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ）．
【０１２６】（参考例６）Ｎ−ホルミル−２−フルフリ
ルチオアセトアミド
【化４８】 ６０％油性水素化ナトリウム０．７６８ｇ（１９．２ｍ
ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に懸濁さ
せ、氷冷下２−フルフリルチオアセトアミド３ｇ（１
７．４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）
溶液を滴下し、さらに室温で３０分間撹拌した。氷冷
下、ギ酸エチル１．５４ｍｌ（１９．２ｍｍｏｌ）を加
え、さらに室温で２時間撹拌した。反応液に酢酸１．１
ｍｌ（１９．２ｍｍｏｌ）を加え室温で１０分間撹拌後
減圧下濃縮した。得られた残留物を酢酸エチル（１５０
ｍｌ）−水（５０ｍｌ）に溶解し、有機層を分離した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後減圧下濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−ホルミル−２−フル
フリルチオアセトアミドを２．４ｇ（収率６９％）得
た。
【０１２７】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．３
２（２Ｈ，ｓ），３．７９（２Ｈ，ｓ），６．２３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，ｍ），７．３
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．８０〜９．１０（１
Ｈ，ｂｒ），８．９８（１Ｈ，ｂｒ）． ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：３２２４，３１８０，１７３４，
１６８４，１４７８，１３８４，１２５８，１２３４，
７５０ｃｍ-1 融点：５１．０〜５２．１℃（酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶）
【０１２８】（参考例７）Ｎ−ベンゾイル−２−フルフ
リルチオアセトアミド
【化４９】 ２−フルフリルチオアセトアミド１２．１１ｇ（０．０
７ｍｏｌ）をピリジン３０ｍｌに溶解し、ベンゾイルク
ロリド９．９４ｇ（０．０７ｍｏｌ）を加えて、６０℃
で１５時間撹拌した。溶媒を留去し、残りを酢酸エチル
にとり、水（２回）、１Ｎ−塩酸水溶液、水（３回）、
飽和食塩水で洗浄した。有機層を乾燥し、溶媒を留去
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、Ｎ−ベンゾイル−２−フルフリルチオアセトアミ
ド１４．２ｇ（収率７３％）得た。
【０１２９】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．２
２（２Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｓ），６．３０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
３．２Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），
７．４８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．６２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），８．１２（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），８．４０−８．９０（１Ｈ，ｂ
ｒ）．
【０１３０】（参考例８）Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル
−２−フルフリルチオアセトアミド
【化５０】 ６０％油性水素化ナトリウム１．６８ｇ（４２．０ｍｍ
ｏｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍｌに懸濁させ、氷冷
下、２−フルフリルチオアセトアミド３．００ｇ（１
７．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶
液を滴下し、室温で２０分撹拌した。ジ−ｔ−ブチルジ
カルボネート４．８ｍｌ（２１．０ｍｍｏｌ）を滴下
し、室温で４時間撹拌した。溶媒を留去し、残留物を水
に溶解し、１Ｎ−塩酸を加えて中和した後、酢酸エチル
にて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残留物を
クロロホルム−ヘキサンから再結晶してＮ−ｔ−ブトキ
シカルボニル−２−フルフリルチオアセトアミドを４．
０８ｇ（収率８６％）得た。
【０１３１】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
９（９Ｈ，ｓ），３．５２（２Ｈ，ｓ），３．８０（２
Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），
６．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１．９Ｈｚ），
７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．７５（１
Ｈ，ｂｒ−ｓ）． ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：３２７２，１７５０，１６９２，
１５３２ｃｍ-1 融点 １０６．６〜１０８．７℃
【０１３２】（参考例９）Ｎ−メトキシカルボニル−２
−フルフリルチオアセトアミド
【化５１】 ６０％−油性水素化ナトリウム１．２９ｇ（０．０３２
ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに懸濁させ、氷
冷下２−フルフリルチオアセトアミド５ｇ（０．０２９
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液を滴下
し、室温で３０分間撹拌した。氷冷下炭酸ジメチル２．
７ｍｌ（０．０３２ｍｏｌ）を滴下し、３０分間撹拌し
た。溶媒を減圧下留去し、残留物を水に溶解し、１Ｎ−
塩酸を加えて中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
媒を減圧下留去した。残留物をトルエンから再結晶して
Ｎ−メトキシカルボニル−２−フルフリルチオアセトア
ミドを２．７８ｇ（収率４２％）得た。
【０１３３】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．５
５（２Ｈ，ｓ），３．７９（３Ｈ，ｓ），３．８０（２
Ｈ，ｓ），６．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），
６．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，２．９Ｈｚ），
７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．８６（１
Ｈ，ｂｒ−ｓ）． ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：３２６０，３１９６，１７６０，
１５３２ｃｍ-1 融点：１２０．０−１２１．５℃
【０１３４】（参考例１０）Ｎ−２，４−ジメトキシベ
ンジル−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化５２】 塩化クロロアセチル３ｇの酢酸エチル３０ｍｌ溶液と炭
酸カリウム７．３５ｇの３０ｍｌ水溶液を混合し、そこ
へ２，４−ジメトキシベンジルアミン５．４１ｇの酢酸
エチル１０ｍｌ溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応終
了後、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、
溶媒を留去した。残留物をアセトニトリル５０ｍｌに溶
解し、フルフリルメルカプタン３ｇ、無水炭酸カリウム
３．７ｇを加えて、３時間加熱還流した。反応終了後溶
媒を留去し、残留物を酢酸エチルにとり、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を留去した。残
留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｎ−２，
４−ジメトキシベンジル−２−（フルフリルチオ）アセ
トアミド６．９ｇ（収率９０％）を得た。
【０１３５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．１
９（２Ｈ，ｓ），３．６８（２Ｈ，ｓ），３．８０（３
Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈ
ｚ），６．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３Ｈｚ，Ｊ＝２Ｈ
ｚ），６．４０〜６．５０（２Ｈ，ｍ），７．１５（１
Ｈ，ｂｒ−ｓ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），
７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）．
【０１３６】（実施例１）（Ｚ）−４−アミノ−２−ブ
テン−１−オール・ｐ−トルエンスルホン酸塩の合成 （ｉ） （Ｚ）−Ｎ，Ｎ−ジホルミル−１−アミノ−４
−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−２−ブテン
【化５３】 （Ｚ）−４−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−
２−ブテン−１−オール１０．３３ｇ（６０ｍｍｏｌ）
およびトリエチルアミン９．１ｇ（９０ｍｍｏｌ）の酢
酸エチル（２００ｍｌ）溶液に氷冷下、塩化メタンスル
ホニル１０．３ｇ（９０ｍｍｏｌ）を滴下し、２時間撹
拌した。反応溶液を１Ｎ−塩酸、１Ｎ−水酸化ナトリウ
ム溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得られた残留物
をアセトニトリル（１００ｍｌ）に溶解し、文献（Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ，１９８２，２６４）の方法に従って合
成したナトリウムジホルミルアミド７．６ｇ（８０ｍｍ
ｏｌ）を加え２時間加熱還流させた。室温まで冷却後、
不溶物を濾過で除去し、濾液を減圧下濃縮することによ
り、（Ｚ）−Ｎ，Ｎ−ジホルミル−１−アミノ−４−
（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−２−ブテン１
１．９９ｇ（収率８８％）を得た。
【０１３７】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
５−１．９０（ｍ，６Ｈ），３．５０−３．６０（ｍ，
１Ｈ），３．８０−３．９５（ｍ，１Ｈ），４．２５
（ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，７Ｈｚ，１Ｈ），４．３２（ｄ，
Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｄｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，
５Ｈｚ，１Ｈ），４．６７（ｔ，Ｊ＝３Ｈｚ，１Ｈ），
５．４５−５．５５（ｍ，１Ｈ），５．７０−５．８５
（ｍ，１Ｈ），８．８４（ｓ，２Ｈ）．
【０１３８】（ii） （Ｚ）−４−アミノ−２−ブテン
−１−オール・ｐ−トルエンスルホン酸塩
【化５４】 （Ｚ）−Ｎ，Ｎ−ジホルミル−１−アミノ−４−（テト
ラヒドロピラニル−２−オキシ）−２−ブテン１１．９
９ｇ（５２ｍｍｏｌ）のメタノール（３００ｍｌ）溶液
にｐ−トルエンスルホン酸・一水和物９．８９ｇ（５２
ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応液を
減圧下濃縮し、標記化合物１０．７８ｇ（収率８０％）
を得た。
【０１３９】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤ3 ＯＤ）：２．３
６（ｓ，３Ｈ），３．６４（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），
４．１９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），５．５５−５．６
５（ｍ，１Ｈ），５．８５−６．００（ｍ，１Ｈ），
７．２４（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ，２Ｈ）．
【０１４０】（実施例２）（Ｚ）−４−アミノ−２−ブ
テン−１−オール・塩酸塩の合成
【化５５】 文献（Ｃｈｅｍｉｃａ Ｓｃｒｉｐｔａ ｖｏｌ ２
４，１７０〜１７７，１９８４）の方法に準じて合成し
た４，７−ジヒドロ−１，３，２−ジオキサチエピン−
２−オキシド１．３４ｇ（１０ｍｍｏｌ）のトルエン
（５０ｍｌ）溶液にナトリウムジホルミルアミド１．０
４ｇ（１１ｍｍｏｌ）およびテトラブチルアンモニウム
硫酸水素塩０．３３９ｇ（１ｍｍｏｌ）を加え、２時間
加熱還流した。室温まで冷却後、溶媒を留去して得られ
る残留物をエタノール（５０ｍｌ）に溶解し１２Ｎ−塩
酸１０ｍｌを加え３時間加熱還流させた。室温まで冷却
後、減圧下濃縮して標記化合物０．５３７ｇ（収率５０
％）を得た。
【０１４１】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤ3 ＯＤ）：３．６
４（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），４．１９（ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ，２Ｈ），５．５５−５．６５（ｍ，１Ｈ），５．８
５−５．７５（ｍ，１Ｈ）
【０１４２】（実施例３）（Ｚ）−４−アミノ−２−ブ
テン−１−オール・ｐ−トルエンスルホン酸塩
【化５６】 ホルムアミド４０ｍｌにナトリウムメトキシド−２８％
メタノール溶液１５．３５ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を加
え、室温で１０分間撹拌後９０°で１時間加熱しメタノ
ールを留去した。反応溶液に氷冷下（Ｚ）−４−（テト
ラヒドロピラニル−２−オキシ）−２−ブテン−１−オ
ール・メタンスルホン酸エステル１５．０１ｇ（６０ｍ
ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液を滴下
し、２時間撹拌後室温まで昇温、さらに１８時間撹拌し
た。反応液を氷水に加え塩化メチレンで２回抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥
後減圧下濃縮することにより、（Ｚ）−Ｎ，Ｎ−ジホル
ミル−１−アミノ−４−（テトラヒドロピラニル−２−
オキシ）−２−ブテン及び（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−
アミノ−４−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−
２−ブテンの混合物１５．１ｇを得た。混合物のメタノ
ール（３００ｍｌ）溶液にｐ−トルエンスルホン酸・一
水和物１１．４１ｇ（６０ｍｍｏｌ）を加え、１８時間
撹拌後減圧下濃縮することにより標記化合物１３．５３
ｇを得た。（（Ｚ）−（４−テトラヒドロピラニル−２
−オキシ）−２−ブテン−１−オール・メタンスルホン
酸エステルより計算して収率８７％）。
【０１４３】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤ3 ＯＤ）：２．３
６（ｓ，３Ｈ），３．６４（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），
４．１９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ），５．５５−５．６
５（ｍ，１Ｈ），５．８５−６．００（ｍ，１Ｈ），
７．２４（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ，２Ｈ）
【０１４４】（実施例４）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕アセトアミド
【化５７】 （Ｚ）−Ｎ−４〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−２−ブテノール５２３ｍｇ（２ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン２５２ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）
をトルエン１０ｍｌに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド２８６ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）のトルエン（２
ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。アセトアミド１３２ｍｇ
（２．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１０ｍｌに溶解し、室温で
カリウムｔ−ブトキシド２４７ｍｇ（２．２ｍｍｏｌ）
を加え、１時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下
し、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム６８ｍｇ
（０．２ｍｍｏｌ）を加えさらに１時間撹拌した。反応
溶液を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、乾燥して、溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕アセ
トアミドを４９０ｍｇ（収率８１％）得た。
【０１４５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．６８（４
Ｈ，ｍ），２．００（３Ｈ，ｓ），２．３０−２．４８
（４Ｈ，ｍ），３．４４（２Ｈ，ｓ），４．０３（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），５．６５−５．７５（１Ｈ，ｍ），５．７７−
５．８７（１Ｈ，ｍ），６．０２−６．１６（１Ｈ，ｂ
ｒ−ｓ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．９１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）
ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：２９４０，１６５８，１６１
４，１５６４，１４２４，１２８８，１１６４，１１４
８，１１１４，１０３８．９９８ｃｍ-1
【０１４６】（実施例５）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕ホルムアミド
【化５８】 （Ｚ）−Ｎ−４〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−２−ブテノール５２３ｍｇ（２ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン２５２ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）
をトルエン１０ｍｌに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド２８６ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）のトルエン（２
ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。ホルムアミド１３２ｍｇ
（２．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１０ｍｌに溶解し、室温で
カリウムｔ−ブトキシド２４７ｍｇ（２．２ｍｍｏｌ）
を加え、１時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下
し、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム６８ｍｇ
（０．２ｍｍｏｌ）を加えさらに２時間撹拌した。反応
溶液を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、乾燥して、溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕ホル
ムアミドを２２０ｍｇ（収率３８％）得た。
【０１４７】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
８−１．５２（２Ｈ，ｍ），１．５２−１．７４（４
Ｈ，ｍ），２．３０−２．７２（４Ｈ，ｍ），３．４９
（２Ｈ，ｓ），４．０９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），４．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．６４−
５．７８（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９２（１Ｈ，
ｍ），６．２４−６．４０（１Ｈ，ｍ），６．７９（１
Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），８．０
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｓ）． ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：２９３６，１６６８，１６１
４，１５６２，１４２４，１４０４，１３１４，１１６
４，１１４８，１０３８，９９６ｃｍ-1
【０１４８】（実施例６）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕ベンズアミド
【化５９】 （Ｚ）−Ｎ−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル
−２−オキシ〕−２−ブテノール５２３ｍｇ（２ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン２５２ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）
をトルエン１０ｍｌに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド２８６ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）のトルエン（２
ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。ベンズアミド２６７ｍｇ
（２．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１０ｍｌに溶解し、室温で
カリウムｔ−ブトキシド２４７ｍｇ（２．２ｍｍｏｌ）
を加え、１時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下
し、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム６８ｍｇ
（０．２ｍｍｏｌ）を加えさらに３０分撹拌した。反応
溶液を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、乾燥して、溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕ベン
ズアミドを５２０ｍｇ（収率７１％）得た。
【０１４９】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
８−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．５０−１．７２（４
Ｈ，ｍ），２．２８−２．４６（４Ｈ，ｍ），３．４３
（２Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），４．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．７６−
５．９４（２Ｈ，ｍ），６．６０（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），
６．７９（１Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），７．３９−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．７６−
７．７８（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ）． ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：３３３６，２９３６，１６３
４，１５７８，１５５８，１５３２，１４３０，１４１
２，１３１８，１１７０，１１５０，１０４２，９８
８，７１８ｃｍ-1
【０１５０】（実施例７）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕トリフルオロアセトアミド
【化６０】 （Ｚ）−Ｎ−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル
−２−オキシ〕−２−ブテノール５２５ｍｇ（２ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン２５３ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）
をトルエン１０ｍｌに溶解し、室温でメタンスルホニル
クロリド２７５ｍｇ（２．４ｍｍｏｌ）のトルエン（２
ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応終了後沈澱
物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエンで洗浄し
て、濾液と洗液を合した。トリフルオロメチルアセトア
ミド２４９ｍｇ（２．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１０ｍｌに
溶解し、室温でカリウムｔ−ブトキシド２４７ｍｇ
（２．２ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。先の反応
溶液を室温で滴下し、硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム６８ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を加えさらに３０
分撹拌した。反応溶液を水（３回）、飽和食塩水で洗浄
し、乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−
〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−
２−ブテニル〕トリフルオロアセトアミドを４１０ｍｇ
（収率５７％）得た。
【０１５１】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
８−１．５２（２Ｈ，ｍ），１．５２−１．７０（４
Ｈ，ｍ），２．２６−２．５４（４Ｈ，ｍ），３．４３
（２Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ），４．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．６６−
５．７６（１Ｈ，ｍ），５．８５−５．９５（１Ｈ，
ｍ），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），７．３０−７．５８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），
８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）． ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：２９４０，１７１４，１６６
４，１６１４，１５６４，１４２４，１３４４，１３１
４，１１８６，１０４０，９９８ｃｍ-1
【０１５２】（実施例８）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化６１】 （Ｚ）−Ｎ−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル
−２−オキシ〕−２−ブテノール２．６１ｇ（０．０１
ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２１ｇ（０．０１２ｍ
ｏｌ）をトルエン５０ｍｌに溶解し、氷冷でメタンスル
ホニルクロリド１．２６ｇ（０．０１１ｍｏｌ）のトル
エン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。２−フルフリルチ
オアセトアミド１．７１ｇ（０．０１ｍｏｌ）をトルエ
ン２０ｍｌに溶解し、室温でカリウムｔ−ブトキシド
１．２３ｇ（０．０１１ｍｏｌ）を加え、１時間撹拌し
た。先の反応溶液を室温で滴下し、さらに３時間撹拌し
た。反応溶液を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、乾燥
した後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミドを３．
７４ｇ（収率９０％）得た。
【０１５３】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．８０（４
Ｈ，ｍ），２．３５−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．２３
（２Ｈ，ｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．７５（２
Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），
４．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．５６−５．６
８（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９２（１Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），６．
８８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ） ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：３３００，２９４０，１６５
５，１６２０，１５６０，１４２０，１４０５，１３０
０，１１５０，１０４０，１０１０，７４０ｃｍ -1 さらに、Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジ
ル−２−オキシ〕−（Ｚ）−２−ブテニル〕−２−（フ
ルフリルチオ）アセトアミドは、シュウ酸塩とし、エタ
ノールより再結晶して以下に示す物性値を得た。 融点 １１４−１１５℃ 元素分析 分子式Ｃ24Ｈ31Ｎ3 Ｏ7 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ５７．０２ ６．１８ ８．３１ ６．３４ 実測値 ５６．８０ ６．１９ ８．０５ ６．５７
【０１５４】（実施例９）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルスルフィニル）アセトアミ
ド
【化６２】 （Ｚ）−Ｎ−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル
−２−オキシ〕−２−ブテノール２．６１ｇ（０．０１
ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２１ｇ（０．０１２ｍ
ｏｌ）をトルエン５０ｍｌに溶解し、氷冷でメタンスル
ホニルクロリド１．２６ｇ（０．０１１ｍｏｌ）のトル
エン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。２−フルフリルス
ルフィニルアセトアミド１．８７ｇ（０．０１ｍｏｌ）
をトルエン２０ｍｌに溶解し、室温でカリウムｔ−ブト
キシド１．２３ｇ（０．０１１ｍｏｌ）を加え、１時間
撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下し、さらに３時間
撹拌した。反応溶液を水（３回）、飽和食塩水で洗浄
し、乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−
〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−
２−ブテニル〕−２−〔フルフリルスルフィニル）アセ
トアミドを３．２４ｇ（収率７５％）得た。
【０１５５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５０（２Ｈ，ｍ），１．５０−１．６５（４
Ｈ，ｍ），２．３０−２．４５（４Ｈ，ｍ），３．３４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），３．４０（２Ｈ，ｓ），
３．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．１４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ），４．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），
４．９３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．６０−
５．７５（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９０（１Ｈ，
ｍ），６．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．
４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，
ｓ），７．２０（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），７．４４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ） ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：３３３４，２９３６，１６４０，
１６１５，１５６２，１５２９，１４１１，１０４２ｃ
ｍ-1 融点 ７２．７−７３．４℃ 元素分析 分子式Ｃ22Ｈ29Ｎ3 Ｏ4 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ６１．２３ ６．７７ ９．７４ ７．４３ 実測値 ６０．８９ ６．７２ ９．５１ ７．４３
【０１５６】（実施例１０）（Ｚ）−Ｎ−アセチル−Ｎ
−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オ
キシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセ
トアミド
【化６３】 （Ｚ）−Ｎ−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル
−２−オキシ〕−２−ブテノール２．６１ｇ（０．０１
ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２１ｇ（０．０１２ｍ
ｏｌ）をトルエン５０ｍｌに溶解し、室温でメタンスル
ホニルクロリド１．２６ｇ（０．０１１ｍｏｌ）のトル
エン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。Ｎ−アセチル−２
−フルフリルチオアセトアミド２．１３ｇ（０．０１ｍ
ｏｌ）をトルエン２０ｍｌに溶解し、室温でカリウムｔ
−ブトキシド１．２３ｇ（０．０１１ｍｏｌ）を加え、
１時間撹拌した。先の反応溶液を室温で滴下し、さらに
３時間撹拌した。反応溶液を水（３回）、飽和食塩水で
洗浄し、乾燥して、溶媒を留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、（Ｚ）−Ｎ−ア
セチル−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジ
ル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリル
チオ）アセトアミドを３．５０ｇ（収率７６％）得た。
【０１５７】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
５−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．８５（４
Ｈ，ｍ），２．４１（３Ｈ，ｓ），２．４０−２．７０
（４Ｈ，ｍ），３．１２（２Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．７２
（２Ｈ，ｓ），３．８０（２Ｈ，ｓ），４．５４（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），５．４２−５．５２（１Ｈ，ｍ），５．８２−
５．９２（１Ｈ，ｍ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈ
ｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．
８１（１Ｈ，ｓ），７．０７（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），７．
３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ）． ＩＲ（ν，ｎｅａｔ）：２９４０，１７０４，１６１
４，１５６４，１４２２，１３７２，１１２２
【０１５８】（実施例１１）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化６４】 （Ｚ）−Ｎ−アセチル−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−（Ｚ）−２−ブテニ
ル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド４５７ｍｇ
（１ｍｍｏｌ）をメタノール１０ｍｌに溶解し、氷冷下
１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液１ｍｌを加え１時間撹拌
した。反応終了後溶媒を留去し、残留物を酢酸エチルに
溶解し、水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、有機層を乾
燥して溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミドを２１
０ｍｇ得た。
【０１５９】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．８０（４
Ｈ，ｍ），２．３５−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．２３
（２Ｈ，ｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．７５（２
Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），
４．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．５６−５．６
８（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９２（１Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），６．
８８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）．
【０１６０】（実施例１２）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルスルフィニル）アセトアミ
ド
【化６５】 （Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジ
ル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリル
チオ）アセトアミド４１５ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を塩化メ
チレン５ｍｌおよび酢酸５ｍｌに溶解し、氷冷下３０％
過酸化水素水１００ｍｇを加えて１時間撹拌した。終了
後水１０ｍｌを加えて酢酸エチルで抽出し、水層を炭酸
カリウムを用いて塩基性にした後酢酸エチルで抽出し、
有機層を水（３回）、飽和食塩水で洗浄し、乾燥した。
溶媒を留去して、残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリ
ジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕
−２−（フルフリルスルフィニル）アセトアミドを３６
０ｍｇ（収率８３％）得た。
【０１６１】融点：７２．７−７３．４℃1 Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４０−１．５０
（２Ｈ，ｍ），１．５０−１．６５（４Ｈ，ｍ），２．
３０−２．４５（４Ｈ，ｍ），３．３４（１Ｈｄ，Ｊ＝
１４Ｈｚ），３．４０（２Ｈ，ｓ），３．６９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ），４．１５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．
３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），４．９３（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．６０−５．７５（１Ｈ，
ｍ），５．８０−５．９０（１Ｈ，ｍ），６．４０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），７．２０（１Ｈ，
ｂｒ−ｓ），７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．
０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）． ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：３３３４，２９３６，１６４０，
１６１５，１５６２，１５２９，１４１１，１０４２． 元素分析 分子式Ｃ22Ｈ29Ｎ3 Ｏ4 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ６１．２３ ６．７７ ９．７４ ７．４３ 実測値 ６０．８９ ６．７２ ９．５１ ７．４３
【０１６２】（実施例１３）（Ｚ）−Ｎ−ｔ−ブトキシ
カルボニル−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピ
リジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフ
リルチオ）アセトアミド
【化６６】 （Ｚ）−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２
−オキシ〕−２−ブテノール１．００ｇ（３．８１ｍｍ
ｏｌ）、トリエチルアミン０．６６ｍｌ（４．５７ｍｍ
ｏｌ）をトルエン３０ｍｌに溶解し、氷冷下塩化メタン
スルホニル０．３５ｍｌ（４．５７ｍｍｏｌ）を滴下
し、１時間撹拌した。反応液を水、１Ｎ−水酸化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フルフリルチオアセ
トアミド１．１４ｇ（４．１９ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン２０ｍｌに溶解させ、氷冷下カリウムｔ−ブト
キシド１．１４ｇ（４．１９ｍｍｏｌ）を加え、室温で
３０分撹拌後硫酸水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
６４ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）を加えた。先の反応液を
室温で滴下し、更に４時間撹拌した。反応溶液を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに
て精製し、（Ｚ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−
〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキ
シ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセト
アミドを１．６９ｇ（収率８６％）得た。
【０１６３】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
９−１．４９（２Ｈ，ｍ），１．５０（９Ｈ，ｓ），
１．５３−１．６３（４Ｈ，ｍ），２．３０−２．４２
（４Ｈ，ｍ），３．４０（２Ｈ，ｓ），３．７７（２
Ｈ，ｓ），３．７９（２Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６．３Ｈｚ），４．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．４Ｈｚ），５．５２−５．６３（１Ｈ，ｍ），５．
８０−５．９０（１Ｈ，ｍ），６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３．３Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，
１．９Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｓ），６．８６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ） ＩＲ（ν，ｎｅａｔ）：２９３６，１７３６，１６８
６，１６１４ｃｍ-1
【０１６４】（実施例１４）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化６７】 （Ｚ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−〔４−〔４
−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−
ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド５５
ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５ｍｌに溶解
し、室温下、トリフルオロ酢酸１０．１ｍｌ（１．３０
ｍｍｏｌ）を加え７時間撹拌した。反応終了後１０％炭
酸カリウムで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶
媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー
にて精製し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメ
チル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−
（フルフリルチオ）アセトアミドを３６ｍｇ（収率８０
％）得た。
【０１６５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．８０（４
Ｈ，ｍ），２．３５−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．２３
（２Ｈ，ｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．７５（２
Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），
４．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．５６−５．６
８（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９２（１Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），６．
８８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ） ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：３３００，２９４０，１６５
５，１６２０，１５６０，１４２０，１４０５，１３０
０，１１５０，１０４０，１０１０，７４０ｃｍ -1
【０１６６】さらに、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペ
リジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニ
ル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミドは、シュウ
酸塩とし、エタノールより再結晶して以下に示す物性値
を得た。
【０１６７】融点 １１４−１１５℃ 元素分析 分子式Ｃ24Ｈ31Ｎ3 Ｏ7 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ５７．０２ ６．１８ ８．３１ ６．３４ 実測値 ５６．８０ ６．１９ ８．０５ ６．５７
【０１６８】（実施例１５）（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−Ｎ
−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オ
キシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセ
トアミド
【化６８】 （Ｚ）−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２
−オキシ〕−２−ブテノール１．１９ｇ（４．５４ｍｍ
ｏｌ）、トリエチルアミン０．７９ｍｌ（５．６ｍｍｏ
ｌ）をトルエン３５ｍｌに溶解し、氷冷下塩化メタンス
ルホニル０．４２１ｍｌ（５．４４ｍｍｏｌ）を滴下
し、室温で３０分撹拌した。反応液を水、１Ｎ−水酸化
ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。カリウムｔ−ブトキシド０．５６ｇ（５．００ｍｍ
ｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）に懸濁させ、
氷冷下Ｎ−ホルミル−２−フルフリルチオアセトアミド
１．０ｇ（５．００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン
（２０ｍｌ）溶液を滴下し、室温で３０分間撹拌後硫酸
水素テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム８４ｍｇ（０．２
５ｍｍｏｌ）を加えた。先のトルエン溶液を室温で滴下
し、更に５時間撹拌した。反応液を水、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧下留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、
（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−Ｎ−〔４−〔４−ピペリジノメ
チル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−
（フルフリルチオ）アセトアミドを１．６ｇ（収率７９
％）得た。
【０１６９】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
５〜１．５０（２Ｈ，ｍ），１．５０〜１．７１（４
Ｈ，ｍ），２．２５〜２．６０（４Ｈ，ｍ），３．４６
（２Ｈ，ｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．８２（２
Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），
５．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．４３〜
５．５５（１Ｈ，ｍ），６．８０〜６．９２（１Ｈ，
ｍ），６．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．３
１（１Ｈ，ｍ），６．７４（１Ｈ，ｓ），６．９２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２Ｈｚ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），
９．１９（１Ｈ，ｓ） ＩＲ（ν，ＫＢｒ）：２９２８，１６６０，１６１４，
１５５６，１３０８ｃｍ-1 融点：６８．１〜７０．３℃（酢酸エチル−ジエチルエ
ーテルより再結晶）
【０１７０】（実施例１６）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化６９】 （Ｚ）−Ｎ−ホルミル−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２
−（フルフリルチオ）アセトアミド０．２４ｇ（０．５
４ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍｌ）に溶解し、ｐ−ト
ルエンスルホン酸・一水和物０．２２６ｇ（１．１９ｍ
ｍｏｌ）を加え、１４時間撹拌した。反応液に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
で２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（Ｚ）
−−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−
２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリルチ
オ）アセトアミドを１５７ｍｇ（収率７０％）得た。
【０１７１】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．８０（４
Ｈ，ｍ），２．３５−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．２３
（２Ｈ，ｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．７５（２
Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），
４．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．５６−５．６
８（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９２（１Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），６．
８８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ） ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：３３００，２９４０，１６５
５，１６２０，１５６０，１４２０，１４０５，１３０
０，１１５０，１０４０，１０１０，７４０ｃｍ -1
【０１７２】さらに、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペ
リジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニ
ル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミドは、シュウ
酸塩とし、エタノールより再結晶して以下に示す物性値
を得た。
【０１７３】融点 １１４−１１５℃ 元素分析 分子式Ｃ24Ｈ31Ｎ3 Ｏ7 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ５７．０２ ６．１８ ８．３１ ６．３４ 実測値 ５６．８０ ６．１９ ８．０５ ６．５７
【０１７４】（実施例１７）（Ｚ）−Ｎ−メトキシカル
ボニル−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジ
ル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリル
チオ）アセトアミド
【化７０】 （Ｚ）−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２
−オキシ〕−２−ブテノール〕０．５ｇ（１．９ｍｍｏ
ｌ）、トリエチルアミン０．３３ｍｌ（２．３ｍｍｏ
ｌ）をトルエン３０ｍｌに溶解し、氷冷下塩化メタンス
ルホニル０．１８ｍｌ（２．３ｍｍｏｌ）を滴下し、室
温で３０分間撹拌した。反応液を水、１Ｎ−水酸化ナト
リウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。カリウムｔ−ブトキシド０．２４ｍｇ（２．１ｍｍ
ｏｌ）をテトラヒドロフラン５ｍｌに懸濁させ、氷冷下
Ｎ−メトキシカルボニル−２−フルフリルチオアセトア
ミド０．４８ｇ（２．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラ
ン（１５ｍｌ）溶液を滴下し室温で３０分間撹拌後、臭
化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム０．０４８ｇ
（０．０９５ｍｍｏｌ）を加えた。先のトルエン溶液を
室温で滴下し、更に３時間撹拌した。反応液を水、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ
−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オ
キシ〕−２−ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセ
トアミドを０．８６ｇ（収率９５％）得た。
【０１７５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．３
９−１．４９（２Ｈ，ｍ），１．５３−１．６７（４
Ｈ，ｍ），２．３２−２．４０（４Ｈ，ｍ），３．４１
（２Ｈ，ｓ），３．７８（２Ｈ，ｓ），３．８０（３
Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｓ），４．５０（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
８Ｈｚ），５．５１−５．６３（１Ｈ，ｍ），５．８２
−５．９３（１Ｈ，ｍ），６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．７Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，
２．７Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．８８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈ
ｚ）． ＩＲ（ν，ｎｅａｔ）：２９４０，１７４２，１６９
０，１６１４，１５６２ｃｍ-1
【０１７６】（実施例１８）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化７１】 （Ｚ）−Ｎ−ホルミル−Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノ
メチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニル〕−２
−（フルフリルチオ）アセトアミド０．５ｇ（１．１ｍ
ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４ｍｌに溶解し、氷冷下
イソプロピルアミンテトラヒドロフラン溶液２．３ｍｌ
（２．３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１０時間撹拌し
た。反応後溶媒を減圧下留去し、残留物を酢酸エチルに
溶解して飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミドを０．
４１ｇ（収率８６％）を得た。
【０１７７】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．５５（２Ｈ，ｍ），１．５５−１．８０（４
Ｈ，ｍ），２．３５−２．６５（４Ｈ，ｍ），３．２３
（２Ｈ，ｓ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．７５（２
Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），
４．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．５６−５．６
８（１Ｈ，ｍ），５．８０−５．９２（１Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｓ），６．
８８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），６．９８（１Ｈ，ｂｒ−
ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），８．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ） ＩＲ（ν，ｆｉｌｍ）：３３００，２９４０，１６５
５，１６２０，１５６０，１４２０，１４０５，１３０
０，１１５０，１０４０，１０１０，７４０ｃｍ -1
【０１７８】さらに、（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−（ピペ
リジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブテニ
ル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミドは、シュウ
酸塩とし、エタノールより再結晶して以下に示す物性値
を得た。
【０１７９】融点 １１４−１１５℃ 元素分析 分子式Ｃ24Ｈ31Ｎ3 Ｏ7 Ｓとして Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値 ５７．０２ ６．１８ ８．３１ ６．３４ 実測値 ５６．８０ ６．１９ ８．０５ ６．５７
【０１８０】（実施例１９）（Ｚ）−Ｎ−〔４−（テト
ラヒドロピラニル−２−オキシ）−２−ブテニル〕−２
−（フルフリルチオ）アセトアミド
【化７２】 （Ｚ）−４−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−
２−ブテン−１−オール１．２ｇ、トリエチルアミン
０．７６ｇを酢酸エチル３０ｍｌに溶解し、氷冷下、塩
化メタンスルホニル０．８６ｇの酢酸エチル５ｍｌ溶液
を滴下し、１時間撹拌した。反応終了後、反応液を水、
飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を留去
した。（１）２−フルフリルチオアミド０．７９ｇをテ
トラヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、室温でカリウムｔ
−ブトキシド０．５２ｇを加え３０分撹拌した。さらに
（１）で得た反応処理物のテトラヒドロフラン１０ｍｌ
溶液を滴下し、３時間撹拌した。反応終了後、減圧下溶
媒を留去し、残留物を酢酸エチルにとり、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、有機層を乾燥後、溶媒を留去した。残
留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、（Ｚ）−
Ｎ−〔４−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−２
−ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセトアミド
１．１ｇ（収率７８％）を得た。
【０１８１】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０〜１．９０（６Ｈ，ｍ），３．２１（２Ｈ，ｓ），
３．５０〜３．６０（１Ｈ，ｍ），３．７４（２Ｈ，
ｓ），３．７０〜３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，６Ｈｚ），４．３０（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，６Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝３Ｈｚ），５．５２〜５．６３（１Ｈ，ｍ），５．
７０〜５．８２（１Ｈ，ｍ），６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３Ｈｚ）
【０１８２】（実施例２０）（Ｚ）−Ｎ−（４−ヒドロ
キシ−２−ブテニル）−２−（フルフリルチオ）アセト
アミド
【化７３】 （Ｚ）−Ｎ−〔４−（テトラヒドロピラニル−２−オキ
シ）−２−ブテニル〕−２−（フルフリルチオ）アセト
アミド４．４８ｇをメタノール５０ｍｌに溶解し、ｐ−
トルエンスルホン酸２．７５ｇを加え３時間撹拌した。
反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル
にとり、水、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を乾燥後
溶媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、Ｎ−（４−ヒドロキシ−（Ｚ）−２−ブテニ
ル）−２−（フルフリルチオ）アセトアミド３．３ｇ
（収率９５％）を得た。
【０１８３】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：３．２
１（２Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｓ），３．８８（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），５．３８〜５．５２（１Ｈ，ｍ），５．７８〜
５．９０（１Ｈ，ｍ），６．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈ
ｚ），６．２９〜６．３３（１Ｈ，ｍ），６．９５（１
Ｈ，ｂｒ−ｓ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）
【０１８４】（実施例２１）（Ｚ）−Ｎ−〔４−〔４−
（ピペリジノメチル）ピリジル−２−オキシ〕−２−ブ
テニル〕−Ｎ−２，４−ジメトキシベンジル−２−（フ
ルフリルチオ）アセトアミド
【化７４】 （Ｚ）−Ｎ−４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジル
−２−オキシ〕−２−ブテノール２．６１ｇ（０．０１
ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．２１ｇ（０．０１２ｍ
ｏｌ）をトルエン５０ｍｌに溶解し、氷冷でメタンスル
ホニルクロリド１．２６ｇ（０．０１１ｍｏｌ）のトル
エン（１０ｍｌ）溶液を滴下し、１時間撹拌した。反応
終了後沈澱物を濾過し、固体をさらに１０ｍｌのトルエ
ンで洗浄して、濾液と洗液を合した。Ｎ−２，４−ジメ
トキシベンジル−２−フルフリルチオアセトアミド２．
８９ｇ（０．０１ｍｏｌ）をトルエン２０ｍｌに溶解
し、室温でカリウムｔ−ブトキシド１．２３ｇ（０．０
１１ｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。先の反応溶液を
室温で滴下し、さらに３時間撹拌した。反応溶液を水
（３回）、飽和食塩水で洗浄し、乾燥した後、溶媒を留
去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、Ｎ−〔４−〔４−（ピペリジノメチル）ピリジ
ル−２−オキシ〕−（Ｚ）−２−ブテニル〕−Ｎ−２，
４−ジメトキシベンジル−２−（フルフリル）アセトア
ミドを５．１ｇ（収率９０％）得た。
【０１８５】1Ｎ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｌ3 ）：１．４
０−１．６５（２Ｈ，ｍ），２．３５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ），３．３７（４Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，
ｓ），３．７６（３Ｈ，ｓ），３．８８（２Ｈ，ｓ），
４．０５〜４．２０（２Ｈ，ｍ），４．４３（１Ｈ，
ｓ），４．５７（１Ｈ，ｓ），４．７５〜４．８５（２
Ｈ，ｍ），５．７５〜５．８０（１Ｈ，ｍ），６．２２
〜６．３２（２Ｈ，ｍ），６．３５〜６．４５ (３Ｈ，
ｍ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝３Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｓ），７．４７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）
フロントページの続き (72)発明者 松本 正勝 神奈川県相模原市新磯野４−８−１− 509 (72)発明者 関根 安男 東京都新宿区西新宿２丁目７番１号 富 士レビオ株式会社内 (72)発明者 西村 雅人 東京都新宿区西新宿２丁目７番１号 富 士レビオ株式会社内 (72)発明者 細田 昭彦 東京都新宿区西新宿２丁目７番１号 富 士レビオ株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−193247（ＪＰ，Ａ) Ｊｅｒｒｙ Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎ ｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓ ｔｒｙ，Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ, ｐ．338−341（1985) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 213/64 C07D 405/12 C07D 407/12 C07C 213/02 C07C 215/24

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 【化１】 で表されるブテン誘導体と、一般式 【化２】 で表されるアミド誘導体とを反応させて、一般式 【化３】 （式中、Ｒ 1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
    は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
    複素環基であり、Ｘは水酸基、ハロゲン原子、スルホニ
    ルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニル
    オキシ基であるか、Ｒ 1 と一体となり、環状の亜硫酸エ
    ステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基で
    あり、Ｙはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又
    は水素原子であり、Ｒ 2 は水素原子、アルコキシル基、
    置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換
    の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基
    であ り、Ｒ 3a は置換若しくは無置換のアシル基、アル
    コキシカルボニル基、スルホニル基又は置換アルキル基
    である。）で表されるアミノブテン誘導体を得て、 次いで、該 アミノブテン誘導体を脱保護し、一般式 【化４】 で表されるアミノブテン誘導体を製造する方法。
  2. 【請求項２】 Ｒ1 が 【化５】 （式中、Ｒ11はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
    ニル−２−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
    基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
    ル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基、ピペリジノ
    メチル基又はジメチルアミノメチル基である。）であ
    り、 Ｒ2 が、 【化６】 （式中、ｎは０、１又は２を表す。）であり、 Ｒ3 が、 【化７】 （式中、Ｒ12は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
    置換若しくは無置換の芳香族炭化水素基、炭素数１〜６
    のアルコキシ基又は置換若しくは無置換のアリルオキシ
    基である。）である、一般式 【化８】 で表されるアミノブテン誘導体を製造する請求項１記載
    の方法。
  3. 【請求項３】 一般式 【化９】 で表されるブテン誘導体と、一般式 【化１０】 で表されるアミド誘導体とを反応させて、一般式 【化１１】 ｛式中、Ｘは水酸基、ハロゲン原子、スルホニルオキシ
    基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニルオキシ基
    であるか、Ｒ 1 と一体となり、環状の亜硫酸エステル、
    硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基であり、Ｙ
    はアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又は水素原
    子であり、ｎは０または１であり、 Ｒ 1 が 【化１２】 （式中、Ｒ 11 はヒドロキシメチル基、テトラヒドロピラ
    ニル−２−オキシメチル基、メトキシメトキシメチル
    基、ホルミル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチ
    ル基、１，３−ジオキソラン−２−イル基、ピペリジノ
    メチル基又はジメチルアミノメチル基である。）であ
    り、 Ｒ 2 が、 【化１３】 （式中、ｎは０、１又は２を表す）である｝で表される
    アミノブテン誘導体を得 て、 次いで、該アミノブテン 誘導体を酸化して、一般式 【化１４】 （式中、ｍはｎ＋１である）で表されるアミノブテン誘
    導体を製造する方法。
  4. 【請求項４】 一般式 【化１５】 で表されるブテン誘導体と、一般式 【化１６】 で表されるアミド誘導体とを反応させて、一般式 【化１７】 （式中、Ｒ 1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
    は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
    複素環基であり、Ｘは水酸基、ハロゲン原子、スルホニ
    ルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニル
    オキシ基であるか、Ｒ 1 と一体となり、環状の亜硫酸エ
    ステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基で
    あり、Ｙはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又
    は水素原子であり、Ｒ 2 は水素原子、アルコキシル基、
    置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換
    の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基
    であり、Ｒ 3 は、水素、置換若しくは無置換のアシル
    基、アルコキシカルボニル基、スルホニル基又は置換ア
    ルキル基である。）で表されるアミノブテン誘導体を得
    て、 次いで、該 アミノブテン誘導体を脱保護し、一般式 【化１８】 で表されるアミノブテン誘導体を製造する方法。
  5. 【請求項５】 一般式 【化１９】 で表されるブテン誘導体と、一般式 【化２０】 で表されるアミド誘導体とを反応させて、一般式 【化２１】 （式中、Ｒ 1 は水素原子、水酸基の保護基、置換若しく
    は無置換の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の
    複素環基であり、Ｘは水酸基、ハロゲン原子、スルホニ
    ルオキシ基、アシルオキシ基又はアルコキシカルボニル
    オキシ基であるか、Ｒ 1 と一体となり、環状の亜硫酸エ
    ステル、硫酸エステル又は炭酸エステルを形成する基で
    あり、Ｙはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又
    は水素原子であり、Ｒ 2 は水素原子、アルコキシル基、
    置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換
    の芳香族炭化水素基又は置換若しくは無置換の複素環基
    である。）で表されるアミノブテン誘導体を得て、 次いで、該 アミノブテン誘導体を脱保護し、一般式 【化２２】 で表されるアミノブテン誘導体を製造する方法。
  6. 【請求項６】 一般式 【化２３】 のＲ2 ＣＯ−又はＲ3 の少なくとも一つがホルミル基で
    あり、該基の脱保護が、第一級アミン又は第二級アミン
    の存在下、非プロトン性溶媒中で行われることを特徴と
    する請求項１記載のアミノブテン誘導体の製造方法。
  7. 【請求項７】 前記アミド誘導体が、Ｒ 2 ＣＯ基と等し
    くないＲ 3 基を有する非対称アミド誘導体である請求項
    １、３、４または５記載のアミノブテン誘導体の製造方
    法。
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Ｊｅｒｒｙ Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，ｐ．３３８−３４１（１９８５）

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