JP3408590B2 - 多層プリント基板の配線構造 - Google Patents
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Description
品を搭載する多層プリント基板の配線構造に関し、特に
高密度多層プリント基板に適した配線構造に関する。
ミド樹脂を誘電体層として用いる薄膜多層プリント配線
基板が知られており、この薄膜多層プリント配線基板上
に搭載された多数のLSI等の電子部品相互間の電気的
な接続はその内部の配線層によって行われる。詳述する
と、薄膜多層プリント配線基板には少なくとも2つの配
線層が含まれ、その一方の配線層にはX方向成分を持つ
多数のX方向導体セグメントからなる配線パターンが形
成され、その他方の配線層にはY方向成分を持つ多数の
Y方向導体セグメントからなる配線パターンが形成され
る。双方の配線層に含まれるX方向導体セグメントとY
方向導体セグメントとはビアを介して適宜接続され、か
くして電子部品相互の端子間の電気的接続がX方向導体
セグメントとY方向導体セグメントとの組合わせにより
得られることになる。
搭載される電子部品の中には、相互の電気的接続距離が
所定の長さ範囲内に制限されているものもあり、この場
合にはその両者の電子部品を互いに接近させて、その間
の電気的接続距離を短縮化することが必要となる。しか
しながら、実際には、薄膜多層プリント配線基板の種々
の設計上の制約のために、かかる両者の電子部品を互い
に接近させて配置し得ないこともある。このような場
合、従来では、X方向成分とY方向成分との合成方向成
分を持つ傾斜導体セグメントからなる配線パターンを形
成した少なくとも2つの配線層が薄膜多層プリント配線
基板内に組み込まれ、これにより2つの電子部品の端子
間が実質的に最短距離で接続され得ることになる。例え
ば、2つの電子部品の端子間を結ぶ直線方向がX−Y方
向に対して45°の角度を成す場合、X方向導体セグメン
トとY方向導体セグメントとの組合わせよる接続距離が
2Lであるとすると、45°傾斜した傾斜導体セグメント
による接続距離は√2Lとなり、(2−√2)Lだけ短
縮されることになる。
斜導体セグメントからなる配線パターンを薄膜多層プリ
ント配線基板に導入することにより、電子部品相互の端
子間の接続距離を短縮化することは可能であるけれど
も、しかし薄膜多層プリント配線基板内の配線層の数が
増大すればする程、薄膜多層プリント配線基板の製造時
間が長くなるだけでなくその製造コストが嵩むことにな
る。というのは、各配線層を形成する毎に、ポリイミド
樹脂によって誘電体層を形成する薄膜形成工程(スピン
コート)が必要とされ、更にその誘電体層上に配線パタ
ーンを形成するためには種々の工程、例えばスパッタリ
ング工程、ホトマスクによる露光工程、エッチング工程
等が伴うからである。したがって、本発明の目的は、薄
膜多層プリント配線基板等の多層プリント配線基板にお
いて、その内部の配線層の層数を増大させることなく電
子部品相互の端子間の接続距離を短縮化することを目的
とする。
ト基板の配線構造にあっては、少なくとも2つの配線層
が設けられ、その一方の配線層にはX方向成分を持つ多
数のX方向導体セグメントからなる配線パターンが形成
され、その他方の配線層にはY方向成分を持つ多数のY
方向導体セグメントからなる配線パターンが形成され、
該X方向導体セグメントと該Y方向導体セグメントとが
ビアを介して適宜接続される。本発明によれば、各配線
層の配線パターンの空白領域にX方向成分とY方向成分
との合成方向成分を持つX合成傾斜導体セグメントとY
合成傾斜セグメントからなる配線パターンを形成し、前
記X合成傾斜導体セグメントは該X方向導体セグメント
に、前記Y合成傾斜セグメントは該Y方向導体セグメン
トに、各々干渉しないようにビアを介して接続して、傾
斜配線を形成する。
多層プリント基板の配線構造にあっては、X方向導体セ
グメントあるいはY方向導体セグメントを持つ配線層内
に傾斜導体セグメントが混在させられ、それら傾斜導体
セグメントにより電子部品相互の端子間の接続距離の短
縮化を図ることが可能である。
層プリント基板の配線構造の一実施例について説明す
る。図1には高密度多層プリント基板の一例として、ポ
リイミド樹脂を誘電体層として用いる薄膜多層プリント
配線基板の一部が平面図で概略的に示され、図2には図
1のII-II 線に沿う断面構造が示される。
配線基板はセラミック基板10を具備し、このセラミッ
ク基板10上には第1の配線層12が形成され、この第
1の配線層12上には更に第2の配線層14が形成され
る。第1の配線層12はポイリイミド樹脂からなる誘電
体層12aを含み、その上面には図1に示すようにX方
向成分を持つ多数のX方向導体セグメントX1 ないしX
4 を含む配線パターンが形成される。同様に、第2の配
線層14はポイリイミド樹脂からなる誘電体層14aを
含み、その上面にはY方向成分を持つ多数のY方向導体
セグメントY1ないしY4 を含む配線パターンが形成さ
れる。図1において、細破線で示す枡目はX方向導体セ
グメントX1 ないしX4 およびY方向導体セグメントY
1 ないしY4 を配置する際の基本ピッチを示し、このよ
うな基本ピッチは薄膜多層プリント配線基板上に搭載さ
れる電子部品の搭載数等によって決められるものであ
る。なお、図1では、X方向導体セグメントおよびY方
向導体セグメントがそれぞれ4本ずつ図示されている
が、実際には厖大な数の導体セグメントが上述の基本ピ
ッチに従って適宜配置されることは言うまでもない。
宜ビアが形成され、これらビアを介して第1の配線層1
2のX方向導体セグメントと第2の配線層14のY方向
導体セグメントと電気的に接続される。すなわち、図1
に示す実施例では、X方向導体セグメントX2 はビア1
6によってY方向導体セグメントY2 に接続され、また
X方向セグメントX 4 はビア18によってY方向導体セ
グメントY4 に接続される。一方、X方向セグメントX
1 およびX3 のそれぞれは図1では図示されない領域で
Y方向セグメントにビアを介して適宜接続され、またY
方向セグメントY1 およびY3 のそれぞれも図1では図
示されない領域でX方向セグメントにビアを介して適宜
接続される。なお、Y方向導体セグメントは薄膜多層プ
リント配線基板上の適当な箇所に形成されたパッドとし
て終端し、そこには電子部品あるいはコネクタ等の端子
が半田付けされる。
にX方向成分とY方向成分との合成方向成分を持つ傾斜
導体セグメントXY1 ないしXY4 からなる配線パター
ンが形成され、これら傾斜導体セグメントXY1 ないし
XY4 は図1から明らかなようにX方向導体セグメント
からなる配線パターンの空白領域に配置される。同様
に、第2の配線層14にも更にX方向成分とY方向成分
との合成方向成分を持つ傾斜導体セグメントYX1 ない
しYX4 からなる配線パターンが形成され、これら傾斜
導体セグメントYX1 ないしYX4 も図2から明らかな
ようにY方向導体セグメントからなる配線パターンの空
白領域に配置される。本実施例では、図1および図3か
ら明らかなように、傾斜導体セグメントYX1 、X
Y1 、YX2 およびXY2 は第2の配線層14の誘電体
層14aに形成されたビア20、22および24を介し
て互いに接続され、また図1および図4から明らかなよ
うに、傾斜導体セグメントXY3 、YX3 、XY4 およ
びYX4 も第2の配線層14の誘電体層14aに形成さ
れたビア26、28および30を介して互いに接続され
る。このように互いに接続された傾斜導体セグメントは
Y方向導体セグメントの場合と同様に最終的には薄膜多
層プリント配線基板上の適当な箇所に形成されたパッド
として終端し、そこには電子部品あるいはコネクタ等の
端子が半田付けされる。この場合、互いに接続された傾
斜導体セグメントの両端側のパッド間の接続距離はX方
向導体セグメントとY方向導体セグメントとの組合わせ
よる接続距離に比べて大巾に短縮化されることは言うま
でもない。
技術自体は周知であるので、ここでは詳細な説明は省く
が、簡単に説明すると、以下の通りである。 a)先ず誘電体層12aはセラミック基板10上にポリ
イミド誘導体からなる薄膜をスピンコートにより形成
し、次いで該薄膜を重合反応により硬化することにより
得られる。 b)次に、誘電体層12a上に例えばスパッタリングに
より銅のような金属導体層を形成した後にホトエッチン
グ手法により得られ、かくしてセラミック基板10上に
は第1の配線層12が造成される。 c)次いで、第1の配線層12上に第2の配線層14が
同様な態様で造成される。なお、誘電体層14aの形成
時には所定箇所にビアが周知の態様で形成される。 ここで注目すべきことは、以上のような製造技術によれ
ば、きわめて高密度な配線パターンの形成が可能であ
り、X方向導体セグメントあるいはY方向導体セグメン
トからなる配線パターンの空白領域に傾斜導体セグメン
トを配置し得るということである。
2に形成された傾斜導体セグメント(XY1 、XY2 、
XY3 、XY4 )と第2の配線層14に形成された傾斜
導体セグメント(YX1 、YX2 、YX3 、YX4 )と
はそれぞれX−Y方向に対して異なった傾斜角度を持つ
が、双方の傾斜角度を同じにして双方の傾斜導体セグメ
ントを一直線上で接続するようにしてもよい。また、上
述の実施例では、第1の配線層12および第2の配線層
14のそれぞれに形成される傾斜導体セグメントのすべ
てに同じ傾斜角度を与えているが、個々の傾斜導体セグ
メントの傾斜角度を必要に応じて異ならすことも可能で
ある。
による多層プリント基板の配線構造にあっては、配線層
の層数を増大させることなく電子部品相互の端子間の接
続距離の短縮化を図ることが可能であるので、多層プリ
ント基板の製造コストを低下し得るだけでなくその製造
時間も短くすることができる。
的に示す概略平面図である。
ア X1 ・X2 ・X3 ・X4 …X方向導体セグメント Y1 ・Y2 ・Y3 ・Y4 …Y方向導体セグメント XY1 ・XY2 ・XY3 ・XY4 …傾斜導体セグメント YX1 ・YX2 ・YX3 ・YX4 …傾斜導体セグメント
Claims (3)
- 【請求項1】 少なくとも2つの配線層(12、14)
を有し、その一方の配線層(12)にX方向成分を持つ
多数のX方向導体セグメント(X1 、X2 、X3、X
4 )からなる配線パターンを形成し、その他方の配線層
(14)にY方向成分を持つ多数のY方向導体セグメン
ト(Y1 、Y2 、Y3 、Y4 )からなる配線パターンを
形成し、前記X方向導体セグメントと前記Y方向導体セ
グメントとがビア(16、18)を介して適宜接続され
て成る多層プリント基板の配線構造において、 前記各配線層(12;14)の配線パターンの空白領域
にX方向成分とY方向成分との合成方向成分を持つX合
成傾斜導体セグメント(XY 1 、XY 2 、XY 3 、XY
4 )とY合成傾斜セグメント(YX 1 、YX 2 、YX
3 、YX 4 )からなる配線パターンを形成し、前記X合成傾斜導体セグメントは該X方向導体セグメン
トに、前記Y合成傾斜セグメントは該Y方向導体セグメ
ントに、各々干渉しないように ビア(20、22、2
4;26、28、30)を介して接続して、傾斜配線を
形成することを特徴とする多層プリント基板の配線構
造。 - 【請求項2】 請求項1に記載の多層プリント基板の配
線構造において、前記各配線層がポリイミド樹脂からな
る誘電体層(12a;14b)を含み、この誘電体層上
にその該当配線パターンが形成されることを特徴とする
多層プリント基板の配線構造。 - 【請求項3】 請求項2に記載の多層プリント基板の配
線構造において、前記配線層のうち上方側の配線層の誘
電体層(14b)中に前記ビア(16、18;20、2
2、24;26、28、30)が形成されることを特徴
とする多層プリント基板。
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