JP3407710B2 - 誘電体線路の製造方法 - Google Patents

誘電体線路の製造方法

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JP3407710B2 JP2000125893A JP2000125893A JP3407710B2 JP 3407710 B2 JP3407710 B2 JP 3407710B2 JP 2000125893 A JP2000125893 A JP 2000125893A JP 2000125893 A JP2000125893 A JP 2000125893A JP 3407710 B2 JP3407710 B2 JP 3407710B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ミリ波帯やマイク
ロ波帯で用いられる伝送線路や集積回路に適する誘電体
線路の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、誘電体線路として、略平行な
2つの導電体板の間に誘電体ストリップを設けることに
よって、その誘電体ストリップに沿って電磁波を伝搬さ
せるようにしたものがある。特に上記2つの導電体板の
間隔を伝搬波の半波長以下に形成することによって遮断
領域を形成し、誘電体ストリップから電磁波を放射させ
ないようにした非放射性誘電体線路(Non Radiative Di
electric waveguide:以下NRDガイドと言う)が伝搬
損失の少ない伝送線路として開発されている。このよう
なNRDガイドの電磁波伝搬モードには、LSMモード
とLSEモードの2種類があり、一般的にはより損失の
少ないLSMモードが使用されている。
【0003】図3、図4は、それぞれ従来のNRDガイ
ドの2つの構成を示す断面図である。図3は、平行に配
置された2枚の導電体板51、52の間に誘電体ストリ
ップ53を備えたノーマルタイプのNRDガイドの構成
を示しており、例えば特公昭62−35281号公報な
どに開示されている。また図4は、それぞれウイング部
55、56を有する誘電体ストリップ57、58の外側
平面部に例えば蒸着法や銀ペーストの焼き付け等の手法
によって導電体59、60を形成し、誘電体ストリップ
部分が対向するように配置して構成した、いわゆるウイ
ングドタイプのNRDガイドの構成を示しており、特開
平6−260814号公報に開示されている。このウイ
ングドタイプのNRDガイドはノーマルタイプのNRD
ガイドに比べて、導電体と誘電体ストリップの位置合わ
せをおこないやすく特性の再現性に優れている、と言う
利点を有している。ところで、誘電体ストリップの材料
としては、テフロン(米国デュポン社登録商標)等の合
成樹脂や誘電体セラミックスが用いられている。ここ
で、誘電体ストリップの構成材料として誘電体セラミッ
クスを用いると、一般に合成樹脂と比べて比誘電率が大
きいので、曲線部での曲げ損失を小さくすることができ
かつ小型化を図ることができる。このため現在、誘電体
セラミックスを用いた誘電体ストリップの開発が進めら
れている。なお、誘電体ストリップ57、58の幅w、
およびウイング部55、56の厚みtは、使用される誘
電体材料の比誘電率や使用される電磁波の周波数によっ
て規定され、一般的に比誘電率が大きく、使用周波数が
高いほど幅w、厚みtの値は小さくなる。
【0004】いま、図4に示したようなウイングドタイ
プのNRDガイドを誘電体セラミックで作製しようとす
る場合、あらかじめ焼成したセラミックスの平板を切削
したり、特開平10−224120号公報に開示されて
いるように、あらかじめ開口部を設けた複数のグリーン
シートを積層した後、該グリーンシート積層体を焼成す
ることによって、所望形状の誘電体ストリップを有する
NRDガイドが作製されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、焼成さ
れたセラミックスは非常に堅いため、焼成後のセラミッ
クス平板を所望の形状に切削するには多くの時間と労力
が掛かるという問題点を有していた。また、ウイング部
の厚みtが薄いため、切削工程中にワレやカケが生じや
すいと言う問題点を有していた。
【0006】また、あらかじめ開口部を設けたグリーン
シートを積層する手法による場合、グリーンシートを誘
電体ストリップの幅wに合わせて精度良くカットした
り、各グリーンシート同士を精度良く位置合わせするこ
とが非常に困難で作業性に劣るという問題点を有してい
た(高周波伝送線路としてしばしば用いられるNRDガ
イドにおいては誘電体ストリップに対して非常に高い寸
法精度が要求される)。
【0007】従って本発明の目的は、製造コストが安く
加工時にワレやカケの生じない、かつ誘電体ストリップ
の各寸法を精度良く作製することのできる誘電体線路の
製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の課題
に鑑み鋭意検討の結果、無機粉体と有機バインダを含む
グリーンシート上にレジスト材を形成し、該レジスト材
をマスクとしてレジスト材の開口部に対応するグリーン
シートを所定量除去し、次いでレジスト材を除去、グリ
ーンシートを焼成することにより前記課題を解消しうる
ことを見いだし本発明を完成させるに到った。
【0009】すなわち本発明は、略平行な2つの導電体
板の間に誘電体ストリップを配してなる誘電体線路の製
造方法であって、前記誘電体ストリップは、無機粉体と
有機バインダを含むグリーンシート上にレジスト材を形
成する工程と、該レジスト材をマスクとしてレジスト材
の開口部に対応するグリーンシートを所望量除去する工
程と、レジスト材を除去する工程と、グリーンシートを
焼成する工程とを含んで製造されることを特徴とする。
【0010】本発明によれば、従来例のように焼成後の
堅いセラミックス平板を切削するのではなく、グリーン
シート段階でグリーンシートの不要部分を除去するの
で、ワレ・カケを生じさせることなく短時間で加工を行
うことができる。また、パターン形成された薄いグリー
ンシートを複数層積層することによって誘電体ストリッ
プを形成するわけではないので、従来のようなグリーン
シート同士の厳密な位置合わせ作業が不要になり、誘電
体線路の作製工程を簡略化することができる。また、レ
ジスト材のパターニングには精密なパターニングが可能
なフォトリソ技術を適用できるので、誘電体線路の各寸
法を正確に規定することができ、カッティングによって
寸法値を規定する場合に比べて格段にその寸法精度を向
上させることができる。
【0011】グリーンシートの除去には、サンドブラス
ト、スラリーエロージョン、キャビテーションエロージ
ョン、スパッタリング、ケミカルミリング、イオンミリ
ング、RIE等のエロージョンの適用が可能である。こ
こで、エロージョンとは、流体の繰り返し衝突(または
衝撃)により材料表面が機械的に損傷を受け、その一部
が脱離していく現象を指す(「エロージョンとコロージ
ョン」社団法人腐食防食協会、1987年、株式会社裳
華房発行)。なかでも、水分および有機成分を含んでい
るグリーンシートの微細加工には真空プロセスを用いる
加工手法は比較的不向きであること、および誘電体スト
リップの作製に求められる0.2〜1.0mmと言う比
較的深いエッチングにおいても高い寸法精度を実現でき
ること等の観点から、サンドブラスト法を用いることが
最も好適である。
【0012】また、エロージョンによりグリーンシート
を除去する際には、グリーンシートの深さ方向にエロー
ジョンが進行していく際のサイドエッチングが問題とな
る場合がある。すなわち、材料表面に衝突させる流体に
含まれるブラスト粒子の中には、完全な垂直方向ではな
く斜め方向に入射するものやグリーンシート表面で反射
されるものが存在する。これらの粒子がグリーンシート
の横方向へのエッチングを進め、サイドエッチングが生
じることになるが、グリーンシートを深さ方向に除去し
ていくにしたがって、表面付近の初期に除去された部分
はブラスト粒子に曝される時間が長くなるため、グリー
ンシートの表面付近では特にサイドエッチングが生じや
すくなる。
【0013】そこで、本発明はエロージョンによる除去
速度が、深さ方向に沿って連続的にまたは断続的に変化
するグリーンシートを用いることによってサイドエッチ
ングを抑制している。すなわち、グリーンシートの表面
付近で初期に除去される部分をグリーンシートの内部と
比較して耐ブラスト性が高く除去しにくいもの、言いか
えれば、エロージョンによる除去速度が遅いものとする
ことによって、これらの部分が長時間ブラスト粒子に曝
されることになってもサイドエッチングが生じにくくす
ることができる。したがって、エロージョンによる除去
速度が連続的にまたは断続的に変化するとは、表面から
深さ方向に沿って内部に進むにしたがって、グリーンシ
ートがエロージョンによって除去される速度が次第に速
くなることを示し、その変化は連続的であっても断続的
であってもよい。また、エロージョンによる除去速度を
変化させるためには、深さ方向に沿ってグリーンシート
中に含まれる無機粉体の含有量を変化させる方法や、深
さ方向に沿ってグリーンシート中に含まれる有機バイン
ダーの種類を変化させる方法等が考えられる。
【0014】なお、レジスト材を除去する工程とグリー
ンシートを焼成する工程とは、同時に行っても構わな
い。すなわち、グリーンシートを高温で焼成するに際し
て、同時にレジスト材を熱分解させることによってレジ
スト材を除去すればよい。これにより、工程をより簡略
化することができる。
【0015】また、サンドブラスト等によってグリーン
シートを除去する際には、予め焼成した堅いセラミック
基板上にグリーンシートを載置してから除去を行うこと
が作業性の向上、および除去工程時のグリーンシートの
変形の防止等の観点から望ましい。この場合、セラミッ
ク基板はウイング部として残存することになる。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明による誘電体線路の製造方
法を図1に示す。まず、無機粉体と有機バインダとを含
むセラミックグリーンシート1、2、3、4を準備す
る。ここで準備するセラミックグリーンシート1、2、
3は、後の工程にて所定量を除去することによって誘電
体ストリップ部分を形成するために用いるものとする。
本実施例では、誘電体ストリップ部分を3層のセラミッ
クグリーンシートから形成する場合について説明する
が、所望の厚みを得るためであればセラミックグリーン
シートの積層数は3層に限定されるものではない。ま
た、セラミックグリーンシート4はウィング部を形成す
るために用いるものとする。
【0017】ここで用いる無機粉体としては、アルミ
ナ、コージェライト、フォルステライト、スピネル等の
セラミックスやガラス等を用いることができ、加工精度
および伝搬特性に問題がなければいかなる無機粉体でも
使用可能である。なお、テフロン(米国デュポン社登録
商標)等の合成樹脂を用いる場合よりも小型化できるの
で、比誘電率が4以上の無機材料を用いることが好まし
い。また、ここで用いる有機バインダとしては、ブチラ
ール系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキ
シ系樹脂、ビニル系樹脂等を用いることができ、後のグ
リーンシートの除去工程において用いられるレジスト材
よりも研削されやすいものであれば、いかなる樹脂でも
使用可能である。セラミックグリーンシート1、2、
3、4の密着性・作業性を向上させるために、無機粉
体、有機バインダに加えて、DOP、DBP、α−テレ
ピネオール等の可塑剤を加えても構わない。さらに、セ
ラミックグリーンシート1、2、3は、後のグリーンシ
ートを所望量除去する工程における除去速度が互いに異
なるものとする。除去速度に変化をつける方法として
は、無機粉体の含有量を変化させる方法や、異なる種類
の有機バインダを用いる方法等が考えられるが、同一の
有機バインダを利用でき工程が煩雑とならない点から、
無機粉体の含有量を変化させる方法がより望ましい。
【0018】グリーンシート1、2、3、4の作製方法
としては、ドクターブレード法、コンマコート法、ロー
ルコート法、キャスティング法等の手法を用いることが
できる。グリーンシート1、2、3、4の作製にあたっ
ては、その膜厚を数μm〜数mm程度に作製し、焼成後
に(誘電体ストリップとして電磁波を伝搬できる)所望
の厚みになるようにグリーンシートの段階であらかじめ
厚みの調整を施しておく。
【0019】次に、図1(a)に示すように、グリーン
シート1、2、3、4を積層・圧着することによりグリ
ーンシート積層体(以下、積層体と略す)5を作製す
る。ここで、グリーンシート4は複数枚を積層してその
厚みを調整しても構わない。また、グリーンシート4は
設備の共有化や形成条件の流用ができる点でグリーンシ
ート1、2、3のいずれかを用いることが望ましい。
【0020】次に、積層体5上にレジストを塗布し、フ
ォトリソによって所定の領域にマスクとして機能するレ
ジスト材6を形成する(図1(b))。なお、レジスト
材6は印刷法等によって形成しても構わないが、優れた
寸法精度のマスクを形成できるフォトリソ技術を用いる
ことがより好ましい。レジスト材6としては、後のセラ
ミックグリーンシートの除去時に充分な耐性を有するも
のであればいかなるものを用いても構わない。具体的に
は、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル
類、セルロース系樹脂、ポリ―α―メチルスチレン、ウ
レタン系樹脂等を用いることができる。
【0021】さらに、積層体5上に形成されたレジスト
材6をマスクとして、例えばサンドブラスト法等の手法
によってセラミックグリーンシートを所定量除去する
(図1(c))。ここで、サンドブラスト法とは、気体
とともに砥粒を吹き出しマスク開口部に対応するグリー
ンシートを除去するドライブラスト法や、液体とともに
砥粒を吹き出しグリーンシートを除去するウェットブラ
スト法を用いることができる。サンドブラスト法で用い
る砥粒としては、アルミナ、炭化珪素、カーボン、硬質
プラスチック等を用いることができ、気体としては空
気、窒素、アルゴン等を、液体としては水、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール等を用いることができ
る。
【0022】グリーンシートを所望量除去した後、レジ
スト材6を除去する(図1(d))。レジスト材6の除
去方法としては、レジスト材6を溶剤中に浸漬して溶解
除去する方法や、積層体5を焼成する工程で分解燃焼さ
せて除去する方法などが考えられ、グリーンシートの形
状に変形を生じさせる恐れのない限り、いかなる方法を
用いても構わない。
【0023】次いで、レジスト材6の除去後に積層体5
の焼成を行い(または、積層体5の焼成工程で、同時に
レジスト材6の燃焼除去を行い)、誘電体セラミックス
の焼成体7を得る(図1(e))。焼成は、非酸化性雰
囲気、酸化性雰囲気のいずれでも可能であり、一般的な
ベルト炉、バッチ炉等を用いることができる。
【0024】ここで、セラミックス焼成体7の下面平面
部全面に蒸着法によって導電体8を形成し(図1
(f))、さらに、このように裏面に導電体8の形成さ
れた1対のセラミック焼成体7をその誘電体ストリップ
部分が互いに対向するように配置し、図4で記した構造
の誘電体線路を得る。
【0025】なお、上述の説明においては導電体8は、
セラミック焼成体7を形成したのちに焼成体7の裏面に
蒸着によって形成したが、導電体8の形成方法はこれに
限られるものではない。例えば、焼成前のグリーンシー
ト4の段階またはグリーンシート積層体5の段階で印刷
法などによって導電体ペーストを形成したあと、積層体
5の焼成と同時に導電体ペーストを焼き付ける手法も可
能であるし、積層体5の焼成後、印刷法、スパッタ法、
ゾル−ゲル法、めっき法等によって形成しても構わな
い。また、焼成体7の裏面に金属板などの導体板を張り
合わせて形成しても構わない。
【0026】なお、上述の誘電体線路の製造方法におい
ては、誘電体ストリップ部を形成するためのグリーンシ
ートとウィング部を形成するためのグリーンシートとを
グリーンシートの状態で積層・圧着してから加工後に同
時に焼成したが、グリーンシートをあらかじめ焼成した
ウィング部となるべきセラミック基板上に載置してから
グリーンシートへの加工を行う方法を用いることもでき
る。
【0027】本方法による誘電体線路の製造方法を図2
に示す。本方法では、ウィング部を形成するためのグリ
ーンシートをあらかじめ焼成しておく以外は、上述の誘
電体線路の製造方法と同様の方法を用いることができ
る。したがって、同一符号は同一材料を示し説明を省略
する。
【0028】すなわち、まず、無機粉体と有機バインダ
とを含むセラミックグリーンシート1、2、3、4を準
備する。ここで準備するセラミックグリーンシート1、
2、3は、後の工程にて所定量を除去することによって
誘電体ストリップ部分を形成するために用いるものと
し、セラミックグリーンシート4はウィング部を形成す
るために用いるものとする。
【0029】次に、図2(a)に示すように、グリーン
シート4を複数枚積層・圧着してから焼成することによ
りセラミック基板10を作製する(図2(b))。続い
て、図2(c)に示すように、グリーンシート1、2、
3を積層・圧着して積層体11を形成し、セラミック基
板10上に積層体11を載置する。次に、積層体11上
にレジスト材6を形成し(図2(d))、レジスト材6
をマスクとして、セラミックグリーンシートを所定量除
去した後(図2(e))、レジスト材6を除去する(図
2(f))。
【0030】次いで、レジスト材6の除去後に積層体1
1をセラミック基板10とともに焼成し(または、積層
体11の焼成工程で、同時にレジスト材6の燃焼除去を
行い)、誘電体セラミックスの焼成体12を得る(図2
(g))。
【0031】ここで、セラミック焼成体12の下面平面
部全面に蒸着法によって導電体8を形成し(図2
(h))、さらに、このように裏面に導電体8の形成さ
れた1対のセラミック焼成体12をその誘電体ストリッ
プ部分が互いに対向するように配置し、図4で記した構
造の誘電体線路を得る。
【0032】以下、本発明の製造方法に従って作製した
誘電体線路の実施例について詳述する。 [第1実施例]無機粉体としてスピネル粉を、有機バイ
ンダとしてブチラール系樹脂BM−2(積水化学工業
(株))を、可塑剤としてDOPおよび有機溶剤として
エチルアルコール、トルエンを準備し、それぞれ所定量
秤量後、ポリポット中でボールミルにより混合した。そ
の後、ドクターブレード法により無機粉体の含有比が5
5vol%〜60vol%の間で互いに異なる3種類の
セラミックグリーンシートを10〜100μmの厚みに
作製した。次いで、該グリーンシートを70mm角に切
り出して形状を整え、静水間等方プレスにより複数枚の
グリーンシートを積層・圧着し、グリーンシート積層体
を作製した。ここで、グリーンシート積層体の一方の表
面を上面とした場合、上面から少なくとも3枚のグリー
ンシートは、無機粉体の含有比が少ないものから順番に
異なる種類のグリーンシートが積層されたものとする。
次に、該グリーンシート積層体を80℃に加熱して積層
体上面にドライフイルムレジストBF−405(東京応
化工業(株))をラミネートし、所定のパターンマスク
を介して紫外線による露光を行った。露光条件は、36
5nm、200mJ/cm2とした。続いて、炭酸ナト
リウム0.3wt%水溶液により、液温30度でスプレ
ー現像をおこなった。これにより、グリーンシート積層
体上に開口部を有するレジスト材を得た。
【0033】次に、ニューマ・ブラスターSC−3タイ
プ(不二製作所(株))を用い、サンドブラスト法によ
り、前記レジストの開口部に対応するグリーンシートを
所定量ブラスト除去した。グリーンシートの除去は積層
体の上面から3枚目のグリーンシートまでとした。この
とき、ノズルとグリーンシートの距離は8cmとし、砥
粒に溶融アルミナ#1000を用い、噴出圧力3kg/
cm2で加工を行った。続いて、液温45℃のモノエタ
ノールアミン10wt%水溶液中に積層体を浸漬し、レ
ジスト材を除去し、その後バッチ式の電気炉を用いて空
気中、1600℃、2時間で積層体の焼成を行い、ウイ
ング部を有する誘電体ストリップを得た。
【0034】上述の実施例により得られた誘電体ストリ
ップは、いずれもウイング部分にワレ・カケを有してい
なかった。また、積層体は上面から少なくとも3枚目ま
では無機粉体の含有比が少ないものから順番に異なる種
類のグリーンシートが積層されたもので、サンドブラス
トが上面から深さ方向に沿って3枚目のグリーンシート
まで進むにしたがって、グリーンシートの除去速度が次
第に速くなるため、誘電体ストリップのサイドエッチン
グが十分に抑制されており、誘電体ストリップの幅wの
ばらつき(標準偏差)は10μm以下と良好であった。
[第2実施例]第1実施例と同様に、無機粉体としてス
ピネル粉を、有機バインダとしてブチラール系樹脂BM
−2(積水化学工業(株))を、可塑剤としてDOPお
よび有機溶剤としてエチルアルコール、トルエンを準備
し、それぞれ所定量秤量後、ポリポット中でボールミル
により混合した。その後、ドクターブレード法により無
機粉体の含有比が50vol%〜55vol%の間で互
いに異なる3種類のセラミックグリーンシートを10〜
100μmの厚みに作製した。次いで、該グリーンシー
トを70mm角に切り出して形状を整え、静水間等方プ
レスにより複数枚のグリーンシートを積層・圧着し、グ
リーンシート積層体を作製した。ここで、グリーンシー
ト積層体の一方の表面を上面とした場合、上面から少な
くとも3枚のグリーンシートは、無機粉体の含有比が少
ないものから順番に異なる種類のグリーンシートが積層
されたものとする。次に、該グリーンシート積層体上面
に所定のパターン(開口部)を有するポリビニルアルコ
ールからなるレジスト材をスクリーン印刷によって形成
した。
【0035】次に、第1実施例と同様に、サンドブラス
ト法により、前記レジストの開口部に対応するグリーン
シートを所定量ブラスト除去した。グリーンシートの除
去は積層体の上面から3枚目のグリーンシートまでとし
た。その後、溶剤等を用いてのレジスト材の除去は行わ
ないまま、バッチ式電気炉を用いて空気中、1600
℃、2時間で積層体の焼成を行い、同時にレジスト材を
熱分解させ、ウイング部を有する誘電体ストリップを得
た。
【0036】この実施例により得られた誘電体ストリッ
プは、いずれもウイング部分にワレ・カケを有しておら
ず、かつ、誘電体ストリップのサイドエッチングも少な
く、誘電体ストリップの幅wのばらつき(標準偏差)は
10μm以下と良好であった。 [第3実施例]第1実施例と同様に、無機粉体としてス
ピネル粉を、有機バインダとしてブチラール系樹脂BM
−2(積水化学工業(株))を、可塑剤としてDOPお
よび有機溶剤としてエチルアルコール、トルエンを準備
し、それぞれ所定量秤量後、ポリポット中でボールミル
により混合した。その後、ドクターブレード法によりセ
ラミックグリーンシートを10〜100μmの厚みに作
製した。次いで、該グリーンシートを70mm角に切り
出して形状を整え、静水間等方プレスにより複数枚のグ
リーンシートを積層・圧着し、グリーンシート積層体を
作製した。その後、バッチ式電気炉を用いて空気中、1
600℃、2時間で積層体の焼成を行い、ウイング部と
なるセラミック基板を得た。
【0037】続いて、第1実施例と同様に、無機粉体と
してスピネル粉を、有機バインダとしてブチラール系樹
脂BM−2(積水化学工業(株))を、可塑剤としてD
OPおよび有機溶剤としてエチルアルコール、トルエン
を準備し、それぞれ所定量秤量後、ポリポット中でボー
ルミルにより混合した。その後、ドクターブレード法に
より無機粉体の含有比が50vol%〜55vol%の
間で互いに異なる3種類のセラミックグリーンシートを
10〜100μmの厚みに作製した。次いで、該グリー
ンシートを70mm角に切り出して形状を整え、静水間
等方プレスにより3枚のグリーンシートを積層・圧着
し、グリーンシート積層体を作製した。ここで、グリー
ンシート積層体の一方の表面を上面とした場合、上面か
ら順番に無機粉体の含有比が少ないものから異なる種類
のグリーンシートが積層されたものとする。このグリー
ンシート積層体の下面と前記セラミック基板を貼り合わ
せた。
【0038】次に、第1実施例と同様の方法を用いて、
グリーンシート積層体上に開口部を有するレジスト材を
得た。同じく、第1実施例と同様の方法を用いて、サン
ドブラスト法により、前記レジストの開口部に対応する
グリーンシートを所定量ブラスト除去した。さらに、第
1実施例と同様の方法を用いて、レジスト材を除去し、
その後、バッチ式電気炉を用いて空気中、1600℃、
2時間で積層体の焼成を行い、ウイング部を有する誘電
体ストリップを得た。
【0039】この実施例により得られた誘電体ストリッ
プは、いずれもウイング部分にワレ・カケを有しておら
ず、かつ、誘電体ストリップのサイドエッチングも少な
く、誘電体ストリップの幅wのばらつき(標準偏差)は
10μm以下と良好であった。また、グリーンシート
を、あらかじめ焼成したセラミック基板上に載置してか
らグリーンシートへの加工を行うことにより、グリーン
シートの変形等を防ぐとともに作業性を向上させること
ができ、より誘電体線路の製造が容易になった。
【0040】
【発明の効果】以上のように、本発明の誘電体線路の製
造方法によれば、切削によるワレ・カケが発生せず加工
が容易になり安価に製造できる。また、グリーンシート
の積層体は上面から深さ方向に沿って内部へ進にしたが
って、除去速度が次第に速くなるものとしたため、誘電
体ストリップのサイドエッチングが十分に抑制され、誘
電体線路を精度良く製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態の誘電体線路の製造方法
を示す断面工程図である。
【図2】 本発明の別の実施形態の誘電体線路の製造方
法を示す断面工程図である。
【図3】 従来例の誘電体線路の構造を示す断面図であ
る。
【図4】 また別の従来例の誘電体線路の構造を示す断
面図である。
【符号の説明】
1、2、3、4 ・・・ グリーンシート 5 ・・・ グリーンシート積層体 6 ・・・ レジスト材 7 ・・・ セラミック焼成体 8 ・・・ 導電体

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 略平行な一対の導電体板の間に誘電体ス
    トリップを配してなる誘電体線路の製造方法において、 前記誘電体ストリップは、少なくとも、無機粉体と有機
    バインダとを含むグリーンシート上にレジスト材を形成
    する工程と、該レジスト材をマスクとしてレジスト材の
    開口部に対応するグリーンシートを所望量除去する工程
    と、レジスト材を除去する工程と、グリーンシートを焼
    成する工程とを含んで製造され、 前記グリーンシートを所望量除去する工程は、グリーン
    シートの深さ方向に沿って連続的にまたは断続的に除去
    速度が変化するものであることを特徴とする誘電体線路
    の製造方法。
  2. 【請求項2】 略平行な一対の導電体板の間に誘電体ス
    トリップを配してなる誘電体線路の製造方法において、 前記誘電体ストリップは、予め焼成したセラミック基板
    上に、少なくとも、無機粉体と有機バインダとを含むグ
    リーンシートを載置する工程と、グリーンシート上にレ
    ジスト材を形成する工程と、該レジスト材をマスクとし
    てレジスト材の開口部に対応するグリーンシートを所望
    量除去する工程と、レジスト材を除去する工程と、グリ
    ーンシートを焼成する工程とを含んで製造され、 前記グリーンシートを所望量除去する工程は、グリーン
    シートの深さ方向に沿って連続的にまたは断続的に除去
    速度が変化するものであることを特徴とする誘電体線路
    の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記グリーンシートを載置する基板とグ
    リーンシートとが、同一材料からなることを特徴とする
    請求項2に記載の誘電体線路の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記グリーンシートを所望量除去する工
    程は、前記グリーンシートの無機粉体の含有量をグリー
    ンシートの深さ方向に沿って連続的にまたは断続的に変
    化させることによって、除去速度を変化させることを特
    徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の誘
    電体線路の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記グリーンシートが、複数枚のグリー
    ンシート薄層を積層して構成したグリーンシート積層体
    であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいず
    れかに記載の誘電体線路の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記グリーンシートを所望量除去する工
    程は、前記グリーンシート積層体を構成する各グリーン
    シート薄層の除去速度を変化させることによって、除去
    速度を変化させることを特徴とする請求項5に記載の誘
    電体線路の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記グリーンシートを所望量除去する工
    程は、前記グリーンシート積層体を構成する各グリーン
    シート薄層の無機粉体の含有量を変化させることによっ
    て、除去速度を変化させることを特徴とする請求項5ま
    たは請求項6のいずれかに記載の誘電体線路の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 前記グリーンシートの除去は、エロージ
    ョンによって行われることを特徴とする請求項1ないし
    請求項7のいずれかに記載の誘電体線路の製造方法。
  9. 【請求項9】 レジスト材を除去する工程と、グリーン
    シートを焼成する工程とを、同時に行うことを特徴とす
    る請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の誘電体線
    路の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10050544B4 (de) * 1999-10-13 2006-03-23 Kyocera Corp. Nicht strahlender dielektrischer Wellenleiter
JP3610863B2 (ja) * 2000-02-10 2005-01-19 株式会社村田製作所 誘電体線路の製造方法および誘電体線路
TW554405B (en) * 2000-12-22 2003-09-21 Seiko Epson Corp Pattern generation method and apparatus
JP3886459B2 (ja) * 2003-01-28 2007-02-28 株式会社神戸製鋼所 誘電体線路の製造方法
WO2005038975A1 (ja) * 2003-10-15 2005-04-28 Intelligent Cosmos Research Institute Nrdガイドトランシーバ、これを用いたダウンロードシステムおよびこれに用いられるダウンロード用メモリ
WO2015073620A1 (en) * 2013-11-13 2015-05-21 Massachusetts Institute Of Technology Percolated microstructures for multi-modal transport enhancement in porous active materials

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5328266A (en) * 1976-08-13 1978-03-16 Fujitsu Ltd Method of producing multilayer ceramic substrate
GB2085660A (en) * 1980-10-16 1982-04-28 Marconi Co Ltd Waveguides
US4532704A (en) * 1981-06-11 1985-08-06 Raytheon Company Dielectric waveguide phase shifter
JPS6235281A (ja) 1985-08-09 1987-02-16 Hitachi Medical Corp シンチレ−シヨンカメラ
US4766671A (en) * 1985-10-29 1988-08-30 Nec Corporation Method of manufacturing ceramic electronic device
US4920640A (en) * 1988-01-27 1990-05-01 W. R. Grace & Co.-Conn. Hot pressing dense ceramic sheets for electronic substrates and for multilayer electronic substrates
JP3021586B2 (ja) * 1990-09-17 2000-03-15 富士通株式会社 低誘電率セラミック基板とグリーンシートの製造方法
EP0586888B1 (en) * 1992-08-05 2001-07-18 Fujitsu Limited Three-dimensional multichip module
JP3123293B2 (ja) * 1993-03-05 2001-01-09 株式会社村田製作所 非放射性誘電体線路およびその製造方法
JP3351095B2 (ja) * 1994-04-04 2002-11-25 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法
JPH09283654A (ja) * 1996-04-17 1997-10-31 Nec Corp ガラスセラミック基板とその製造方法
JP3454654B2 (ja) * 1997-01-13 2003-10-06 富士通株式会社 表示パネルの隔壁形成方法
JPH10224120A (ja) 1997-02-06 1998-08-21 Murata Mfg Co Ltd 誘電体線路
EP0936641A4 (en) * 1997-05-07 2000-02-02 Teijin Ltd METHOD FOR MANUFACTURING AN ELECTRONIC COMPONENT
JP3356120B2 (ja) * 1999-06-24 2002-12-09 株式会社村田製作所 誘電体線路の製造方法
US6315637B1 (en) * 2000-01-18 2001-11-13 Advanced Micro Devices, Inc. Photoresist removal using a polishing tool

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