JP3391402B2 - イミダゾール誘導体の製法 - Google Patents
イミダゾール誘導体の製法Info
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- C07D487/22—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains four or more hetero rings
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Description
【発明の詳細な説明】
背景
産業上の利用分野
本発明は、イミダゾール誘導体の製法に関する。さら
に詳しくは、本発明は、高血圧、鬱血性心不全、腎不
全、緑内障および高尿酸血症等に有用な化学式[I]: で示されるイミダゾール誘導体の煩雑な経路が回避され
た製法に関する。
に詳しくは、本発明は、高血圧、鬱血性心不全、腎不
全、緑内障および高尿酸血症等に有用な化学式[I]: で示されるイミダゾール誘導体の煩雑な経路が回避され
た製法に関する。
前記化合物は、アンジオテンシンII拮抗剤であり、か
くして、高血圧、鬱血性心不全、腎不全、緑内障および
高尿酸血症等の予防・治療剤として有用である。本発明
者らは、このクラスの薬剤が、長期間の保存に耐えら
れ、高活性でかつ静脈内注射した際の作用発現が速やか
で、また経口投与した際の体内への吸収移行性が良好
で、毒性が低く、作用持続時間が長いことを見い出し
た。これらの新規化合物は、その利益を請求する、特願
平3−277537号、特願平3−323474号、特願平4−0951
91号および特願平4−216809号ならびに1993年4月29日
に公開された公開PCT出願WO/93/08193に記載されている
ごとく、式: で示されるヒドラジン橋かけ構造を有する新規イミダゾ
ール誘導体である。前記出願において、本発明者らは、
特に優れた作用効果を示す化合物として化学式: で示されるイミダゾール誘導体[I]を報告した。ま
た、本発明者らは、このイミダゾール誘導体は、以下に
示した経路(反応式1)により合成され得ることを上記
特許出願および特願平5−060067号において既に開示し
た。この製法においては、まず化合物(1)をベンジル
基で保護し、数工程の反応の後に、該保護化合物を加水
素分解により脱ベンジル化して化合物(4)とした後
に、ビフェニルテトラゾール部分を結合させて目的化合
物[I]とするものである。しかしながら、前記経路
は、製造効率および経済性に問題を有する。この点に関
して、リチード・エフ・シューマン(Richard F.Shuma
n)らは、US5039814においてアンジオテンシンII拮抗剤
の製造に有用な中間体となるビフェニルテトラゾール類
の改良された製法を報告している。
くして、高血圧、鬱血性心不全、腎不全、緑内障および
高尿酸血症等の予防・治療剤として有用である。本発明
者らは、このクラスの薬剤が、長期間の保存に耐えら
れ、高活性でかつ静脈内注射した際の作用発現が速やか
で、また経口投与した際の体内への吸収移行性が良好
で、毒性が低く、作用持続時間が長いことを見い出し
た。これらの新規化合物は、その利益を請求する、特願
平3−277537号、特願平3−323474号、特願平4−0951
91号および特願平4−216809号ならびに1993年4月29日
に公開された公開PCT出願WO/93/08193に記載されている
ごとく、式: で示されるヒドラジン橋かけ構造を有する新規イミダゾ
ール誘導体である。前記出願において、本発明者らは、
特に優れた作用効果を示す化合物として化学式: で示されるイミダゾール誘導体[I]を報告した。ま
た、本発明者らは、このイミダゾール誘導体は、以下に
示した経路(反応式1)により合成され得ることを上記
特許出願および特願平5−060067号において既に開示し
た。この製法においては、まず化合物(1)をベンジル
基で保護し、数工程の反応の後に、該保護化合物を加水
素分解により脱ベンジル化して化合物(4)とした後
に、ビフェニルテトラゾール部分を結合させて目的化合
物[I]とするものである。しかしながら、前記経路
は、製造効率および経済性に問題を有する。この点に関
して、リチード・エフ・シューマン(Richard F.Shuma
n)らは、US5039814においてアンジオテンシンII拮抗剤
の製造に有用な中間体となるビフェニルテトラゾール類
の改良された製法を報告している。
情報の開示
式Iの化合物の合成方法は、1993年4月29日に公開さ
れたWO93/08193に記載されている。もう1つのプロセス
は米国特許第5,039,814号に記載されている。
れたWO93/08193に記載されている。もう1つのプロセス
は米国特許第5,039,814号に記載されている。
発明の概要
発明が解決しようとする課題
本発明の目的は、煩雑な合成経路を経ることなく、優
れた作用効果を示すイミダゾール誘導体を得ることがで
きる製法を提供することにある。
れた作用効果を示すイミダゾール誘導体を得ることがで
きる製法を提供することにある。
本発明者らはかかる課題を解決すべく、鋭意研究を重
ねた結果、p−ハロゲノベンジル基を導入することによ
り、ベンジル基の脱保護反応を経ることなくイミダゾー
ル化合物の製造が可能であることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
ねた結果、p−ハロゲノベンジル基を導入することによ
り、ベンジル基の脱保護反応を経ることなくイミダゾー
ル化合物の製造が可能であることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
すなわち、本発明は、化合物(1)をベンジル基によ
り保護する代わりとしてp−ハロゲノベンジル基を化合
物(1)に導入し、該保護化合物を以下に示した経路
(反応式2)に付して化合物(8)とし、得られた化合
物をフェニルテトラゾールまたは適当に保護基されたフ
ェニルテトラゾールとクロスカップリングすることによ
りビフェニルテトラゾール部分を構築し、得られた化合
物をジイソブチルアルミニウムヒドリド(DIBAH)還元
反応に付すことよりなる目的化合物[I]の製法(A
法)、あるいは化合物(8)をジイソブチルアルミニウ
ムヒドリド還元反応に付して化合物(9)とし、それを
フェニルテトラゾールまたは適当に保護されたフェニル
テトラゾールとクロスカップリングすることによりビフ
ェニルテトラゾール部分を構築することよりなる目的化
合物[I]の製法(B法)を提供するものである。これ
らの方法は、ベンジル基による保護、脱保護、ビフェニ
ルテトラゾールの合成、イミダゾールとの反応等のごと
き煩雑な操作を必要としない。さらに、これらのプロセ
スは、全ての反応が目的化合物の構築に有用に活用さ
れ、かつ各工程とも高収率であるという利点を有する。
り保護する代わりとしてp−ハロゲノベンジル基を化合
物(1)に導入し、該保護化合物を以下に示した経路
(反応式2)に付して化合物(8)とし、得られた化合
物をフェニルテトラゾールまたは適当に保護基されたフ
ェニルテトラゾールとクロスカップリングすることによ
りビフェニルテトラゾール部分を構築し、得られた化合
物をジイソブチルアルミニウムヒドリド(DIBAH)還元
反応に付すことよりなる目的化合物[I]の製法(A
法)、あるいは化合物(8)をジイソブチルアルミニウ
ムヒドリド還元反応に付して化合物(9)とし、それを
フェニルテトラゾールまたは適当に保護されたフェニル
テトラゾールとクロスカップリングすることによりビフ
ェニルテトラゾール部分を構築することよりなる目的化
合物[I]の製法(B法)を提供するものである。これ
らの方法は、ベンジル基による保護、脱保護、ビフェニ
ルテトラゾールの合成、イミダゾールとの反応等のごと
き煩雑な操作を必要としない。さらに、これらのプロセ
スは、全ての反応が目的化合物の構築に有用に活用さ
れ、かつ各工程とも高収率であるという利点を有する。
変数置換基Rで表されるアルキル基としては、メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチル、トリメチルシリル
エトキシメチル等が挙げられる。置換されていてもよい
アリール基としては、ベンジル、ジフェニルメチル、チ
オフェニルメチル、ナフチルメチル、9−アンスリルメ
チル等が挙げられ、該アリールは、所望により、メチ
ル、エチル等の低級アルキル基またはメトキシ、エトキ
シ等の低級アルコキシ基で置換されていてもよい。
シメチル、メトキシエトキシメチル、トリメチルシリル
エトキシメチル等が挙げられる。置換されていてもよい
アリール基としては、ベンジル、ジフェニルメチル、チ
オフェニルメチル、ナフチルメチル、9−アンスリルメ
チル等が挙げられ、該アリールは、所望により、メチ
ル、エチル等の低級アルキル基またはメトキシ、エトキ
シ等の低級アルコキシ基で置換されていてもよい。
本発明で使用するクロスカップリング反応について
は、US5039814において開示された2−置換−1−(テ
トラゾール−5−イル)ベンゼン類の製法が知られてい
る(反応式3)。しかしながら、この開示はビフェニル
テトラゾール部分である中間体(12)の製法に関するも
のであり、また、フェニルテトラゾール(11)のR基と
して水素またはトリフェニルメチル基が報告されている
だけである。従って、本発明のような複雑な構造で反応
性に富むカルボニル基等を有する化合物においても、反
応が高収率かつ選択的に進行することは予測できないこ
とであった。
は、US5039814において開示された2−置換−1−(テ
トラゾール−5−イル)ベンゼン類の製法が知られてい
る(反応式3)。しかしながら、この開示はビフェニル
テトラゾール部分である中間体(12)の製法に関するも
のであり、また、フェニルテトラゾール(11)のR基と
して水素またはトリフェニルメチル基が報告されている
だけである。従って、本発明のような複雑な構造で反応
性に富むカルボニル基等を有する化合物においても、反
応が高収率かつ選択的に進行することは予測できないこ
とであった。
本発明で使用される不活性溶媒としては、反応に悪影
響を与えないものであればいずれも使用でき、例えば、
DMF、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン等を挙げる
ことができる。反応は反応式2に示す。化合物(1)を
まずDMF等の適当な溶媒に溶解し、例えば、水素化ナト
リウム等の塩基存在下、4−ハロゲノベンジルブロミド
と反応させ、反応物をヒドラジン一水和物と共に加熱還
流するこにとより化合物(6)が得られる。次いで、化
合物(6)をジクロルメタン等の適当な溶媒に溶解し、
例えば、四酢酸鉛等の酸化剤存在下、該溶液を1,4−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサジエンを反応させることに
より化合物(7)が得られる。次いで、化合物(7)の
C環二重結合を、p−トルエンスルホニルヒドラジンと
ジメトキシメタン中、加熱還流しながら酢酸ナトリウム
を滴下することによって発生させたジイミドで還元し
て、化合物(8)を得る。さらに、例えば、トリフェニ
ルメチル基等の適当な保護基にて保護したフェニルテト
ラゾール(10)をテトラヒドロフラン等の適当に溶媒に
溶解し、冷却下、該溶液をn−ブチルリチウムと反応さ
せ、さらに塩化亜鉛を加えてアリール亜鉛クロリドを得
る。このアリール亜鉛クロリドをニッケル存在下にて化
合物(8)と反応させて、ビフェニルテトラゾール部分
を構築する。次いで、得られた化合物をテトラヒドロフ
ラン等の適当な溶媒に溶解し、冷却下、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリドを滴下して4位のカルボニルを選択
的に還元する。さらに、希塩酸等の酸によりトリフェニ
ルメチル基等の保護基を除去することにより目的化合物
[I]を得る。なお、各反応段階における化合物は必要
に応じて、カラムクロマトグラフィー等により精製する
ことができる。
響を与えないものであればいずれも使用でき、例えば、
DMF、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン等を挙げる
ことができる。反応は反応式2に示す。化合物(1)を
まずDMF等の適当な溶媒に溶解し、例えば、水素化ナト
リウム等の塩基存在下、4−ハロゲノベンジルブロミド
と反応させ、反応物をヒドラジン一水和物と共に加熱還
流するこにとより化合物(6)が得られる。次いで、化
合物(6)をジクロルメタン等の適当な溶媒に溶解し、
例えば、四酢酸鉛等の酸化剤存在下、該溶液を1,4−ジ
メチル−1,3−シクロヘキサジエンを反応させることに
より化合物(7)が得られる。次いで、化合物(7)の
C環二重結合を、p−トルエンスルホニルヒドラジンと
ジメトキシメタン中、加熱還流しながら酢酸ナトリウム
を滴下することによって発生させたジイミドで還元し
て、化合物(8)を得る。さらに、例えば、トリフェニ
ルメチル基等の適当な保護基にて保護したフェニルテト
ラゾール(10)をテトラヒドロフラン等の適当に溶媒に
溶解し、冷却下、該溶液をn−ブチルリチウムと反応さ
せ、さらに塩化亜鉛を加えてアリール亜鉛クロリドを得
る。このアリール亜鉛クロリドをニッケル存在下にて化
合物(8)と反応させて、ビフェニルテトラゾール部分
を構築する。次いで、得られた化合物をテトラヒドロフ
ラン等の適当な溶媒に溶解し、冷却下、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリドを滴下して4位のカルボニルを選択
的に還元する。さらに、希塩酸等の酸によりトリフェニ
ルメチル基等の保護基を除去することにより目的化合物
[I]を得る。なお、各反応段階における化合物は必要
に応じて、カラムクロマトグラフィー等により精製する
ことができる。
好ましい具体例の記載
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
実施例1
化学式:
で表されるジメチル 2−ブチル−1−(4−ヨードベ
ンジル)イミダゾール−4,5−ジカルボン酸の合成 ジメチル 2−ブチルイミダゾール−4,5−ジカルボ
ン酸(7.12g、29.6mmol)と、4−ヨードベンジルブロ
ミド(10.56g、35.5mmol)をDMF(50ml)に溶解し、室
温で撹拌しながら、60%油状水素化ナトリウム(1.3g、
32.5mmol)を少量ずつ加えた。反応溶液を室温で2時間
撹拌した後、メタノールを加えて過剰の水素化ナトリウ
ムを処理した。次いで、2N HClで反応溶液を中和し、生
成物をジクロルメタンで抽出した。抽出液を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)
にて精製し、標題化合物(11.1g、82%)を黄褐色固体
物質(mp:98〜99℃、Rf:0.60 シリカゲル−酢酸エチル
/ヘキサン=1/1)として得た。このものの核磁気共鳴
スペクトルは以下の通りである。
ンジル)イミダゾール−4,5−ジカルボン酸の合成 ジメチル 2−ブチルイミダゾール−4,5−ジカルボ
ン酸(7.12g、29.6mmol)と、4−ヨードベンジルブロ
ミド(10.56g、35.5mmol)をDMF(50ml)に溶解し、室
温で撹拌しながら、60%油状水素化ナトリウム(1.3g、
32.5mmol)を少量ずつ加えた。反応溶液を室温で2時間
撹拌した後、メタノールを加えて過剰の水素化ナトリウ
ムを処理した。次いで、2N HClで反応溶液を中和し、生
成物をジクロルメタンで抽出した。抽出液を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)
にて精製し、標題化合物(11.1g、82%)を黄褐色固体
物質(mp:98〜99℃、Rf:0.60 シリカゲル−酢酸エチル
/ヘキサン=1/1)として得た。このものの核磁気共鳴
スペクトルは以下の通りである。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.88(3H,t,J=7.4Hz),1.
34(2H,sex,J=7.4Hz),1.66(2H,qui,J=7.4Hz),2.63
(2H,t,J=7.4Hz),3.81(3H,s),3.92(3H,s),5.35
(2H,s),6.74(2H,d,J=8.6Hz),7.64(2H,d,J=8.6H
z) 実施例2 化学式: で表される2−ブチル−1−(4−ヨードベンジル)イ
ミダゾ[4,5−d]ピリダジン4,(5H),7,(6H)−ジオ
ンの合成 ジメチル 2−ブチル−1−(4−ヨードベンジル)
イミダゾール−4,5−ジカルボン酸(8.68g、19.0mmol)
とヒドラジン一水和物(20ml)の混合物を1.5時間加熱
還流した。過剰のヒドラジンを減圧下留去し、水(40m
l)を加え、さらに12N HClを加えて反応溶液を酸性(pH
=1)にし、溶液を氷上で冷却した。生成した沈殿を濾
別して、エタノール(40ml×2)、エーテル(40ml×
2)で順次洗浄し、濾過物を50℃で真空乾燥して、標題
化合物(8.4g、100%)を白色粉末(mp>250℃、Rf:0.5
8 シリカゲル−クロロホルム/メタノール=10/1)と
して得た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以下の通
りである。
34(2H,sex,J=7.4Hz),1.66(2H,qui,J=7.4Hz),2.63
(2H,t,J=7.4Hz),3.81(3H,s),3.92(3H,s),5.35
(2H,s),6.74(2H,d,J=8.6Hz),7.64(2H,d,J=8.6H
z) 実施例2 化学式: で表される2−ブチル−1−(4−ヨードベンジル)イ
ミダゾ[4,5−d]ピリダジン4,(5H),7,(6H)−ジオ
ンの合成 ジメチル 2−ブチル−1−(4−ヨードベンジル)
イミダゾール−4,5−ジカルボン酸(8.68g、19.0mmol)
とヒドラジン一水和物(20ml)の混合物を1.5時間加熱
還流した。過剰のヒドラジンを減圧下留去し、水(40m
l)を加え、さらに12N HClを加えて反応溶液を酸性(pH
=1)にし、溶液を氷上で冷却した。生成した沈殿を濾
別して、エタノール(40ml×2)、エーテル(40ml×
2)で順次洗浄し、濾過物を50℃で真空乾燥して、標題
化合物(8.4g、100%)を白色粉末(mp>250℃、Rf:0.5
8 シリカゲル−クロロホルム/メタノール=10/1)と
して得た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以下の通
りである。
1H−NMR(DMSO−d6) δppm:0.86(3H,t,J=7.5H
z),1.33(2H,sex,J=7.5Hz),1.66(2H,qui,J=7.5H
z),2.70(2H,t,J=7.5Hz),5.70(2H,s),6.97(2H,d,
J=8.4Hz),7.66(2H,d,J=8.4Hz) 実施例3 化学式: で表される2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−ジヒドロ
−5,8−エタノ−1−(4−ヨードベンジル)−1H−1,
3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナフタレン−4,9−ジ
オンの合成 2−ブチル−1−(4−ヨードベンジル)イミダゾ
[4,5−d]ピンタジン−4,(5H),7,(6H)−ジオン
(7.64g、18.0mmol)と1,4−ジメチル−1,3−シクロヘ
キサジエン(純度64%、4.6g、27.3mmol)をジクロルメ
タン(150ml)に懸濁し、懸濁液を−25℃まで冷却し
た。四酢酸鉛(純度91%、26.3g、54.0mmol)を数回に
分けて加えた。反応混液の温度をゆっくりと0℃にまで
戻して、2.5時間反応させた。トルエン(100ml)を加
え、生成する沈殿を濾別し、ジクロルメタンで洗浄し
た。濾液と洗液を一緒にして減圧下濃縮し、残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し
て、標題化合物(7.65g、80%)を淡黄色粉末(mp:157
〜158℃、Rf:0.51 シリカゲル−酢酸エチル)として得
た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以下の通りであ
る。
z),1.33(2H,sex,J=7.5Hz),1.66(2H,qui,J=7.5H
z),2.70(2H,t,J=7.5Hz),5.70(2H,s),6.97(2H,d,
J=8.4Hz),7.66(2H,d,J=8.4Hz) 実施例3 化学式: で表される2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−ジヒドロ
−5,8−エタノ−1−(4−ヨードベンジル)−1H−1,
3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナフタレン−4,9−ジ
オンの合成 2−ブチル−1−(4−ヨードベンジル)イミダゾ
[4,5−d]ピンタジン−4,(5H),7,(6H)−ジオン
(7.64g、18.0mmol)と1,4−ジメチル−1,3−シクロヘ
キサジエン(純度64%、4.6g、27.3mmol)をジクロルメ
タン(150ml)に懸濁し、懸濁液を−25℃まで冷却し
た。四酢酸鉛(純度91%、26.3g、54.0mmol)を数回に
分けて加えた。反応混液の温度をゆっくりと0℃にまで
戻して、2.5時間反応させた。トルエン(100ml)を加
え、生成する沈殿を濾別し、ジクロルメタンで洗浄し
た。濾液と洗液を一緒にして減圧下濃縮し、残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル)にて精製し
て、標題化合物(7.65g、80%)を淡黄色粉末(mp:157
〜158℃、Rf:0.51 シリカゲル−酢酸エチル)として得
た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以下の通りであ
る。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.86(3H,t,J=7.5Hz),1.
31(2H,sex,J=7.5Hz),1.61(2H,m,),1.69(2H,qui,J
=7.5Hz),2.13(3H,s),2.21(3H,s),2.61(2H,t,J=
7.5Hz),5.59(2H,AB,JAB=16Hz),6.36(2H,AB,JAB=1
6Hz),6.81(2H,d,J=8.4Hz),7.64(2H,d,J=8.4Hz) 実施例4 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−1−(4−
ヨードベンジル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−1H−1,3,4
a,8a−テトラアザシクロペンタナフタレン−4,9−ジオ
ンの合成 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−ジヒドロ−5,8−
エタノ−1−(4−ヨードベンジル)−1H−1,3,4a,8a
−テトラアザシクロペンタナフタレン−4,9−ジオン(3
g、5.66mmol)とp−トルエンスルホニルヒドラジン
(8.4g、45.1mmol)をDMF(16ml)に溶解し、溶液を加
熱還流した。酢酸ナトリウム(7.4g、90.2mmol)を水
(16ml)に溶かすことによって得られた溶液を3時間か
けてゆっくりと滴下した。溶媒を減圧下留去し、残渣を
ジクロルメタンに溶かし、水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、
45℃で真空乾燥し、標題化合物(2.6g、87%)を白色粉
末(mp:208〜209℃、Rf:0.51 シリカゲル−酢酸エチ
ル)として得た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以
下の通りである。
31(2H,sex,J=7.5Hz),1.61(2H,m,),1.69(2H,qui,J
=7.5Hz),2.13(3H,s),2.21(3H,s),2.61(2H,t,J=
7.5Hz),5.59(2H,AB,JAB=16Hz),6.36(2H,AB,JAB=1
6Hz),6.81(2H,d,J=8.4Hz),7.64(2H,d,J=8.4Hz) 実施例4 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−1−(4−
ヨードベンジル)−5,6,7,8−テトラヒドロ−1H−1,3,4
a,8a−テトラアザシクロペンタナフタレン−4,9−ジオ
ンの合成 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−ジヒドロ−5,8−
エタノ−1−(4−ヨードベンジル)−1H−1,3,4a,8a
−テトラアザシクロペンタナフタレン−4,9−ジオン(3
g、5.66mmol)とp−トルエンスルホニルヒドラジン
(8.4g、45.1mmol)をDMF(16ml)に溶解し、溶液を加
熱還流した。酢酸ナトリウム(7.4g、90.2mmol)を水
(16ml)に溶かすことによって得られた溶液を3時間か
けてゆっくりと滴下した。溶媒を減圧下留去し、残渣を
ジクロルメタンに溶かし、水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、
45℃で真空乾燥し、標題化合物(2.6g、87%)を白色粉
末(mp:208〜209℃、Rf:0.51 シリカゲル−酢酸エチ
ル)として得た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以
下の通りである。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.87(3H,t,J=7.5Hz),1.
33(2H,sex,J=7.5Hz),1.61−1.76(6H,m),1.81(3H,
s),1.89(3H,s),2.17(4H,m),2.64(2H,t,J=7.5H
z),5.61(2H,s),6.83(2H,d,J=7.1Hz),7.65(2H,d,
J=7.1Hz) 実施例5 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−5,6,7,8−
テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェニルメチル
−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフェニル]メ
チル]−1H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナフ
タレン−4,9−ジオンの合成 4−フェニル−1−トリフェニルメチル−1H−テトラ
ゾール(365mg、0.94mmol)をTHF(2ml)に溶かし、溶
液を−20℃に冷却し、窒素雰囲気下にこの溶液を撹拌し
ながら1.6M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(0.7m
l、1.12mmol)を滴下した。この溶液の温度を−20℃か
ら−10℃に1時間かけて昇温させ、溶液をさらに30分間
撹拌した。ここにTHF(1ml)中の塩化亜鉛(153mg、1.1
2mmol)の懸濁液を加え、反応物を0℃に加温してアリ
ール亜鉛クロリドを得た。
33(2H,sex,J=7.5Hz),1.61−1.76(6H,m),1.81(3H,
s),1.89(3H,s),2.17(4H,m),2.64(2H,t,J=7.5H
z),5.61(2H,s),6.83(2H,d,J=7.1Hz),7.65(2H,d,
J=7.1Hz) 実施例5 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−5,6,7,8−
テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェニルメチル
−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフェニル]メ
チル]−1H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナフ
タレン−4,9−ジオンの合成 4−フェニル−1−トリフェニルメチル−1H−テトラ
ゾール(365mg、0.94mmol)をTHF(2ml)に溶かし、溶
液を−20℃に冷却し、窒素雰囲気下にこの溶液を撹拌し
ながら1.6M n−ブチルリチウムのヘキサン溶液(0.7m
l、1.12mmol)を滴下した。この溶液の温度を−20℃か
ら−10℃に1時間かけて昇温させ、溶液をさらに30分間
撹拌した。ここにTHF(1ml)中の塩化亜鉛(153mg、1.1
2mmol)の懸濁液を加え、反応物を0℃に加温してアリ
ール亜鉛クロリドを得た。
別の容器において、窒素雰囲気下、ビス(トリフェニ
ルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド(62.9mg、0.
096mmol)をTHF(1ml)に懸濁し、これに室温にて1M
メチルマグネシウムクロリドのTHF溶液(0.2ml、0.2mmo
l)を加えた。次いで、2−ブチル−5,8−ジメチル−5,
8−エタノ−1−(4−ヨードベンジル)−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−1H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタ
ナフタレン−4,9−ジオン(250mg、0.47mmol)のTHF溶
液(6ml)を添加し、また先に調製したアリール亜鉛ク
ロリドのTHF溶液を順次加えた。反応混液を室温で10時
間撹拌し、酢酸(0.2ml)を加えてから30分間撹拌し、
飽和食塩水(2ml)を加えてさらに30分間撹拌し、混合
物を静置してTHF層と水層を分離させた。THF層を取り、
水層をさらにTHF(5ml)で抽出し、THF層を合わせ、28
%アンモニア水(3ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下にて濃縮した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(酢酸エチル)によって精製して、標題
化合物(289mg、77.4%)を白色粉末として得た。
ルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド(62.9mg、0.
096mmol)をTHF(1ml)に懸濁し、これに室温にて1M
メチルマグネシウムクロリドのTHF溶液(0.2ml、0.2mmo
l)を加えた。次いで、2−ブチル−5,8−ジメチル−5,
8−エタノ−1−(4−ヨードベンジル)−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−1H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタ
ナフタレン−4,9−ジオン(250mg、0.47mmol)のTHF溶
液(6ml)を添加し、また先に調製したアリール亜鉛ク
ロリドのTHF溶液を順次加えた。反応混液を室温で10時
間撹拌し、酢酸(0.2ml)を加えてから30分間撹拌し、
飽和食塩水(2ml)を加えてさらに30分間撹拌し、混合
物を静置してTHF層と水層を分離させた。THF層を取り、
水層をさらにTHF(5ml)で抽出し、THF層を合わせ、28
%アンモニア水(3ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下にて濃縮した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(酢酸エチル)によって精製して、標題
化合物(289mg、77.4%)を白色粉末として得た。
実施例6
化学式:
で表される2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−
5,6,7,8−テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェ
ニルメチル−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフ
ェニル]メチル]−1H,4H−1,3,4a,8a−テトラアザシク
ロペンタナフタレン−9−オンの合成 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェニルメチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフェニル]
メチル]−1H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナ
フタレン−4,9−ジオン(93.1g、0.12mol)をTHF(1.2
l)に加温しながら溶解し、溶液を−45℃に冷却し、窒
素雰囲気下DIBAH(1.5Mトルエン溶液、230ml、0.35mo
l)を徐々に滴下した。同温にて混合物を1時間撹拌し
た後、飽和食塩水を加え、混合物を徐々に室温まで昇温
した。有機層をデカントし、沈殿物を酢酸エチルで洗浄
し、先ほどの有機層と合わせて無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去することにより標題化合物
(96.6g)を淡黄色固体として得た。このものの核磁気
共鳴スペクトルは以下の通りである。
5,6,7,8−テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェ
ニルメチル−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフ
ェニル]メチル]−1H,4H−1,3,4a,8a−テトラアザシク
ロペンタナフタレン−9−オンの合成 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェニルメチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフェニル]
メチル]−1H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナ
フタレン−4,9−ジオン(93.1g、0.12mol)をTHF(1.2
l)に加温しながら溶解し、溶液を−45℃に冷却し、窒
素雰囲気下DIBAH(1.5Mトルエン溶液、230ml、0.35mo
l)を徐々に滴下した。同温にて混合物を1時間撹拌し
た後、飽和食塩水を加え、混合物を徐々に室温まで昇温
した。有機層をデカントし、沈殿物を酢酸エチルで洗浄
し、先ほどの有機層と合わせて無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去することにより標題化合物
(96.6g)を淡黄色固体として得た。このものの核磁気
共鳴スペクトルは以下の通りである。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.82(3H,t,J=7.2Hz),1.
14(3H,s),1.20−1.31(2H,)m,1.49−1.68(6H,m),
1.71(3H,s),2.04−2.14(4H,m),2.43(2H,t,J=8.0H
z),3.98(2H,s),5.46(2H,s),6.89−7.51(22H,m),
7.88(1H,dd,J=1.5,7.5Hz) 実施例7 化学式: で表される2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−
5,6,7,8−テトラヒドロ−1−[[2'−(1H−テトラゾ
ール−5−イル)−4−ビフェニル]メチル]−1H,4H
−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナフタレン−9
−オンの合成 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェニルメチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフェニル]
メチル]−1H,4H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタ
ナフタレン−9−オン(96.3g)をアセトン(720ml)に
溶解し、2N HCl(220ml)を加え、混合物を55℃で30分
間加熱撹拌した。反応混合物を0℃まで冷却し、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えてpHを4に調整し、減圧
下アセトンを留去し、生じた水層を塩化メチレンで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られる
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム−
クロロホルム/メタノール=50/1)にて精製して、標題
化合物(53.5g、91% 2st eps)を淡黄色固体として
得た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以下の通りで
ある。
14(3H,s),1.20−1.31(2H,)m,1.49−1.68(6H,m),
1.71(3H,s),2.04−2.14(4H,m),2.43(2H,t,J=8.0H
z),3.98(2H,s),5.46(2H,s),6.89−7.51(22H,m),
7.88(1H,dd,J=1.5,7.5Hz) 実施例7 化学式: で表される2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−
5,6,7,8−テトラヒドロ−1−[[2'−(1H−テトラゾ
ール−5−イル)−4−ビフェニル]メチル]−1H,4H
−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタナフタレン−9
−オンの合成 2−ブチル−5,8−ジメチル−5,8−エタノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1−[[2'−(1−トリフェニルメチ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)−4−ビフェニル]
メチル]−1H,4H−1,3,4a,8a−テトラアザシクロペンタ
ナフタレン−9−オン(96.3g)をアセトン(720ml)に
溶解し、2N HCl(220ml)を加え、混合物を55℃で30分
間加熱撹拌した。反応混合物を0℃まで冷却し、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えてpHを4に調整し、減圧
下アセトンを留去し、生じた水層を塩化メチレンで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られる
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム−
クロロホルム/メタノール=50/1)にて精製して、標題
化合物(53.5g、91% 2st eps)を淡黄色固体として
得た。このものの核磁気共鳴スペクトルは以下の通りで
ある。
1H−NMR(CDCl3) δppm:0.84(3H,t,J=7.2Hz),1.
01(3H,s),1.22−1.36(2H,m),1.51−1.69(6H,m),
1.58(3H,s),1.89−2.01(4H,m),2.41(2H,t,J=7.7H
z),3.63(2H,s),5.43(2H,s),6.91(2H,d,J=8.0H
z),7.05(2H,d,J=8.0Hz),7.44−7.65(3H,m),7.87
(1H,d,J=6.8Hz)
01(3H,s),1.22−1.36(2H,m),1.51−1.69(6H,m),
1.58(3H,s),1.89−2.01(4H,m),2.41(2H,t,J=7.7H
z),3.63(2H,s),5.43(2H,s),6.91(2H,d,J=8.0H
z),7.05(2H,d,J=8.0Hz),7.44−7.65(3H,m),7.87
(1H,d,J=6.8Hz)
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 続木 一夫
茨城県つくば市谷田部1054―19
(72)発明者 谷口 幹雄
茨城県つくば市下広岡668―34
(72)発明者 藤田 芳司
千葉県我孫子市並木6丁目8―6―302
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C07D 487/22
CA(STN)
REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】化学式: で示される化合物を4−ハロゲノベンジルブロミドを反
応させ、続いてヒドラジンと反応させて化学式: [式中、Xは臭素またはヨウ素を表す] で示される化合物が得られ、 前記化合物を酸化剤存在下で1,4−ジメチル−1,3−シク
ロヘキサンジエンと反応させ、 新たに生成した二重結合を、接触還元またはジイミド還
元、続いてのジイソブチルアルミニウムヒドリド還元に
付して、化学式: [式中、Xは臭素またはヨウ素を表す] で示される化合物が得られ、次いで、 前記化合物を一般式: [式中、Rは水素、ナトリウム、カリウム、アルキル基
または置換されていてもよいアリール基を表す] で示される化合物と反応させることを特徴とする化学
式: で示される化合物またはその薬理学的に許容される塩の
製法。 - 【請求項2】化学式: で示される化合物を4−ハロゲノベンジルブロミドと反
応させ、続いてヒドラジンと反応させて、化学式: [式中、Xは臭素またはヨウ素を表す] で示される化合物が得られ、 前記化合物を酸化剤存在下で1,4−ジメチル−1,3−シク
ロヘキサンジエンを反応させ、 新たに生成した二重結合を接触還元に付すか、かあるい
はジイミド還元に付して化学式: [式中、Xは臭素またはヨウ素を表す] で示される化合物が得られ、 前記化合物を、一般式: [式中、Rは水素、ナトリウム、カリウム、アルキル基
または置換されていてもよいアリール基を表す] で示される化合物と反応させ、次いで、 得られた化合物をジイソブチルアルミニウムヒドリド還
元反応に付すことを特徴とする化学式: で示される化合物またはその薬理学的に許容される塩の
製法。
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