JP3376598B2 - ２−プロパノール化合物の製造方法 - Google Patents
２−プロパノール化合物の製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感熱記録紙の画像保存安
定剤として有用な２−プロパノール化合物の製造方法に
関する。
定剤として有用な２−プロパノール化合物の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にエポキシ化合物とフェノール性化
合物との反応はエポキシ樹脂あるいはポリエーテル樹脂
等の高分子樹脂の合成を目的としたものである。例え
ば、エピクロルヒドリンと２分子のフェノール類を水ま
たは適当な溶媒中で塩基性触媒の存在下で反応してグリ
セロールα、α’−ジアリールエーテル化合物を合成す
る方法がO,Stephenson J.C.S,.1954,1571で開示されて
おり、また一般式（ＩＩ）の如きジフェノール化合物の
アルカリ金属塩とオレフィンハロヒドリンとを反応し
て、両方のフェノール性水酸基にオレフィンハロヒドリ
ンを付加する方法が米国特許２３５９６２２号で開示さ
れている。しかし、上述した様に高分子樹脂を目的とし
た合成の報告は多く有るが、本発明の様にジフェノール
化合物の一方のヒドロキシル基のみにエポキシ化合物を
付加反応する例は見当たらない。一方、本発明の方法で
製造される２−プロパノール化合物は感熱記録紙の発色
した画像が包装用の樹脂によって消色する等を防止する
画像保存安定剤として使用される新規な化合物である。
合物との反応はエポキシ樹脂あるいはポリエーテル樹脂
等の高分子樹脂の合成を目的としたものである。例え
ば、エピクロルヒドリンと２分子のフェノール類を水ま
たは適当な溶媒中で塩基性触媒の存在下で反応してグリ
セロールα、α’−ジアリールエーテル化合物を合成す
る方法がO,Stephenson J.C.S,.1954,1571で開示されて
おり、また一般式（ＩＩ）の如きジフェノール化合物の
アルカリ金属塩とオレフィンハロヒドリンとを反応し
て、両方のフェノール性水酸基にオレフィンハロヒドリ
ンを付加する方法が米国特許２３５９６２２号で開示さ
れている。しかし、上述した様に高分子樹脂を目的とし
た合成の報告は多く有るが、本発明の様にジフェノール
化合物の一方のヒドロキシル基のみにエポキシ化合物を
付加反応する例は見当たらない。一方、本発明の方法で
製造される２−プロパノール化合物は感熱記録紙の発色
した画像が包装用の樹脂によって消色する等を防止する
画像保存安定剤として使用される新規な化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】芳香族ジヒドロキシ化
合物の一方のヒドロキシ基にのみグリシジル化合物を特
別な保護基等を使用することなく付加反応して、不純物
の少ない一般式（Ｉ）で表される２−プロパノール化合
物を収率良く製造する方法である。
合物の一方のヒドロキシ基にのみグリシジル化合物を特
別な保護基等を使用することなく付加反応して、不純物
の少ない一般式（Ｉ）で表される２−プロパノール化合
物を収率良く製造する方法である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式（ＩＩ）
で表される芳香族ジヒドロキシ化合物と一般式（ＩＩ
Ｉ）で表されるグリシジルエーテル化合物とを触媒の４
級アンモニウム塩、３級アミン、ホスホニウム塩及びス
ルホニウム塩の内一種以上の存在下、極性有機溶媒中で
反応する一般式（Ｉ）で表される２−プロパノール化合
物の製造方法である。 （上記一般式中において、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 はハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘは−Ｃ（ＣＨ 3）2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2
−及び−Ｓ−を示し、環Ａはベンゼン環又はナフタレン
環を示し、ｍ、ｎ及びｐは０又は４以下の整数を示
す。）本発明の一般式中の置換基において、低級アルキ
ル基とあるはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、アミル基、イソアミル基等の側鎖を有していてもよ
い炭素原子数１〜５のアルキル基を意味しており、低級
アルコキシ基とあるはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、アミルオキシ、イソアミル
オキシ基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数１〜５
のアルコキシ基を意味しており、低級アルケニル基とあ
るはビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、
１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イ
ソブテニル基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数２
〜５のアルケニル基を意味している。
で表される芳香族ジヒドロキシ化合物と一般式（ＩＩ
Ｉ）で表されるグリシジルエーテル化合物とを触媒の４
級アンモニウム塩、３級アミン、ホスホニウム塩及びス
ルホニウム塩の内一種以上の存在下、極性有機溶媒中で
反応する一般式（Ｉ）で表される２−プロパノール化合
物の製造方法である。 （上記一般式中において、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 はハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘは−Ｃ（ＣＨ 3）2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2
−及び−Ｓ−を示し、環Ａはベンゼン環又はナフタレン
環を示し、ｍ、ｎ及びｐは０又は４以下の整数を示
す。）本発明の一般式中の置換基において、低級アルキ
ル基とあるはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、アミル基、イソアミル基等の側鎖を有していてもよ
い炭素原子数１〜５のアルキル基を意味しており、低級
アルコキシ基とあるはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、アミルオキシ、イソアミル
オキシ基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数１〜５
のアルコキシ基を意味しており、低級アルケニル基とあ
るはビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、
１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イ
ソブテニル基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数２
〜５のアルケニル基を意味している。
【０００５】一般式（ＩＩ）で表される芳香族ジヒドロ
キシ化合物としては、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン及びその誘導体、２，２’−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン及びその誘導体、ジ（４−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン及びその誘導体、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルチオエーテル及びその誘導体が
挙げられ、各々の誘導体は上記置換基を任意の組合せで
有するものである。具体的には４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン、３，３’−ジアリル−４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホン、３，３’−ジメチル
−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、２，
２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ジ
（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ジ（４−ヒドロキ
シフェニル）チオエーテル等が代表的なものとして挙げ
られる。
キシ化合物としては、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン及びその誘導体、２，２’−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン及びその誘導体、ジ（４−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン及びその誘導体、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルチオエーテル及びその誘導体が
挙げられ、各々の誘導体は上記置換基を任意の組合せで
有するものである。具体的には４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン、３，３’−ジアリル−４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホン、３，３’−ジメチル
−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、２，
２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ジ
（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ジ（４−ヒドロキ
シフェニル）チオエーテル等が代表的なものとして挙げ
られる。
【０００６】次いで、一般式（ＩＩＩ）で表されるグリ
シジルエーテル化合物としては、フェニル基、トリル基
等の低級アルキルフェニル基、クロロフェニル基等のハ
ロゲン化フェニル基、メトキシフェニル基等のアルコキ
シフェニル基、アリルフェニル基等のアルケニルフェニ
ル基等を置換基として有するグリシジルエーテル化合物
及び２−アルキル置換グリシジルエーテルが挙げられ
る。具体的にはｏ−トリルグリシジルエーテル、ｍ−ト
リルグリシジルエーテル、ｐ−トリルグリシジルエーテ
ル、ｐ−クロロフェニルグリシジルエーテル、ｍ−クロ
ロフェニルグリシジルエーテル、２，４−ジメチルフェ
ニルグリシジルエーテル、３，５−ジメチルフェニルグ
リシジルエーテル、ｐ−エチルフェニルグリシジルエー
テル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、ｐ−フェニルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−メ
トキシフェニルグリシジルエーテル、２，４，６−トリ
メチルフェニルグリシジルエーテル、β−ナフチルグリ
シジルエーテル、フェニル−２−メチルグリシジルエー
テル、ｐ−クロロフェニル−２−メチルグリシジルエー
テル、３，５−ジメチルフェニル−２−メチルグリシジ
ルエーテル、ｐ−エチルフェニル−２−メチルグリシジ
ルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−２−メチ
ルグリシジルエーテル、ｐ−フェニルフェニル−２−メ
チルグリシジルエーテル、２，４，６−トリメチルフェ
ニル−２−メチルグリシジルエーテル、β−ナフチル−
２−メチルグリシジルエーテル等が代表的なものとして
挙げられる。
シジルエーテル化合物としては、フェニル基、トリル基
等の低級アルキルフェニル基、クロロフェニル基等のハ
ロゲン化フェニル基、メトキシフェニル基等のアルコキ
シフェニル基、アリルフェニル基等のアルケニルフェニ
ル基等を置換基として有するグリシジルエーテル化合物
及び２−アルキル置換グリシジルエーテルが挙げられ
る。具体的にはｏ−トリルグリシジルエーテル、ｍ−ト
リルグリシジルエーテル、ｐ−トリルグリシジルエーテ
ル、ｐ−クロロフェニルグリシジルエーテル、ｍ−クロ
ロフェニルグリシジルエーテル、２，４−ジメチルフェ
ニルグリシジルエーテル、３，５−ジメチルフェニルグ
リシジルエーテル、ｐ−エチルフェニルグリシジルエー
テル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、ｐ−フェニルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−メ
トキシフェニルグリシジルエーテル、２，４，６−トリ
メチルフェニルグリシジルエーテル、β−ナフチルグリ
シジルエーテル、フェニル−２−メチルグリシジルエー
テル、ｐ−クロロフェニル−２−メチルグリシジルエー
テル、３，５−ジメチルフェニル−２−メチルグリシジ
ルエーテル、ｐ−エチルフェニル−２−メチルグリシジ
ルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−２−メチ
ルグリシジルエーテル、ｐ−フェニルフェニル−２−メ
チルグリシジルエーテル、２，４，６−トリメチルフェ
ニル−２−メチルグリシジルエーテル、β−ナフチル−
２−メチルグリシジルエーテル等が代表的なものとして
挙げられる。
【０００７】触媒である４級アンモニウム塩、３級アミ
ン、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の代表的なもの
としては次の例が挙げられる。４級アンモニウム塩とし
ては、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニ
ウムヨージド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テ
トラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモ
ニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアン
モニウムヨージド、テトラヘキシルアンモニウムヨージ
ド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、トリオ
クチルメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチ
ルアンモニウムクロリド、ジエタノールメチルデカンア
ンモニウムブロミド、ジメタノールメチルデカンアンモ
ニウムブロミド等が挙げられる。３級アミンとしては、
例えば４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン、ピリジン、１、８−ジアザ
ビシクロウンデセン、ピコリン類等が挙げられる。ホス
ホニウム塩及びスルホニウム塩としては、例えばテトラ
ブチルホスホニウムブロマイド、トリメチルスルホニウ
ムヨージド等が挙げられる。
ン、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の代表的なもの
としては次の例が挙げられる。４級アンモニウム塩とし
ては、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニ
ウムヨージド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テ
トラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモ
ニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアン
モニウムヨージド、テトラヘキシルアンモニウムヨージ
ド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、トリオ
クチルメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチ
ルアンモニウムクロリド、ジエタノールメチルデカンア
ンモニウムブロミド、ジメタノールメチルデカンアンモ
ニウムブロミド等が挙げられる。３級アミンとしては、
例えば４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン、ピリジン、１、８−ジアザ
ビシクロウンデセン、ピコリン類等が挙げられる。ホス
ホニウム塩及びスルホニウム塩としては、例えばテトラ
ブチルホスホニウムブロマイド、トリメチルスルホニウ
ムヨージド等が挙げられる。
【０００８】本発明の製造方法は、特別な保護基等を使
用することなく一般式（ＩＩ）で表す芳香族ジヒドロキ
シ化合物の一方のヒドロキシ基のみに一般式（ＩＩＩ）
で表されるグリシジルエーテル化合物を付加反応して一
般式（Ｉ）で表される２−プロパノール化合物を選択的
に製造する方法である。即ち、反応容器に一般式（Ｉ
Ｉ）で表す芳香族ジヒドロキシ化合物、触媒、極性有機
溶媒を入れ、加熱溶解あるいは分散する。次いで、反応
温度１００〜１５０℃、好ましくは１１０〜１３０℃
で、一般式（ＩＩＩ）で表されるグリシジルエーテル化
合物を添加し、３〜１２時間反応して、一般式（Ｉ）の
２−プロパノール化合物を製造する。この時、反応温度
が高い場合には重合する等副成物の生成が多くなり、ま
た低い場合には反応の進行が遅くなる等の傾向がある。
また、その反応温度は使用する極性有機溶媒の還流下で
行うことが工業的操作性から好ましい方法である。反応
終了後、極性有機溶媒層を濃縮等の後処理をして目的化
合物の粗製物を得て、適当な極性有機溶媒あるいは非極
性有機溶媒で再結晶して精製してもよく、またその後処
理に際して、反応液にアルカリ性物質水溶液を加えてア
ルカリ性、好ましくはｐＨ１０以下にして、過剰の該芳
香族ジヒドロキシ化合物を回収したり、あるいは強アル
カリ性にして目的化合物を水層に抽出し、副成物を極性
有機溶媒中に残して分離し、次いで水層を中和して目的
化合物を適当な極性有機溶媒あるいは非極性有機溶媒に
抽出する等の方法を任意に組み合わせる等して精製する
こともできる。反応において、一般式（ＩＩＩ）のグリ
シジルエーテル化合物１モルに対する一般式（ＩＩ）の
芳香族ジヒドロキシ化合物の使用割合は１．０〜３モ
ル、好ましくは１．２〜１．８モルである。そして、触
媒の使用割合は該グリシジルエーテル化合物１モルに対
し、０．０１モル以上であり、場合によっては触媒を溶
媒の代わりに使用してもよい。
用することなく一般式（ＩＩ）で表す芳香族ジヒドロキ
シ化合物の一方のヒドロキシ基のみに一般式（ＩＩＩ）
で表されるグリシジルエーテル化合物を付加反応して一
般式（Ｉ）で表される２−プロパノール化合物を選択的
に製造する方法である。即ち、反応容器に一般式（Ｉ
Ｉ）で表す芳香族ジヒドロキシ化合物、触媒、極性有機
溶媒を入れ、加熱溶解あるいは分散する。次いで、反応
温度１００〜１５０℃、好ましくは１１０〜１３０℃
で、一般式（ＩＩＩ）で表されるグリシジルエーテル化
合物を添加し、３〜１２時間反応して、一般式（Ｉ）の
２−プロパノール化合物を製造する。この時、反応温度
が高い場合には重合する等副成物の生成が多くなり、ま
た低い場合には反応の進行が遅くなる等の傾向がある。
また、その反応温度は使用する極性有機溶媒の還流下で
行うことが工業的操作性から好ましい方法である。反応
終了後、極性有機溶媒層を濃縮等の後処理をして目的化
合物の粗製物を得て、適当な極性有機溶媒あるいは非極
性有機溶媒で再結晶して精製してもよく、またその後処
理に際して、反応液にアルカリ性物質水溶液を加えてア
ルカリ性、好ましくはｐＨ１０以下にして、過剰の該芳
香族ジヒドロキシ化合物を回収したり、あるいは強アル
カリ性にして目的化合物を水層に抽出し、副成物を極性
有機溶媒中に残して分離し、次いで水層を中和して目的
化合物を適当な極性有機溶媒あるいは非極性有機溶媒に
抽出する等の方法を任意に組み合わせる等して精製する
こともできる。反応において、一般式（ＩＩＩ）のグリ
シジルエーテル化合物１モルに対する一般式（ＩＩ）の
芳香族ジヒドロキシ化合物の使用割合は１．０〜３モ
ル、好ましくは１．２〜１．８モルである。そして、触
媒の使用割合は該グリシジルエーテル化合物１モルに対
し、０．０１モル以上であり、場合によっては触媒を溶
媒の代わりに使用してもよい。
【０００９】本反応では極性有機溶媒を使用している
が、これは一般式（ＩＩ）の芳香族ジヒドロキシ化合物
の反応系内での溶解性を上げ、一般式（ＩＩＩ）のグリ
シジルエーテル化合物との反応性を高め、一般式（Ｉ）
の２−プロパノール化合物への選択率を高めることにあ
る。即ち、本発明の極性有機溶媒は反応系に不活性なも
のであって、沸点が１００℃以上で、少なくとも一般式
（ＩＩ）で表す芳香族ジヒドロキシ化合物及び一般式
（Ｉ）で表される２−プロパノール化合物を溶解する極
性有機溶媒であることが好ましい。その様な有機溶媒と
しては、メチルイソブチルケトン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、ブタノール、ヘキサノール
等の溶媒が挙げられる。この様にして製造した一般式
（Ｉ）で表される２−プロパノール化合物は純度の高い
白色結晶であり、それらは感熱記録材料の画像保存安定
剤として有効なものであった。
が、これは一般式（ＩＩ）の芳香族ジヒドロキシ化合物
の反応系内での溶解性を上げ、一般式（ＩＩＩ）のグリ
シジルエーテル化合物との反応性を高め、一般式（Ｉ）
の２−プロパノール化合物への選択率を高めることにあ
る。即ち、本発明の極性有機溶媒は反応系に不活性なも
のであって、沸点が１００℃以上で、少なくとも一般式
（ＩＩ）で表す芳香族ジヒドロキシ化合物及び一般式
（Ｉ）で表される２−プロパノール化合物を溶解する極
性有機溶媒であることが好ましい。その様な有機溶媒と
しては、メチルイソブチルケトン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、ブタノール、ヘキサノール
等の溶媒が挙げられる。この様にして製造した一般式
（Ｉ）で表される２−プロパノール化合物は純度の高い
白色結晶であり、それらは感熱記録材料の画像保存安定
剤として有効なものであった。
【００１０】以下、実施例をもって本発明を詳細に説明
するが、これによって本発明が限定されることはない。 実施例１ ２ｌコルベンにメチルイソブチケトン５００ｍｌ、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン１８７．５ｇ
（０．７５モル）、トリエタノールアミン７．５ｇ
（０．０５モル）を入れて加熱溶解した。次いでフェニ
ルグリシジルエーテル７５ｇ（０．５モル）を加え、４
時間加熱還流して反応した。反応終了後、反応液に４％
水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層のｐＨを９．８に
調整して洗浄した。分液して除いた水層を、塩酸で酸性
にしたところ原料の４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホン５７ｇが回収できた。更に、洗浄した水層がｐ
Ｈ１２以上になるまで８％水酸化ナトリウム水溶液を加
え、目的化合物を水層に移行させ、水層を分離した。そ
の水層を塩酸で酸性にし、遊離した粗製のオイル状の目
的化合物を得た。粗製物を酢酸エチルで再結晶して、目
的化合物の１−フェノキシ−３−（４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ）−２−プロパノー
ルの白色結晶、融点１４０〜１４２℃、１５２ｇを得
た。なおフェニルグリシジルエーテルからの収率は７６
％であった。 実施例２ ２００ｍｌコルベンに４，４’−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン１２．５ｇ（０．０５８モル）、メチルイソブチ
ルケトン４０ｍｌ、トリエタノールアミン０．５ｇ
（０．００３モル）を入れて加熱溶解した。次いでフェ
ニルグリシジルエーテル７ｇ（０．０４７モル）を加
え、以下実施例１と同様に処理をして目的化合物、１−
フェノキシ−３−（４−（４−ヒドロキシベンゾイル）
フェノキシ）−２−プロパノールの白色結晶、融点１０
８〜１０９℃、１２．２ｇを得た。なおフェニルグリシ
ジルエーテルからの収率は７２％であった。
するが、これによって本発明が限定されることはない。 実施例１ ２ｌコルベンにメチルイソブチケトン５００ｍｌ、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン１８７．５ｇ
（０．７５モル）、トリエタノールアミン７．５ｇ
（０．０５モル）を入れて加熱溶解した。次いでフェニ
ルグリシジルエーテル７５ｇ（０．５モル）を加え、４
時間加熱還流して反応した。反応終了後、反応液に４％
水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層のｐＨを９．８に
調整して洗浄した。分液して除いた水層を、塩酸で酸性
にしたところ原料の４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホン５７ｇが回収できた。更に、洗浄した水層がｐ
Ｈ１２以上になるまで８％水酸化ナトリウム水溶液を加
え、目的化合物を水層に移行させ、水層を分離した。そ
の水層を塩酸で酸性にし、遊離した粗製のオイル状の目
的化合物を得た。粗製物を酢酸エチルで再結晶して、目
的化合物の１−フェノキシ−３−（４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ）−２−プロパノー
ルの白色結晶、融点１４０〜１４２℃、１５２ｇを得
た。なおフェニルグリシジルエーテルからの収率は７６
％であった。 実施例２ ２００ｍｌコルベンに４，４’−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン１２．５ｇ（０．０５８モル）、メチルイソブチ
ルケトン４０ｍｌ、トリエタノールアミン０．５ｇ
（０．００３モル）を入れて加熱溶解した。次いでフェ
ニルグリシジルエーテル７ｇ（０．０４７モル）を加
え、以下実施例１と同様に処理をして目的化合物、１−
フェノキシ−３−（４−（４−ヒドロキシベンゾイル）
フェノキシ）−２−プロパノールの白色結晶、融点１０
８〜１０９℃、１２．２ｇを得た。なおフェニルグリシ
ジルエーテルからの収率は７２％であった。
【００１１】比較例１
実施例１において、トリエタノールアミンを使用しない
以外は実施例１と同様にして８時間反応した。反応終了
後、反応液に４％水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層
のｐＨを９．８に調整して、水層を分液した。その水層
を塩酸で酸性にしたところ、原料の４，４’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンが大部分回収された。 比較例２ 実施例１における０．１倍スケールにして、実施例１の
メチルイソブチケトンの代わりにキシレンを使用し、以
下実施例１と同様に反応した。同様に処理して１−フェ
ノキシ−３−（４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ）−２−プロパノールの白色結晶、融点
１３９〜１４１℃、７．２ｇを得た。フェニルグリシジ
ルエーテルからの収率は３６％であった。なお、ｐＨ１
２以上にした後の水層を分離したキシレン残液層から、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンにフェニル
グリシジルエーテルの２分子が結合した副成物ビス〔４
−（３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェ
ニル〕スルホン８．１ｇが得られ、非極性溶媒を使用し
た場合では副成物が多量に生成することが明らかにでき
た。
以外は実施例１と同様にして８時間反応した。反応終了
後、反応液に４％水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層
のｐＨを９．８に調整して、水層を分液した。その水層
を塩酸で酸性にしたところ、原料の４，４’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンが大部分回収された。 比較例２ 実施例１における０．１倍スケールにして、実施例１の
メチルイソブチケトンの代わりにキシレンを使用し、以
下実施例１と同様に反応した。同様に処理して１−フェ
ノキシ−３−（４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ）−２−プロパノールの白色結晶、融点
１３９〜１４１℃、７．２ｇを得た。フェニルグリシジ
ルエーテルからの収率は３６％であった。なお、ｐＨ１
２以上にした後の水層を分離したキシレン残液層から、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンにフェニル
グリシジルエーテルの２分子が結合した副成物ビス〔４
−（３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェ
ニル〕スルホン８．１ｇが得られ、非極性溶媒を使用し
た場合では副成物が多量に生成することが明らかにでき
た。
【００１２】
【発明の効果】本発明では、芳香族ジヒドロキシ化合物
に特別の保護基を導入することなく、一方のヒドロキシ
基にのみグリシジルエーテル化合物を高収率で付加反応
することができ、得られた該２−プロパノール化合物は
高純度であって、感熱記録紙の画像安定剤として地肌汚
れ等がなく使用できる。
に特別の保護基を導入することなく、一方のヒドロキシ
基にのみグリシジルエーテル化合物を高収率で付加反応
することができ、得られた該２−プロパノール化合物は
高純度であって、感熱記録紙の画像安定剤として地肌汚
れ等がなく使用できる。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ０７Ｃ 317/22 Ｃ０７Ｃ 317/22
319/20 319/20
323/20 323/20
(56)参考文献 特開 昭47−1465（ＪＰ，Ａ)
特開 昭50−105638（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−148135（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−194368（ＪＰ，Ａ)
特公 昭54−1291（ＪＰ，Ｂ１)
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔ
ｓ，79：18272，1973
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 43/23
C07C 41/03
C07C 45/64
C07C 49/84
C07C 315/04
C07C 317/22
C07C 319/20
C07C 323/20
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（II）で表される芳香族ジヒドロキ
シ化合物と一般式（III）で表されるグリシジルエーテ
ル化合物とを、トリエタノールアミンの存在下、極性有
機溶媒中で反応する一般式（Ｉ）で表される２−プロパ
ノール化合物の製造方法。 【化１】 （上記一般式中において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アル
ケニル基を示し、Ｒ4は水素原子及び低級アルキル基を
示し、Ｘは−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＯ−、−ＳＯ2−及
び−Ｓ−を示し、環Ａはベンゼン環又はナフタレン環を
示し、ｍ、ｎ及びｐは０又は４以下の整数を示す。） - 【請求項２】一般式中においてＸが−ＳＯ2−または−
ＣＯ−である請求項第１項記載の一般式（Ｉ）で表され
る２−プロパノール化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08318292A JP3376598B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | ２−プロパノール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08318292A JP3376598B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | ２−プロパノール化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05246924A JPH05246924A (ja) | 1993-09-24 |
| JP3376598B2 true JP3376598B2 (ja) | 2003-02-10 |
Family
ID=13795170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08318292A Expired - Fee Related JP3376598B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | ２−プロパノール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3376598B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5713505B2 (ja) | 2009-09-29 | 2015-05-07 | 日本曹達株式会社 | フェノール性化合物を用いた記録材料 |
| US8431513B2 (en) | 2009-09-30 | 2013-04-30 | Nippon Soda Co., Ltd. | Phenolic compound and recording material |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP08318292A patent/JP3376598B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，７９：１８２７２，１９７３ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05246924A (ja) | 1993-09-24 |
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