JP3376598B2 - 2−プロパノール化合物の製造方法 - Google Patents
2−プロパノール化合物の製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感熱記録紙の画像保存安
定剤として有用な2−プロパノール化合物の製造方法に
関する。
定剤として有用な2−プロパノール化合物の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般にエポキシ化合物とフェノール性化
合物との反応はエポキシ樹脂あるいはポリエーテル樹脂
等の高分子樹脂の合成を目的としたものである。例え
ば、エピクロルヒドリンと2分子のフェノール類を水ま
たは適当な溶媒中で塩基性触媒の存在下で反応してグリ
セロールα、α’−ジアリールエーテル化合物を合成す
る方法がO,Stephenson J.C.S,.1954,1571で開示されて
おり、また一般式(II)の如きジフェノール化合物の
アルカリ金属塩とオレフィンハロヒドリンとを反応し
て、両方のフェノール性水酸基にオレフィンハロヒドリ
ンを付加する方法が米国特許2359622号で開示さ
れている。しかし、上述した様に高分子樹脂を目的とし
た合成の報告は多く有るが、本発明の様にジフェノール
化合物の一方のヒドロキシル基のみにエポキシ化合物を
付加反応する例は見当たらない。一方、本発明の方法で
製造される2−プロパノール化合物は感熱記録紙の発色
した画像が包装用の樹脂によって消色する等を防止する
画像保存安定剤として使用される新規な化合物である。
合物との反応はエポキシ樹脂あるいはポリエーテル樹脂
等の高分子樹脂の合成を目的としたものである。例え
ば、エピクロルヒドリンと2分子のフェノール類を水ま
たは適当な溶媒中で塩基性触媒の存在下で反応してグリ
セロールα、α’−ジアリールエーテル化合物を合成す
る方法がO,Stephenson J.C.S,.1954,1571で開示されて
おり、また一般式(II)の如きジフェノール化合物の
アルカリ金属塩とオレフィンハロヒドリンとを反応し
て、両方のフェノール性水酸基にオレフィンハロヒドリ
ンを付加する方法が米国特許2359622号で開示さ
れている。しかし、上述した様に高分子樹脂を目的とし
た合成の報告は多く有るが、本発明の様にジフェノール
化合物の一方のヒドロキシル基のみにエポキシ化合物を
付加反応する例は見当たらない。一方、本発明の方法で
製造される2−プロパノール化合物は感熱記録紙の発色
した画像が包装用の樹脂によって消色する等を防止する
画像保存安定剤として使用される新規な化合物である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】芳香族ジヒドロキシ化
合物の一方のヒドロキシ基にのみグリシジル化合物を特
別な保護基等を使用することなく付加反応して、不純物
の少ない一般式(I)で表される2−プロパノール化合
物を収率良く製造する方法である。
合物の一方のヒドロキシ基にのみグリシジル化合物を特
別な保護基等を使用することなく付加反応して、不純物
の少ない一般式(I)で表される2−プロパノール化合
物を収率良く製造する方法である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式(II)
で表される芳香族ジヒドロキシ化合物と一般式(II
I)で表されるグリシジルエーテル化合物とを触媒の4
級アンモニウム塩、3級アミン、ホスホニウム塩及びス
ルホニウム塩の内一種以上の存在下、極性有機溶媒中で
反応する一般式(I)で表される2−プロパノール化合
物の製造方法である。 (上記一般式中において、R1 、R2 及びR3 はハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、R4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Xは−C(CH 3)2 −、−CO−,−SO2
−及び−S−を示し、環Aはベンゼン環又はナフタレン
環を示し、m、n及びpは0又は4以下の整数を示
す。)本発明の一般式中の置換基において、低級アルキ
ル基とあるはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、アミル基、イソアミル基等の側鎖を有していてもよ
い炭素原子数1〜5のアルキル基を意味しており、低級
アルコキシ基とあるはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、tert−ブトキシ基、アミルオキシ、イソアミル
オキシ基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数1〜5
のアルコキシ基を意味しており、低級アルケニル基とあ
るはビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、
1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イ
ソブテニル基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数2
〜5のアルケニル基を意味している。
で表される芳香族ジヒドロキシ化合物と一般式(II
I)で表されるグリシジルエーテル化合物とを触媒の4
級アンモニウム塩、3級アミン、ホスホニウム塩及びス
ルホニウム塩の内一種以上の存在下、極性有機溶媒中で
反応する一般式(I)で表される2−プロパノール化合
物の製造方法である。 (上記一般式中において、R1 、R2 及びR3 はハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、R4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Xは−C(CH 3)2 −、−CO−,−SO2
−及び−S−を示し、環Aはベンゼン環又はナフタレン
環を示し、m、n及びpは0又は4以下の整数を示
す。)本発明の一般式中の置換基において、低級アルキ
ル基とあるはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、アミル基、イソアミル基等の側鎖を有していてもよ
い炭素原子数1〜5のアルキル基を意味しており、低級
アルコキシ基とあるはメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、tert−ブトキシ基、アミルオキシ、イソアミル
オキシ基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数1〜5
のアルコキシ基を意味しており、低級アルケニル基とあ
るはビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、
1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イ
ソブテニル基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数2
〜5のアルケニル基を意味している。
【0005】一般式(II)で表される芳香族ジヒドロ
キシ化合物としては、4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン及びその誘導体、2,2’−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン及びその誘導体、ジ(4−ヒ
ドロキシフェニル)ケトン及びその誘導体、4,4’−
ジヒドロキシジフェニルチオエーテル及びその誘導体が
挙げられ、各々の誘導体は上記置換基を任意の組合せで
有するものである。具体的には4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン、3,3’−ジアリル−4,4’−
ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル
−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,
2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ジ
(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ジ(4−ヒドロキ
シフェニル)チオエーテル等が代表的なものとして挙げ
られる。
キシ化合物としては、4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン及びその誘導体、2,2’−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン及びその誘導体、ジ(4−ヒ
ドロキシフェニル)ケトン及びその誘導体、4,4’−
ジヒドロキシジフェニルチオエーテル及びその誘導体が
挙げられ、各々の誘導体は上記置換基を任意の組合せで
有するものである。具体的には4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン、3,3’−ジアリル−4,4’−
ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル
−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,
2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ジ
(4−ヒドロキシフェニル)ケトン、ジ(4−ヒドロキ
シフェニル)チオエーテル等が代表的なものとして挙げ
られる。
【0006】次いで、一般式(III)で表されるグリ
シジルエーテル化合物としては、フェニル基、トリル基
等の低級アルキルフェニル基、クロロフェニル基等のハ
ロゲン化フェニル基、メトキシフェニル基等のアルコキ
シフェニル基、アリルフェニル基等のアルケニルフェニ
ル基等を置換基として有するグリシジルエーテル化合物
及び2−アルキル置換グリシジルエーテルが挙げられ
る。具体的にはo−トリルグリシジルエーテル、m−ト
リルグリシジルエーテル、p−トリルグリシジルエーテ
ル、p−クロロフェニルグリシジルエーテル、m−クロ
ロフェニルグリシジルエーテル、2,4−ジメチルフェ
ニルグリシジルエーテル、3,5−ジメチルフェニルグ
リシジルエーテル、p−エチルフェニルグリシジルエー
テル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、p−フェニルフェニルグリシジルエーテル、p−メ
トキシフェニルグリシジルエーテル、2,4,6−トリ
メチルフェニルグリシジルエーテル、β−ナフチルグリ
シジルエーテル、フェニル−2−メチルグリシジルエー
テル、p−クロロフェニル−2−メチルグリシジルエー
テル、3,5−ジメチルフェニル−2−メチルグリシジ
ルエーテル、p−エチルフェニル−2−メチルグリシジ
ルエーテル、p−tert−ブチルフェニル−2−メチ
ルグリシジルエーテル、p−フェニルフェニル−2−メ
チルグリシジルエーテル、2,4,6−トリメチルフェ
ニル−2−メチルグリシジルエーテル、β−ナフチル−
2−メチルグリシジルエーテル等が代表的なものとして
挙げられる。
シジルエーテル化合物としては、フェニル基、トリル基
等の低級アルキルフェニル基、クロロフェニル基等のハ
ロゲン化フェニル基、メトキシフェニル基等のアルコキ
シフェニル基、アリルフェニル基等のアルケニルフェニ
ル基等を置換基として有するグリシジルエーテル化合物
及び2−アルキル置換グリシジルエーテルが挙げられ
る。具体的にはo−トリルグリシジルエーテル、m−ト
リルグリシジルエーテル、p−トリルグリシジルエーテ
ル、p−クロロフェニルグリシジルエーテル、m−クロ
ロフェニルグリシジルエーテル、2,4−ジメチルフェ
ニルグリシジルエーテル、3,5−ジメチルフェニルグ
リシジルエーテル、p−エチルフェニルグリシジルエー
テル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、p−フェニルフェニルグリシジルエーテル、p−メ
トキシフェニルグリシジルエーテル、2,4,6−トリ
メチルフェニルグリシジルエーテル、β−ナフチルグリ
シジルエーテル、フェニル−2−メチルグリシジルエー
テル、p−クロロフェニル−2−メチルグリシジルエー
テル、3,5−ジメチルフェニル−2−メチルグリシジ
ルエーテル、p−エチルフェニル−2−メチルグリシジ
ルエーテル、p−tert−ブチルフェニル−2−メチ
ルグリシジルエーテル、p−フェニルフェニル−2−メ
チルグリシジルエーテル、2,4,6−トリメチルフェ
ニル−2−メチルグリシジルエーテル、β−ナフチル−
2−メチルグリシジルエーテル等が代表的なものとして
挙げられる。
【0007】触媒である4級アンモニウム塩、3級アミ
ン、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の代表的なもの
としては次の例が挙げられる。4級アンモニウム塩とし
ては、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニ
ウムヨージド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テ
トラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモ
ニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアン
モニウムヨージド、テトラヘキシルアンモニウムヨージ
ド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、トリオ
クチルメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチ
ルアンモニウムクロリド、ジエタノールメチルデカンア
ンモニウムブロミド、ジメタノールメチルデカンアンモ
ニウムブロミド等が挙げられる。3級アミンとしては、
例えば4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン、ピリジン、1、8−ジアザ
ビシクロウンデセン、ピコリン類等が挙げられる。ホス
ホニウム塩及びスルホニウム塩としては、例えばテトラ
ブチルホスホニウムブロマイド、トリメチルスルホニウ
ムヨージド等が挙げられる。
ン、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の代表的なもの
としては次の例が挙げられる。4級アンモニウム塩とし
ては、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニ
ウムヨージド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テ
トラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモ
ニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムクロリド、
テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアン
モニウムヨージド、テトラヘキシルアンモニウムヨージ
ド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、トリオ
クチルメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリブチ
ルアンモニウムクロリド、ジエタノールメチルデカンア
ンモニウムブロミド、ジメタノールメチルデカンアンモ
ニウムブロミド等が挙げられる。3級アミンとしては、
例えば4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、トリエタノールアミン、ピリジン、1、8−ジアザ
ビシクロウンデセン、ピコリン類等が挙げられる。ホス
ホニウム塩及びスルホニウム塩としては、例えばテトラ
ブチルホスホニウムブロマイド、トリメチルスルホニウ
ムヨージド等が挙げられる。
【0008】本発明の製造方法は、特別な保護基等を使
用することなく一般式(II)で表す芳香族ジヒドロキ
シ化合物の一方のヒドロキシ基のみに一般式(III)
で表されるグリシジルエーテル化合物を付加反応して一
般式(I)で表される2−プロパノール化合物を選択的
に製造する方法である。即ち、反応容器に一般式(I
I)で表す芳香族ジヒドロキシ化合物、触媒、極性有機
溶媒を入れ、加熱溶解あるいは分散する。次いで、反応
温度100〜150℃、好ましくは110〜130℃
で、一般式(III)で表されるグリシジルエーテル化
合物を添加し、3〜12時間反応して、一般式(I)の
2−プロパノール化合物を製造する。この時、反応温度
が高い場合には重合する等副成物の生成が多くなり、ま
た低い場合には反応の進行が遅くなる等の傾向がある。
また、その反応温度は使用する極性有機溶媒の還流下で
行うことが工業的操作性から好ましい方法である。反応
終了後、極性有機溶媒層を濃縮等の後処理をして目的化
合物の粗製物を得て、適当な極性有機溶媒あるいは非極
性有機溶媒で再結晶して精製してもよく、またその後処
理に際して、反応液にアルカリ性物質水溶液を加えてア
ルカリ性、好ましくはpH10以下にして、過剰の該芳
香族ジヒドロキシ化合物を回収したり、あるいは強アル
カリ性にして目的化合物を水層に抽出し、副成物を極性
有機溶媒中に残して分離し、次いで水層を中和して目的
化合物を適当な極性有機溶媒あるいは非極性有機溶媒に
抽出する等の方法を任意に組み合わせる等して精製する
こともできる。反応において、一般式(III)のグリ
シジルエーテル化合物1モルに対する一般式(II)の
芳香族ジヒドロキシ化合物の使用割合は1.0〜3モ
ル、好ましくは1.2〜1.8モルである。そして、触
媒の使用割合は該グリシジルエーテル化合物1モルに対
し、0.01モル以上であり、場合によっては触媒を溶
媒の代わりに使用してもよい。
用することなく一般式(II)で表す芳香族ジヒドロキ
シ化合物の一方のヒドロキシ基のみに一般式(III)
で表されるグリシジルエーテル化合物を付加反応して一
般式(I)で表される2−プロパノール化合物を選択的
に製造する方法である。即ち、反応容器に一般式(I
I)で表す芳香族ジヒドロキシ化合物、触媒、極性有機
溶媒を入れ、加熱溶解あるいは分散する。次いで、反応
温度100〜150℃、好ましくは110〜130℃
で、一般式(III)で表されるグリシジルエーテル化
合物を添加し、3〜12時間反応して、一般式(I)の
2−プロパノール化合物を製造する。この時、反応温度
が高い場合には重合する等副成物の生成が多くなり、ま
た低い場合には反応の進行が遅くなる等の傾向がある。
また、その反応温度は使用する極性有機溶媒の還流下で
行うことが工業的操作性から好ましい方法である。反応
終了後、極性有機溶媒層を濃縮等の後処理をして目的化
合物の粗製物を得て、適当な極性有機溶媒あるいは非極
性有機溶媒で再結晶して精製してもよく、またその後処
理に際して、反応液にアルカリ性物質水溶液を加えてア
ルカリ性、好ましくはpH10以下にして、過剰の該芳
香族ジヒドロキシ化合物を回収したり、あるいは強アル
カリ性にして目的化合物を水層に抽出し、副成物を極性
有機溶媒中に残して分離し、次いで水層を中和して目的
化合物を適当な極性有機溶媒あるいは非極性有機溶媒に
抽出する等の方法を任意に組み合わせる等して精製する
こともできる。反応において、一般式(III)のグリ
シジルエーテル化合物1モルに対する一般式(II)の
芳香族ジヒドロキシ化合物の使用割合は1.0〜3モ
ル、好ましくは1.2〜1.8モルである。そして、触
媒の使用割合は該グリシジルエーテル化合物1モルに対
し、0.01モル以上であり、場合によっては触媒を溶
媒の代わりに使用してもよい。
【0009】本反応では極性有機溶媒を使用している
が、これは一般式(II)の芳香族ジヒドロキシ化合物
の反応系内での溶解性を上げ、一般式(III)のグリ
シジルエーテル化合物との反応性を高め、一般式(I)
の2−プロパノール化合物への選択率を高めることにあ
る。即ち、本発明の極性有機溶媒は反応系に不活性なも
のであって、沸点が100℃以上で、少なくとも一般式
(II)で表す芳香族ジヒドロキシ化合物及び一般式
(I)で表される2−プロパノール化合物を溶解する極
性有機溶媒であることが好ましい。その様な有機溶媒と
しては、メチルイソブチルケトン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、ブタノール、ヘキサノール
等の溶媒が挙げられる。この様にして製造した一般式
(I)で表される2−プロパノール化合物は純度の高い
白色結晶であり、それらは感熱記録材料の画像保存安定
剤として有効なものであった。
が、これは一般式(II)の芳香族ジヒドロキシ化合物
の反応系内での溶解性を上げ、一般式(III)のグリ
シジルエーテル化合物との反応性を高め、一般式(I)
の2−プロパノール化合物への選択率を高めることにあ
る。即ち、本発明の極性有機溶媒は反応系に不活性なも
のであって、沸点が100℃以上で、少なくとも一般式
(II)で表す芳香族ジヒドロキシ化合物及び一般式
(I)で表される2−プロパノール化合物を溶解する極
性有機溶媒であることが好ましい。その様な有機溶媒と
しては、メチルイソブチルケトン、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド、ブタノール、ヘキサノール
等の溶媒が挙げられる。この様にして製造した一般式
(I)で表される2−プロパノール化合物は純度の高い
白色結晶であり、それらは感熱記録材料の画像保存安定
剤として有効なものであった。
【0010】以下、実施例をもって本発明を詳細に説明
するが、これによって本発明が限定されることはない。 実施例1 2lコルベンにメチルイソブチケトン500ml、4,
4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン187.5g
(0.75モル)、トリエタノールアミン7.5g
(0.05モル)を入れて加熱溶解した。次いでフェニ
ルグリシジルエーテル75g(0.5モル)を加え、4
時間加熱還流して反応した。反応終了後、反応液に4%
水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層のpHを9.8に
調整して洗浄した。分液して除いた水層を、塩酸で酸性
にしたところ原料の4,4’−ジヒドロキシジフェニル
スルホン57gが回収できた。更に、洗浄した水層がp
H12以上になるまで8%水酸化ナトリウム水溶液を加
え、目的化合物を水層に移行させ、水層を分離した。そ
の水層を塩酸で酸性にし、遊離した粗製のオイル状の目
的化合物を得た。粗製物を酢酸エチルで再結晶して、目
的化合物の1−フェノキシ−3−(4−(4−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)フェノキシ)−2−プロパノー
ルの白色結晶、融点140〜142℃、152gを得
た。なおフェニルグリシジルエーテルからの収率は76
%であった。 実施例2 200mlコルベンに4,4’−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン12.5g(0.058モル)、メチルイソブチ
ルケトン40ml、トリエタノールアミン0.5g
(0.003モル)を入れて加熱溶解した。次いでフェ
ニルグリシジルエーテル7g(0.047モル)を加
え、以下実施例1と同様に処理をして目的化合物、1−
フェノキシ−3−(4−(4−ヒドロキシベンゾイル)
フェノキシ)−2−プロパノールの白色結晶、融点10
8〜109℃、12.2gを得た。なおフェニルグリシ
ジルエーテルからの収率は72%であった。
するが、これによって本発明が限定されることはない。 実施例1 2lコルベンにメチルイソブチケトン500ml、4,
4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン187.5g
(0.75モル)、トリエタノールアミン7.5g
(0.05モル)を入れて加熱溶解した。次いでフェニ
ルグリシジルエーテル75g(0.5モル)を加え、4
時間加熱還流して反応した。反応終了後、反応液に4%
水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層のpHを9.8に
調整して洗浄した。分液して除いた水層を、塩酸で酸性
にしたところ原料の4,4’−ジヒドロキシジフェニル
スルホン57gが回収できた。更に、洗浄した水層がp
H12以上になるまで8%水酸化ナトリウム水溶液を加
え、目的化合物を水層に移行させ、水層を分離した。そ
の水層を塩酸で酸性にし、遊離した粗製のオイル状の目
的化合物を得た。粗製物を酢酸エチルで再結晶して、目
的化合物の1−フェノキシ−3−(4−(4−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)フェノキシ)−2−プロパノー
ルの白色結晶、融点140〜142℃、152gを得
た。なおフェニルグリシジルエーテルからの収率は76
%であった。 実施例2 200mlコルベンに4,4’−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン12.5g(0.058モル)、メチルイソブチ
ルケトン40ml、トリエタノールアミン0.5g
(0.003モル)を入れて加熱溶解した。次いでフェ
ニルグリシジルエーテル7g(0.047モル)を加
え、以下実施例1と同様に処理をして目的化合物、1−
フェノキシ−3−(4−(4−ヒドロキシベンゾイル)
フェノキシ)−2−プロパノールの白色結晶、融点10
8〜109℃、12.2gを得た。なおフェニルグリシ
ジルエーテルからの収率は72%であった。
【0011】比較例1
実施例1において、トリエタノールアミンを使用しない
以外は実施例1と同様にして8時間反応した。反応終了
後、反応液に4%水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層
のpHを9.8に調整して、水層を分液した。その水層
を塩酸で酸性にしたところ、原料の4,4’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンが大部分回収された。 比較例2 実施例1における0.1倍スケールにして、実施例1の
メチルイソブチケトンの代わりにキシレンを使用し、以
下実施例1と同様に反応した。同様に処理して1−フェ
ノキシ−3−(4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ)−2−プロパノールの白色結晶、融点
139〜141℃、7.2gを得た。フェニルグリシジ
ルエーテルからの収率は36%であった。なお、pH1
2以上にした後の水層を分離したキシレン残液層から、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンにフェニル
グリシジルエーテルの2分子が結合した副成物ビス〔4
−(3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェ
ニル〕スルホン8.1gが得られ、非極性溶媒を使用し
た場合では副成物が多量に生成することが明らかにでき
た。
以外は実施例1と同様にして8時間反応した。反応終了
後、反応液に4%水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層
のpHを9.8に調整して、水層を分液した。その水層
を塩酸で酸性にしたところ、原料の4,4’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンが大部分回収された。 比較例2 実施例1における0.1倍スケールにして、実施例1の
メチルイソブチケトンの代わりにキシレンを使用し、以
下実施例1と同様に反応した。同様に処理して1−フェ
ノキシ−3−(4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ)−2−プロパノールの白色結晶、融点
139〜141℃、7.2gを得た。フェニルグリシジ
ルエーテルからの収率は36%であった。なお、pH1
2以上にした後の水層を分離したキシレン残液層から、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンにフェニル
グリシジルエーテルの2分子が結合した副成物ビス〔4
−(3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェ
ニル〕スルホン8.1gが得られ、非極性溶媒を使用し
た場合では副成物が多量に生成することが明らかにでき
た。
【0012】
【発明の効果】本発明では、芳香族ジヒドロキシ化合物
に特別の保護基を導入することなく、一方のヒドロキシ
基にのみグリシジルエーテル化合物を高収率で付加反応
することができ、得られた該2−プロパノール化合物は
高純度であって、感熱記録紙の画像安定剤として地肌汚
れ等がなく使用できる。
に特別の保護基を導入することなく、一方のヒドロキシ
基にのみグリシジルエーテル化合物を高収率で付加反応
することができ、得られた該2−プロパノール化合物は
高純度であって、感熱記録紙の画像安定剤として地肌汚
れ等がなく使用できる。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI
C07C 317/22 C07C 317/22
319/20 319/20
323/20 323/20
(56)参考文献 特開 昭47−1465(JP,A)
特開 昭50−105638(JP,A)
特開 昭61−148135(JP,A)
特開 平5−194368(JP,A)
特公 昭54−1291(JP,B1)
Chemical Abstract
s,79:18272,1973
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C07C 43/23
C07C 41/03
C07C 45/64
C07C 49/84
C07C 315/04
C07C 317/22
C07C 319/20
C07C 323/20
CA(STN)
REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】一般式(II)で表される芳香族ジヒドロキ
シ化合物と一般式(III)で表されるグリシジルエーテ
ル化合物とを、トリエタノールアミンの存在下、極性有
機溶媒中で反応する一般式(I)で表される2−プロパ
ノール化合物の製造方法。 【化1】 (上記一般式中において、R1、R2及びR3はハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級アル
ケニル基を示し、R4は水素原子及び低級アルキル基を
示し、Xは−C(CH3)2−、−CO−、−SO2−及
び−S−を示し、環Aはベンゼン環又はナフタレン環を
示し、m、n及びpは0又は4以下の整数を示す。) - 【請求項2】一般式中においてXが−SO2−または−
CO−である請求項第1項記載の一般式(I)で表され
る2−プロパノール化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08318292A JP3376598B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 2−プロパノール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08318292A JP3376598B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 2−プロパノール化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05246924A JPH05246924A (ja) | 1993-09-24 |
JP3376598B2 true JP3376598B2 (ja) | 2003-02-10 |
Family
ID=13795170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08318292A Expired - Fee Related JP3376598B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 2−プロパノール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3376598B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI423944B (zh) | 2009-09-29 | 2014-01-21 | Nippon Soda Co | 使用酚性化合物之記錄材料 |
EP2484663B1 (en) * | 2009-09-30 | 2019-07-17 | Nippon Soda Co., Ltd. | Phenolic compound and recording material |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP08318292A patent/JP3376598B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Chemical Abstracts,79:18272,1973 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05246924A (ja) | 1993-09-24 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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