JP3369290B2 - 含ケイ素アゾール化合物と防微生物剤を含有する殺菌組成物 - Google Patents
含ケイ素アゾール化合物と防微生物剤を含有する殺菌組成物Info
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Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
【0001】
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な含ケイ素アゾー
ル化合物と、ある種の防微生物剤とを有効成分とする農
園芸用殺菌組成物に関する。
ル化合物と、ある種の防微生物剤とを有効成分とする農
園芸用殺菌組成物に関する。
【0003】
【従来の技術】一般式(I)で示される化合物は新規化
合物であり、特開平5−222060号公報(特願平4
−267234号)に記載されている。
合物であり、特開平5−222060号公報(特願平4
−267234号)に記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年になって、新規な
病害防除剤の開発は盛んで、広い効力スペクトラムを有
する茎葉散布剤及び種子処理剤等としてベンツイミダゾ
ール化合物に続いてエルゴステロール生合成阻害剤(E
BI剤)が開発されてきたが、前記一般式(I)で示さ
れる化合物もEBI剤に属する。
病害防除剤の開発は盛んで、広い効力スペクトラムを有
する茎葉散布剤及び種子処理剤等としてベンツイミダゾ
ール化合物に続いてエルゴステロール生合成阻害剤(E
BI剤)が開発されてきたが、前記一般式(I)で示さ
れる化合物もEBI剤に属する。
【0005】しかしながら、幅広く使用されてきたベン
ツイミダゾール系薬剤に対し、病原菌の一部に耐性菌が
出現して防除効果の定価が報告されているし、当該耐性
菌にも有効な薬剤として開発されたEBI剤は多くの糸
状菌に対しては高い効果を示すが、ある種の糸状菌や細
菌病に対して全く効果がないため、例えば種子処理剤と
しては効力スペクトルが狭いという欠点が残されてい
た。
ツイミダゾール系薬剤に対し、病原菌の一部に耐性菌が
出現して防除効果の定価が報告されているし、当該耐性
菌にも有効な薬剤として開発されたEBI剤は多くの糸
状菌に対しては高い効果を示すが、ある種の糸状菌や細
菌病に対して全く効果がないため、例えば種子処理剤と
しては効力スペクトルが狭いという欠点が残されてい
た。
【0006】本発明者等は、このような状況に鑑み、効
力スペクトルが広く、かつ上記耐性菌に対しても低薬量
で安定した病害防除効果を示す茎葉、種子、土壌又は水
面に施用される農園芸用殺菌剤を提供する目的で、研究
を重ねた結果、一般式(I)で示される化合物から選ば
れた一種とある種の防微生物剤とを混用して使用するこ
とにより、それぞれを単独で使用する場合より低濃度に
おいてより高い効果、すなわち優れた相乗効果を発揮す
ることを見い出して本発明を完成した。
力スペクトルが広く、かつ上記耐性菌に対しても低薬量
で安定した病害防除効果を示す茎葉、種子、土壌又は水
面に施用される農園芸用殺菌剤を提供する目的で、研究
を重ねた結果、一般式(I)で示される化合物から選ば
れた一種とある種の防微生物剤とを混用して使用するこ
とにより、それぞれを単独で使用する場合より低濃度に
おいてより高い効果、すなわち優れた相乗効果を発揮す
ることを見い出して本発明を完成した。
【0007】
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I)
【0009】
【化3】
【0010】[式中、Aは、1,2,4−トリアゾール
−1−イル基又はイミダゾール−1−イル基を示し、n
は、1,2又は3を示し(nが2又は3の時、それぞれ
のXは異なっていてもよい)、Xは、水素原子、ハロゲ
ン原子、フェニル基、同一若しくは異なった1乃至3個
のハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基又
は同一若しくは異なった1乃至3個のハロゲンで置換さ
れていてもよい低級アルコキシ基を示す。]で表わされ
る化合物の1種以上と、防微生物剤、好ましくは下記の
防微生物剤の群(II)より選ばれる1種以上と(総称
して化合物(II)と記す)を有効成分として含有する
ことを特徴とする農園芸用殺菌組成物である。
−1−イル基又はイミダゾール−1−イル基を示し、n
は、1,2又は3を示し(nが2又は3の時、それぞれ
のXは異なっていてもよい)、Xは、水素原子、ハロゲ
ン原子、フェニル基、同一若しくは異なった1乃至3個
のハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基又
は同一若しくは異なった1乃至3個のハロゲンで置換さ
れていてもよい低級アルコキシ基を示す。]で表わされ
る化合物の1種以上と、防微生物剤、好ましくは下記の
防微生物剤の群(II)より選ばれる1種以上と(総称
して化合物(II)と記す)を有効成分として含有する
ことを特徴とする農園芸用殺菌組成物である。
【0011】群(II)
1,5−ペンタンジアール
2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン
グリオキサール
塩化ベンザルコニウム
1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン
水酸化第二銅
4−クロロ−2−キシレノール
4−クロロ−2−クレゾール
p−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル
使用される防微生物剤としては、安全性の高い工業用防
菌防かび財として使用されているもの、及び農業用殺菌
剤として使用されているものも含まれ、例えば、アルコ
ール類、アルデヒド類、フェノール類、四級アンモニウ
ム塩類、チアゾール類、イソチアゾロン類、エポキシド
類、グアニジン類、有機無機銅剤等の通常の防微生物剤
はいずれも使用することができる。
菌防かび財として使用されているもの、及び農業用殺菌
剤として使用されているものも含まれ、例えば、アルコ
ール類、アルデヒド類、フェノール類、四級アンモニウ
ム塩類、チアゾール類、イソチアゾロン類、エポキシド
類、グアニジン類、有機無機銅剤等の通常の防微生物剤
はいずれも使用することができる。
【0012】好適には、1,5−ペンタンジアール(以
下化合物IIaという)、2,5−ジメトキシテトラヒ
ドロフラン(以下化合物IIbという)、グリオキサー
ル(以下化合物IIcという)、塩化ベンザルコニウム
(以下化合物IIdという)、1,2−ベンゾイソチア
ゾリン−3−オン(以下化合物IIeという)、水酸化
第二銅(以下化合物IIfという)、4−クロロ−2−
キシレノール(以下化合物IIgという)、4−クロロ
−2−クレゾール(以下化合物IIhという)、p−ヒ
ドロキシ安息香酸エチルエステル(以下化合物IIiと
いう)であり、更に好適には化合物IIa、IIe及び
IIfである。本発明には、これらの中から一種又は二
種以上を組み合わせて用いることができる。
下化合物IIaという)、2,5−ジメトキシテトラヒ
ドロフラン(以下化合物IIbという)、グリオキサー
ル(以下化合物IIcという)、塩化ベンザルコニウム
(以下化合物IIdという)、1,2−ベンゾイソチア
ゾリン−3−オン(以下化合物IIeという)、水酸化
第二銅(以下化合物IIfという)、4−クロロ−2−
キシレノール(以下化合物IIgという)、4−クロロ
−2−クレゾール(以下化合物IIhという)、p−ヒ
ドロキシ安息香酸エチルエステル(以下化合物IIiと
いう)であり、更に好適には化合物IIa、IIe及び
IIfである。本発明には、これらの中から一種又は二
種以上を組み合わせて用いることができる。
【0013】上記式(I)中、Xにおける「ハロゲン原
子」とは、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子
を示し、好適には弗素原子又は塩素原子である。
子」とは、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子
を示し、好適には弗素原子又は塩素原子である。
【0014】上記式(I)中、Xにおける「低級アルキ
ル基」とは、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソ
プロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチ
ル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオ
ペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペ
ンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチ
ルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチ
ル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジ
メチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチルの
ような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基で
あり、好適には炭素数1乃至4個の直鎖又は分枝鎖アル
キル基であり、更に好適にはメチル又はエチル基であ
る。
ル基」とは、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソ
プロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチ
ル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオ
ペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペ
ンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチ
ルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチ
ル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジ
メチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチルの
ような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基で
あり、好適には炭素数1乃至4個の直鎖又は分枝鎖アル
キル基であり、更に好適にはメチル又はエチル基であ
る。
【0015】上記式(I)中、Xにおける「同一若しく
は異なった1乃至3個のハロゲンで置換されていてもよ
い低級アルキル基」とは、無置換の前記「低級アルキル
基」の他、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチ
ル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチ
ル、フルオロメチル、2,2,2-トリクロロエチル、2,2,2-
トリフルオロエチル、2-ブロモエチル、2-クロロエチ
ル、2-フルオロエチル、2,2-ジブロモエチル、クロロプ
ロピル、トリフルオロプロピル、フルオロブチル、トリ
クロロペンチル、トリフルオロヘキシルのような、前記
「低級アルキル基」に同一又は異なった1乃至3個のハ
ロゲン原子が置換した基である。このとき、同一又は異
なった1乃至3個のハロゲンで置換された低級アルキル
基としては、好適には炭素数1乃至3個の直鎖又は分枝
鎖アルキル基に同一のハロゲン原子が1乃至3個置換し
た基であり、更に好適にはメチル又はエチル基に弗素原
子又は塩素原子が1乃至3個置換した基であり、最も好
適にはトリフルオロメチル基である。
は異なった1乃至3個のハロゲンで置換されていてもよ
い低級アルキル基」とは、無置換の前記「低級アルキル
基」の他、例えばトリフルオロメチル、トリクロロメチ
ル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチ
ル、フルオロメチル、2,2,2-トリクロロエチル、2,2,2-
トリフルオロエチル、2-ブロモエチル、2-クロロエチ
ル、2-フルオロエチル、2,2-ジブロモエチル、クロロプ
ロピル、トリフルオロプロピル、フルオロブチル、トリ
クロロペンチル、トリフルオロヘキシルのような、前記
「低級アルキル基」に同一又は異なった1乃至3個のハ
ロゲン原子が置換した基である。このとき、同一又は異
なった1乃至3個のハロゲンで置換された低級アルキル
基としては、好適には炭素数1乃至3個の直鎖又は分枝
鎖アルキル基に同一のハロゲン原子が1乃至3個置換し
た基であり、更に好適にはメチル又はエチル基に弗素原
子又は塩素原子が1乃至3個置換した基であり、最も好
適にはトリフルオロメチル基である。
【0016】上記式(I)中、Xにおける「低級アルコ
キシ基」とは、例えばメトキシ、エトキシ、n-プロポキ
シ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、s-ブ
トキシ、t-ブトキシ、n-ペントキシ、イソペントキシ、
2-メチルブトキシ、ネオペントキシ、1-エチルプロポキ
シ、n-ヘキシルオキシ、4-メチルペントキシ、3-メチル
ペントキシ、2-メチルペントキシ、1-メチルペントキ
シ、3,3-ジメチルブトキシ、2,2-ジメチルブトキシ、1,
1-ジメチルブトキシ、1,2-ジメチルブトキシ、1,3-ジメ
チルブトキシ、2,3-ジメチルブトキシ、2-エチルブトキ
シのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルコキ
シ基であり、好適には炭素数1乃至4個の直鎖又は分枝
鎖アルコキシ基であり、更に好適にはメトキシ又はエト
キシ基である。
キシ基」とは、例えばメトキシ、エトキシ、n-プロポキ
シ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、s-ブ
トキシ、t-ブトキシ、n-ペントキシ、イソペントキシ、
2-メチルブトキシ、ネオペントキシ、1-エチルプロポキ
シ、n-ヘキシルオキシ、4-メチルペントキシ、3-メチル
ペントキシ、2-メチルペントキシ、1-メチルペントキ
シ、3,3-ジメチルブトキシ、2,2-ジメチルブトキシ、1,
1-ジメチルブトキシ、1,2-ジメチルブトキシ、1,3-ジメ
チルブトキシ、2,3-ジメチルブトキシ、2-エチルブトキ
シのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルコキ
シ基であり、好適には炭素数1乃至4個の直鎖又は分枝
鎖アルコキシ基であり、更に好適にはメトキシ又はエト
キシ基である。
【0017】上記式(I)中、Xにおける「同一若しく
は異なった1乃至3個のハロゲンで置換されていてもよ
い低級アルコキシ基」とは、無置換の前記「低級アルコ
キシ基」の他、例えばトリフルオロメトキシ、トリクロ
ロメトキシ、ジフルオロメトキシ、ジクロロメトキシ、
ジブロモメトキシ、フルオロメトキシ、2,2,2-トリクロ
ロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、2-ブロモエ
トキシ、2-クロロエトキシ、2-フルオロエトキシ、2,2-
ジブロモエトキシ、クロロプロポキシ、トリフルオロプ
ロポキシ、フルオロブトキシ、トリクロロペントキシ、
トリフルオロヘキシルオキシのような前記「低級アルコ
キシ基」に同一又は異なった1乃至3個のハロゲン原子
が置換した基である。このとき、同一又は異なった1乃
至3個のハロゲンで置換された低級アルコキシ基として
は、好適には炭素数1乃至3個の直鎖又は分枝鎖アルコ
キシ基に同一のハロゲン原子が1乃至3個置換した基で
あり、更に好適にはメトキシ又はエトキシ基に弗素原子
又は塩素原子が1乃至3個置換した基であり、最も好適
にはトリフルオロメトキシ基である。
は異なった1乃至3個のハロゲンで置換されていてもよ
い低級アルコキシ基」とは、無置換の前記「低級アルコ
キシ基」の他、例えばトリフルオロメトキシ、トリクロ
ロメトキシ、ジフルオロメトキシ、ジクロロメトキシ、
ジブロモメトキシ、フルオロメトキシ、2,2,2-トリクロ
ロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ、2-ブロモエ
トキシ、2-クロロエトキシ、2-フルオロエトキシ、2,2-
ジブロモエトキシ、クロロプロポキシ、トリフルオロプ
ロポキシ、フルオロブトキシ、トリクロロペントキシ、
トリフルオロヘキシルオキシのような前記「低級アルコ
キシ基」に同一又は異なった1乃至3個のハロゲン原子
が置換した基である。このとき、同一又は異なった1乃
至3個のハロゲンで置換された低級アルコキシ基として
は、好適には炭素数1乃至3個の直鎖又は分枝鎖アルコ
キシ基に同一のハロゲン原子が1乃至3個置換した基で
あり、更に好適にはメトキシ又はエトキシ基に弗素原子
又は塩素原子が1乃至3個置換した基であり、最も好適
にはトリフルオロメトキシ基である。
【0018】上記一般式(I)において、Aは、好適に
は1,2,4−トリアゾール−1−イル基である。
は1,2,4−トリアゾール−1−イル基である。
【0019】上記一般式(I)において、nは、好適に
は1又は2であり、更に好適には1である。
は1又は2であり、更に好適には1である。
【0020】上記一般式(I)において、Xは、好適に
は水素原子又はハロゲン原子であり、更に好適には弗素
原子又は塩素原子である。
は水素原子又はハロゲン原子であり、更に好適には弗素
原子又は塩素原子である。
【0021】上記一般式(I)において、Xの置換位置
としては、好適にはベンゼン環の2位、4位、又は2,
4位であり、更に好適には4位である。
としては、好適にはベンゼン環の2位、4位、又は2,
4位であり、更に好適には4位である。
【0022】本発明に用いる一般式(I)で示される含
ケイ素アゾール誘導体の例を表1に示すが、本発明の化
合物(I)はこれらに限定されない。
ケイ素アゾール誘導体の例を表1に示すが、本発明の化
合物(I)はこれらに限定されない。
【0023】
【表1】
【0024】
【化4】
【0025】
────────────────────────────────────
化合物番号 A (X)n
────────────────────────────────────
Ia 1,2,4-トリアソ゛ール-1-イル 4−F
Ib 1,2,4-トリアソ゛ール-1-イル 4−Cl
Ic 1,2,4-トリアソ゛ール-1-イル 2,4−Cl2
Id 1,2,4-トリアソ゛ール-1-イル 2,4−F2
Ie 1,2,4-トリアソ゛ール-1-イル 2−F,4−Cl
────────────────────────────────────
本発明の化合物(I)は、以下のスキームに示す製造方
法により製造される。
法により製造される。
【0026】
【化5】
【0027】[上記スキームにおいて、A、X、及びn
は、前記と同意義を示し、Mはリチウム原子又はMgZ
で表される基(Zは、塩素原子又は臭素原子を示す)を
示し、Yは、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原
子を示す。] 以下、各工程を更に詳しく説明する。
は、前記と同意義を示し、Mはリチウム原子又はMgZ
で表される基(Zは、塩素原子又は臭素原子を示す)を
示し、Yは、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原
子を示す。] 以下、各工程を更に詳しく説明する。
【0028】(A法)工程Aは、ケトン(VII)に、
シリル化合物(III)を付加することにより、本願発
明の化合物(I)を製造する工程である。
シリル化合物(III)を付加することにより、本願発
明の化合物(I)を製造する工程である。
【0029】ケトン(VII)は、特公昭63−460
75号公報に記載の方法に準じて製造することができ
る。
75号公報に記載の方法に準じて製造することができ
る。
【0030】シリル化合物(III)は、ハロメチルト
リメチルシリルと金属マグネシウム又は金属リチウムか
ら常法によって得られる。
リメチルシリルと金属マグネシウム又は金属リチウムか
ら常法によって得られる。
【0031】本工程は、溶媒の存在下に行なわれる。
【0032】本工程で用いられる式(III)で表され
る有機金属化合物の量は、式(VII)の化合物に対し
て好適には1乃至10当量であり、更に好適には1乃至
2当量である。
る有機金属化合物の量は、式(VII)の化合物に対し
て好適には1乃至10当量であり、更に好適には1乃至
2当量である。
【0033】使用される溶媒としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(TH
F)、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)等のアミド
類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、エーテ
ル類である。
いものであれば特に限定はないが、好適には、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジオキ
サン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(TH
F)、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)等のアミド
類又はこれらの混合溶媒であり、更に好適には、エーテ
ル類である。
【0034】反応温度は、通常−20℃乃至80℃であ
り、好適には、10℃乃至40℃である。
り、好適には、10℃乃至40℃である。
【0035】反応時間は、主に反応温度、原料化合物及
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分間
乃至24時間であり、好適には3時間乃至10時間であ
る。
び使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分間
乃至24時間であり、好適には3時間乃至10時間であ
る。
【0036】(B法)工程B−1は、ケトン(IV)
に、シリル化合物(III)を付加することにより、化
合物(V)を製造する工程であり、工程Aに準じて行な
うことができる。
に、シリル化合物(III)を付加することにより、化
合物(V)を製造する工程であり、工程Aに準じて行な
うことができる。
【0037】工程B−2は、化合物(V)に、過剰の
1,2,4−トリアゾール又はイミダゾールを塩基の存
在下に反応させエポキシド(VI)を経て、本発明化合
物(I)を得る工程である。
1,2,4−トリアゾール又はイミダゾールを塩基の存
在下に反応させエポキシド(VI)を経て、本発明化合
物(I)を得る工程である。
【0038】反応は、溶媒中、一般式(V)の化合物に
対して1当量以上の1,2,4−トリアゾール又はイミ
ダゾールを、1当量以上の塩基の存在下に反応させる
か、又は、1,2,4−トリアゾール又はイミダゾール
の塩基塩を反応させることにより行なわれる。
対して1当量以上の1,2,4−トリアゾール又はイミ
ダゾールを、1当量以上の塩基の存在下に反応させる
か、又は、1,2,4−トリアゾール又はイミダゾール
の塩基塩を反応させることにより行なわれる。
【0039】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類;メタノール、エタノール、n-プロパ
ノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノ
ール、t-ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセルソルブ、のようなアルコール類;
ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物
類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、1,
3-ジメチル-2- イミダゾリジノンのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類であり、更に好適には、ホルムアミド、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミド、1,3-ジメチル-2- イミダゾリジノンのよ
うなアミド類である。
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類;メタノール、エタノール、n-プロパ
ノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノ
ール、t-ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセルソルブ、のようなアルコール類;
ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物
類;アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類;ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、1,
3-ジメチル-2- イミダゾリジノンのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類であり、更に好適には、ホルムアミド、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミド、1,3-ジメチル-2- イミダゾリジノンのよ
うなアミド類である。
【0040】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物;ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ボタシウム-t
- ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N-
ジメチルアミノ)ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,
N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ
-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABC
O) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-7- エン(DB
U) のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類であり、
更に好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
アルカリ金属炭酸塩である。
いて塩基として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物;ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ボタシウム-t
- ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N-
ジメチルアミノ)ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,
N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ
-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABC
O) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-7- エン(DB
U) のような有機塩基類又はブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類であり、
更に好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
アルカリ金属炭酸塩である。
【0041】尚、反応を効果的に行わせるために、ベン
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムクロリドのような第4級アンモニウム塩類、
ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化リチウムのよ
うなハロゲン化アルカリ土類金属、ジベンゾ-18-クラウ
ン-6- のようなクラウンエーテル類等を添加することも
できる。
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルア
ンモニウムクロリドのような第4級アンモニウム塩類、
ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、臭化リチウムのよ
うなハロゲン化アルカリ土類金属、ジベンゾ-18-クラウ
ン-6- のようなクラウンエーテル類等を添加することも
できる。
【0042】反応温度は−78℃乃至200℃で行なわ
れるが、好適には、−20℃乃至150℃である。
れるが、好適には、−20℃乃至150℃である。
【0043】反応時間は、主に反応温度、原料化合物又
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常1時間
乃至24時間であり、好適には2乃至10時間である。
は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常1時間
乃至24時間であり、好適には2乃至10時間である。
【0044】(IV)のケトンは、Beilsteins Handbuc
h der Organischen Chemie, 7 , 285, 7, 283 に記載さ
れた方法に準じて製造することができる。
h der Organischen Chemie, 7 , 285, 7, 283 に記載さ
れた方法に準じて製造することができる。
【0045】本発明組成物が優れた効力を発揮する植物
病害としては、例えばイネの紋枯病(Rhizoctonia solan
i)、いもち病(Pyricularia oryzae)、疑似紋枯病(Rhizo
ctonia solani III-B,Rhizoctonia oryzae,Sclerotium
oryzae-sativae, Sclerotiumfumigatum )、穂枯れ症(C
ochliobolus miyabeanus, Helminthosporium, sigmoide
um var., irregulare, Sphaerulina oryzina)、ばか菌
病(Gibberella fujikuroi)、モミ枯細菌病(Pseudomonas
glumae)、苗立枯細菌病(Pseudomonas plantarii) 、ム
ギ類のうどんこ病(Erysiphe graminis) 、さび病(Pucci
nia recondita,P.graminis, P.hordei, P.striiformi
s)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides) 、
株腐病(Rhizoctonia cerealis)、裸黒穂病(Ustilago tr
itici, U.nuda)、網斑病(Pyrenophora teres) 、ウリ類
のつるわれ病(Fusarium oxysporum)、苗立枯病(Pythium
debaryanum)、シバ等のブラウンパッチ病(Rhizoctonia
solani)、雪ぐされ病(Pythium spp. Fusarium nivale
etc)等が挙げられるが、本発明組成物の殺菌スペクトル
は、これらに限定されない。
病害としては、例えばイネの紋枯病(Rhizoctonia solan
i)、いもち病(Pyricularia oryzae)、疑似紋枯病(Rhizo
ctonia solani III-B,Rhizoctonia oryzae,Sclerotium
oryzae-sativae, Sclerotiumfumigatum )、穂枯れ症(C
ochliobolus miyabeanus, Helminthosporium, sigmoide
um var., irregulare, Sphaerulina oryzina)、ばか菌
病(Gibberella fujikuroi)、モミ枯細菌病(Pseudomonas
glumae)、苗立枯細菌病(Pseudomonas plantarii) 、ム
ギ類のうどんこ病(Erysiphe graminis) 、さび病(Pucci
nia recondita,P.graminis, P.hordei, P.striiformi
s)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides) 、
株腐病(Rhizoctonia cerealis)、裸黒穂病(Ustilago tr
itici, U.nuda)、網斑病(Pyrenophora teres) 、ウリ類
のつるわれ病(Fusarium oxysporum)、苗立枯病(Pythium
debaryanum)、シバ等のブラウンパッチ病(Rhizoctonia
solani)、雪ぐされ病(Pythium spp. Fusarium nivale
etc)等が挙げられるが、本発明組成物の殺菌スペクトル
は、これらに限定されない。
【0046】本発明組成物の有効成分である化合物
(I)と、化合物(II)との混合割合は、比較的広い
範囲で変えることができるが、通常、アゾール誘導体
(I)1重量部に対して、化合物(II)は0.01〜
100重量部であり、好ましくは、0.1〜10重量部
の範囲である。
(I)と、化合物(II)との混合割合は、比較的広い
範囲で変えることができるが、通常、アゾール誘導体
(I)1重量部に対して、化合物(II)は0.01〜
100重量部であり、好ましくは、0.1〜10重量部
の範囲である。
【0047】本発明の混合剤は通常製剤分野で慣用され
る補助剤と一緒に使用される。アゾール誘導体(I)及
び化合物(II)の有効成分は公知の方法で、例えば乳
剤原液、噴霧可能なペースト、噴霧又は希釈可能な溶
液、乳剤、水和剤、水溶剤、粉剤、そして例えばポリマ
ー物質によるカプセル剤に製剤される。そしてまた、省
力や安全性等を目的として、水中又は水面で容易に分散
又は溶解する農薬製剤(粒剤、錠剤、水和剤、カプセル
剤等)の形で適当な撥水剤、発泡剤、拡展剤等と共存さ
せ、これを直接水溶紙に包んで水中に投げ込むことも可
能である。
る補助剤と一緒に使用される。アゾール誘導体(I)及
び化合物(II)の有効成分は公知の方法で、例えば乳
剤原液、噴霧可能なペースト、噴霧又は希釈可能な溶
液、乳剤、水和剤、水溶剤、粉剤、そして例えばポリマ
ー物質によるカプセル剤に製剤される。そしてまた、省
力や安全性等を目的として、水中又は水面で容易に分散
又は溶解する農薬製剤(粒剤、錠剤、水和剤、カプセル
剤等)の形で適当な撥水剤、発泡剤、拡展剤等と共存さ
せ、これを直接水溶紙に包んで水中に投げ込むことも可
能である。
【0048】上記の製剤は、そのままで又は水等で希釈
し、植物体又は水面施用するか、又は土壌に施用する。
し、植物体又は水面施用するか、又は土壌に施用する。
【0049】すなわち、上記製剤を植物体へ散布又は散
粉するか、水田等の水面又は土壌表面へ散布、散粉又は
散粒するか、或いは必要に応じてその後さらに土壌と混
和する等種々の形態で使用できる。
粉するか、水田等の水面又は土壌表面へ散布、散粉又は
散粒するか、或いは必要に応じてその後さらに土壌と混
和する等種々の形態で使用できる。
【0050】また、種子処理剤として用いる場合には、
種子粉衣処理、種子浸漬処理等して用いることができ
る。また、他の殺菌剤と混合して用いることにより、殺
菌効力の増強をも期待できる。
種子粉衣処理、種子浸漬処理等して用いることができ
る。また、他の殺菌剤と混合して用いることにより、殺
菌効力の増強をも期待できる。
【0051】さらに、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、
殺線虫剤、除草剤、種子消毒剤、肥料又は土壌改良剤と
混合して、又は混合せずに同時に用いることもできる。
殺線虫剤、除草剤、種子消毒剤、肥料又は土壌改良剤と
混合して、又は混合せずに同時に用いることもできる。
【0052】なお、本発明組成物は、水田、畑地、果樹
園、牧草地、芝生地等の殺菌剤の有効成分として用いる
ことができる。
園、牧草地、芝生地等の殺菌剤の有効成分として用いる
ことができる。
【0053】本発明組成物の施用量は、有効成分の混合
比、気象条件、製剤形態、施用時期、方法、場所、対象
病害、対象作物等によっても異なるが、通常1アールあ
たり0.01g〜1000g、好ましくは、0.1g〜
100gであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、液剤等を水で
希釈して施用する場合、その施用濃度は、0.0001
〜1%、好ましくは、0.001〜0.5%であり、粒
剤、粉剤等は、なんら希釈することなくそのまま施用す
る。
比、気象条件、製剤形態、施用時期、方法、場所、対象
病害、対象作物等によっても異なるが、通常1アールあ
たり0.01g〜1000g、好ましくは、0.1g〜
100gであり、乳剤、水和剤、懸濁剤、液剤等を水で
希釈して施用する場合、その施用濃度は、0.0001
〜1%、好ましくは、0.001〜0.5%であり、粒
剤、粉剤等は、なんら希釈することなくそのまま施用す
る。
【0054】種子処理に際しては、有効成分合計量とし
て種子1kg当たり、例えば約0.001〜約50g、
好ましくは約0.01〜約10gで使用することができ
る。
て種子1kg当たり、例えば約0.001〜約50g、
好ましくは約0.01〜約10gで使用することができ
る。
【0055】土壌処理に際しては、通常1アール当た
り、有効成分合計量として約0.01g〜1000g、
好ましくは、約0.1g〜100gを一般に使用するこ
とができる。
り、有効成分合計量として約0.01g〜1000g、
好ましくは、約0.1g〜100gを一般に使用するこ
とができる。
【0056】水田の水面処理に際しては、有効成分合計
量として、例えば1ヘクタール当たり約0.001〜約
40kg、好ましくは約0.01〜約10kg使用すること
ができる。育苗箱処理に際しては、1箱(80cm×60
cm×8cm)当り、有効成分合計量として約0.1〜約1
00g、好ましくは、約0.1〜約50g使用すること
ができる。
量として、例えば1ヘクタール当たり約0.001〜約
40kg、好ましくは約0.01〜約10kg使用すること
ができる。育苗箱処理に際しては、1箱(80cm×60
cm×8cm)当り、有効成分合計量として約0.1〜約1
00g、好ましくは、約0.1〜約50g使用すること
ができる。
【0057】本発明組成物を稲作場面で用いる場合の使
用時期は、稲の苗を育苗箱で育成している時期から田植
後収穫に至るまで使用することができ、しかも長期にわ
たって効果が持続する。
用時期は、稲の苗を育苗箱で育成している時期から田植
後収穫に至るまで使用することができ、しかも長期にわ
たって効果が持続する。
【0058】
【発明の効果】本発明組成物は、種々の病害に対し、高
い相乗効果と適用範囲の拡大が期待でき、施用すべき有
効成分量の低減及び省力を図ることができる。
い相乗効果と適用範囲の拡大が期待でき、施用すべき有
効成分量の低減及び省力を図ることができる。
【0059】
【実施例】以下に実施例及び試験例を示し、本発明をさ
らに詳しく説明するが、実施例における化合物、添加物
及びその配合割合はこれらのみに限定されるものではな
い。なお実施例の使用割合を示す%は特に断りのない限
り重量%である。
らに詳しく説明するが、実施例における化合物、添加物
及びその配合割合はこれらのみに限定されるものではな
い。なお実施例の使用割合を示す%は特に断りのない限
り重量%である。
【0060】
【実施例1】化合物Ia〜Ieの各々0.5部、化合物
IIa〜IIiの1〜3部、合成含水酸化珪素1部、リ
グニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部
及びカオリンクレー残部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合わせた後、造粒乾燥してそれぞれの粒剤各々
を得た。
IIa〜IIiの1〜3部、合成含水酸化珪素1部、リ
グニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部
及びカオリンクレー残部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合わせた後、造粒乾燥してそれぞれの粒剤各々
を得た。
【0061】
【実施例2】化合物Ia〜Ieの各々1.2部、化合物
IIa〜IIiの各々5部、合成含水酸化珪素1部、リ
グニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部
及びカオリンクレー60.8部をよく粉砕混合し、水を
加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して有効成分6.
2%の粒剤各々を得た。
IIa〜IIiの各々5部、合成含水酸化珪素1部、リ
グニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部
及びカオリンクレー60.8部をよく粉砕混合し、水を
加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して有効成分6.
2%の粒剤各々を得た。
【0062】
【実施例3】化合物Ia〜Ieの各々1.5部、化合物
IIa〜IIiの各々2部、合成含水酸化珪素1部、リ
グニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部
及びカオリンクレー68.5部をよく粉砕混合し、水を
加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して有効成分3.
5%の粒剤各々を得た。
IIa〜IIiの各々2部、合成含水酸化珪素1部、リ
グニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部
及びカオリンクレー68.5部をよく粉砕混合し、水を
加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して有効成分3.
5%の粒剤各々を得た。
【0063】
【実施例4】化合物Ia〜Ieの各々2部、化合物II
a〜IIiの各々17部、合成含水酸化珪素1部、リグ
ニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト25部及
びカオリンクレー53部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合わせた後、造粒乾燥して有効成分19%の粒
剤各々を得た。
a〜IIiの各々17部、合成含水酸化珪素1部、リグ
ニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト25部及
びカオリンクレー53部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合わせた後、造粒乾燥して有効成分19%の粒
剤各々を得た。
【0064】
【実施例5】化合物Ia〜Ieの各々0.1部、化合物
IIa〜IIiの0.5〜1.0部、タルク11.2部
及びカオリンクレー残部をよく粉砕混合してそれぞれの
粉剤各々を得た。
IIa〜IIiの0.5〜1.0部、タルク11.2部
及びカオリンクレー残部をよく粉砕混合してそれぞれの
粉剤各々を得た。
【0065】
【実施例6】化合物Ia〜Ieの各々0.5部、化合物
IIa〜IIiの各々1部、カオリンクレー88部及び
タルク10.5部をよく粉砕混合して有効成分1.5%
の粉剤各々を得た。
IIa〜IIiの各々1部、カオリンクレー88部及び
タルク10.5部をよく粉砕混合して有効成分1.5%
の粉剤各々を得た。
【0066】
【実施例7】化合物Ia〜Ieの各々1部、化合物II
a〜IIiの各々1.5部、カオリンクレー88部及び
タルク9.5部をよく粉砕混合して有効成分2.5%の
粉剤各々を得た。
a〜IIiの各々1.5部、カオリンクレー88部及び
タルク9.5部をよく粉砕混合して有効成分2.5%の
粉剤各々を得た。
【0067】
【実施例8】化合物Ia〜Ieの各々5部、化合物II
a〜IIiの各々20部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート3部、CMC3部、水69部を混合
し、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して有効
成分25%の懸濁剤各々を得た。
a〜IIiの各々20部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート3部、CMC3部、水69部を混合
し、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕して有効
成分25%の懸濁剤各々を得た。
【0068】
【実施例9】化合物Ia〜Ieの各々10部、化合物I
Ia〜IIiの各々50部、リグニンスルホン酸カルシ
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部及び合成水酸化
珪素35部をよく粉砕混合して有効成分60%の水和剤
各々を得た。
Ia〜IIiの各々50部、リグニンスルホン酸カルシ
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部及び合成水酸化
珪素35部をよく粉砕混合して有効成分60%の水和剤
各々を得た。
【0069】
【実施例10】化合物Ia〜Ieの各々10部、化合物
IIa〜IIiの各々30部、ポリオキシエチレンスチ
リルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルフ
ォン酸カルシウム6部、キシレン40部をよく混合して
有効成分40%の乳剤各々を得た。
IIa〜IIiの各々30部、ポリオキシエチレンスチ
リルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルフ
ォン酸カルシウム6部、キシレン40部をよく混合して
有効成分40%の乳剤各々を得た。
【0070】
【実施例11】化合物Ia〜Ieの各々5部、化合物I
Ia〜IIiの各々10部、タルク(局方)3部、カー
プレックス#80(塩野義製薬(株)製、無晶系二酸化
珪素)1部を混合し、ハンマーミルにより粉砕した。発
泡シラスPB03 ((株)シラックス製、平均粒径75
μm )66部をリボンブレンダーに入れスーパーオイル
C(日本石油(株)製、粗製流動パラフィン)13部を
加えて混合し、シラスの表面を湿らせた。これに先のプ
レミックス28部を加えて混合し、さらにサーフィノー
ル104S(日信化学(株)製、アセチレン系ノニオン
界面活性剤)2部を加えて混合し、シラスの表面に被覆
した。得られた被覆物は有効成分として15部を含有す
る。得られた被覆物50gをハイセロンC−200(日
合フィルム(株)製、PVAフィルム、厚さ40μm)
に分包とした。この分包を2×2mの人口水田の中央に
投げ入れたところ、袋は水面に浮遊しPVAフィルムの
溶解にともない、内部の粒剤は水面に展開し、有効成分
が水中に分散した。
Ia〜IIiの各々10部、タルク(局方)3部、カー
プレックス#80(塩野義製薬(株)製、無晶系二酸化
珪素)1部を混合し、ハンマーミルにより粉砕した。発
泡シラスPB03 ((株)シラックス製、平均粒径75
μm )66部をリボンブレンダーに入れスーパーオイル
C(日本石油(株)製、粗製流動パラフィン)13部を
加えて混合し、シラスの表面を湿らせた。これに先のプ
レミックス28部を加えて混合し、さらにサーフィノー
ル104S(日信化学(株)製、アセチレン系ノニオン
界面活性剤)2部を加えて混合し、シラスの表面に被覆
した。得られた被覆物は有効成分として15部を含有す
る。得られた被覆物50gをハイセロンC−200(日
合フィルム(株)製、PVAフィルム、厚さ40μm)
に分包とした。この分包を2×2mの人口水田の中央に
投げ入れたところ、袋は水面に浮遊しPVAフィルムの
溶解にともない、内部の粒剤は水面に展開し、有効成分
が水中に分散した。
【0071】
【実施例12】化合物Ia〜Ieの各々5部、化合物I
Ia〜IIiの各々10〜20部、アエロジルR972
(日本アエロジル(株)製、撥水性シリカ)2.5部、
トキサノン50P(三洋化成工業(株)製、ポリカルボ
ン酸型ポリソープ)5部を混合したのち、ハンマーミル
で粉砕した。発泡シラスPB10(平均粒径0.42m
m)52.5〜62.5部をポリ袋に入れ、スーパーオ
イルCの15部を加えてシラスの表面を湿らせた後、粉
砕物31.5部を加えて混合した。得られた被覆物は有
効成分として15〜25部を含有する。得られた被覆物
を実施例1と同様に50gずつ小分けした。この分包を
2×2mの人口水田の中央に投げ入れたところ、袋は水
面に浮遊しPVAフィルムの溶解にともない、内容物は
水面に展開し、有効成分が水中に分散した。
Ia〜IIiの各々10〜20部、アエロジルR972
(日本アエロジル(株)製、撥水性シリカ)2.5部、
トキサノン50P(三洋化成工業(株)製、ポリカルボ
ン酸型ポリソープ)5部を混合したのち、ハンマーミル
で粉砕した。発泡シラスPB10(平均粒径0.42m
m)52.5〜62.5部をポリ袋に入れ、スーパーオ
イルCの15部を加えてシラスの表面を湿らせた後、粉
砕物31.5部を加えて混合した。得られた被覆物は有
効成分として15〜25部を含有する。得られた被覆物
を実施例1と同様に50gずつ小分けした。この分包を
2×2mの人口水田の中央に投げ入れたところ、袋は水
面に浮遊しPVAフィルムの溶解にともない、内容物は
水面に展開し、有効成分が水中に分散した。
【0072】次に本発明組成物が殺菌剤として有用であ
ることを試験例で具体的に示す。
ることを試験例で具体的に示す。
【0073】
【試験例1】イネ紋枯病防除効果試験
水稲(金南風)を機械移植した圃場に1区30m2 、3
反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行なった。
イネ紋枯病フスマ・モミガラ培地培養菌を水田に均一に
散布した。紋枯病が稲体上に上昇した適期に実施例1の
方法に準じて製剤した下記粒剤(表2参照)を4kg/
10aの比率で水面に施用した。薬剤処理50日後、1
区50株につき、病斑高を調査し、下記の式から防除価
を算出した。
反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行なった。
イネ紋枯病フスマ・モミガラ培地培養菌を水田に均一に
散布した。紋枯病が稲体上に上昇した適期に実施例1の
方法に準じて製剤した下記粒剤(表2参照)を4kg/
10aの比率で水面に施用した。薬剤処理50日後、1
区50株につき、病斑高を調査し、下記の式から防除価
を算出した。
【0074】
【数1】防除価(%)=(X−Y)÷X×100
X:無処理区の平均病斑高(cm)
Y:薬剤処理区の平均病斑高(cm)
結果を表2に示す。
【0075】
【表2】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0076】
【試験例2】イネ紋枯病防除効果試験
水稲(金南風)を機械移植した圃場に1区100m2、2
反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行なった。
イネ紋枯病フスマ・モミガラ培地培養菌を水田に均一に
散布した。紋枯病が稲体上に上昇した適期に実施例11
の方法に準じて作った下記製剤(表3参照)を1個/区
水面に投げ入れた。
反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行なった。
イネ紋枯病フスマ・モミガラ培地培養菌を水田に均一に
散布した。紋枯病が稲体上に上昇した適期に実施例11
の方法に準じて作った下記製剤(表3参照)を1個/区
水面に投げ入れた。
【0077】薬剤処理50日後、1区100株につき、
試験例1と同様に調査し、防除価を求めた。
試験例1と同様に調査し、防除価を求めた。
【0078】結果を表3に示す。
【0079】
【表3】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0080】
【試験例3】イネいもち病防除効果試験
水稲(コシヒカリ)を機械移植した圃場に1区30m
2 、3反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行な
った。いもち病被害葉を試験区に均一にばらまき発病さ
せた。7日後実施例1の方法に準じて製剤した下記粒剤
(表4参照)を1.33kg/10aの比率で水面に均
一に処理した。薬剤処理28日後に1区50株について
葉の発病程度を下記の基準にて調査し、下記の式にて防
除価(%)を求めた。
2 、3反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行な
った。いもち病被害葉を試験区に均一にばらまき発病さ
せた。7日後実施例1の方法に準じて製剤した下記粒剤
(表4参照)を1.33kg/10aの比率で水面に均
一に処理した。薬剤処理28日後に1区50株について
葉の発病程度を下記の基準にて調査し、下記の式にて防
除価(%)を求めた。
【0081】葉の発病指数 0…健全
1…1葉当り病斑数 1〜3個
2…1葉当り病斑数 4〜10個
3…1葉当り病斑数 10個以上
【0082】
【数2】発病度={(1×n1)+(2×n2)+(3×n3)}÷(3
×N)×100 N:調査葉数 n1〜n3:それぞれ発病指数1〜3の葉数
×N)×100 N:調査葉数 n1〜n3:それぞれ発病指数1〜3の葉数
【0083】
【数3】防除価(%)=(無処理の発病度−薬剤処理区の
発病度)÷無処理の発病度×100 結果を表4に示す。
発病度)÷無処理の発病度×100 結果を表4に示す。
【0084】
【表4】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0085】
【試験例4】イネいもち病防除効果試験
水稲(コシヒカリ)を機械移植した圃場に1区100m
2 、2反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行な
った。いもち病被害葉を試験区に均一にばらまき発病さ
せた。7日後実施例12の方法に準じて作った下記製剤
(表5参照)を1個/区水面に投げ入れた。
2 、2反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行な
った。いもち病被害葉を試験区に均一にばらまき発病さ
せた。7日後実施例12の方法に準じて作った下記製剤
(表5参照)を1個/区水面に投げ入れた。
【0086】薬剤処理28日後に1区100株について
試験例3と同様に調査し、防除価(%)を求めた。
試験例3と同様に調査し、防除価(%)を求めた。
【0087】結果を表5に示す。
【0088】
【表5】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0089】
【試験例5】イネいもち病防除効果試験
水稲(コシヒカリ)を機械移植した圃場に1区20m
2 、3反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行な
った。いもち病被害葉を試験区に均一にばらまき発病さ
せた。7日後実施例5の方法に準じて製剤した下記粉剤
(表6参照)を4kg/10aの比率で水田に均一に茎
葉散布した。
2 、3反復の試験区を設定し、栽培管理を慣行通り行な
った。いもち病被害葉を試験区に均一にばらまき発病さ
せた。7日後実施例5の方法に準じて製剤した下記粉剤
(表6参照)を4kg/10aの比率で水田に均一に茎
葉散布した。
【0090】散布28日後1区50株について試験例3
と同様に調査し、防除価(%)を求めた。
と同様に調査し、防除価(%)を求めた。
【0091】結果を表6に示す。
【0092】
【表6】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0093】
【試験例6】テンサイ苗立枯病防除効果試験
予めコレステロール添加コーンミール寒天培地で培養し
て得たテンサイ苗立枯病菌(Aphanomyces cochlioides,
Phoma betae, Fusarium sp.)の培養菌体をブレンダーで
破砕して殺菌土壌に混合接種し、30×40cm、深さ
20cmのプラスチックポットに充填した。
て得たテンサイ苗立枯病菌(Aphanomyces cochlioides,
Phoma betae, Fusarium sp.)の培養菌体をブレンダーで
破砕して殺菌土壌に混合接種し、30×40cm、深さ
20cmのプラスチックポットに充填した。
【0094】実施例9の水和剤を2%アラビアゴム液と
ともにテンサイ(品種:モノミドリ)の種子に粉衣処理
した。
ともにテンサイ(品種:モノミドリ)の種子に粉衣処理
した。
【0095】2%アラビアゴム液を種子重量の5%量、
テンサイ(品種:モノミドリ)の種子に粉衣処理し、そ
の後実施例9の水和剤を粉衣処理した。このテンサイ種
子を1ポット当たり100粒播種し、1区2連制で25
℃ガラス室に6週間栽培した後、健苗率を調査した。
テンサイ(品種:モノミドリ)の種子に粉衣処理し、そ
の後実施例9の水和剤を粉衣処理した。このテンサイ種
子を1ポット当たり100粒播種し、1区2連制で25
℃ガラス室に6週間栽培した後、健苗率を調査した。
【0096】結果を表7に示す。
【0097】
【表7】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0098】
【試験例7】イネもみ枯細菌病防除試験
イネもみ枯細菌病(Pseudomonas glumae)接種籾を実施例
9の方法に準じて作った水和剤を希釈した薬液に24時
間浸漬した。その後、育苗培土を積めたプラスチック製
ポットに播種した。次いで、育苗器内で3日間30℃に
保った後、温室内で14日間栽培し、発病状態を調査し
た。罹病度は次式により算出した。
9の方法に準じて作った水和剤を希釈した薬液に24時
間浸漬した。その後、育苗培土を積めたプラスチック製
ポットに播種した。次いで、育苗器内で3日間30℃に
保った後、温室内で14日間栽培し、発病状態を調査し
た。罹病度は次式により算出した。
【0099】
【数4】罹病度=(処理区の罹病苗率)÷(無処理区の
罹病苗率)×100 結果を表8に示す。
罹病苗率)×100 結果を表8に示す。
【0100】
【表8】
いずれの区においても薬害は認められなかった。
【0101】
【0102】
【参考例1】
2−フェニル−1−(1H−1,2,4−トリアゾール
−1−イル)−3−トリメチルシリル−2−プロパノー
ル エーテル(50ml)中へ、2−(1H−1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)アセトフェノン(0.505
g,2.7ミリモル)を加え、溶液を窒素気流下で室温
攪拌、トリメチルシリルメチルマグネシウムクロライド
(テトラヒドロフラン1mol 溶液13.5ml,13.5
ミリモル)を、反応混合物の温度が25℃を越えない速
度で滴下した。添加した混合物を室温で30分間攪拌
後、次いで6時間加熱還流し、後、冷却し、氷水(10
0ml)に注加、5%塩酸でpH6として酢酸エチル(3×
50ml)で抽出した。有機層を合わせ飽和食塩水(3×
50ml)で水洗いし、有機層を乾燥(Na2So4) 、留去す
ると粗油状物が得られる、精製はシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1→2:
1)に付し、表題の化合物を得た。0.112g(収率
15%)(製法A) 融点86〜87℃ NMR スペクトル(CDCl3) δppm :-0.20(9H,s), 1.20(1
H,d,J=14.5Hz), 1.41(1H,d,J=14.5Hz), 4.48(1H,d,J=1
4.8Hz), 4.58(1H,d,J=14.8Hz), 7.35-7.24(5H,m), 7.97
(1H,s), 8.59(1H,s) マススペクトル(M/Z) :276(M+),260,193
−1−イル)−3−トリメチルシリル−2−プロパノー
ル エーテル(50ml)中へ、2−(1H−1,2,4−ト
リアゾール−1−イル)アセトフェノン(0.505
g,2.7ミリモル)を加え、溶液を窒素気流下で室温
攪拌、トリメチルシリルメチルマグネシウムクロライド
(テトラヒドロフラン1mol 溶液13.5ml,13.5
ミリモル)を、反応混合物の温度が25℃を越えない速
度で滴下した。添加した混合物を室温で30分間攪拌
後、次いで6時間加熱還流し、後、冷却し、氷水(10
0ml)に注加、5%塩酸でpH6として酢酸エチル(3×
50ml)で抽出した。有機層を合わせ飽和食塩水(3×
50ml)で水洗いし、有機層を乾燥(Na2So4) 、留去す
ると粗油状物が得られる、精製はシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1→2:
1)に付し、表題の化合物を得た。0.112g(収率
15%)(製法A) 融点86〜87℃ NMR スペクトル(CDCl3) δppm :-0.20(9H,s), 1.20(1
H,d,J=14.5Hz), 1.41(1H,d,J=14.5Hz), 4.48(1H,d,J=1
4.8Hz), 4.58(1H,d,J=14.8Hz), 7.35-7.24(5H,m), 7.97
(1H,s), 8.59(1H,s) マススペクトル(M/Z) :276(M+),260,193
【0103】
【参考例2】
2−(4−フルオロフェニル)−1−(1H−1,2,
4−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチルシリル
−2−プロパノール(化合物Ia) ジメチルホルムアミド(60ml)中へ、60%水素化ナ
トリウム(1.62g,0.04モル)を添加し、混合
溶液を氷水で冷却攪拌下1,2,4−トリアゾール
(2.91g,0.04モル)を添加する。反応混合物
をさらに室温で30分間攪拌し、次いで参考例2で得ら
れた1−クロル−2−(4−フルオロフェニル)−3−
トリメチルシリル−2−プロパノール(5.5g,0.
021モル)を添加し、混合物を90℃で30分間加熱
攪拌する。次いで冷却し、氷水(200ml) に注加し、
酢酸エチル(300ml) で抽出し、酢酸エチル層を飽和
食塩水(100ml×3)で水洗いし、酢酸エチル層を乾
燥(Na2SO4 )、留去すると粗油状物を得、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン
=1:5→1:1→2:1)に付し、表題の化合物を得
た。
4−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチルシリル
−2−プロパノール(化合物Ia) ジメチルホルムアミド(60ml)中へ、60%水素化ナ
トリウム(1.62g,0.04モル)を添加し、混合
溶液を氷水で冷却攪拌下1,2,4−トリアゾール
(2.91g,0.04モル)を添加する。反応混合物
をさらに室温で30分間攪拌し、次いで参考例2で得ら
れた1−クロル−2−(4−フルオロフェニル)−3−
トリメチルシリル−2−プロパノール(5.5g,0.
021モル)を添加し、混合物を90℃で30分間加熱
攪拌する。次いで冷却し、氷水(200ml) に注加し、
酢酸エチル(300ml) で抽出し、酢酸エチル層を飽和
食塩水(100ml×3)で水洗いし、酢酸エチル層を乾
燥(Na2SO4 )、留去すると粗油状物を得、さらにシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン
=1:5→1:1→2:1)に付し、表題の化合物を得
た。
【0104】2.9g(収率47%)(製法B)
融点118〜119℃
NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.18(9H,s), 1.16(1
H,d,J=14.5Hz), 1.33(1H,d,J=14.5Hz), 4.36(1H,d,J=1
4.0Hz), 4.43(1H,d,J=14.0Hz), 6.93-7.01(2H,m), 7.26
-7.31(2H,m), 7.91(1H,s), 7.99(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 293(M+), 278, 211 以下参考例1(製法A)又は参考例2(製法B)と同様
にして以下の化合物を得た。
H,d,J=14.5Hz), 1.33(1H,d,J=14.5Hz), 4.36(1H,d,J=1
4.0Hz), 4.43(1H,d,J=14.0Hz), 6.93-7.01(2H,m), 7.26
-7.31(2H,m), 7.91(1H,s), 7.99(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 293(M+), 278, 211 以下参考例1(製法A)又は参考例2(製法B)と同様
にして以下の化合物を得た。
【0105】
【参考例3】
2−(4−クロロフェニル)−1−(1H−1,2,4
−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチルシリル−
2−プロパノール(化合物Ib) 20mg,収率7%,融点108〜110℃ NMR スペクトル(CDCl3) δppm :-0.19(9H,s), 1.15(1
H,d,J=14.5Hz), 1.31(1H,d,J=14.5Hz), 4.35(2H,s),7.1
7-7.33(4H,m), 7.80(1H,s), 7.88(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 309(M+), 294, 227, 211
−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチルシリル−
2−プロパノール(化合物Ib) 20mg,収率7%,融点108〜110℃ NMR スペクトル(CDCl3) δppm :-0.19(9H,s), 1.15(1
H,d,J=14.5Hz), 1.31(1H,d,J=14.5Hz), 4.35(2H,s),7.1
7-7.33(4H,m), 7.80(1H,s), 7.88(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 309(M+), 294, 227, 211
【0106】
【参考例4】
2−(2,4−ジフルオロフェニル)−1−(1H−
1,2,4−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチ
ルシリル−2−プロパノール(化合物Id) 742mg,収率26.5%,融点112〜114℃ NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.17(9H,s), 1.23(1
H,d,J=14.5Hz), 1.48(1H,dd,J=14.5,2.0Hz), 4.41(1H,
d,J=13.7Hz), 4.43-4.72(1H,br), 4.69(1H,d,J=13.7H
z), 6.69-6.79(2H,m), 7.40-7.49(1H,m), 7.83(1H,s),
7.87(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 312(M+1)+, 296, 229
1,2,4−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチ
ルシリル−2−プロパノール(化合物Id) 742mg,収率26.5%,融点112〜114℃ NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.17(9H,s), 1.23(1
H,d,J=14.5Hz), 1.48(1H,dd,J=14.5,2.0Hz), 4.41(1H,
d,J=13.7Hz), 4.43-4.72(1H,br), 4.69(1H,d,J=13.7H
z), 6.69-6.79(2H,m), 7.40-7.49(1H,m), 7.83(1H,s),
7.87(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 312(M+1)+, 296, 229
【0107】
【参考例5】
2−(2,4−ジクロロフェニル)−1−(1H−1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチルシ
リル−2−プロパノール(化合物Ic) 35mg,収率4.1%,融点 136〜137℃ NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.10(9H,s), 1.36(1
H,d,J=14.5Hz), 2.04(1H,d,J=14.5Hz), 4.60(1H,d,J=1
4.0Hz), 5.38(1H,d,J=14.0Hz), 7.30(1H,dd,J=8.1Hz),
7.42-7.5(1H,m), 7.78(1H,d,J=8.1Hz), 7.98(1H,s), 8.
04(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 344(M+), 326, 261, 214
2,4−トリアゾール−1−イル)−3−トリメチルシ
リル−2−プロパノール(化合物Ic) 35mg,収率4.1%,融点 136〜137℃ NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.10(9H,s), 1.36(1
H,d,J=14.5Hz), 2.04(1H,d,J=14.5Hz), 4.60(1H,d,J=1
4.0Hz), 5.38(1H,d,J=14.0Hz), 7.30(1H,dd,J=8.1Hz),
7.42-7.5(1H,m), 7.78(1H,d,J=8.1Hz), 7.98(1H,s), 8.
04(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 344(M+), 326, 261, 214
【0108】
【参考例6】
2−(2−フルオロ−4−クロロフェニル)−1−(1
H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)−3−トリ
メチルシリル−2−プロパノール(化合物Ie) 19mg,収率6%,融点129〜130℃ NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.164(9H,s), 1.20(1
H,d,J=14.6Hz), 1.50(1H,dd,J=14.6,1.9Hz), 4.48(1H,
d,J=13.7Hz), 4.74(1H,d,J=13.8Hz), 4.51-4.77(1H,b
r), 6.99-7.05(2H,m), 7.37-7.45(1H,m), 7.87(1H,s),
8.21(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 327(M+), 312,
245, 155
H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)−3−トリ
メチルシリル−2−プロパノール(化合物Ie) 19mg,収率6%,融点129〜130℃ NMR スペクトル(CDCl3)δppm :-0.164(9H,s), 1.20(1
H,d,J=14.6Hz), 1.50(1H,dd,J=14.6,1.9Hz), 4.48(1H,
d,J=13.7Hz), 4.74(1H,d,J=13.8Hz), 4.51-4.77(1H,b
r), 6.99-7.05(2H,m), 7.37-7.45(1H,m), 7.87(1H,s),
8.21(1H,s) マススペクトル(M/Z) : 327(M+), 312,
245, 155
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI
A01N 43/08 A01N 43/08 A
43/80 102 43/80 102
59/20 59/20 Z
(72)発明者 津田 幹雄
滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式
会社内
(72)発明者 飛塚 淳三
滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式
会社内
(56)参考文献 特開 平6−287102(JP,A)
特開 平6−279216(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
A01N 55/00
A01N 31/08
A01N 33/12
A01N 35/02
A01N 37/10
A01N 43/08
A01N 43/80
A01N 59/20
CA(STN)
REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 [式中、Aは、1,2,4−トリアゾール−1−イル基
又はイミダゾール−1−イル基を示し、nは、1、2又
は3を示し(nが2又は3の時、それぞれのXは異なっ
ていてもよい)、Xは、水素原子、ハロゲン原子、フェ
ニル基、同一若しくは異なった1乃至3個のハロゲンで
置換されていてもよい低級アルキル基又は同一若しくは
異なった1乃至3個のハロゲンで置換されていてもよい
低級アルコキシ基を示す。]で表わされる化合物の1種
以上と、防微生物剤{但し、一般式 【化2】 [式中、Mは、水素原子又は塩を形成する金属原子を示
す。]で表される5−メチル−3−ヒドロキシイソオキ
サゾール又はその塩、3−アリルオキシ−1,2−ベン
ズチアゾール 1,1−ジオキサイド、ジイソプロピル
1,3−ジチオラン−2−イリデン マロネート、
1,2,5,6−テトラヒドロ−4H−ピロロ−[3,2,1
-ij]キノリン−4−オンO,O−ジイソプロピル S−
ベンジル チオホスフェート、5−メチル−1,2,4
−トリアゾロ(3,4-b) −ベンゾチアゾール、4,5,
6,7−テトラクロロフタライド、カスガマイシン−ハ
イドロクロライド、O−エチル S,S−ジフェニルジ
チオフォスフェート、(Z)−O− メチルアセトフェノン
−4,6−ジメチル−2−ピリミジニル−ヒドラゾン及
びN−[1−(4−クロロフェニル)−エチル)−2,
2−ジクロロ−1,3,3−トリメチルシクロプロパン
カルボキサミドを除く。}とを有効成分として含有する
ことを特徴とする農園芸用殺菌組成物。 - 【請求項2】一般式(I) 【化3】 [式中、Aは、1,2,4−トリアゾール−1−イル基
又はイミダゾール−1−イル基を示し、nは、1、2又
は3を示し(nが2又は3の時、それぞれのXは異なっ
ていてもよい)、Xは、水素原子、ハロゲン原子、フェ
ニル基、同一若しくは異なった1乃至3個のハロゲンで
置換されていてもよい低級アルキル基又は同一若しくは
異なった1乃至3個のハロゲンで置換されていてもよい
低級アルコキシ基を示す。]で表わされる化合物の1種
以上と、下記の防微生物剤の群(II)より選ばれる1
種以上とを有効成分として含有することを特徴とする農
園芸用殺菌組成物。 群(II) 1,5−ペンタンジアール 2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン グリオキサール 塩化ベンザルコニウム 1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン 水酸化第二銅 4−クロロ−2−キシレノール 4−クロロ−2−クレゾール p−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01604094A JP3369290B2 (ja) | 1993-02-16 | 1994-02-10 | 含ケイ素アゾール化合物と防微生物剤を含有する殺菌組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2662393 | 1993-02-16 | ||
JP5-26623 | 1993-02-16 | ||
JP01604094A JP3369290B2 (ja) | 1993-02-16 | 1994-02-10 | 含ケイ素アゾール化合物と防微生物剤を含有する殺菌組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH072607A JPH072607A (ja) | 1995-01-06 |
JP3369290B2 true JP3369290B2 (ja) | 2003-01-20 |
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ID=26352281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01604094A Expired - Fee Related JP3369290B2 (ja) | 1993-02-16 | 1994-02-10 | 含ケイ素アゾール化合物と防微生物剤を含有する殺菌組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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-
1994
- 1994-02-10 JP JP01604094A patent/JP3369290B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH072607A (ja) | 1995-01-06 |
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