JP3365015B2 - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
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- JP3365015B2 JP3365015B2 JP32255993A JP32255993A JP3365015B2 JP 3365015 B2 JP3365015 B2 JP 3365015B2 JP 32255993 A JP32255993 A JP 32255993A JP 32255993 A JP32255993 A JP 32255993A JP 3365015 B2 JP3365015 B2 JP 3365015B2
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- Dry Development In Electrophotography (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面層を有する像担持
体上に形成された静電潜像をトナーによって現像する画
像形成方法に関する。
体上に形成された静電潜像をトナーによって現像する画
像形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、表面層を有する感光体上に形成さ
れた静電潜像をトナーによって現像する画像形成方法が
着目されている。例えば、電子写真分野においては、炭
素系高硬度被覆層を表面層として有する感光体上に静電
潜像を形成し、これを樹脂成分と着色剤を含むトナ−に
よって現像する技術(例えば、特開昭61−25154
号や特開昭63−97962号)が知られている。この
ような炭素系高硬度被覆層は高硬度であり、画像形成プ
ロセスを多く繰り返しても感光体が削れたりすることが
ないというメリットがある。
れた静電潜像をトナーによって現像する画像形成方法が
着目されている。例えば、電子写真分野においては、炭
素系高硬度被覆層を表面層として有する感光体上に静電
潜像を形成し、これを樹脂成分と着色剤を含むトナ−に
よって現像する技術(例えば、特開昭61−25154
号や特開昭63−97962号)が知られている。この
ような炭素系高硬度被覆層は高硬度であり、画像形成プ
ロセスを多く繰り返しても感光体が削れたりすることが
ないというメリットがある。
【0003】しかしながら、炭素系高硬度被覆層を表面
層として有する感光体、例えば、非晶質炭化ケイ素の表
面層と非晶質ケイ素からなる感光層を含む感光体、ある
いは非晶質炭化水素膜の表面層と有機感光層からなる感
光層を含む感光体を使用して画像形成プロセスを繰り返
し実施するとトナー融着の問題および画像流れの問題が
生じてしまう。
層として有する感光体、例えば、非晶質炭化ケイ素の表
面層と非晶質ケイ素からなる感光層を含む感光体、ある
いは非晶質炭化水素膜の表面層と有機感光層からなる感
光層を含む感光体を使用して画像形成プロセスを繰り返
し実施するとトナー融着の問題および画像流れの問題が
生じてしまう。
【0004】トナー融着は、感光体表面にトナーが融着
する現象であり、その原因としては以下のA〜Cが考え
られる。A:長期使用に伴って劣化したキャリアが感光
体表面に付着しブレードクリーニング時に埋め込まれ
る。これが核となってブレードクリーニング時にトナー
が感光体表面に融着する。B:感光体の製造時に生じた
微小な凸部を核として融着が発生する。C:長期使用に
よるクリーナーブレードの劣化や欠損によりクリーニン
グ時にトナーに加わるストレスに異常をきたして発生す
る。通常の有機感光体(OPC)では、クリーニング時
に膜削れを生じるために融着したトナーもその際に除去
されるが、上記表面層を有する感光体では膜削れを伴わ
ないため、一度トナー融着が生じるとその後の使用とと
もに融着が成長してしまうと考えられる。
する現象であり、その原因としては以下のA〜Cが考え
られる。A:長期使用に伴って劣化したキャリアが感光
体表面に付着しブレードクリーニング時に埋め込まれ
る。これが核となってブレードクリーニング時にトナー
が感光体表面に融着する。B:感光体の製造時に生じた
微小な凸部を核として融着が発生する。C:長期使用に
よるクリーナーブレードの劣化や欠損によりクリーニン
グ時にトナーに加わるストレスに異常をきたして発生す
る。通常の有機感光体(OPC)では、クリーニング時
に膜削れを生じるために融着したトナーもその際に除去
されるが、上記表面層を有する感光体では膜削れを伴わ
ないため、一度トナー融着が生じるとその後の使用とと
もに融着が成長してしまうと考えられる。
【0005】また、画像流れは、上記炭素系高硬度被覆
層を表面層として有する感光体を使用して画像形成プロ
セスを繰り返し実施した場合、特に、高湿環境下におい
て顕著に発生する。上記感光体の表面層は上述したよう
にほとんど膜削れを伴わないために、画像形成プロセス
を繰り返すうちに、感光体を一様に帯電させる帯電工程
で生じる窒素酸化物(NOx)等に基づく硝酸塩等の帯
電生成物が表面層上に蓄積される。この帯電生成物が原
因となって感光体表面層の抵抗を低下させ、次第に画像
流れを生じるようになるのである。
層を表面層として有する感光体を使用して画像形成プロ
セスを繰り返し実施した場合、特に、高湿環境下におい
て顕著に発生する。上記感光体の表面層は上述したよう
にほとんど膜削れを伴わないために、画像形成プロセス
を繰り返すうちに、感光体を一様に帯電させる帯電工程
で生じる窒素酸化物(NOx)等に基づく硝酸塩等の帯
電生成物が表面層上に蓄積される。この帯電生成物が原
因となって感光体表面層の抵抗を低下させ、次第に画像
流れを生じるようになるのである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決した画像形成方法を提供することを課題とする。
を解決した画像形成方法を提供することを課題とする。
【0007】即ち、高硬度である炭素系高硬度被覆層を
表面層として有する像担持体を用いて画像形成プロセス
を繰り返した場合においても、画像流れやトナー融着が
生じない画像形成方法を提供することを課題とする。
表面層として有する像担持体を用いて画像形成プロセス
を繰り返した場合においても、画像流れやトナー融着が
生じない画像形成方法を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、トナー粒子表
面にシリカ微粒子を固定化処理した後、後処理微粒子を
外添処理して得られたトナーによって、炭素系高硬度被
覆層を表面層として有する像担持体上に形成された静電
潜像を現像する画像形成方法に関する。
面にシリカ微粒子を固定化処理した後、後処理微粒子を
外添処理して得られたトナーによって、炭素系高硬度被
覆層を表面層として有する像担持体上に形成された静電
潜像を現像する画像形成方法に関する。
【0009】
【作用】本発明においては、トナー粒子表面にシリカ微
粒子を固定化処理した後、後処理微粒子を外添したトナ
ーを用いて、炭素系高硬度被覆層を表面層として有する
像担持体上の静電潜像を現像することにより画像流れお
よびトナー融着の問題を解消できることを見出したもの
である。このような特定の現像剤の使用により画像流れ
およびトナー融着が解消される理由は必ずしも明らかで
はないが、以下のように考えられる。
粒子を固定化処理した後、後処理微粒子を外添したトナ
ーを用いて、炭素系高硬度被覆層を表面層として有する
像担持体上の静電潜像を現像することにより画像流れお
よびトナー融着の問題を解消できることを見出したもの
である。このような特定の現像剤の使用により画像流れ
およびトナー融着が解消される理由は必ずしも明らかで
はないが、以下のように考えられる。
【0010】即ち、本発明において後処理微粒子がトナ
ー粒子に外添処理されているとは、この微粒子がトナー
粒子と像担持体の表面層との間で潤滑剤的に移動可能に
介在している状態をいうが、この時、前記微粒子が像担
持体の表面層を摺擦し、この物理的な摺擦力によって、
表面層上に蓄積された帯電生成物を機械的、物理的に掻
き取り除去する効果を有する。しかしながら、トナー粒
子は定着成分を含むので、外添された微粒子は耐刷とと
もにトナー粒子に埋没するため掻き取り除去効果を充分
に発揮できなくなる。本発明者等は、この耐刷に伴う微
粒子の埋没を防止する為に、シリカ微粒子をトナー粒子
表面に固定化処理することが有効であることを見いだし
て本発明を完成するに至った。即ち、固定化処理された
シリカ微粒子によってトナー粒子表面を見掛け上硬くす
ることができるため、外添される微粒子の埋没を防止す
るのである。
ー粒子に外添処理されているとは、この微粒子がトナー
粒子と像担持体の表面層との間で潤滑剤的に移動可能に
介在している状態をいうが、この時、前記微粒子が像担
持体の表面層を摺擦し、この物理的な摺擦力によって、
表面層上に蓄積された帯電生成物を機械的、物理的に掻
き取り除去する効果を有する。しかしながら、トナー粒
子は定着成分を含むので、外添された微粒子は耐刷とと
もにトナー粒子に埋没するため掻き取り除去効果を充分
に発揮できなくなる。本発明者等は、この耐刷に伴う微
粒子の埋没を防止する為に、シリカ微粒子をトナー粒子
表面に固定化処理することが有効であることを見いだし
て本発明を完成するに至った。即ち、固定化処理された
シリカ微粒子によってトナー粒子表面を見掛け上硬くす
ることができるため、外添される微粒子の埋没を防止す
るのである。
【0011】また、トナー融着の問題についても、像担
持体表面に対する摺擦力によって融着トナーを除去する
ために防止されるものと考えられる。
持体表面に対する摺擦力によって融着トナーを除去する
ために防止されるものと考えられる。
【0012】尚、本発明において固定化処理されている
とは、シリカ微粒子の少なくと一部分がトナー粒子中に
埋没されて固定化されている状態であり、好ましくはシ
リカ微粒子の体積の30%以上がトナー粒子中に埋没さ
れて固定化されていることが望ましい。
とは、シリカ微粒子の少なくと一部分がトナー粒子中に
埋没されて固定化されている状態であり、好ましくはシ
リカ微粒子の体積の30%以上がトナー粒子中に埋没さ
れて固定化されていることが望ましい。
【0013】
【実施例】図1は本発明の画像形成方法を実施する画像
形成装置の概略構成を示し、1は感光体ドラム、2はコ
ロナ帯電器、3は露光光、4は現像装置、5は転写紙、
6は転写チャージャー、7は分離チャージャー、8はク
リーニング装置、9はイレーサーランプ、10は定着装
置である。
形成装置の概略構成を示し、1は感光体ドラム、2はコ
ロナ帯電器、3は露光光、4は現像装置、5は転写紙、
6は転写チャージャー、7は分離チャージャー、8はク
リーニング装置、9はイレーサーランプ、10は定着装
置である。
【0014】感光体ドラム1はコロナ帯電器2により均
一帯電され、次いで画像情報に基づく露光光3が照射さ
れて、その表面に静電潜像が形成される。静電潜像は続
いて現像装置4に収納された後述するトナーにより現像
され、得られたトナー像は転写紙5上に転写チャージャ
ー6により転写され、トナー像を有する転写紙5は分離
チャージャー7により感光体ドラム1から剥離される。
転写紙5上に保持されたトナー像は定着装置10により
定着されて定着画像が得られる。一方、転写紙5が剥離
された後の感光体ドラム1は、クリーニング装置8のブ
レードにより残留トナーが除去され、イレーサーランプ
9により残留電荷が除電されて次の画像形成に備える。
一帯電され、次いで画像情報に基づく露光光3が照射さ
れて、その表面に静電潜像が形成される。静電潜像は続
いて現像装置4に収納された後述するトナーにより現像
され、得られたトナー像は転写紙5上に転写チャージャ
ー6により転写され、トナー像を有する転写紙5は分離
チャージャー7により感光体ドラム1から剥離される。
転写紙5上に保持されたトナー像は定着装置10により
定着されて定着画像が得られる。一方、転写紙5が剥離
された後の感光体ドラム1は、クリーニング装置8のブ
レードにより残留トナーが除去され、イレーサーランプ
9により残留電荷が除電されて次の画像形成に備える。
【0015】現像装置4に収納されるトナーとしては、
表面にシリカ微粒子を固定化処理した後、後処理微粒子
を外添処理して得られたトナーを使用する。
表面にシリカ微粒子を固定化処理した後、後処理微粒子
を外添処理して得られたトナーを使用する。
【0016】固定化処理に用いるシリカ微粒子として
は、ア−ク法、火炎加水分解法、プラズマ法等の気相
法、シリカゾル法、沈降法等の湿式法により合成された
SiO2微粒子が使用可能である。
は、ア−ク法、火炎加水分解法、プラズマ法等の気相
法、シリカゾル法、沈降法等の湿式法により合成された
SiO2微粒子が使用可能である。
【0017】シリカ微粒子としては一次粒子の体積平均
粒径が0.01〜2μmのものを使用することが望まし
い。シリカ微粒子の添加量は、シリカ微粒子によりトナ
−表面を十分被覆することが好ましく、トナー粒子に対
して0.5重量%〜3重量%程度とすることが望まし
い。
粒径が0.01〜2μmのものを使用することが望まし
い。シリカ微粒子の添加量は、シリカ微粒子によりトナ
−表面を十分被覆することが好ましく、トナー粒子に対
して0.5重量%〜3重量%程度とすることが望まし
い。
【0018】また、シランカップリング剤、チタンカッ
プリング剤、高級脂肪酸、シリコーオイル等の疎水化剤
によってシリカ微粒子に疎水化処理を施すと、使用環境
の変化に対するトナー特性の変化を抑制することができ
るので好ましい。
プリング剤、高級脂肪酸、シリコーオイル等の疎水化剤
によってシリカ微粒子に疎水化処理を施すと、使用環境
の変化に対するトナー特性の変化を抑制することができ
るので好ましい。
【0019】また、本発明においてシリカ微粒子をトナ
ー表面に固定化処理する具体的な装置としては、ヘンシ
ェルミキサー(三井三池化工機社製)、ハイブリダイザ
ー(奈良機械製作所社製)、ホモジナイザー(日本精機
社製)、クリプトロンシステム(川崎重工社製)、ター
ボミル(タ−ボ工業社製)等を例示できる。これらの装
置を用いて、シリカ微粒子の一部分をトナーバルク中に
埋没させ固定化している。
ー表面に固定化処理する具体的な装置としては、ヘンシ
ェルミキサー(三井三池化工機社製)、ハイブリダイザ
ー(奈良機械製作所社製)、ホモジナイザー(日本精機
社製)、クリプトロンシステム(川崎重工社製)、ター
ボミル(タ−ボ工業社製)等を例示できる。これらの装
置を用いて、シリカ微粒子の一部分をトナーバルク中に
埋没させ固定化している。
【0020】このように固定化処理しないと、シリカ微
粒子がトナー粒子表面から脱離してしまい、その脱離し
た部分に前述のように外添微粒子がトナー粒子中へ埋没
してしまうため、外添微粒子の持つ掻き取り除去効果を
充分に引き出すことができなくなるという不都合を生じ
る。
粒子がトナー粒子表面から脱離してしまい、その脱離し
た部分に前述のように外添微粒子がトナー粒子中へ埋没
してしまうため、外添微粒子の持つ掻き取り除去効果を
充分に引き出すことができなくなるという不都合を生じ
る。
【0021】本発明において外添される後処理微粒子と
しては、シリカ、二酸化チタン、アルミナ、フッ化マグ
ネシウム、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、炭化
ジルコニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、窒化ジルコニ
ウム、マグネタイト、ニ硫化モリブデン等の体積平均粒
径0.01〜5μm程度の無機微粒子が例示できる。
しては、シリカ、二酸化チタン、アルミナ、フッ化マグ
ネシウム、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、炭化
ジルコニウム、窒化ホウ素、窒化チタン、窒化ジルコニ
ウム、マグネタイト、ニ硫化モリブデン等の体積平均粒
径0.01〜5μm程度の無機微粒子が例示できる。
【0022】さらに、これらの無機微粒子はシランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤、高級脂肪酸、シリ
コーオイル等の疎水化剤によって疎水化処理を施すと、
使用環境の変化に対するトナー特性の変化を抑制するこ
とができるので好ましい。
プリング剤、チタンカップリング剤、高級脂肪酸、シリ
コーオイル等の疎水化剤によって疎水化処理を施すと、
使用環境の変化に対するトナー特性の変化を抑制するこ
とができるので好ましい。
【0023】また、無機微粒子に限らず、乳化重合、ソ
ープフリー乳化重合、非水分散重合等の湿式重合法、あ
るいは気相重合法によって造粒したスチレン系、アクリ
ル系、メタクリル系、ベンゾグアナミン、シリコン、テ
フロン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の体積平均粒
径0.01〜5μm程度の各種有機微粒子が例示でき
る。
ープフリー乳化重合、非水分散重合等の湿式重合法、あ
るいは気相重合法によって造粒したスチレン系、アクリ
ル系、メタクリル系、ベンゾグアナミン、シリコン、テ
フロン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の体積平均粒
径0.01〜5μm程度の各種有機微粒子が例示でき
る。
【0024】そして、後処理微粒子の添加量は、トナー
として必要な流動性を付与する、像担持体の表面層上に
蓄積した帯電生成物の掻き取り除去を行う、という2つ
の観点から、トナー粒子に対して0.05〜5重量%程
度、好ましくは0.1〜3重量%程度添加するのがよ
い。
として必要な流動性を付与する、像担持体の表面層上に
蓄積した帯電生成物の掻き取り除去を行う、という2つ
の観点から、トナー粒子に対して0.05〜5重量%程
度、好ましくは0.1〜3重量%程度添加するのがよ
い。
【0025】また、本発明において微粒子をトナーに外
添処理するには、シリカ微粒子が固定処理されたトナー
粒子と上記外添用の微粒子とを混合して処理すればよ
く、具体的な装置としては、ヘンシェルミキサー、ホモ
ジナイザー、Hi−X(日鉄工業社製)等を例示でき
る。なお、処理の簡略化、コストダウン等の観点から固
定化処理および外添処理に使用する装置として同じ装置
を使用し、回転数等の処理条件の制御によって固定化処
理および外添処理を行うことが望ましい。
添処理するには、シリカ微粒子が固定処理されたトナー
粒子と上記外添用の微粒子とを混合して処理すればよ
く、具体的な装置としては、ヘンシェルミキサー、ホモ
ジナイザー、Hi−X(日鉄工業社製)等を例示でき
る。なお、処理の簡略化、コストダウン等の観点から固
定化処理および外添処理に使用する装置として同じ装置
を使用し、回転数等の処理条件の制御によって固定化処
理および外添処理を行うことが望ましい。
【0026】前述の通り微粒子を外添処理しないと、像
担持体の表面層上に蓄積した帯電生成物の掻き取り除去
効果を奏することができない。また、微粒子を外添処理
しないとトナーの流動性が著しく低下するため、現像部
への安定なトナー供給ができなくなるという不都合も生
じる。
担持体の表面層上に蓄積した帯電生成物の掻き取り除去
効果を奏することができない。また、微粒子を外添処理
しないとトナーの流動性が著しく低下するため、現像部
への安定なトナー供給ができなくなるという不都合も生
じる。
【0027】また、本発明においては、炭素系高硬度被
覆層を有する像担持体を使用する。
覆層を有する像担持体を使用する。
【0028】本発明において炭素系高硬度被覆層とは、
ビッカース硬度が50以上で、かつ全原子数のうち炭素
原子数の占める割合が30%以上である像担持体の最表
面層で定義される。さらに、炭素系高硬度被覆層として
はビッカース硬度が300以上のものが耐久性の観点か
ら好ましい。具体的には、非晶質炭化水素膜、非晶質シ
リコンカ−バイト膜、あるいはポリエステル、ポリウレ
タン、ポリアミド等の樹脂単体またはこれらの樹脂成分
を含む共重合体からなる樹脂膜等が例示される。
ビッカース硬度が50以上で、かつ全原子数のうち炭素
原子数の占める割合が30%以上である像担持体の最表
面層で定義される。さらに、炭素系高硬度被覆層として
はビッカース硬度が300以上のものが耐久性の観点か
ら好ましい。具体的には、非晶質炭化水素膜、非晶質シ
リコンカ−バイト膜、あるいはポリエステル、ポリウレ
タン、ポリアミド等の樹脂単体またはこれらの樹脂成分
を含む共重合体からなる樹脂膜等が例示される。
【0029】これらの中でも非晶質炭化水素膜が耐久性
の観点および低コストで高性能である有機感光層への成
膜性の観点から好ましい。
の観点および低コストで高性能である有機感光層への成
膜性の観点から好ましい。
【0030】そして、炭素系高硬度被覆層を得る具体的
な製造方法としては、プラズマCVD法、スパッタリン
グ法、真空蒸着法等のドライプロセス、浸漬塗布法、デ
ィッピング法、スプレー法等のウェットプロセス等が例
示できる。
な製造方法としては、プラズマCVD法、スパッタリン
グ法、真空蒸着法等のドライプロセス、浸漬塗布法、デ
ィッピング法、スプレー法等のウェットプロセス等が例
示できる。
【0031】本発明において炭素系高硬度被覆層を表面
層として有する像担持体とは、上記した炭素系高硬度被
覆層を最表面として有する電子写真用感光体、あるいは
イオンフロー方式等、直接に像担持体上に静電潜像が形
成される方式に用いられる誘電体の最表面層に上記した
炭素系高硬度被覆層を有するもの等が例示できる。
層として有する像担持体とは、上記した炭素系高硬度被
覆層を最表面として有する電子写真用感光体、あるいは
イオンフロー方式等、直接に像担持体上に静電潜像が形
成される方式に用いられる誘電体の最表面層に上記した
炭素系高硬度被覆層を有するもの等が例示できる。
【0032】具体的な炭素系高硬度被覆層を表面層とし
て有する像担持体としては、非晶質炭化ケイ素の表面層
と非晶質ケイ素からなる感光層を含む感光体や、非晶質
炭化水素膜の表面層と有機感光層からなる感光層を含む
感光体等を例示できる。尚、これらの感光体は耐刷とと
もに画像流れやトナ−融着がひどくなる傾向を示すが、
本発明の画像形成方法を実施することにより画像流れお
よびトナ−融着を防止することができる。
て有する像担持体としては、非晶質炭化ケイ素の表面層
と非晶質ケイ素からなる感光層を含む感光体や、非晶質
炭化水素膜の表面層と有機感光層からなる感光層を含む
感光体等を例示できる。尚、これらの感光体は耐刷とと
もに画像流れやトナ−融着がひどくなる傾向を示すが、
本発明の画像形成方法を実施することにより画像流れお
よびトナ−融着を防止することができる。
【0033】なお、本発明に適用可能なトナーは、上述
したように表面にシリカ微粒子を固定化処理した後、後
処理微粒子を外添処理して得られたトナーであればよ
く、トナーのその他の成分としては公知のものが使用可
能である。
したように表面にシリカ微粒子を固定化処理した後、後
処理微粒子を外添処理して得られたトナーであればよ
く、トナーのその他の成分としては公知のものが使用可
能である。
【0034】バインダー樹脂としては、スチレン系樹
脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、スチレン−ア
クリル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、オレフィ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレ
タン系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂等の熱可
塑性樹脂あるいは熱硬化性樹脂、さらにはこれらの共重
合体、ブロック重合体、グラフト重合体、及びポリマー
ブレンド等を用いることができる。
脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、スチレン−ア
クリル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、オレフィ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレ
タン系樹脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂等の熱可
塑性樹脂あるいは熱硬化性樹脂、さらにはこれらの共重
合体、ブロック重合体、グラフト重合体、及びポリマー
ブレンド等を用いることができる。
【0035】そして、このような樹脂においては、その
数平均分子量Mn、分子量分布(Mw/Mn:重量平均
分子量Mw)が、1000≦Mn≦20000、2≦M
w/Mn≦80であり、さらに数平均分子量について
は、2000≦Mn≦15000であるものを使用する
ことが望ましい。また、樹脂のガラス転移点が55℃〜
90℃、軟化点が80℃〜140℃のものを用いること
が望ましい。
数平均分子量Mn、分子量分布(Mw/Mn:重量平均
分子量Mw)が、1000≦Mn≦20000、2≦M
w/Mn≦80であり、さらに数平均分子量について
は、2000≦Mn≦15000であるものを使用する
ことが望ましい。また、樹脂のガラス転移点が55℃〜
90℃、軟化点が80℃〜140℃のものを用いること
が望ましい。
【0036】着色剤としては、黒色顔料は、カーボンブ
ラック、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、
活性炭、フェライト、マグネタイトなどを使用すること
ができる。
ラック、酸化銅、二酸化マンガン、アニリンブラック、
活性炭、フェライト、マグネタイトなどを使用すること
ができる。
【0037】また、黄色顔料としては、黄鉛、亜鉛黄、
カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、ミネラルファストイ
エロー、ニッケルチタンイエロー、ネーブルスイエロ
ー、ナフトールイエローS、バンザーイエローG、バン
ザーイエロー10G、ベンジジンイエローG、ベンジジ
ンイエローGR、キノリンイエローレーキ、パーマネン
トイエローNCG、タートラジンレーキなどを使用する
ことができる。
カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、ミネラルファストイ
エロー、ニッケルチタンイエロー、ネーブルスイエロ
ー、ナフトールイエローS、バンザーイエローG、バン
ザーイエロー10G、ベンジジンイエローG、ベンジジ
ンイエローGR、キノリンイエローレーキ、パーマネン
トイエローNCG、タートラジンレーキなどを使用する
ことができる。
【0038】また、赤色顔料としては、赤色黄鉛、モリ
ブデンオレンジ、パーマネントオレンジGTR、ピラゾ
ロンオレンジ、バルカンオレンジ、インダスレンブリリ
アントオレンジGK、ベンガラ、カドミウムレッド、鉛
丹、パーマネントレッド4R、リソールレッド、ピラゾ
ロンレッド、ウォッチングレッド、レーキレッドC、レ
ーキレッドD、ブリリアントカーミン6B、エオシンレ
ーキ、ローダミンレーキB、アリザリンレーキ、ブリリ
アントカーミン3B、パーマネントオレンジGTR、バ
ルカンファストオレンジGG、パーマネントレッドF4
RH、パーマネントカーミンFBなどを使用することが
できる。
ブデンオレンジ、パーマネントオレンジGTR、ピラゾ
ロンオレンジ、バルカンオレンジ、インダスレンブリリ
アントオレンジGK、ベンガラ、カドミウムレッド、鉛
丹、パーマネントレッド4R、リソールレッド、ピラゾ
ロンレッド、ウォッチングレッド、レーキレッドC、レ
ーキレッドD、ブリリアントカーミン6B、エオシンレ
ーキ、ローダミンレーキB、アリザリンレーキ、ブリリ
アントカーミン3B、パーマネントオレンジGTR、バ
ルカンファストオレンジGG、パーマネントレッドF4
RH、パーマネントカーミンFBなどを使用することが
できる。
【0039】また、青色顔料としては、紺青、コバルト
ブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレー
キ、フタロシアニンブルーなどを使用することができ
る。
ブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレー
キ、フタロシアニンブルーなどを使用することができ
る。
【0040】なお、これらの着色剤の量は、トナー中に
おける樹脂100重量部に対して、1〜20重量部、好
ましくは、3〜15重量部になるようにする。
おける樹脂100重量部に対して、1〜20重量部、好
ましくは、3〜15重量部になるようにする。
【0041】オフセット防止剤としては、低分子量ポリ
エチレンワックス、低分子量酸化型ポリエチレンワック
ス、低分子量ポリプロピレンワックス、低分子量酸化型
ポリプロピレンワックス、高級脂肪酸ワックス、高級脂
肪酸エステルワックス、サゾールワックス等を単独また
は二種類以上混合して使用することができる。
エチレンワックス、低分子量酸化型ポリエチレンワック
ス、低分子量ポリプロピレンワックス、低分子量酸化型
ポリプロピレンワックス、高級脂肪酸ワックス、高級脂
肪酸エステルワックス、サゾールワックス等を単独また
は二種類以上混合して使用することができる。
【0042】オフセット防止剤の使用量はトナー中の樹
脂100重量部に対して、1〜15重量部、好ましく
は、2〜8重量部になるようにする。
脂100重量部に対して、1〜15重量部、好ましく
は、2〜8重量部になるようにする。
【0043】磁性体微粒子としては、コバルト、鉄、ニ
ッケル等の強磁性体を示す金属、アルミニウム、コバル
ト、鉄、鉛、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、アンチモ
ン、ベリリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、
マンガン、セレン、チタン、タングステン、バナジウム
等の金属の合金及びこれらの混合物並びに酸化物、焼成
体(フェライト)等の公知の磁性体の微粒子を使用する
ことができる。
ッケル等の強磁性体を示す金属、アルミニウム、コバル
ト、鉄、鉛、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、アンチモ
ン、ベリリウム、ビスマス、カドミウム、カルシウム、
マンガン、セレン、チタン、タングステン、バナジウム
等の金属の合金及びこれらの混合物並びに酸化物、焼成
体(フェライト)等の公知の磁性体の微粒子を使用する
ことができる。
【0044】磁性体微粒子の量はトナー中の樹脂100
重量部に対して1〜80重量部、好ましくは5〜60重
量部用いるようにすればよい。
重量部に対して1〜80重量部、好ましくは5〜60重
量部用いるようにすればよい。
【0045】荷電制御剤としては、正荷電制御剤とし
て、ニグロシン・ベースEX、第四級アンモニウム塩、
ポリアミン化合物、イミダゾール化合物等を使用するこ
とができる。
て、ニグロシン・ベースEX、第四級アンモニウム塩、
ポリアミン化合物、イミダゾール化合物等を使用するこ
とができる。
【0046】一方、負荷電制御剤としては、クロム錯塩
型アゾ染料、銅フタロシアニン系染料、クロム錯塩、亜
鉛錯塩、アルミニウム錯塩、カリックスアレン化合物等
を使用することができる。
型アゾ染料、銅フタロシアニン系染料、クロム錯塩、亜
鉛錯塩、アルミニウム錯塩、カリックスアレン化合物等
を使用することができる。
【0047】なお、これらの荷電制御剤の量はトナー中
における樹脂100重量部に対して、0.1〜10重量
部、好ましくは0.5〜5重量部になるようにする。
における樹脂100重量部に対して、0.1〜10重量
部、好ましくは0.5〜5重量部になるようにする。
【0048】また、トナ−の体積平均粒径は5〜20μ
m程度がよい。何故なら、小さすぎるとクリーニング不
良が生じるようになり、大きすぎると得られるコピー画
像の解像力低下、トナー飛散の増大を引き起こす。ま
た、高精細画像を再現する場合は、体積平均粒径5〜1
0μmのトナーを使用することが望ましい。
m程度がよい。何故なら、小さすぎるとクリーニング不
良が生じるようになり、大きすぎると得られるコピー画
像の解像力低下、トナー飛散の増大を引き起こす。ま
た、高精細画像を再現する場合は、体積平均粒径5〜1
0μmのトナーを使用することが望ましい。
【0049】上記トナーは、一成分現像剤として、ある
いは二成分現像剤として使用することができる。
いは二成分現像剤として使用することができる。
【0050】二成分現像剤として使用する場合は、上述
したトナーと公知のキャリアとを混合して使用すればよ
い。
したトナーと公知のキャリアとを混合して使用すればよ
い。
【0051】次に、具体的な実験例によって本発明をよ
り詳しく説明する。
り詳しく説明する。
【0052】(正帯電性感光体1の製造)特開昭61−
25154で既に公知のグロー放電分解装置を用いて導
電性基体上にa−Si光導電層とa−SiC表面保護層
とを順次積層した感光体を下記の製造条件で形成した。
25154で既に公知のグロー放電分解装置を用いて導
電性基体上にa−Si光導電層とa−SiC表面保護層
とを順次積層した感光体を下記の製造条件で形成した。
【0053】a−Si光導電層形成条件:
・原料ガス(ガス流量):H2(486.5scc
m)、SiH4(90sccm)、B2H6(22.5s
ccm)、O2(1sccm) ・圧力 :1.0Torr ・周波数 :13.56MHz ・電力 :250W ・基板温度 :240℃ ・放電時間 :6時間 a−SiC表面保護層(炭素系高硬度被覆層)形成条
件: ・原料ガス(ガス流量):H2(486.5scc
m)、SiH4(90sccm)、B2H6(90scc
m)、C2H4(270sccm) ・圧力 :1.0Torr ・周波数 :13.56MHz ・電力 :250W ・基板温度 :240℃ ・放電時間 :2分 上記感光体において、膜厚はa−Si光導電層が約20
μm、a−SiC表面保護層が約0.1μmであり、表
面保護層のビッカース硬度は3000であった。また、
a−SiC表面保護層の炭素含有量は約75atomi
c%であった。
m)、SiH4(90sccm)、B2H6(22.5s
ccm)、O2(1sccm) ・圧力 :1.0Torr ・周波数 :13.56MHz ・電力 :250W ・基板温度 :240℃ ・放電時間 :6時間 a−SiC表面保護層(炭素系高硬度被覆層)形成条
件: ・原料ガス(ガス流量):H2(486.5scc
m)、SiH4(90sccm)、B2H6(90scc
m)、C2H4(270sccm) ・圧力 :1.0Torr ・周波数 :13.56MHz ・電力 :250W ・基板温度 :240℃ ・放電時間 :2分 上記感光体において、膜厚はa−Si光導電層が約20
μm、a−SiC表面保護層が約0.1μmであり、表
面保護層のビッカース硬度は3000であった。また、
a−SiC表面保護層の炭素含有量は約75atomi
c%であった。
【0054】(負帯電性感光体2の製造)導電性基体上
に有機電荷発生層、有機電荷輸送層、不定形炭素膜から
成る表面保護層を順次積層した感光体を作製した。
に有機電荷発生層、有機電荷輸送層、不定形炭素膜から
成る表面保護層を順次積層した感光体を作製した。
【0055】有機電荷発生層、有機電荷輸送層は以下に
示す条件の塗液を導電性基体上に順次ディッピング法で
塗布することにより得た。
示す条件の塗液を導電性基体上に順次ディッピング法で
塗布することにより得た。
【0056】有機電荷発生層(有機感光層)
・下記構造式で示されるアゾ化合物0.45重量部
【0057】
【化1】
【0058】・ポリエステル樹脂(バイロン200:東
洋紡績社製)0.45重量部 ・シクロヘキサノン50重量部 有機電荷輸送層(有機感光層) ・下記構造式で示されるスチリル化合物10重量部
洋紡績社製)0.45重量部 ・シクロヘキサノン50重量部 有機電荷輸送層(有機感光層) ・下記構造式で示されるスチリル化合物10重量部
【0059】
【化2】
【0060】・ポリカーボネイト樹脂(パンライトK−
1300:帝人化成社製)7重量部・1,4−ジオキサ
ン40重量部 なお、膜厚は有機電荷発生層が約0.3μm、有機電荷
輸送層が約20μmであった。
1300:帝人化成社製)7重量部・1,4−ジオキサ
ン40重量部 なお、膜厚は有機電荷発生層が約0.3μm、有機電荷
輸送層が約20μmであった。
【0061】不定形炭素膜表面保護層は特開昭63−9
7962で既に公知のグロー放電分解装置を用いて有機
電荷輸送層上に、下記の製造条件で作成した。
7962で既に公知のグロー放電分解装置を用いて有機
電荷輸送層上に、下記の製造条件で作成した。
【0062】不定形炭素膜(炭素系高硬度被覆層)
・原料ガス(ガス流量):H2(300sccm)、ブ
タジエン(15sccm) ・圧力 :1.0Torr ・周波数 :100KHz ・電力 :150W ・基板温度 :50℃ ・放電時間 :3分 上記不定形炭素膜の膜厚は0.11μm、ビッカース硬
度は1000であった。また不定形炭素膜中の炭素含有
量は約48atomic%であった。
タジエン(15sccm) ・圧力 :1.0Torr ・周波数 :100KHz ・電力 :150W ・基板温度 :50℃ ・放電時間 :3分 上記不定形炭素膜の膜厚は0.11μm、ビッカース硬
度は1000であった。また不定形炭素膜中の炭素含有
量は約48atomic%であった。
【0063】(キヤリアの製造)以下に示す材料を十分
混合した後、二軸押出混練機にて溶融混合後冷却した。
混合した後、二軸押出混練機にて溶融混合後冷却した。
【0064】
・ポリエステル樹脂 100重量部
(Mn:5000、Mw:115000、Tg:67℃、Tm:123℃)
・フェライト微粒子 500重量部
(MFP−2:TDK株式会社製)
・シリカ微粒子 3重量部
(アエロジル#200:日本アエロジル社製)
冷却物を粗粉砕した後、ジェットミルで微粉砕し、さら
に風力分級機を用いて分級した。得られたキヤリアの体
積平均粒径は60μm、電気抵抗値は5.8×1013Ω
cmであった。
に風力分級機を用いて分級した。得られたキヤリアの体
積平均粒径は60μm、電気抵抗値は5.8×1013Ω
cmであった。
【0065】(正帯電性トナーの製造)以下に示す材料
を十分混合した後、二軸押出混練機にて溶融混合後冷却
した。
を十分混合した後、二軸押出混練機にて溶融混合後冷却
した。
【0066】
・スチレンアクリル共重合体樹脂 100重量部
(Mn:5400、Mw:156000、Tg:60℃、Tm:120℃)
・着色剤:カーボンブラック 10重量部
(Raven1250:コロンビアカーボン株式会社製)
・オフセット防止剤:ワックス 3重量部
(ビスコール550P:三洋化成工業社製)
・帯電制御剤:第4級アンモニウム塩 3重量部
(P−51:オリエント化学工業社製)
冷却物を粗粉砕した後、ジェットミルで微粉砕し、さら
に風力分級機を用いて分級し、体積平均粒径9.5μ
m、電気抵抗値5×1015Ω・cmのトナ−粒子Aを得
た。
に風力分級機を用いて分級し、体積平均粒径9.5μ
m、電気抵抗値5×1015Ω・cmのトナ−粒子Aを得
た。
【0067】(負帯電性トナーの製造)以下に示す材料
を十分混合した後、二軸押出混練機にて溶融混合後冷却
した。
を十分混合した後、二軸押出混練機にて溶融混合後冷却
した。
【0068】
・スチレンアクリル共重合体樹脂 100重量部
(Mn:5400、Mw:156000、Tg:60℃、Tm:120℃)
・着色剤:カーボンブラック 10重量部
(Raven1250:コロンビアカーボン株式会社製)
・オフセット防止剤:ワックス 3重量部
(ビスコール550P:三洋化成工業社製)
・帯電制御剤:クロム錯塩型アゾ染料 3重量部
(S−34:オリエント化学工業社製)
冷却物を粗粉砕した後、ジェットミルで微粉砕し、さら
に風力分級機を用いて分級し、体積平均粒径11.0μ
m、電気抵抗値7×1015Ω・cmのトナ−粒子Bを得
た。
に風力分級機を用いて分級し、体積平均粒径11.0μ
m、電気抵抗値7×1015Ω・cmのトナ−粒子Bを得
た。
【0069】(実施例1)上記トナ−粒子B100重量
部に対して、疎水性シリカ微粒子(一次粒子の体積平均
粒径0.016μm:R972:日本アエロジル社製)
0.5重量部をヘンシェルミキサ−(三井三池化工社
製)にて3000rpmで5分間処理してトナー粒子表
面に固定化処理した。さらに、この疎水性シリカ微粒子
が固定処理されたトナ−に疎水性シリカ微粒子(体積平
均粒径0.016μm:R972:日本アエロジル社
製)0.1重量部を添加し、1000rpmで1.5分
間処理して、シリカが外添処理されたトナーを得た。得
られたトナーの体積平均粒径は11.1μm、電気抵抗
値は6×1015Ω・cmであった。
部に対して、疎水性シリカ微粒子(一次粒子の体積平均
粒径0.016μm:R972:日本アエロジル社製)
0.5重量部をヘンシェルミキサ−(三井三池化工社
製)にて3000rpmで5分間処理してトナー粒子表
面に固定化処理した。さらに、この疎水性シリカ微粒子
が固定処理されたトナ−に疎水性シリカ微粒子(体積平
均粒径0.016μm:R972:日本アエロジル社
製)0.1重量部を添加し、1000rpmで1.5分
間処理して、シリカが外添処理されたトナーを得た。得
られたトナーの体積平均粒径は11.1μm、電気抵抗
値は6×1015Ω・cmであった。
【0070】(実施例2)上記トナ−粒子A100重量
部に対して、シリカ微粒子(一次粒子の体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)0.7
重量部をヘンシェルミキサ−(三井三池化工社製)にて
3500rpmで3分間処理してトナー粒子表面に固定
化処理した。さらに、アルミナ微粒子(体積平均粒径
0.02μm:C604:日本アエロジル社製)0.1
重量部を添加し、1000rpmで1.5分間処理し
て、アルミナが外添処理されたトナーを得た。得られた
トナーの体積平均粒径は9.7μm、電気抵抗値は5×
1015Ω・cmであった。
部に対して、シリカ微粒子(一次粒子の体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)0.7
重量部をヘンシェルミキサ−(三井三池化工社製)にて
3500rpmで3分間処理してトナー粒子表面に固定
化処理した。さらに、アルミナ微粒子(体積平均粒径
0.02μm:C604:日本アエロジル社製)0.1
重量部を添加し、1000rpmで1.5分間処理し
て、アルミナが外添処理されたトナーを得た。得られた
トナーの体積平均粒径は9.7μm、電気抵抗値は5×
1015Ω・cmであった。
【0071】(実施例3)上記トナ−粒子B100重量
部に対して、疎水性シリカ微粒子(体積平均粒径0.0
16μm:R972:日本アエロジル社製)0.7重量
部を使用し、外添微粒子としてアルミナ微粒子(体積平
均粒径0.02μm:C604:日本アエロジル社製)
0.1重量部を使用する以外は実施例1と同様にしてト
ナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は11.2
μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであった。
部に対して、疎水性シリカ微粒子(体積平均粒径0.0
16μm:R972:日本アエロジル社製)0.7重量
部を使用し、外添微粒子としてアルミナ微粒子(体積平
均粒径0.02μm:C604:日本アエロジル社製)
0.1重量部を使用する以外は実施例1と同様にしてト
ナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は11.2
μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであった。
【0072】(実施例4)上記トナ−粒子A100重量
部に対して、シリカ微粒子(一次粒子の体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)0.7
重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子
(体積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロ
ジル社製)0.1重量部を使用する以外は実施例2と同
様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径
は9.6μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであっ
た。
部に対して、シリカ微粒子(一次粒子の体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)0.7
重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子
(体積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロ
ジル社製)0.1重量部を使用する以外は実施例2と同
様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径
は9.6μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであっ
た。
【0073】(実施例5)上記トナ−粒子B100重量
部に対して、シリカ微粒子(一次粒子の体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)1.0
重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子
(体積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロ
ジル社製)0.1重量部を使用する以外は実施例1と同
様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径
は11.2μm、電気抵抗値は4×1015Ω・cmであ
った。
部に対して、シリカ微粒子(一次粒子の体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)1.0
重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子
(体積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロ
ジル社製)0.1重量部を使用する以外は実施例1と同
様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径
は11.2μm、電気抵抗値は4×1015Ω・cmであ
った。
【0074】(実施例6)上記トナ−粒子A100重量
部に対して、疎水性シリカ微粒子(体積平均粒径0.0
16μm:R972:日本アエロジル社製)1.0重量
部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子(体
積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロジル
社製)0.3重量部を使用する以外は実施例2と同様に
してトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は
9.6μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであっ
た。
部に対して、疎水性シリカ微粒子(体積平均粒径0.0
16μm:R972:日本アエロジル社製)1.0重量
部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子(体
積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロジル
社製)0.3重量部を使用する以外は実施例2と同様に
してトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は
9.6μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであっ
た。
【0075】(実施例7)上記トナ−粒子B100重量
部に対して、疎水性シリカ微粒子(一次粒子の体積平均
粒径0.014μm:R202:日本アエロジル社製)
1.5重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ
微粒子(体積平均粒径0.016μm:R972:日本
アエロジル社製)0.3重量部を使用する以外は実施例
1と同様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平
均粒径は11.3μm、電気抵抗値は5×1015Ω・c
mであった。
部に対して、疎水性シリカ微粒子(一次粒子の体積平均
粒径0.014μm:R202:日本アエロジル社製)
1.5重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ
微粒子(体積平均粒径0.016μm:R972:日本
アエロジル社製)0.3重量部を使用する以外は実施例
1と同様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平
均粒径は11.3μm、電気抵抗値は5×1015Ω・c
mであった。
【0076】(実施例8)上記トナ−粒子A100重量
部に対して、疎水性シリカ微粒子(一次粒子の体積平均
粒径0.01μm:R805:日本アエロジル社製)
1.5重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ
微粒子(体積平均粒径0.016μm:R972:日本
アエロジル社製)0.1重量部を使用する以外は実施例
2と同様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平
均粒径は9.7μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cm
であった。
部に対して、疎水性シリカ微粒子(一次粒子の体積平均
粒径0.01μm:R805:日本アエロジル社製)
1.5重量部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ
微粒子(体積平均粒径0.016μm:R972:日本
アエロジル社製)0.1重量部を使用する以外は実施例
2と同様にしてトナーを得た。得られたトナーの体積平
均粒径は9.7μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cm
であった。
【0077】(実施例9)上記トナ−粒子A100重量
部に対して、疎水性シリカ微粒子(体積平均粒径0.0
16μm:R972:日本アエロジル社製)2.0重量
部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子(体
積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロジル
社製)0.3重量部を使用する以外は実施例2と同様に
してトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は
9.7μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであっ
た。
部に対して、疎水性シリカ微粒子(体積平均粒径0.0
16μm:R972:日本アエロジル社製)2.0重量
部を使用し、外添微粒子として疎水性シリカ微粒子(体
積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロジル
社製)0.3重量部を使用する以外は実施例2と同様に
してトナーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は
9.7μm、電気抵抗値は6×1015Ω・cmであっ
た。
【0078】(比較例1)シリカ微粒子をトナー粒子表
面に固定化処理しない以外は実施例2と同様にしてトナ
ーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は9.8μ
m、電気抵抗値は7×1015Ω・cmであった。
面に固定化処理しない以外は実施例2と同様にしてトナ
ーを得た。得られたトナーの体積平均粒径は9.8μ
m、電気抵抗値は7×1015Ω・cmであった。
【0079】(比較例2)外添するシリカ微粒子の量を
0.3重量部にする以外は比較例1と同様にしてトナー
を得た。得られたトナーの体積平均粒径は9.7μm、
電気抵抗値は5×1015Ω・cmであった (比較例3)外添する微粒子を、疎水性シリカ微粒子
(体積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロ
ジル社製)0.3重量部とシリカ微粒子(体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)1.0
重量部にする以外は比較例1と同様にしてトナーを得
た。得られたトナーの体積平均粒径は9.8μm、電気
抵抗値は7×1015Ω・cmであった。
0.3重量部にする以外は比較例1と同様にしてトナー
を得た。得られたトナーの体積平均粒径は9.7μm、
電気抵抗値は5×1015Ω・cmであった (比較例3)外添する微粒子を、疎水性シリカ微粒子
(体積平均粒径0.016μm:R972:日本アエロ
ジル社製)0.3重量部とシリカ微粒子(体積平均粒径
0.04μm:OX50:日本アエロジル社製)1.0
重量部にする以外は比較例1と同様にしてトナーを得
た。得られたトナーの体積平均粒径は9.8μm、電気
抵抗値は7×1015Ω・cmであった。
【0080】(比較例4)外添微粒子の処理を行わない
以外は実施例2と同様にしてトナーを得た。得られたト
ナーの体積平均粒径は9.7μm、電気抵抗値は7×1
015Ω・cmであった。
以外は実施例2と同様にしてトナーを得た。得られたト
ナーの体積平均粒径は9.7μm、電気抵抗値は7×1
015Ω・cmであった。
【0081】(評価)前記各トナ−と前記キャリアとを
混合比5:95で混合した現像剤を、前記感光体1およ
び2を使用できるように改造を施した複写機EP860
0(ミノルタカメラ株式会社製)の現像器に収納して約
60万枚の複写耐刷試験を行った。具体的には、室温で
20万枚毎のテストチャートを複写後、温度30℃、湿
度85%の環境の下で1万枚の耐刷を行った後、得られ
た複写画像の画像流れについて評価を行った。画像流れ
についての評価基準は以下のとおりである。
混合比5:95で混合した現像剤を、前記感光体1およ
び2を使用できるように改造を施した複写機EP860
0(ミノルタカメラ株式会社製)の現像器に収納して約
60万枚の複写耐刷試験を行った。具体的には、室温で
20万枚毎のテストチャートを複写後、温度30℃、湿
度85%の環境の下で1万枚の耐刷を行った後、得られ
た複写画像の画像流れについて評価を行った。画像流れ
についての評価基準は以下のとおりである。
【0082】○ :画像流れが認められない。
【0083】△ :文字端部に若干のにじみが認められ
る。
る。
【0084】× :文字全体が流れる。
【0085】××:文字が判別できない。
【0086】△以上の評価であれば、実用上は問題がな
い。なお、評価結果は表1に示した通りである。
い。なお、評価結果は表1に示した通りである。
【0087】次にトナ−融着性を以下に説明する加速試
験により評価した。
験により評価した。
【0088】感光体1を使用し、負帯電性トナ−Aと前
記キャリアとを混合比5:95で混合した現像剤を使用
し、感光体を帯電させずに現像バイアス+400Vを印
加した条件で2時間上記EP8600改造機を通紙せず
に作動させた。この条件ではトナ−を現像器側に引き寄
せる方向に現像バイアスを設定しているため、感光体に
トナ−の現像は行われず、逆に正に帯電したキャリアが
感光体表面に付着する。付着したキャリアはクリ−ナ−
ブレ−ド、現像器等の機械的ストレスを受けて感光体表
面に埋め込まれる。次に、感光体2に対して、正帯電性
トナ−Bを用い、現像バイアス−400Vを印加する以
外は同様にしてキャリア付着の生じた感光体2を得た。
記キャリアとを混合比5:95で混合した現像剤を使用
し、感光体を帯電させずに現像バイアス+400Vを印
加した条件で2時間上記EP8600改造機を通紙せず
に作動させた。この条件ではトナ−を現像器側に引き寄
せる方向に現像バイアスを設定しているため、感光体に
トナ−の現像は行われず、逆に正に帯電したキャリアが
感光体表面に付着する。付着したキャリアはクリ−ナ−
ブレ−ド、現像器等の機械的ストレスを受けて感光体表
面に埋め込まれる。次に、感光体2に対して、正帯電性
トナ−Bを用い、現像バイアス−400Vを印加する以
外は同様にしてキャリア付着の生じた感光体2を得た。
【0089】このようにキャリア付着の生じた感光体を
使用し、前記各トナ−と前記キャリアとを混合比5:9
5で混合した現像剤を、トナ−の帯電極性と同極性の現
像バイアスを150V印加した条件で40時間上記EP
8600改造機を通紙せずに作動させた。この条件では
トナ−は現像バイアスにより感光体上に現像される。
使用し、前記各トナ−と前記キャリアとを混合比5:9
5で混合した現像剤を、トナ−の帯電極性と同極性の現
像バイアスを150V印加した条件で40時間上記EP
8600改造機を通紙せずに作動させた。この条件では
トナ−は現像バイアスにより感光体上に現像される。
【0090】10時間毎に感光体表面の目視観察および
画像評価を行いトナ−融着発生の有無を評価した。実験
結果を表1に示す。表中、○はトナ−融着が認められな
かったことを、×はトナ−融着が生じていたことを示
す。
画像評価を行いトナ−融着発生の有無を評価した。実験
結果を表1に示す。表中、○はトナ−融着が認められな
かったことを、×はトナ−融着が生じていたことを示
す。
【0091】
【表1】
【0092】比較例1および2のトナ−は、耐刷試験に
おいて40万枚で画像流れが非常にひどくなったので耐
刷を終了した。また、トナ−帯電量も40万枚で低下し
てきた。
おいて40万枚で画像流れが非常にひどくなったので耐
刷を終了した。また、トナ−帯電量も40万枚で低下し
てきた。
【0093】
【発明の効果】上記説明したように、本発明によれば炭
素系高硬度被覆層を表面層として有する像担持体を用い
て繰り返し耐刷して画像形成を行う場合でも、耐刷後も
画像流れやトナ−融着が生じない優れた画像を得ること
ができる。
素系高硬度被覆層を表面層として有する像担持体を用い
て繰り返し耐刷して画像形成を行う場合でも、耐刷後も
画像流れやトナ−融着が生じない優れた画像を得ること
ができる。
【図1】 本発明の画像形成方法を実施する画像形成装
置の概略構成図である。
置の概略構成図である。
1:感光体ドラム、2:コロナ帯電器、3:露光光、
4:現像装置、5:転写紙、6:転写チャージャー、
7:分離チャージャー、8:クリーニング装置、9:メ
インイレーサー、10:定着装置
4:現像装置、5:転写紙、6:転写チャージャー、
7:分離チャージャー、8:クリーニング装置、9:メ
インイレーサー、10:定着装置
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
G03G 5/00 - 5/147
G03G 9/08 - 9/113
G03G 13/08 - 13/095
G03G 15/08 - 15/095
Claims (3)
- 【請求項1】 トナー粒子表面にシリカ微粒子を固定化
処理した後、後処理微粒子を外添処理して得られたトナ
ーによって、炭素系高硬度被覆層を表面層として有する
像担持体上に形成された静電潜像を現像する画像形成方
法。 - 【請求項2】 前記シリカ微粒子の添加量がトナー粒子
に対して0.5〜3重量%であり、前記後処理微粒子の
添加量がトナー粒子に対して0.05〜5重量%である
請求項1記載の画像形成方法。 - 【請求項3】 前記シリカ微粒子の一次粒子の平均粒径
が0.01〜2μmである請求項1または請求項2記載
の画像形成方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32255993A JP3365015B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 画像形成方法 |
US08/294,836 US5504559A (en) | 1993-08-30 | 1994-08-29 | Method for image formation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32255993A JP3365015B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07175274A JPH07175274A (ja) | 1995-07-14 |
JP3365015B2 true JP3365015B2 (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=18145034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32255993A Expired - Fee Related JP3365015B2 (ja) | 1993-08-30 | 1993-12-21 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3365015B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017062369A (ja) * | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
-
1993
- 1993-12-21 JP JP32255993A patent/JP3365015B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07175274A (ja) | 1995-07-14 |
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