JP3361498B2 - 有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
有機ケイ素化合物の製造方法Info
- Publication number
- JP3361498B2 JP3361498B2 JP2000015275A JP2000015275A JP3361498B2 JP 3361498 B2 JP3361498 B2 JP 3361498B2 JP 2000015275 A JP2000015275 A JP 2000015275A JP 2000015275 A JP2000015275 A JP 2000015275A JP 3361498 B2 JP3361498 B2 JP 3361498B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- mmol
- reaction
- trichlorosilane
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 61
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 53
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 20
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 58
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 34
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 33
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 29
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 29
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 26
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 10
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohexane Chemical compound CCCCCCCl MLRVZFYXUZQSRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 8
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropane Chemical compound ClCCCCl YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KJDRSWPQXHESDQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobutane Chemical compound ClCCCCCl KJDRSWPQXHESDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IZXWCDITFDNEBY-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(CCl)C=C1 IZXWCDITFDNEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MOHYOXXOKFQHDC-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(CCl)C=C1 MOHYOXXOKFQHDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C=C1 JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 4
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTKRILODNOEEPX-NSCUHMNNSA-N crotyl chloride Chemical compound C\C=C\CCl YTKRILODNOEEPX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 4
- MLDKTCCADNRZEK-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-trichlorosilylpropyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC[Si](Cl)(Cl)Cl MLDKTCCADNRZEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical group Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HLQZCRVEEQKNMS-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-phenylbenzene Chemical compound C1=CC(CCl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HLQZCRVEEQKNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZPIFKCVYZBVZIV-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-1,1,1-trifluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CCCl ZPIFKCVYZBVZIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- DTPLOCBWAFWYND-UHFFFAOYSA-N Cl.C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 DTPLOCBWAFWYND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N Trichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[Si](Cl)(Cl)Cl FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N benzyl(dichloro)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CC1=CC=CC=C1 XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 3
- OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCl OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N dichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](Cl)Cl NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N dichloro(prop-2-enyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)CC=C MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-(chloromethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCl JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1CCl FMGGHNGKHRCJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPWWMXONAIDFQW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCCl HPWWMXONAIDFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- QXDDDCNYAAJLBT-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCCCl QXDDDCNYAAJLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VURFVHCLMJOLKN-UHFFFAOYSA-N Diphosphine Natural products PP VURFVHCLMJOLKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFESCIUQSIBMSM-UHFFFAOYSA-N I-BCP Chemical compound ClCCCBr MFESCIUQSIBMSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NZWWDFFNRDNYFO-UHFFFAOYSA-N benzyl-dichloro-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 NZWWDFFNRDNYFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZJDOJJKRTWHPOY-UHFFFAOYSA-N but-2-enyl(trichloro)silane Chemical compound CC=CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZJDOJJKRTWHPOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(Cl)Cl KKRMHVJQWMXYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DLNFKXNUGNBIOM-UHFFFAOYSA-N methyl(silylmethyl)silane Chemical compound C[SiH2]C[SiH3] DLNFKXNUGNBIOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-trichlorosilylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMJWAVCCBPOYAP-UHFFFAOYSA-N trichloro(4-trichlorosilylbutyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl MMJWAVCCBPOYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilylmethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOTSLPSOZKUZIU-UHFFFAOYSA-N trichloro(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](Cl)(Cl)Cl JOTSLPSOZKUZIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQHJBQDGWRDUML-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-chlorophenyl)methyl]silane Chemical compound ClC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 CQHJBQDGWRDUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUDCZOITHPYDRZ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-fluorophenyl)methyl]silane Chemical compound FC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 RUDCZOITHPYDRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDVJPOXUZPVGOJ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-methoxyphenyl)methyl]silane Chemical compound COC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 CDVJPOXUZPVGOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUAVBESCPOPILP-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-phenylphenyl)methyl]silane Chemical compound C1=CC(C[Si](Cl)(Cl)Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 GUAVBESCPOPILP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFRSILUPXHDCGQ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[2-(chloromethyl)phenyl]methyl]silane Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1C[Si](Cl)(Cl)Cl MFRSILUPXHDCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOUJYSRCDNANNE-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[4-(chloromethyl)phenyl]methyl]silane Chemical compound ClCC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 QOUJYSRCDNANNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKILEHKJCUCORS-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[4-(trichlorosilylmethyl)phenyl]methyl]silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 JKILEHKJCUCORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJIIJSWYRBEOCZ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[chloro(dimethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl GJIIJSWYRBEOCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGCDBGRZEKYHNV-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(diphenylphosphino)methane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XGCDBGRZEKYHNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBBNTRDPSVZESY-UHFFFAOYSA-N 1,10-dichlorodecane Chemical compound ClCCCCCCCCCCCl RBBNTRDPSVZESY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFXQEHVMCRXUSD-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-Trichloropropane Chemical compound ClCC(Cl)CCl CFXQEHVMCRXUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEFLKXRACNJHOV-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromopropane Chemical compound BrCCCBr VEFLKXRACNJHOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVISMSJCKCDOPU-UHFFFAOYSA-N 1,6-dichlorohexane Chemical compound ClCCCCCCCl OVISMSJCKCDOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXYMNDFVLNUAIA-UHFFFAOYSA-N 1,8-dichlorooctane Chemical compound ClCCCCCCCCCl WXYMNDFVLNUAIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCLMJYZEOSDVCL-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=C(CCl)C=C1 DCLMJYZEOSDVCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMHZDOTYAVHSEH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(CCl)C=C1 DMHZDOTYAVHSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYCHYNDJQFNDIE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-11-fluoroundecane Chemical compound C(CCCCCF)CCCCCCl ZYCHYNDJQFNDIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEZJSKSPVQQGIS-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-fluoroethane Chemical compound FCCCl VEZJSKSPVQQGIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFDZQZAOZNELDX-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-fluoropropane Chemical compound FCCCCl PFDZQZAOZNELDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYKUJAHSVIVAQV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-fluorobutane Chemical compound FCCCCCl RYKUJAHSVIVAQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NASMVDMHYMZBIM-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-6-fluorohexane Chemical compound FCCCCCCCl NASMVDMHYMZBIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTEHOZMYMCEYRM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCl ZTEHOZMYMCEYRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 1-chlorododecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCl YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZIBPOIXTCIHBH-UHFFFAOYSA-N 1-chlorohex-1-ene Chemical compound CCCCC=CCl UZIBPOIXTCIHBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUQPJRPDRDVQMN-UHFFFAOYSA-N 1-chlorooctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCl VUQPJRPDRDVQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 1-chlorooctane Chemical compound CCCCCCCCCl CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRHNUZCXXOTJCA-UHFFFAOYSA-N 1-fluoropropane Chemical compound CCCF JRHNUZCXXOTJCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGJTWNOOWEMH-UHFFFAOYSA-N 1-fluoropropane Chemical group [CH2]CCF HNEGJTWNOOWEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WAXIFMGAKWIFDQ-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(CCl)C=C1 WAXIFMGAKWIFDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000004778 2,2-difluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])(F)F 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004777 2-fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 1
- IOJZXSJSULVCME-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-1,1-difluoropropane Chemical compound FC(F)CCCl IOJZXSJSULVCME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJJZJBUCDWKPLC-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyapigenin Chemical compound O1C2=CC(O)=CC(O)=C2C(=O)C(OC)=C1C1=CC=C(O)C=C1 VJJZJBUCDWKPLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000006181 4-methyl benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- JOYFJVNRFXOGFH-UHFFFAOYSA-N bis(trichlorosilyl)methyl-trichlorosilane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C([Si](Cl)(Cl)Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl JOYFJVNRFXOGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- MIHBEVRKYFBXIK-UHFFFAOYSA-N chloro-(2-chloroethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCl MIHBEVRKYFBXIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBZVJUSTKXSFCR-UHFFFAOYSA-N chloro-(dichlorosilylmethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C[SiH](Cl)Cl KBZVJUSTKXSFCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- LOFPLWQPZAOILI-UHFFFAOYSA-N dichloro-(dichlorosilylmethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C[SiH](Cl)Cl LOFPLWQPZAOILI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZJINVYTYPELPM-UHFFFAOYSA-N dichlorosilylmethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[SiH](Cl)Cl LZJINVYTYPELPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- WUOIAOOSKMHJOV-UHFFFAOYSA-N ethyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(CC)C1=CC=CC=C1 WUOIAOOSKMHJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTNLXKSEJCGJRH-UHFFFAOYSA-N trichloro(dichlorosilylmethyl)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ZTNLXKSEJCGJRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWUUHVWMPSPGQO-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichloromethyl)silane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl YWUUHVWMPSPGQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、脱ハロゲン化水素
反応により、有機ハロゲン化合物とシラン反応物を反応
させる方法に関し、さらに詳しくは、第三級ホスフィン
触媒の存在下で、水素−ケイ素結合を含有するクロロシ
ラン化合物と、有機ハロゲン化合物から、脱ハロゲン化
水素反応によって有機ケイ素化合物を合成する方法に関
する。
反応により、有機ハロゲン化合物とシラン反応物を反応
させる方法に関し、さらに詳しくは、第三級ホスフィン
触媒の存在下で、水素−ケイ素結合を含有するクロロシ
ラン化合物と、有機ハロゲン化合物から、脱ハロゲン化
水素反応によって有機ケイ素化合物を合成する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】Benkeser, R. A.; Smith, W. E. J.Che
m. Soc. 1968, 90, 5307には、トリクロロシランとトリ
アルキルアミンとのモル比１：１の混合物を利用して、
四塩化炭素をクロロホルムに還元させる反応を、最初に
開示している。また、このような還元反応の機構とし
て、トリクロロシラン、四塩化炭素およびトリアルキル
アミンが反応し、塩化水素が離脱して、トリクロロメチ
ルトリクロロシランが形成された後、トリアルキルアン
モニウムクロリドにより、クロロホルムとテトラクロロ
シランとに分解される機構が報告されている。
m. Soc. 1968, 90, 5307には、トリクロロシランとトリ
アルキルアミンとのモル比１：１の混合物を利用して、
四塩化炭素をクロロホルムに還元させる反応を、最初に
開示している。また、このような還元反応の機構とし
て、トリクロロシラン、四塩化炭素およびトリアルキル
アミンが反応し、塩化水素が離脱して、トリクロロメチ
ルトリクロロシランが形成された後、トリアルキルアン
モニウムクロリドにより、クロロホルムとテトラクロロ
シランとに分解される機構が報告されている。
【０００３】次に、Benkeser, R. A.; Gau1, J. M.; Sm
ith, W. E., J. Am. Chem Soc. 1969, 91, 3666には、
塩化ベンジルおよび１，１，１−トリクロロエタンがそ
れぞれ、トリクロロシランとトリアルキルアミンとのモ
ル比１：１の混合物と、脱塩化水素反応を起こして、そ
れぞれ有機塩化物の塩素原子の代わりにトリクロロシリ
ル基が導入された化合物が生成することを開示してい
る。
ith, W. E., J. Am. Chem Soc. 1969, 91, 3666には、
塩化ベンジルおよび１，１，１−トリクロロエタンがそ
れぞれ、トリクロロシランとトリアルキルアミンとのモ
ル比１：１の混合物と、脱塩化水素反応を起こして、そ
れぞれ有機塩化物の塩素原子の代わりにトリクロロシリ
ル基が導入された化合物が生成することを開示してい
る。
【０００４】一方、Furuya, N.; Sukawa, T., J. Organ
ometal. Chem. 1985, 96, C1には、塩化アリルに、トリ
クロロシランとトリアルキルアミンとのモル比１：１の
混合物を反応させるとき、触媒として銅塩化物を使用す
ると、高収率のアリルトリクロロシランが得られること
を開示している。
ometal. Chem. 1985, 96, C1には、塩化アリルに、トリ
クロロシランとトリアルキルアミンとのモル比１：１の
混合物を反応させるとき、触媒として銅塩化物を使用す
ると、高収率のアリルトリクロロシランが得られること
を開示している。
【０００５】さらに、Corriur, R. J. P.; Granier,
M.; Lanneau, G. F. J. Organometal.Chem. 1988, 562,
79には、過剰量のトリブチルアミンを使用して、クロ
ロホルムとトリクロロシランとを反応させ、ビス（トリ
クロロシリル）メタンおよびトリス（トリクロロシリ
ル）メタンを合成しうることが開示されている。
M.; Lanneau, G. F. J. Organometal.Chem. 1988, 562,
79には、過剰量のトリブチルアミンを使用して、クロ
ロホルムとトリクロロシランとを反応させ、ビス（トリ
クロロシリル）メタンおよびトリス（トリクロロシリ
ル）メタンを合成しうることが開示されている。
【０００６】このような脱塩化水素反応を利用して、有
機ハロゲン化合物にシラン化合物を反応させる方法にお
いては、有機塩基の存在下で、有機ハロゲン化合物のハ
ロゲン原子と、トリクロロシランのようなシラン化合物
のケイ素原子に結合した水素原子との間で脱塩化水素反
応を起こして、有機ケイ素化合物が形成される。このよ
うな脱塩化水素反応は、炭素−ケイ素結合を形成させる
反応として有効である。
機ハロゲン化合物にシラン化合物を反応させる方法にお
いては、有機塩基の存在下で、有機ハロゲン化合物のハ
ロゲン原子と、トリクロロシランのようなシラン化合物
のケイ素原子に結合した水素原子との間で脱塩化水素反
応を起こして、有機ケイ素化合物が形成される。このよ
うな脱塩化水素反応は、炭素−ケイ素結合を形成させる
反応として有効である。
【０００７】なお、塩化ベンジルまたは塩化アリルのよ
うな活性化された塩化炭化水素が、トリクロロシランと
上記のような脱塩化水素反応により結合するということ
は報告されているが、通常の塩化炭化水素や、その他の
広範囲の有機ハロゲン化合物を利用して、前記のような
反応を起こすことは、まだ報告されていない。
うな活性化された塩化炭化水素が、トリクロロシランと
上記のような脱塩化水素反応により結合するということ
は報告されているが、通常の塩化炭化水素や、その他の
広範囲の有機ハロゲン化合物を利用して、前記のような
反応を起こすことは、まだ報告されていない。
【０００８】そのうえ、このような反応においても、強
塩基性を有する第三級アミンを、発生するハロゲン化水
素に対して等モルないし過剰量使用するので、該第三級
アミンは、触媒というよりはむしろハロゲン化水素を捕
捉する反応剤と見なすべきであり、反応によって生成し
たアミン塩からアミンを回収するとき、経費が上昇し
て、工業的に活用することが難しいという不都合があっ
た。
塩基性を有する第三級アミンを、発生するハロゲン化水
素に対して等モルないし過剰量使用するので、該第三級
アミンは、触媒というよりはむしろハロゲン化水素を捕
捉する反応剤と見なすべきであり、反応によって生成し
たアミン塩からアミンを回収するとき、経費が上昇し
て、工業的に活用することが難しいという不都合があっ
た。
【０００９】したがって、少量のアミンを使用するか、
または他の触媒を使用してアミンを用いずに、上記の脱
ハロゲン化水素反応を起こすことが要望されていた。
または他の触媒を使用してアミンを用いずに、上記の脱
ハロゲン化水素反応を起こすことが要望されていた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Ｓｉ
−Ｈ結合含有シラン化合物を、アミンを用いないで、広
範囲の有機ハロゲン化合物と脱ハロゲン化水素反応させ
て、有機ケイ素化合物を製造する方法を提供することで
ある。
−Ｈ結合含有シラン化合物を、アミンを用いないで、広
範囲の有機ハロゲン化合物と脱ハロゲン化水素反応させ
て、有機ケイ素化合物を製造する方法を提供することで
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するために検討を重ねた結果、触媒として第三
級ホスフィンを用いて、上記の脱ハロゲン化水素反応を
行うことにより、その目的を達成しうることを見出し
て、本発明を完成するに至った。
的を達成するために検討を重ねた結果、触媒として第三
級ホスフィンを用いて、上記の脱ハロゲン化水素反応を
行うことにより、その目的を達成しうることを見出し
て、本発明を完成するに至った。
【００１２】すなわち、本発明は、（Ａ）一般式
（１）： ＨＳｉＲ1Ｃｌ2 （１） （式中、Ｒ1は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜６の
アルキル基またはフェニル基である）で示されるＳｉ−
Ｈ結合含有シラン化合物と、（Ｂ）一般式（２）： Ｒ2ＣＨ2Ｘ （２） 〔式中、Ｘは、塩素原子または臭素原子であり；Ｒ
2は、炭素数１〜１７のアルキル基；炭素数１〜１０
で、１個以上のフッ素原子で置換されているフルオロア
ルキル基；炭素数２〜５のアルケニル基；一般式：−
（ＣＨ2)nＳｉ(ＣＨ3)3-mＣｌm（式中、ｎは、０〜２の
数であり；ｍは、０〜３の数である）で示されるケイ素
含有基；一般式：−Ａｒ（Ｒ3)q（式中、Ａｒは、炭素
数６〜１４の芳香族炭化水素基であり、Ｒ3は、炭素数
１〜４のアルキル基、ビニル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基もしくはハロゲン原子であり；ｑは、０〜５の数
である）で示される非置換または置換の１価の芳香族炭
化水素基；一般式：−（ＣＨ2)pＸ（式中、Ｘは、前述
のとおりであり；ｐは、０〜９の数である）で示される
ハロゲン原子もしくは直鎖状ハロアルキル基；あるいは
一般式：−ＡｒＣＨ2Ｘ（式中、ＡｒおよびＸは、前述
のとおりである）で示される１価のハロメチル化芳香族
基である〕で示される有機ハロゲン化合物とを、（Ｃ）
第三級ホスフィン化合物の存在下に脱ハロゲン化水素反
応させて、（Ｄ）一般式（３）： Ｒ4ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2 （３） 〔式中、Ｒ1は、前述のとおりであり；Ｒ4は、Ｒ2と同
じ意味を有するか、Ｒ2が（ＣＨ2)pＸまたはＡｒＣＨ2
Ｘである場合、−（ＣＨ2)pＳｉＲ1Ｃｌ2または−Ａｒ
ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2であってもよい〕で示される有機ケ
イ素化合物を製造する方法に関する。
（１）： ＨＳｉＲ1Ｃｌ2 （１） （式中、Ｒ1は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜６の
アルキル基またはフェニル基である）で示されるＳｉ−
Ｈ結合含有シラン化合物と、（Ｂ）一般式（２）： Ｒ2ＣＨ2Ｘ （２） 〔式中、Ｘは、塩素原子または臭素原子であり；Ｒ
2は、炭素数１〜１７のアルキル基；炭素数１〜１０
で、１個以上のフッ素原子で置換されているフルオロア
ルキル基；炭素数２〜５のアルケニル基；一般式：−
（ＣＨ2)nＳｉ(ＣＨ3)3-mＣｌm（式中、ｎは、０〜２の
数であり；ｍは、０〜３の数である）で示されるケイ素
含有基；一般式：−Ａｒ（Ｒ3)q（式中、Ａｒは、炭素
数６〜１４の芳香族炭化水素基であり、Ｒ3は、炭素数
１〜４のアルキル基、ビニル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基もしくはハロゲン原子であり；ｑは、０〜５の数
である）で示される非置換または置換の１価の芳香族炭
化水素基；一般式：−（ＣＨ2)pＸ（式中、Ｘは、前述
のとおりであり；ｐは、０〜９の数である）で示される
ハロゲン原子もしくは直鎖状ハロアルキル基；あるいは
一般式：−ＡｒＣＨ2Ｘ（式中、ＡｒおよびＸは、前述
のとおりである）で示される１価のハロメチル化芳香族
基である〕で示される有機ハロゲン化合物とを、（Ｃ）
第三級ホスフィン化合物の存在下に脱ハロゲン化水素反
応させて、（Ｄ）一般式（３）： Ｒ4ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2 （３） 〔式中、Ｒ1は、前述のとおりであり；Ｒ4は、Ｒ2と同
じ意味を有するか、Ｒ2が（ＣＨ2)pＸまたはＡｒＣＨ2
Ｘである場合、−（ＣＨ2)pＳｉＲ1Ｃｌ2または−Ａｒ
ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2であってもよい〕で示される有機ケ
イ素化合物を製造する方法に関する。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる（Ａ）Ｓｉ−
Ｈ結合含有シラン化合物は、一般式（１）： ＨＳｉＲ1Ｃｌ2 （１） （式中、Ｒ1は、前述のとおりである）で示され、Ｒ1の
うちの炭化水素基としては、直鎖状または分岐状の、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルおよびヘキ
シルであるアルキル基ならびにフェニル基が該当する。
Ｒ1としては、反応性、および反応生成物の有用性か
ら、水素原子、塩素原子またはメチル基が好ましい。好
ましい（Ａ）Ｓｉ−Ｈ結合含有シラン化合物としては、
メチルジクロロシラン、トリクロロシランおよびジクロ
ロシランが該当する。
Ｈ結合含有シラン化合物は、一般式（１）： ＨＳｉＲ1Ｃｌ2 （１） （式中、Ｒ1は、前述のとおりである）で示され、Ｒ1の
うちの炭化水素基としては、直鎖状または分岐状の、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルおよびヘキ
シルであるアルキル基ならびにフェニル基が該当する。
Ｒ1としては、反応性、および反応生成物の有用性か
ら、水素原子、塩素原子またはメチル基が好ましい。好
ましい（Ａ）Ｓｉ−Ｈ結合含有シラン化合物としては、
メチルジクロロシラン、トリクロロシランおよびジクロ
ロシランが該当する。
【００１４】本発明に用いられる（Ｂ）有機ハロゲン化
合物は、一般式（２）： Ｒ2ＣＨ2Ｘ （２） （式中、Ｒ2およびＸは、前述のとおりである）で示さ
れる有機塩化物または有機臭化物であり、極めて広範囲
のＲ2を有するものから選択できる。
合物は、一般式（２）： Ｒ2ＣＨ2Ｘ （２） （式中、Ｒ2およびＸは、前述のとおりである）で示さ
れる有機塩化物または有機臭化物であり、極めて広範囲
のＲ2を有するものから選択できる。
【００１５】Ｒ2の第１の群は、メチル、エチル、プロ
ピル、ペンチル、ヘプチル、ノニル、ウンデシル、ヘプ
タデシルのような、炭素数１〜１７の、直鎖状または分
岐状のアルキル基；フルオロメチル、２−フルオロエチ
ル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフル
オロエチル、３−フルオロプロピル、５−フルオロペン
チル、１０−フルオロデシルのような、炭素数１〜１０
の、直鎖状または分岐状のフッ素化アルキル基；ならび
にビニル、１−プロペニル、アリル、４−ペンテニルの
ような、炭素数２〜５のアルケニル基である。このよう
なＲ2を有するＲ2ＣＨ2Ｘ化合物としては、分子中に−
ＣＨ2Ｘ基を有する塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブ
チル、塩化ヘキシル、塩化オクチル、塩化デシル、塩化
ドデシル、塩化オクタデシルのような塩化アルキル；１
−クロロ−２−フルオロエタン、１−クロロ−３−フル
オロプロパン、１−クロロ−３，３−ジフルオロプロパ
ン、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロパン、
１−クロロ−４−フルオロブタン、１−クロロ−６−フ
ルオロヘキサン、１−クロロ−１１−フルオロウンデカ
ンのようなフッ素化塩化アルキル；塩化アリル、塩化ク
ロチル、１−クロロブテン−３、１−クロロヘキセン−
５のような塩化アルケニル；ならびにこれらに対応する
臭化物などの脂肪族有機ハロゲン化合物が例示される。
ピル、ペンチル、ヘプチル、ノニル、ウンデシル、ヘプ
タデシルのような、炭素数１〜１７の、直鎖状または分
岐状のアルキル基；フルオロメチル、２−フルオロエチ
ル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフル
オロエチル、３−フルオロプロピル、５−フルオロペン
チル、１０−フルオロデシルのような、炭素数１〜１０
の、直鎖状または分岐状のフッ素化アルキル基；ならび
にビニル、１−プロペニル、アリル、４−ペンテニルの
ような、炭素数２〜５のアルケニル基である。このよう
なＲ2を有するＲ2ＣＨ2Ｘ化合物としては、分子中に−
ＣＨ2Ｘ基を有する塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブ
チル、塩化ヘキシル、塩化オクチル、塩化デシル、塩化
ドデシル、塩化オクタデシルのような塩化アルキル；１
−クロロ−２−フルオロエタン、１−クロロ−３−フル
オロプロパン、１−クロロ−３，３−ジフルオロプロパ
ン、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロパン、
１−クロロ−４−フルオロブタン、１−クロロ−６−フ
ルオロヘキサン、１−クロロ−１１−フルオロウンデカ
ンのようなフッ素化塩化アルキル；塩化アリル、塩化ク
ロチル、１−クロロブテン−３、１−クロロヘキセン−
５のような塩化アルケニル；ならびにこれらに対応する
臭化物などの脂肪族有機ハロゲン化合物が例示される。
【００１６】Ｒ2の第２の群は、一般式−（ＣＨ2)nＳｉ
(ＣＨ3)3-mＣｌm（式中、ｎおよびｍは、前述のとおり
である）で示されるケイ素含有基である。このようなＲ
2としては、トリクロロシリル、メチルジクロロシリ
ル、ジメチルクロロシリル、トリメチルシリル、トリメ
チルシリルメチル、トリメチルシリルエチルなどが例示
される。このようなＲ2を有するＲ2ＣＨ2Ｘ化合物とし
ては、（クロロメチル）トリクロロシラン、（クロロメ
チル）メチルジクロロシラン、（クロロメチル）ジメチ
ルクロロシラン、（クロロメチル）トリメチルシラン、
（２−クロロエチル）トリメチルシラン、（３−クロロ
プロピル）トリメチルシランなど；ならびに対応するブ
ロモアルキル基含有シランなどのハロアルキル基含有シ
ラン化合物が例示される。
(ＣＨ3)3-mＣｌm（式中、ｎおよびｍは、前述のとおり
である）で示されるケイ素含有基である。このようなＲ
2としては、トリクロロシリル、メチルジクロロシリ
ル、ジメチルクロロシリル、トリメチルシリル、トリメ
チルシリルメチル、トリメチルシリルエチルなどが例示
される。このようなＲ2を有するＲ2ＣＨ2Ｘ化合物とし
ては、（クロロメチル）トリクロロシラン、（クロロメ
チル）メチルジクロロシラン、（クロロメチル）ジメチ
ルクロロシラン、（クロロメチル）トリメチルシラン、
（２−クロロエチル）トリメチルシラン、（３−クロロ
プロピル）トリメチルシランなど；ならびに対応するブ
ロモアルキル基含有シランなどのハロアルキル基含有シ
ラン化合物が例示される。
【００１７】Ｒ2の第３の群は、一般式：−Ａｒ（Ｒ3)q
（式中、Ａｒ、Ｒ3およびｑは、前述のとおりである）
で示される芳香族基である。このようなＲ2としては、
フェニル、４−トリル、４−ｔ−ブチルフェニル、４−
ビニルフェニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシ
フェニル、４−フルオロフェニル、４−クロロフェニ
ル、ビフェニル、ナフチルなどが例示される。このよう
なＲ2を有するＲ2ＣＨ2Ｘ化合物としては、塩化ベンジ
ル、４−メチルベンジルクロリド、４−ｔ−ブチルベン
ジルクロリド、４−ビニルベンジルクロリド、４−メト
キシベンジルクロリド、４−エトキシベンジルクロリ
ド、４−フルオロベンジルクロリド、４−クロロベンジ
ルクロリド、４−フェニルベンジルクロリド、ナフチル
メチルクロリドなど；ならびに対応する臭化物などの芳
香族有機ハロゲン化合物が例示される。
（式中、Ａｒ、Ｒ3およびｑは、前述のとおりである）
で示される芳香族基である。このようなＲ2としては、
フェニル、４−トリル、４−ｔ−ブチルフェニル、４−
ビニルフェニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシ
フェニル、４−フルオロフェニル、４−クロロフェニ
ル、ビフェニル、ナフチルなどが例示される。このよう
なＲ2を有するＲ2ＣＨ2Ｘ化合物としては、塩化ベンジ
ル、４−メチルベンジルクロリド、４−ｔ−ブチルベン
ジルクロリド、４−ビニルベンジルクロリド、４−メト
キシベンジルクロリド、４−エトキシベンジルクロリ
ド、４−フルオロベンジルクロリド、４−クロロベンジ
ルクロリド、４−フェニルベンジルクロリド、ナフチル
メチルクロリドなど；ならびに対応する臭化物などの芳
香族有機ハロゲン化合物が例示される。
【００１８】Ｒ2の第４の群は、一般式：−（ＣＨ2)pＸ
（式中、Ｘおよびｐは、前述のとおりである）で示され
るハロゲン原子または直鎖状ハロアルキル基である。こ
のようなＲ2としては、塩素原子；クロロメチル、２−
クロロエチル、３−クロロプロピル、５−クロロペンチ
ル、７−クロロヘプチル、９−クロロノニルのようなク
ロロアルキル基；ならびに対応する臭素原子およびブロ
モアルキル基が例示される。このようなＲ2を有するＲ2
ＣＨＸ化合物としては、２個のＸが、たがいに同一でも
異なっていてもよく、該ジハロアルカンとしては、塩化
メチレン、１，２−ジクロロエタン、１，３−ジクロロ
プロパン、１，４−ジクロロブタン、１，６−ジクロロ
ヘキサン、１，８−ジクロロオクタン、１，１０−ジク
ロロデカンなど；およびその１個または２個の塩素原子
の代わりに臭素原子を有する臭化物などのジハロアルカ
ンが例示される。
（式中、Ｘおよびｐは、前述のとおりである）で示され
るハロゲン原子または直鎖状ハロアルキル基である。こ
のようなＲ2としては、塩素原子；クロロメチル、２−
クロロエチル、３−クロロプロピル、５−クロロペンチ
ル、７−クロロヘプチル、９−クロロノニルのようなク
ロロアルキル基；ならびに対応する臭素原子およびブロ
モアルキル基が例示される。このようなＲ2を有するＲ2
ＣＨＸ化合物としては、２個のＸが、たがいに同一でも
異なっていてもよく、該ジハロアルカンとしては、塩化
メチレン、１，２−ジクロロエタン、１，３−ジクロロ
プロパン、１，４−ジクロロブタン、１，６−ジクロロ
ヘキサン、１，８−ジクロロオクタン、１，１０−ジク
ロロデカンなど；およびその１個または２個の塩素原子
の代わりに臭素原子を有する臭化物などのジハロアルカ
ンが例示される。
【００１９】Ｒ2の第５の群は、一般式：−ＡｒＣＨ2Ｘ
（式中、ＡｒおよびＸは、前述のとおりである）で示さ
れるハロメチル化芳香族基である。このようなＲ2とし
ては、クロロベンジルなど；および対応するブロモメチ
ル化芳香族基が例示される。このようなＲ2を有するＲ2
ＣＨＸ化合物としては、２個のＸが、たがいに同一でも
異なっていてもよく、該化合物としては、１，４−ビス
（クロロメチル）ベンゼンなど、およびその１個または
２個の塩素原子の代わりに臭素原子を有する臭化物など
のジハロメチル芳香族化合物が例示される。
（式中、ＡｒおよびＸは、前述のとおりである）で示さ
れるハロメチル化芳香族基である。このようなＲ2とし
ては、クロロベンジルなど；および対応するブロモメチ
ル化芳香族基が例示される。このようなＲ2を有するＲ2
ＣＨＸ化合物としては、２個のＸが、たがいに同一でも
異なっていてもよく、該化合物としては、１，４−ビス
（クロロメチル）ベンゼンなど、およびその１個または
２個の塩素原子の代わりに臭素原子を有する臭化物など
のジハロメチル芳香族化合物が例示される。
【００２０】好ましい（Ｂ）有機ハロゲン化合物として
は、１−クロロヘキサンのような塩化アルキル；塩化ア
リル、臭化アリル、塩化クロチルのようなハロゲン化ア
ルケニル；１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロ
パンのようなフッ素化塩化アルキル；（クロロメチル）
トリクロロシラン、（クロロメチル）メチルジクロロシ
ラン、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン、（クロ
ロメチル）トリメチルシラン、（２−クロロエチル）ト
リメチルシラン、（３−クロロプロピル）トリメチルシ
ランのような塩化アルキル基含有シラン化合物；塩化ベ
ンジル、４−フルオロベンジルクロリド、４−クロロベ
ンジルクロリド、４−メトキシベンジルクロリドのよう
な芳香族有機ハロゲン化物；１，２−ジクロロエタン、
１，３−ジクロロプロパン、１，４−ジクロロブタン、
１，３−ジブロモプロパンのようなジハロアルカン；お
よび１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼンのようなジ
ハロメチル芳香族化合物、ならびにこれらと類似の化合
物が挙げられる。
は、１−クロロヘキサンのような塩化アルキル；塩化ア
リル、臭化アリル、塩化クロチルのようなハロゲン化ア
ルケニル；１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロ
パンのようなフッ素化塩化アルキル；（クロロメチル）
トリクロロシラン、（クロロメチル）メチルジクロロシ
ラン、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン、（クロ
ロメチル）トリメチルシラン、（２−クロロエチル）ト
リメチルシラン、（３−クロロプロピル）トリメチルシ
ランのような塩化アルキル基含有シラン化合物；塩化ベ
ンジル、４−フルオロベンジルクロリド、４−クロロベ
ンジルクロリド、４−メトキシベンジルクロリドのよう
な芳香族有機ハロゲン化物；１，２−ジクロロエタン、
１，３−ジクロロプロパン、１，４−ジクロロブタン、
１，３−ジブロモプロパンのようなジハロアルカン；お
よび１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼンのようなジ
ハロメチル芳香族化合物、ならびにこれらと類似の化合
物が挙げられる。
【００２１】本発明の反応は、下記のような脱ハロゲン
化水素反応である。
化水素反応である。
【００２２】
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＸは、前述のとおりであ
る）
る）
【００２３】本発明において特徴的なことは、上記の反
応を、（Ｃ）第三級ホスフィン化合物の存在下に行うこ
とである。ここで、第三級ホスフィン化合物とは、第三
級ホスフィン型リン原子を１個または複数個有する有機
ホスフィン化合物、およびそれを配位子として有する金
属錯体および金属キレート化合物を包含し、代表的には
下記のような群である。このような第三級ホスフィン化
合物を触媒として用いることにより、塩化ベンジルや塩
化アリルのような活性化されやすい塩化炭化水素ばかり
でなく、分子中に−ＣＨ2Ｘ基（式中、Ｘは、前述のと
おりである）を有する広範囲の有機ハロゲン化合物と、
Ｓｉ−Ｈ基含有シラン化合物との間で、脱ハロゲン化水
素反応を行うことが可能である。
応を、（Ｃ）第三級ホスフィン化合物の存在下に行うこ
とである。ここで、第三級ホスフィン化合物とは、第三
級ホスフィン型リン原子を１個または複数個有する有機
ホスフィン化合物、およびそれを配位子として有する金
属錯体および金属キレート化合物を包含し、代表的には
下記のような群である。このような第三級ホスフィン化
合物を触媒として用いることにより、塩化ベンジルや塩
化アリルのような活性化されやすい塩化炭化水素ばかり
でなく、分子中に−ＣＨ2Ｘ基（式中、Ｘは、前述のと
おりである）を有する広範囲の有機ハロゲン化合物と、
Ｓｉ−Ｈ基含有シラン化合物との間で、脱ハロゲン化水
素反応を行うことが可能である。
【００２４】触媒として用いられる第三級ホスフィン化
合物の第１の群は、一般式：ＰＲ5 3（式中、Ｒ5は、た
がいに同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜１２
の、基中にフェニル基を含んでいてもよいアルキル基；
シクロヘキシル基またはアリール基である）で示される
第三級モノホスフィン化合物である。Ｒ5としては、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、ドデシルのような直鎖状または分岐状のアルキル
基；ベンジル、４−メチルベンジルのような、基中にフ
ェニル基を有するアルキル基；シクロヘキシル基および
フェニル、トリルのようなアリール基が例示される。
合物の第１の群は、一般式：ＰＲ5 3（式中、Ｒ5は、た
がいに同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜１２
の、基中にフェニル基を含んでいてもよいアルキル基；
シクロヘキシル基またはアリール基である）で示される
第三級モノホスフィン化合物である。Ｒ5としては、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、ドデシルのような直鎖状または分岐状のアルキル
基；ベンジル、４−メチルベンジルのような、基中にフ
ェニル基を有するアルキル基；シクロヘキシル基および
フェニル、トリルのようなアリール基が例示される。
【００２５】第三級ホスフィン化合物の第２の群は、一
般式：Ｒ5 2Ｐ（ＣＨ2)yＰＲ5 2（式中、Ｒ5は、前述のと
おりであり；ｙは、１〜６の数である）で示される第三
級ジホスフィン化合物である。Ｒ5としては、前述と同
様の基が例示される。
般式：Ｒ5 2Ｐ（ＣＨ2)yＰＲ5 2（式中、Ｒ5は、前述のと
おりであり；ｙは、１〜６の数である）で示される第三
級ジホスフィン化合物である。Ｒ5としては、前述と同
様の基が例示される。
【００２６】第三級ホスフィン化合物の第３の群は、一
般式：ＰＲ5 3（式中、Ｒ5は、前述のとおりである）で
示されるモノホスフィン化合物を配位子として有する金
属錯体である。Ｒ5としては、前述と同様の基が例示さ
れる。金属としては、クロム、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白
金などが例示され、０価または２価の錯体（ただし、ロ
ジウムは１価または３価の錯体）を用いることができ
る。
般式：ＰＲ5 3（式中、Ｒ5は、前述のとおりである）で
示されるモノホスフィン化合物を配位子として有する金
属錯体である。Ｒ5としては、前述と同様の基が例示さ
れる。金属としては、クロム、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、白
金などが例示され、０価または２価の錯体（ただし、ロ
ジウムは１価または３価の錯体）を用いることができ
る。
【００２７】第三級ホスフィン化合物の第４の群は、一
般式：Ｒ5 2Ｐ（ＣＨ2)yＰＲ5 2（式中、Ｒ5およびｙは、
前述のとおりである）で示されるジホスフィン化合物を
配位子として有する金属キレート化合物である。Ｒ5と
しては、前述と同様の基が例示される。金属としては、
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム
などが例示される。
般式：Ｒ5 2Ｐ（ＣＨ2)yＰＲ5 2（式中、Ｒ5およびｙは、
前述のとおりである）で示されるジホスフィン化合物を
配位子として有する金属キレート化合物である。Ｒ5と
しては、前述と同様の基が例示される。金属としては、
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム
などが例示される。
【００２８】第三級ホスフィン化合物としては、取扱い
が容易で、優れた反応収率が得られることから、トリエ
チルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）エタン、テトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（０）などが好ましい。な
お、（Ｂ）として、炭素−炭素二重結合を有する化合物
を用いる場合には、副反応を避けるために、第三級ホス
フィン化合物として、上記の第１または第２の群の化合
物を用いることが好ましい。
が容易で、優れた反応収率が得られることから、トリエ
チルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジ
フェニルホスフィノ）エタン、テトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（０）などが好ましい。な
お、（Ｂ）として、炭素−炭素二重結合を有する化合物
を用いる場合には、副反応を避けるために、第三級ホス
フィン化合物として、上記の第１または第２の群の化合
物を用いることが好ましい。
【００２９】（Ｃ）第三級ホスフィン化合物の使用量
は、反応に供される（Ｂ）の種類によっても異なるが、
（Ｂ）に対して、通常１〜１００モル％、好ましくは２
〜２０モル％、さらに好ましくは５〜１０モル％であ
る。
は、反応に供される（Ｂ）の種類によっても異なるが、
（Ｂ）に対して、通常１〜１００モル％、好ましくは２
〜２０モル％、さらに好ましくは５〜１０モル％であ
る。
【００３０】広範囲の（Ｂ）を用いる場合の反応を促進
するために、第三級ホスフィン化合物に、さらに助触媒
として塩化銅（Ｉ）を併用することが好ましい。塩化銅
（Ｉ）の使用量は、（Ｃ）第三級ホスフィン化合物に対
して、通常１〜１００モル％、好ましくは１〜１０モル
％である。
するために、第三級ホスフィン化合物に、さらに助触媒
として塩化銅（Ｉ）を併用することが好ましい。塩化銅
（Ｉ）の使用量は、（Ｃ）第三級ホスフィン化合物に対
して、通常１〜１００モル％、好ましくは１〜１０モル
％である。
【００３１】反応は、（Ｂ）に対して（Ａ）を通常１〜
１０倍モル量、好ましくは２〜５倍モル量使用して行
う。また、（Ｂ）の２個の−ＣＨ2Ｘ基がともに反応に
あずかるとき、（Ｂ）に対して（Ａ）を通常２〜２０倍
モル量、好ましくは３〜１０倍モル量使用する。反応温
度は、通常１０〜２００℃、好ましくは１００〜２００
℃であり、常圧または密封して加圧下で、通常、撹拌し
つつ行う。反応中、必要に応じて、副生するハロゲン化
水素を系外に抜き出しながら、反応を進行させてもよ
い。反応は、通常１〜４８時間で終了する。反応終了
後、常圧または減圧で蒸留することにより、未反応の原
料や副生物から反応生成物を分離することができる。
１０倍モル量、好ましくは２〜５倍モル量使用して行
う。また、（Ｂ）の２個の−ＣＨ2Ｘ基がともに反応に
あずかるとき、（Ｂ）に対して（Ａ）を通常２〜２０倍
モル量、好ましくは３〜１０倍モル量使用する。反応温
度は、通常１０〜２００℃、好ましくは１００〜２００
℃であり、常圧または密封して加圧下で、通常、撹拌し
つつ行う。反応中、必要に応じて、副生するハロゲン化
水素を系外に抜き出しながら、反応を進行させてもよ
い。反応は、通常１〜４８時間で終了する。反応終了
後、常圧または減圧で蒸留することにより、未反応の原
料や副生物から反応生成物を分離することができる。
【００３２】脱ハロゲン化水素反応によって得られた反
応生成物は、一般式（３）： Ｒ4ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2 （３） で示される（Ｄ）有機ケイ素化合物である。通常、Ｒ4
は、Ｒ2と同じ意味を有するが、（Ｂ）として、Ｒ2が−
（ＣＨ2)pＸであるジハロアルカンか、またはＲ2が−Ａ
ｒＣＨ2Ｘであるハロメチル化芳香族化合物を用いる場
合には、分子中に存在する２個の−ＣＨ2Ｘ基が反応に
あずかり、Ｒ4が−（ＣＨ2)pＳｉＲ1Ｃｌ2か、または−
ＡｒＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2で示される有機ケイ素化合物を
製造することができる（上記の各式中、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ4、Ａｒおよびｐは、前述のとおりである）。
応生成物は、一般式（３）： Ｒ4ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2 （３） で示される（Ｄ）有機ケイ素化合物である。通常、Ｒ4
は、Ｒ2と同じ意味を有するが、（Ｂ）として、Ｒ2が−
（ＣＨ2)pＸであるジハロアルカンか、またはＲ2が−Ａ
ｒＣＨ2Ｘであるハロメチル化芳香族化合物を用いる場
合には、分子中に存在する２個の−ＣＨ2Ｘ基が反応に
あずかり、Ｒ4が−（ＣＨ2)pＳｉＲ1Ｃｌ2か、または−
ＡｒＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2で示される有機ケイ素化合物を
製造することができる（上記の各式中、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ4、Ａｒおよびｐは、前述のとおりである）。
【００３３】
【実施例】以下、実施例によって、本発明をさらに詳細
に説明する。本発明は、これらの実施例によって限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、多
様な形態に変更して実施することができる。なお、実施
例中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
に説明する。本発明は、これらの実施例によって限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、多
様な形態に変更して実施することができる。なお、実施
例中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
【００３４】実施例１ １−クロロヘキサンとトリクロ
ロシランとの反応 乾燥した容積２５mlのステンレス製管状反応器に、乾燥
窒素気流下で、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、１−クロロヘキサン０．９０ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ（３
７．５mmol）をそれぞれ仕込んだ。反応器を密封し、温
度１５０℃で１２時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留
して、ｎ−ヘキシルトリクロロシラン１．１ｇ（沸点２
１５〜２１９℃、収率６５％）を得た。 ｎ−ヘキシルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3，ppm）: 0.88〜0.94 (m, 3H, CH3), 1.30〜1.45 (m,
6H, (CH2)4), 1.52〜1.63 (m, 2H, SiCH2).
ロシランとの反応 乾燥した容積２５mlのステンレス製管状反応器に、乾燥
窒素気流下で、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、１−クロロヘキサン０．９０ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ（３
７．５mmol）をそれぞれ仕込んだ。反応器を密封し、温
度１５０℃で１２時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留
して、ｎ−ヘキシルトリクロロシラン１．１ｇ（沸点２
１５〜２１９℃、収率６５％）を得た。 ｎ−ヘキシルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3，ppm）: 0.88〜0.94 (m, 3H, CH3), 1.30〜1.45 (m,
6H, (CH2)4), 1.52〜1.63 (m, 2H, SiCH2).
【００３５】実施例２ １−クロロ−３，３，３−トリ
フルオロプロパンとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、１−クロロ−３，３，３−トリフル
オロプロパン１．３３ｇ（１０．０mmol）およびトリク
ロロシラン６．７７ｇ（５０．０mmol）を仕込み、温度
１５０℃で１５時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留し
て、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロ
シラン２．１ｇ（沸点１１４℃、収率９０％）を得た。 （３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシラ
ン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 137 (24),
135 (71), 133 (72), 98 (11), 78 (87), 77 (100), 6
9 (20), 63 (21), 59 (26), 51(11).
フルオロプロパンとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、１−クロロ−３，３，３−トリフル
オロプロパン１．３３ｇ（１０．０mmol）およびトリク
ロロシラン６．７７ｇ（５０．０mmol）を仕込み、温度
１５０℃で１５時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留し
て、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロ
シラン２．１ｇ（沸点１１４℃、収率９０％）を得た。 （３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシラ
ン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 137 (24),
135 (71), 133 (72), 98 (11), 78 (87), 77 (100), 6
9 (20), 63 (21), 59 (26), 51(11).
【００３６】実施例３ １−クロロヘキサンとジクロロ
シランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．２１ｇ
（０．８６mmol）、１−クロロヘキサン１．１８ｇ
（８．６mmol）およびジクロロシラン４．３ｇ（４３mm
ol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌した後、反
応物を常圧で蒸留して、ｎ−ヘキシルトリクロロシラン
とｎ−ヘキシルジクロロシランの混合物０．９３ｇを得
た。該混合物のガスクロマトグラフィーの結果から、ｎ
−ヘキシルトリクロロシランの収率は３３％、ｎ−ヘキ
シルジクロロシランの収率は１８％であった。 ｎ−ヘキシルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
１3，ppm）: 0.88〜0.94 (m,3H, CH3), 1.30〜1.45 (m,
6H, (CH2)4), 1.49〜1.60 (m, 2H, SiCH2), 5.47 (t,
J=1.8Hz, lH, SiH).
シランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．２１ｇ
（０．８６mmol）、１−クロロヘキサン１．１８ｇ
（８．６mmol）およびジクロロシラン４．３ｇ（４３mm
ol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌した後、反
応物を常圧で蒸留して、ｎ−ヘキシルトリクロロシラン
とｎ−ヘキシルジクロロシランの混合物０．９３ｇを得
た。該混合物のガスクロマトグラフィーの結果から、ｎ
−ヘキシルトリクロロシランの収率は３３％、ｎ−ヘキ
シルジクロロシランの収率は１８％であった。 ｎ−ヘキシルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
１3，ppm）: 0.88〜0.94 (m,3H, CH3), 1.30〜1.45 (m,
6H, (CH2)4), 1.49〜1.60 (m, 2H, SiCH2), 5.47 (t,
J=1.8Hz, lH, SiH).
【００３７】実施例４ １−クロロヘキサンとメチルジ
クロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、１−クロロヘキサン０．９０ｇ
（７．５mmol）およびメチルジクロロシラン３．９０ml
（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹
拌した後、反応物を常圧で蒸留して、ｎ−ヘキシル（メ
チル）ジクロロシラン０．２５ｇ（収率１６％）を得
た。 ｎ−ヘキシル（メチル）ジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.88〜091 (m, 3H, CH3), 0.94
(s, 3H, SiCH3), 1.30〜1.45 (m, 6H, (CH2)4), 1.45〜
1.60 (m, 2H, Si(CH2)).
クロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、１−クロロヘキサン０．９０ｇ
（７．５mmol）およびメチルジクロロシラン３．９０ml
（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹
拌した後、反応物を常圧で蒸留して、ｎ−ヘキシル（メ
チル）ジクロロシラン０．２５ｇ（収率１６％）を得
た。 ｎ−ヘキシル（メチル）ジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.88〜091 (m, 3H, CH3), 0.94
(s, 3H, SiCH3), 1.30〜1.45 (m, 6H, (CH2)4), 1.45〜
1.60 (m, 2H, Si(CH2)).
【００３８】実施例５ （クロロメチル）トリクロロシ
ランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．２０ｇ（０．７
５mmol）、（クロロメチル）トリクロロシラン０．９２
ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ
（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で４２時間撹
拌した後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１，３，
３，３−ヘキサクロロ−１，３−ジシラプロパン１．１
ｇ（沸点１７３〜１７４℃、収率５０％）、および副生
物として１，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−
ジシラプロパン０．３ｇ（沸点１６６〜１６７℃、収率
１６％）を得た。 １，１，１，３，３，３−ヘキサクロロ−１，３−ジシ
ラプロパン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3，ppm）: 1.87 (s,
SiCH2Si). １，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−ジシラプ
ロパン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.64 (d, J=
2.2Hz, 2H, SiCH2Si), 5.72 (t, J=2.2Hz, 1H, SiH).
ランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．２０ｇ（０．７
５mmol）、（クロロメチル）トリクロロシラン０．９２
ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ
（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で４２時間撹
拌した後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１，３，
３，３−ヘキサクロロ−１，３−ジシラプロパン１．１
ｇ（沸点１７３〜１７４℃、収率５０％）、および副生
物として１，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−
ジシラプロパン０．３ｇ（沸点１６６〜１６７℃、収率
１６％）を得た。 １，１，１，３，３，３−ヘキサクロロ−１，３−ジシ
ラプロパン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3，ppm）: 1.87 (s,
SiCH2Si). １，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−ジシラプ
ロパン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.64 (d, J=
2.2Hz, 2H, SiCH2Si), 5.72 (t, J=2.2Hz, 1H, SiH).
【００３９】実施例６ （クロロメチル）メチルジクロ
ロシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．２０ｇ（０．７
５mmol）、（クロロメチル）メチルジクロロシラン１．
０７ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８
ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２４時間
反応させた後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１，
３，３，−ペンタクロロ−１，３−ジシラブタン１．０
ｇ（沸点１８１〜１８２℃、収率５８％）、および副生
物として１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジシ
ラブタン０．１ｇ（沸点１６６〜１６７℃、収率１４
％）を得た。 １，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−ジシラブ
タン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.94 (s, 3H, S
iCH3), 1.58 (s, SiCH2Si). １，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジシラブタン
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ 3，ppm）: 0.94 (s, 3H, SiC
H3), 1.34 (d, J=2.3Hz, 2H, SiCH2Si), 5.69 (t,J=2.3
Hz, 1H, SiH).
ロシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．２０ｇ（０．７
５mmol）、（クロロメチル）メチルジクロロシラン１．
０７ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８
ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２４時間
反応させた後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１，
３，３，−ペンタクロロ−１，３−ジシラブタン１．０
ｇ（沸点１８１〜１８２℃、収率５８％）、および副生
物として１，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジシ
ラブタン０．１ｇ（沸点１６６〜１６７℃、収率１４
％）を得た。 １，１，１，３，３−ペンタクロロ−１，３−ジシラブ
タン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.94 (s, 3H, S
iCH3), 1.58 (s, SiCH2Si). １，１，３，３−テトラクロロ−１，３−ジシラブタン
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ 3，ppm）: 0.94 (s, 3H, SiC
H3), 1.34 (d, J=2.3Hz, 2H, SiCH2Si), 5.69 (t,J=2.3
Hz, 1H, SiH).
【００４０】実施例７ （クロロメチル）ジメチルクロ
ロシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、５０mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン１．０ｇ（３．８mm
ol）、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン６．２１
ｇ（３８．０mmol）およびトリクロロシラン２５．７ｇ
（１９０．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間
撹拌した後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１，３
−テトラクロロ−３−メチル−１，３−ジシラブタン
５．８ｇ（沸点１６９〜１７０℃、収率５８％）、およ
び副生物として１，１，３−トリクロロ−３−メチル−
１，３−ジシラブタン１．２ｇ（沸点１５３〜１５５
℃、収率８％）を得た。 １，１，１，３−テトラクロロ−３−メチル−１，３−
ジシラブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.62
(s, 6H, SiCH3), 1.28 (s, 2H, SiCH2Si). １，１，３−トリクロロ−３−メチル−１，３−ジシラ
ブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.58 (s, 6H,
SiCH3), 1.00 (d, J=2.3Hz, 2H, SiCH2Si), 5.65 (t,
J=2.3Hz, 1H, SiH).
ロシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、５０mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン１．０ｇ（３．８mm
ol）、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン６．２１
ｇ（３８．０mmol）およびトリクロロシラン２５．７ｇ
（１９０．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間
撹拌した後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１，３
−テトラクロロ−３−メチル−１，３−ジシラブタン
５．８ｇ（沸点１６９〜１７０℃、収率５８％）、およ
び副生物として１，１，３−トリクロロ−３−メチル−
１，３−ジシラブタン１．２ｇ（沸点１５３〜１５５
℃、収率８％）を得た。 １，１，１，３−テトラクロロ−３−メチル−１，３−
ジシラブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.62
(s, 6H, SiCH3), 1.28 (s, 2H, SiCH2Si). １，１，３−トリクロロ−３−メチル−１，３−ジシラ
ブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.58 (s, 6H,
SiCH3), 1.00 (d, J=2.3Hz, 2H, SiCH2Si), 5.65 (t,
J=2.3Hz, 1H, SiH).
【００４１】実施例８ （クロロメチル）トリメチルシ
ランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．２０ｇ（０．７
５mmol）、（クロロメチル）トリメチルクロロシラン
１．３８ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．
０８ｇ（３５．７mmol）を仕込み、温度１５０℃で１０
時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１
−トリクロロ−３，３−ジメチル−１，３−ジシラブタ
ン１２ｇ（沸点１７３〜１７４℃、収率７０％）、およ
び副生物として１，１−ジクロロ−３，３−ジメチル−
１，３−ジシラブタン０．ｌｇ（沸点１５７〜１５９
℃、収率７％）を得た。 １，１，１−トリクロロ−３，３−ジメチル−１，３−
ジシラブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.25
(s, 9H, SiCH3), 0.85 (s, 2H, SiCH2Si). １，１−ジクロロ−３，３−ジメチル−１，３−ジシラ
ブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.17 (s, 9H,
SiCH3), 0.59 (d, J=2.4Hz, 2H, SiCH2Si), 5.60 (t,
J=2.4Hz, 1H, SiH).
ランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．２０ｇ（０．７
５mmol）、（クロロメチル）トリメチルクロロシラン
１．３８ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．
０８ｇ（３５．７mmol）を仕込み、温度１５０℃で１０
時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留して、１，１，１
−トリクロロ−３，３−ジメチル−１，３−ジシラブタ
ン１２ｇ（沸点１７３〜１７４℃、収率７０％）、およ
び副生物として１，１−ジクロロ−３，３−ジメチル−
１，３−ジシラブタン０．ｌｇ（沸点１５７〜１５９
℃、収率７％）を得た。 １，１，１−トリクロロ−３，３−ジメチル−１，３−
ジシラブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.25
(s, 9H, SiCH3), 0.85 (s, 2H, SiCH2Si). １，１−ジクロロ−３，３−ジメチル−１，３−ジシラ
ブタン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.17 (s, 9H,
SiCH3), 0.59 (d, J=2.4Hz, 2H, SiCH2Si), 5.60 (t,
J=2.4Hz, 1H, SiH).
【００４２】実施例９ （２−クロロエチル）トリメチ
ルシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム（０）０．４６ｇ（０．４０mmol）、（２−クロ
ロエチル）トリメチルシラン１．０３ｇ（７．５mmol）
およびトリクロロシラン５．０８ｇ（３５．７mmol）を
仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌した後、反応物を
常圧で蒸留して、〔（２−トリクロロシリル）エチル〕
トリメチルシラン１．０６ｇ（沸点２３６℃、収率６０
％）を得た。 〔（２−トリクロロシリル）エチル〕トリメチルシラン
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ 3，ppm）: 0.02 (s, 9H, Si(CH
3)3), 0.50 (m, 2H, CH2SiMe3), 1.54 (m, 2H, Cl3SiCH
2).
ルシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム（０）０．４６ｇ（０．４０mmol）、（２−クロ
ロエチル）トリメチルシラン１．０３ｇ（７．５mmol）
およびトリクロロシラン５．０８ｇ（３５．７mmol）を
仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌した後、反応物を
常圧で蒸留して、〔（２−トリクロロシリル）エチル〕
トリメチルシラン１．０６ｇ（沸点２３６℃、収率６０
％）を得た。 〔（２−トリクロロシリル）エチル〕トリメチルシラン
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ 3，ppm）: 0.02 (s, 9H, Si(CH
3)3), 0.50 (m, 2H, CH2SiMe3), 1.54 (m, 2H, Cl3SiCH
2).
【００４３】実施例１０ （３−クロロプロピル）トリ
メチルシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、（３−クロロプロピル）トリメチル
シラン１．６１ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラ
ン５．０８ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃
で１２時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留して、
〔（３−トリクロロシリル）プロピル〕トリメチルシラ
ン１．０６ｇ（沸点２５０〜２５８℃、収率８６％）を
得た。 〔（３−トリクロロシリル）プロピル〕トリメチルシラ
ン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.02 (s, 9H, SiC
H3), 0.66 (m, 2H, Me3SiCH2), 1.47 (m, 2H, CH 2), 1.
61 (m, 2H, CH2SiCl3).
メチルシランとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、（３−クロロプロピル）トリメチル
シラン１．６１ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラ
ン５．０８ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃
で１２時間撹拌した後、反応物を常圧で蒸留して、
〔（３−トリクロロシリル）プロピル〕トリメチルシラ
ン１．０６ｇ（沸点２５０〜２５８℃、収率８６％）を
得た。 〔（３−トリクロロシリル）プロピル〕トリメチルシラ
ン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 0.02 (s, 9H, SiC
H3), 0.66 (m, 2H, Me3SiCH2), 1.47 (m, 2H, CH 2), 1.
61 (m, 2H, CH2SiCl3).
【００４４】実施例１１ 塩化アリルとトリクロロシラ
ンとの反応（触媒としてＰＰｈ3のみを使用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．０３７ｇ（０．
１４mmol）、塩化アリル１６７ｇ（１４．０mmol）およ
びトリクロロシラン９．４８ｇ（７０．０mmol）を仕込
み、温度１５０℃で１０時間撹拌した後、反応物を常圧
で蒸留して、アリルトリクロロシラン１．２ｇ（沸点１
１７〜１１８℃、収率４９％）、ならびに副生物として
プロピルトリクロロシラン０．１２ｇ（沸点１２３〜１
２５℃、収率５％）および（３−クロロプロピル）トリ
クロロシラン０．２４ｇ（沸点１８１〜１８２℃、収率
８％）を得た。 アリルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.35〜2.37 (d, 2H,CH2), 5.18〜5.24 (m, 2H, CH
2=), 5.71〜5.85 (m, 2H, -CH=). ３−（クロロプロピル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.58 (m, 2H, SiCH2-), 2.06 (m,
2H, CH2), 3.61 (t, J=6.48, 2H, CH2Cl).
ンとの反応（触媒としてＰＰｈ3のみを使用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．０３７ｇ（０．
１４mmol）、塩化アリル１６７ｇ（１４．０mmol）およ
びトリクロロシラン９．４８ｇ（７０．０mmol）を仕込
み、温度１５０℃で１０時間撹拌した後、反応物を常圧
で蒸留して、アリルトリクロロシラン１．２ｇ（沸点１
１７〜１１８℃、収率４９％）、ならびに副生物として
プロピルトリクロロシラン０．１２ｇ（沸点１２３〜１
２５℃、収率５％）および（３−クロロプロピル）トリ
クロロシラン０．２４ｇ（沸点１８１〜１８２℃、収率
８％）を得た。 アリルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.35〜2.37 (d, 2H,CH2), 5.18〜5.24 (m, 2H, CH
2=), 5.71〜5.85 (m, 2H, -CH=). ３−（クロロプロピル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.58 (m, 2H, SiCH2-), 2.06 (m,
2H, CH2), 3.61 (t, J=6.48, 2H, CH2Cl).
【００４５】実施例１２ 塩化アリルとトリクロロシラ
ンとの反応（触媒としてＰｈ2ＰＣＨ2ＰＰｈ2を使用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン０．３
０５ｇ（０．７９４mmol）、塩化アリル０．６１２ｇ
（８．０mmol）およびトリクロロシラン４．３３ｇ（３
２mmol）を仕込み、温度１５０℃で１時間撹拌した後、
反応物を常圧で蒸留して、アリルトリクロロシラン０．
７３ｇ（沸点１１７〜１１８℃、収率５２％）を得た。
ンとの反応（触媒としてＰｈ2ＰＣＨ2ＰＰｈ2を使用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン０．３
０５ｇ（０．７９４mmol）、塩化アリル０．６１２ｇ
（８．０mmol）およびトリクロロシラン４．３３ｇ（３
２mmol）を仕込み、温度１５０℃で１時間撹拌した後、
反応物を常圧で蒸留して、アリルトリクロロシラン０．
７３ｇ（沸点１１７〜１１８℃、収率５２％）を得た。
【００４６】実施例１３ 塩化アリルとトリクロロシラ
ンとの反応（触媒としてＰｈ2ＰＣＨ2ＣＨ2ＰＰｈ2を使
用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタ
ン０．２９０ｇ（０．７２９mmol）、塩化アリル０．５
５８ｇ（７．３mmol）およびトリクロロシラン３．９６
ｇ（２９mmol）を仕込み、温度１５０℃で１時間撹拌し
た後、反応物を常圧で蒸留して、アリルトリクロロシラ
ン０．５８ｇ（沸点１１７〜１１８℃、収率４５％）を
得た。
ンとの反応（触媒としてＰｈ2ＰＣＨ2ＣＨ2ＰＰｈ2を使
用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタ
ン０．２９０ｇ（０．７２９mmol）、塩化アリル０．５
５８ｇ（７．３mmol）およびトリクロロシラン３．９６
ｇ（２９mmol）を仕込み、温度１５０℃で１時間撹拌し
た後、反応物を常圧で蒸留して、アリルトリクロロシラ
ン０．５８ｇ（沸点１１７〜１１８℃、収率４５％）を
得た。
【００４７】実施例１４ 塩化アリルとトリクロロシラ
ンとの反応（触媒としてＰＰｈ3およびＣｕＣｌを使
用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．０３７ｇ（０．
１４mmol）、塩化銅（Ｉ）１．４mg（０．０１４mmo
l）、塩化アリル１．０７ｇ（１４．０mmol）およびト
リクロロシラン９．４８ｇ（７０．０mmol）を仕込み、
温度１５０℃で１０時間撹拌した後、反応物を常圧およ
び減圧下で逐次蒸留して、アリルトリクロロシラン０．
５ｇ（沸点１１７〜１１８℃、収率２０％）、プロピル
トリクロロシラン０．５１ｇ（沸点１２３〜１２５℃、
収率２０％）および１，３−ビス（トリクロロシリル）
プロパン０．７３ｇ（沸点８８〜９０℃／１．６６kPa
｛１２．５Torr｝、収率１７％）を得た。 アリルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.35〜2.37 (d, 2H,CH2), 5.18〜5.24 (m, 2H, CH
2=), 5.71〜5.85 (m, 1H, -CH=).
ンとの反応（触媒としてＰＰｈ3およびＣｕＣｌを使
用） 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．０３７ｇ（０．
１４mmol）、塩化銅（Ｉ）１．４mg（０．０１４mmo
l）、塩化アリル１．０７ｇ（１４．０mmol）およびト
リクロロシラン９．４８ｇ（７０．０mmol）を仕込み、
温度１５０℃で１０時間撹拌した後、反応物を常圧およ
び減圧下で逐次蒸留して、アリルトリクロロシラン０．
５ｇ（沸点１１７〜１１８℃、収率２０％）、プロピル
トリクロロシラン０．５１ｇ（沸点１２３〜１２５℃、
収率２０％）および１，３−ビス（トリクロロシリル）
プロパン０．７３ｇ（沸点８８〜９０℃／１．６６kPa
｛１２．５Torr｝、収率１７％）を得た。 アリルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.35〜2.37 (d, 2H,CH2), 5.18〜5.24 (m, 2H, CH
2=), 5.71〜5.85 (m, 1H, -CH=).
【００４８】実施例１５ 臭化アリルとトリクロロシラ
ンとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．０３７ｇ（０．
１４mmol）、臭化アリル１．６９ｇ（１４．０mmol）お
よびトリクロロシラン９．４８ｇ（７０．０mmol）を仕
込み、温度１５０℃で２時間撹拌した後、反応物を常圧
で蒸留して、アリルトリクロロシラン２．３７ｇ（沸点
１１７〜１１８℃、収率９５％）を得た。 アリルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.35〜2.37 (d, 2H,CH2), 5.18〜5.24 (m, 2H, CH
2=), 5.71〜5.85 (m, 1H, -CH=).
ンとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．０３７ｇ（０．
１４mmol）、臭化アリル１．６９ｇ（１４．０mmol）お
よびトリクロロシラン９．４８ｇ（７０．０mmol）を仕
込み、温度１５０℃で２時間撹拌した後、反応物を常圧
で蒸留して、アリルトリクロロシラン２．３７ｇ（沸点
１１７〜１１８℃、収率９５％）を得た。 アリルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.35〜2.37 (d, 2H,CH2), 5.18〜5.24 (m, 2H, CH
2=), 5.71〜5.85 (m, 1H, -CH=).
【００４９】実施例１６ 塩化クロチルとトリクロロシ
ランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．０６１ｇ
（０．３０mmol）、塩化クロチル０．２７２ｇ（１４．
９mmol）およびトリクロロシラン２．０２ｇ（７０．０
mmol）を仕込み、温度１５０℃で１時間３０分撹拌した
後、反応物を常圧で蒸留して、クロチルトリクロロシラ
ン０．４０ｇ（収率６５％）を得た。 クロチルトリクロロシラン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z
（相対強度）; 190 (7),188 (7), 135 (10), 63 (7), 5
6 (6), 55 (100), 54 (11), 53 (8).
ランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．０６１ｇ
（０．３０mmol）、塩化クロチル０．２７２ｇ（１４．
９mmol）およびトリクロロシラン２．０２ｇ（７０．０
mmol）を仕込み、温度１５０℃で１時間３０分撹拌した
後、反応物を常圧で蒸留して、クロチルトリクロロシラ
ン０．４０ｇ（収率６５％）を得た。 クロチルトリクロロシラン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z
（相対強度）; 190 (7),188 (7), 135 (10), 63 (7), 5
6 (6), 55 (100), 54 (11), 53 (8).
【００５０】実施例１７ 塩化ベンジルとトリクロロシ
ランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、塩化べンジル０．９５ｇ（７．５mm
ol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ（３７．５mmo
l）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹拌した後、反応
物を減圧下で蒸留して、べンジルトリクロロシラン１．
６ｇ（沸点１４０〜１４２℃／１．３３kPa｛１０Tor
r｝、収率９６％）を得た。 ベンジルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，p
pm）: 2.92 (s, 2H, CH2), 7.29〜7.36 (m, 5H, ArH).
ランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、塩化べンジル０．９５ｇ（７．５mm
ol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ（３７．５mmo
l）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹拌した後、反応
物を減圧下で蒸留して、べンジルトリクロロシラン１．
６ｇ（沸点１４０〜１４２℃／１．３３kPa｛１０Tor
r｝、収率９６％）を得た。 ベンジルトリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，p
pm）: 2.92 (s, 2H, CH2), 7.29〜7.36 (m, 5H, ArH).
【００５１】実施例１８ ４−フルオロベンジルクロリ
ドとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、４−フルオロベンジルクロリド１．
０８ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８
ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹
拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、（４−フルオロ
ベンジル）トリクロロシラン１．６ｇ（沸点５６℃／
１．７３kPa｛１３Torr｝、収率９６％）を得た。 （４−フルオロベンジル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１3，ppm）:2.89 (s, 2H, CH2), 7.00〜7.20
(m, 4H, ArH).
ドとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、４−フルオロベンジルクロリド１．
０８ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８
ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹
拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、（４−フルオロ
ベンジル）トリクロロシラン１．６ｇ（沸点５６℃／
１．７３kPa｛１３Torr｝、収率９６％）を得た。 （４−フルオロベンジル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１3，ppm）:2.89 (s, 2H, CH2), 7.00〜7.20
(m, 4H, ArH).
【００５２】実施例１９ ４−クロロベンジルクロリド
とトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、４−クロロベンジルクロリド１．２
１ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ
（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹拌
した後、反応物を減圧下で蒸留して、（４−クロロベン
ジル）トリクロロシラン１．８ｇ（沸点８０℃／１．３
３kPa｛１０Torr｝、収率９２％）を得た。 （４−クロロベンジル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 2.93 (s, 2H, CH2), 7.29〜7.38
(m, 4H, ArH).
とトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、４−クロロベンジルクロリド１．２
１ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８ｇ
（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹拌
した後、反応物を減圧下で蒸留して、（４−クロロベン
ジル）トリクロロシラン１．８ｇ（沸点８０℃／１．３
３kPa｛１０Torr｝、収率９２％）を得た。 （４−クロロベンジル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 2.93 (s, 2H, CH2), 7.29〜7.38
(m, 4H, ArH).
【００５３】実施例２０ ４−メトキシベンジルクロリ
ドとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリシクロヘキシルホスフィン０．０５６ｇ
（０．２mmol）、４−メトキシベンジルクロリド０．２
７１ｇ（２．０mmol）およびトリクロロシラン１．００
ｇ（９．９１mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹
拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、１−（トリクロ
ロシリルメチル）−４−メトキシベンゼン０．２３ｇ
（収率４７％）を得た。 １−（トリクロロシリルメチル）−４−メトキシベンゼ
ン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 256 (7),
254 (7), 135 (5), 133 (5), 122 (9), 121 (100), 78
(10), 77 (8), 51 (6).
ドとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリシクロヘキシルホスフィン０．０５６ｇ
（０．２mmol）、４−メトキシベンジルクロリド０．２
７１ｇ（２．０mmol）およびトリクロロシラン１．００
ｇ（９．９１mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹
拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、１−（トリクロ
ロシリルメチル）−４−メトキシベンゼン０．２３ｇ
（収率４７％）を得た。 １−（トリクロロシリルメチル）−４−メトキシベンゼ
ン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 256 (7),
254 (7), 135 (5), 133 (5), 122 (9), 121 (100), 78
(10), 77 (8), 51 (6).
【００５４】実施例２１ ４−フェニルベンジルクロリ
ドとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、４−フェニルベンジルクロリド１．
５２ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８
ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹
拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、（４−フェニル
ベンジル）トリクロロシラン２．０ｇ（融点６０〜６５
℃、収率９０％）を得た。 （４−フェニルベンジル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3，ppm）:2.90 (s, 2H, CH2), 7.20〜7.40
(m, 9H, ArH).
ドとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、４−フェニルベンジルクロリド１．
５２ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン５．０８
ｇ（３７．５mmol）を仕込み、温度１５０℃で２時間撹
拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、（４−フェニル
ベンジル）トリクロロシラン２．０ｇ（融点６０〜６５
℃、収率９０％）を得た。 （４−フェニルベンジル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3，ppm）:2.90 (s, 2H, CH2), 7.20〜7.40
(m, 9H, ArH).
【００５５】実施例２２ 塩化アリルとメチルジクロロ
シランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．３４ｇ（１．４
mmol）、塩化アリル１．０７ｇ（１４．０mmol）および
メチルジクロロシラン８．０５ｇ（７０．０mmol）を仕
込み、温度１５０℃で１０時間撹拌した後、反応物を常
圧で蒸留して、アリルメチルジクロロシラン０．４ｇ
（沸点１１９〜１２０℃、収率２０％）、および副生物
としてアリルメチルクロロシラン０．１ｇ（沸点８５〜
９０℃、収率５％）を得た。 アリルメチルクロロシラン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z
（相対強度）: 156 (13),154 (18), 141 (13), 139 (2
0), 117 (13), 115 (70), 114 (9), 113 (100), 65
(7), 63 (22).
シランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．３４ｇ（１．４
mmol）、塩化アリル１．０７ｇ（１４．０mmol）および
メチルジクロロシラン８．０５ｇ（７０．０mmol）を仕
込み、温度１５０℃で１０時間撹拌した後、反応物を常
圧で蒸留して、アリルメチルジクロロシラン０．４ｇ
（沸点１１９〜１２０℃、収率２０％）、および副生物
としてアリルメチルクロロシラン０．１ｇ（沸点８５〜
９０℃、収率５％）を得た。 アリルメチルクロロシラン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z
（相対強度）: 156 (13),154 (18), 141 (13), 139 (2
0), 117 (13), 115 (70), 114 (9), 113 (100), 65
(7), 63 (22).
【００５６】実施例２３ 塩化ベンジルとメチルジクロ
ロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、塩化べンジル０．９５ｇ（７．５mm
ol）およびメチルジクロロシラン４．３１ｇ（３７．５
mmol）を仕込み、温度２００℃で２時間撹拌した後、反
応物を常圧で蒸留して、べンジルメチルジクロロシラン
０．３１ｇ（沸点２１４〜２１５℃／９８．４kPa｛７
４０Torr｝、収率２０％）を得た。 ベンジルメチルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3，ppm）: 0.96 (s, 3H,SiCH3), 2.85 (s, 2H, CH2),
7.29〜7.36 (m, 5H, ArH).
ロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．１５ｇ
（０．７５mmol）、塩化べンジル０．９５ｇ（７．５mm
ol）およびメチルジクロロシラン４．３１ｇ（３７．５
mmol）を仕込み、温度２００℃で２時間撹拌した後、反
応物を常圧で蒸留して、べンジルメチルジクロロシラン
０．３１ｇ（沸点２１４〜２１５℃／９８．４kPa｛７
４０Torr｝、収率２０％）を得た。 ベンジルメチルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
3，ppm）: 0.96 (s, 3H,SiCH3), 2.85 (s, 2H, CH2),
7.29〜7.36 (m, 5H, ArH).
【００５７】実施例２４ 塩化ベンジルとジクロロシラ
ンとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．２１ｇ
（０．８４mmol）、塩化べンジル０．９７ｇ（８．４mm
ol）およびジクロロシラン１．７ｇ（１６．８mmol）を
仕込み、温度１５０℃で３時間撹拌した後、反応物を減
圧下で蒸留して、べンジルジクロロシランとベンジルト
リクロロシランの混合物１．５１ｇを得た。該混合物の
ガスクロマトグラフィーの結果から、べンジルジクロロ
シランの収率は２３％、ベンジルトリクロロシランの収
率は６０％であった。 ベンジルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.76 (s, J=2.OHz,2H, CH2), 5.54 (9t, J=2.OHz,
1H, SiH), 7.18〜7.37 (m, 5H, ArH).
ンとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．２１ｇ
（０．８４mmol）、塩化べンジル０．９７ｇ（８．４mm
ol）およびジクロロシラン１．７ｇ（１６．８mmol）を
仕込み、温度１５０℃で３時間撹拌した後、反応物を減
圧下で蒸留して、べンジルジクロロシランとベンジルト
リクロロシランの混合物１．５１ｇを得た。該混合物の
ガスクロマトグラフィーの結果から、べンジルジクロロ
シランの収率は２３％、ベンジルトリクロロシランの収
率は６０％であった。 ベンジルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，pp
m）: 2.76 (s, J=2.OHz,2H, CH2), 5.54 (9t, J=2.OHz,
1H, SiH), 7.18〜7.37 (m, 5H, ArH).
【００５８】実施例２５ 塩化アリルとジクロロシラン
との反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．８０ｇ（３．１
mmol）、塩化アリル１．２５ｇ（１５．３mmol）および
ジクロロシラン３．１ｇ（３１mmol）を仕込み、温度１
５０℃で１時間２０分撹拌した後、反応物を常圧で蒸留
して、アリルジクロロシランとアリルトリクロロシラン
との混合物１．００ｇを得た。該混合物のガスクロマト
グラフィーの結果から、アリルジクロロシランの収率は
１３％、アリルトリクロロシランの収率は２０％であっ
た。 アリルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3，pp
m）: 2.17〜2.19 (d, 2H, SiCH2), 5.13〜5.18 (m, 2H,
CH2=), 5.47 (t, J=1.8Hz, 1H, SiH), 5.71〜5.85(m,
1H, CH=).
との反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．８０ｇ（３．１
mmol）、塩化アリル１．２５ｇ（１５．３mmol）および
ジクロロシラン３．１ｇ（３１mmol）を仕込み、温度１
５０℃で１時間２０分撹拌した後、反応物を常圧で蒸留
して、アリルジクロロシランとアリルトリクロロシラン
との混合物１．００ｇを得た。該混合物のガスクロマト
グラフィーの結果から、アリルジクロロシランの収率は
１３％、アリルトリクロロシランの収率は２０％であっ
た。 アリルジクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3，pp
m）: 2.17〜2.19 (d, 2H, SiCH2), 5.13〜5.18 (m, 2H,
CH2=), 5.47 (t, J=1.8Hz, 1H, SiH), 5.71〜5.85(m,
1H, CH=).
【００５９】実施例２６ 塩化メチレンとトリクロロシ
ランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、塩化メチレン０．６４ｇ（７．５mmo
l）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７５．０mmo
l）を仕込み、温度１５０℃で６時間撹拌した後、反応
物を常圧で蒸留して、少量のビス（トリクロロシリル）
メタンを得た。ビス（トリクロロシリル）メタン Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.59 (s, SiCH2).
ランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、塩化メチレン０．６４ｇ（７．５mmo
l）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７５．０mmo
l）を仕込み、温度１５０℃で６時間撹拌した後、反応
物を常圧で蒸留して、少量のビス（トリクロロシリル）
メタンを得た。ビス（トリクロロシリル）メタン Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.59 (s, SiCH2).
【００６０】実施例２７ １，２−ジクロロエタンとト
リクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１，２−ジクロロエタン０．７４ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７
５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌し
た後、反応物を常圧で蒸留して、１，２−ビス（トリク
ロロシリル）エタン１．５ｇ（沸点２０１℃、収率６７
％）、および副生物として２−（クロロエチル）トリク
ロロシラン０．１ｇ（沸点１５２〜１５３℃、収率５
％）を得た。 １，２−ビス（トリクロロシリル）エタン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣ１3，ppm）: 1.59 (s, 4H, SiCH2).
リクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１，２−ジクロロエタン０．７４ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７
５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌し
た後、反応物を常圧で蒸留して、１，２−ビス（トリク
ロロシリル）エタン１．５ｇ（沸点２０１℃、収率６７
％）、および副生物として２−（クロロエチル）トリク
ロロシラン０．１ｇ（沸点１５２〜１５３℃、収率５
％）を得た。 １，２−ビス（トリクロロシリル）エタン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣ１3，ppm）: 1.59 (s, 4H, SiCH2).
【００６１】実施例２８ １，３−ジクロロプロパンと
トリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１，３−ジクロロプロパン０．８５ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７
５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌し
た後、反応物を減圧下で蒸留して、１，３−ビス（トリ
クロロシリル）プロパン１．６ｇ（沸点１０４℃／１．
６６kPa｛１２．５Torr｝、収率７０％）、および副生
物として３−（クロロプロピル）トリクロロシラン０．
３ｇ（沸点８８〜９０℃／１．６６kPa｛１２．５Tor
r｝、収率２０％）を得た。 １，３−ビス（トリクロロシリル）プロパン Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3，ppm）:1.56 (m, 4H, SiCH2), 1.92 (m,
2H, CH2). ３−（クロロプロピル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.58 (m, 2H, SiCH2), 2.06 (m,
2H, CH2), 3.61 (t, J=6.48, 2H, CH2Cl).
トリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１，３−ジクロロプロパン０．８５ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７
５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１２時間撹拌し
た後、反応物を減圧下で蒸留して、１，３−ビス（トリ
クロロシリル）プロパン１．６ｇ（沸点１０４℃／１．
６６kPa｛１２．５Torr｝、収率７０％）、および副生
物として３−（クロロプロピル）トリクロロシラン０．
３ｇ（沸点８８〜９０℃／１．６６kPa｛１２．５Tor
r｝、収率２０％）を得た。 １，３−ビス（トリクロロシリル）プロパン Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ3，ppm）:1.56 (m, 4H, SiCH2), 1.92 (m,
2H, CH2). ３−（クロロプロピル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.58 (m, 2H, SiCH2), 2.06 (m,
2H, CH2), 3.61 (t, J=6.48, 2H, CH2Cl).
【００６２】実施例２９ １−ブロモ−３−クロロプロ
パンとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１−ブロモ−３−クロロプロパン１．
１８ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２
ｇ（７５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１８時間
撹拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、１，３−ビス
（トリクロロシリル）プロパン１．１ｇ（沸点１０４℃
／１．６６kPa｛１２．５Torr｝、収率４８％）、なら
びに副生物として、３−（ブロモプロピル）トリクロロ
シリル０．３ｇ（収率２１％）および３−（クロロプロ
ピル）トリクロロシラン０．２ｇ（沸点８８〜９０℃／
１．６６kPa｛１２．５Torr｝、収率１１％）を得た。 ３−（クロロプロピル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣ１3，ppm）: 1.58 (m, 2H, SiCH2), 2.06 (m,
2H, CH2), 3.61 (t, J=6.5, 2H, CH2Cl).
パンとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１−ブロモ−３−クロロプロパン１．
１８ｇ（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２
ｇ（７５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で１８時間
撹拌した後、反応物を減圧下で蒸留して、１，３−ビス
（トリクロロシリル）プロパン１．１ｇ（沸点１０４℃
／１．６６kPa｛１２．５Torr｝、収率４８％）、なら
びに副生物として、３−（ブロモプロピル）トリクロロ
シリル０．３ｇ（収率２１％）および３−（クロロプロ
ピル）トリクロロシラン０．２ｇ（沸点８８〜９０℃／
１．６６kPa｛１２．５Torr｝、収率１１％）を得た。 ３−（クロロプロピル）トリクロロシラン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣ１3，ppm）: 1.58 (m, 2H, SiCH2), 2.06 (m,
2H, CH2), 3.61 (t, J=6.5, 2H, CH2Cl).
【００６３】実施例３０ １，４−ジクロロブタンとト
リクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１，４−ジクロロブタン０．９６ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７
５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で２４時間撹拌し
た後、反応物を減圧下で蒸留して、１，４−ビス（トリ
クロロシリル）ブタン２．０ｇ（沸点１０４℃／１．６
６kPa｛１２．５Torr｝、収率８４％）を得た。 １，４−ビス（トリクロロシリル）ブタン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.46 (m, 4H, SiCH3), 1.73 (m,
4H, CH2).
リクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．３０ｇ
（１．５mmol）、１，４−ジクロロブタン０．９６ｇ
（７．５mmol）およびトリクロロシラン１０．２ｇ（７
５．０mmol）を仕込み、温度１５０℃で２４時間撹拌し
た後、反応物を減圧下で蒸留して、１，４−ビス（トリ
クロロシリル）ブタン２．０ｇ（沸点１０４℃／１．６
６kPa｛１２．５Torr｝、収率８４％）を得た。 １，４−ビス（トリクロロシリル）ブタン Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ3，ppm）: 1.46 (m, 4H, SiCH3), 1.73 (m,
4H, CH2).
【００６４】実施例３１ １，４−ビス（クロロメチ
ル）ベンゼンとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．０４０ｇ
（０．２mmol）、１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼ
ン０．３５ｇ（２．０mmol）、トリクロロシラン１．３
４ｇ（９．９１mmol）およびベンゼン１０mlを仕込み、
温度１５０℃で１時間３０分反応させた後、反応物を減
圧下で蒸留して、１−クロロメチル−４−（トリクロロ
シリルメチル）ベンゼン０．１９ｇ（収率３４％）と、
１，４−ビス（トリクロロシリルメチル）ベンゼン０．
２１ｇ（収率２８％）とを分離した。 １−クロロメチル−４−（トリクロロシリルメチル）ベ
ンゼン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 274
(923), 272 (17), 241 (37), 239 (99), 238 (17), 237
(100), 139(33), 104 (39), 103 (32), 77 (20). １，４−ビス（トリクロロシリルメチル）ベンゼン Ｍ
Ｓ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 372 (15), 241
(38), 240 (16), 239 (99), 238 (17), 237 (100), 134
(13), 132 (14), 104 (27), 103 (19).
ル）ベンゼンとトリクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリ−ｎ−ブチルホスフィン０．０４０ｇ
（０．２mmol）、１，４−ビス（クロロメチル）ベンゼ
ン０．３５ｇ（２．０mmol）、トリクロロシラン１．３
４ｇ（９．９１mmol）およびベンゼン１０mlを仕込み、
温度１５０℃で１時間３０分反応させた後、反応物を減
圧下で蒸留して、１−クロロメチル−４−（トリクロロ
シリルメチル）ベンゼン０．１９ｇ（収率３４％）と、
１，４−ビス（トリクロロシリルメチル）ベンゼン０．
２１ｇ（収率２８％）とを分離した。 １−クロロメチル−４−（トリクロロシリルメチル）ベ
ンゼン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 274
(923), 272 (17), 241 (37), 239 (99), 238 (17), 237
(100), 139(33), 104 (39), 103 (32), 77 (20). １，４−ビス（トリクロロシリルメチル）ベンゼン Ｍ
Ｓ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 372 (15), 241
(38), 240 (16), 239 (99), 238 (17), 237 (100), 134
(13), 132 (14), 104 (27), 103 (19).
【００６５】実施例３２ １，２−ビス（クロロメチ
ル）ベンゼンとジクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．７３ｇ（２．８
mmol）、１，２−ビス（クロロメチル）ベンゼン４．９
ｇ（２８mmol）、ジクロロシラン１．７ｇ（１７mmol）
およびベンゼン１０mlを仕込み、温度１５０℃で３時間
反応させた後、反応物を減圧下で蒸留して、１−クロロ
メチル−２−（トリクロロシリルメチル）ベンゼン２．
３３ｇ（収率５０％）を分離した。 １−クロロメチル−２−（トリクロロシリルメチル）ベ
ンゼン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 274
(28), 272 (22), 241 (37), 239 (100), 237 (100), 13
9 (57), 104 (50), 103 (54), 78 (24), 77 (33).
ル）ベンゼンとジクロロシランとの反応 実施例１と同様な方法により、２５mlステンレス製管状
反応器に、トリフェニルホスフィン０．７３ｇ（２．８
mmol）、１，２−ビス（クロロメチル）ベンゼン４．９
ｇ（２８mmol）、ジクロロシラン１．７ｇ（１７mmol）
およびベンゼン１０mlを仕込み、温度１５０℃で３時間
反応させた後、反応物を減圧下で蒸留して、１−クロロ
メチル−２−（トリクロロシリルメチル）ベンゼン２．
３３ｇ（収率５０％）を分離した。 １−クロロメチル−２−（トリクロロシリルメチル）ベ
ンゼン ＭＳ（７０eV，ＥＩ）m/z（相対強度）: 274
(28), 272 (22), 241 (37), 239 (100), 237 (100), 13
9 (57), 104 (50), 103 (54), 78 (24), 77 (33).
【００６６】
【発明の効果】本発明によって、有機アミンよりも塩基
性が低い有機第三級ホスフィン化合物を触媒として用い
ることにより、広範囲の有機ハロゲン化合物とＳｉ−Ｈ
結合含有シラン化合物との間で、脱ハロゲン化水素反応
を行い、各種の有機ケイ素化合物を製造することが可能
である。特に、該有機ハロゲン化合物としてハロゲン化
アルキル基含有有機シラン化合物を用いることにより、
複数のケイ素原子を有するシルアルキレン化合物を容易
に得ることができる。また、有機アミンを用いる方法に
比べて、生成物の分離および回収が容易であり、高い収
率で目的物を得ることができる。
性が低い有機第三級ホスフィン化合物を触媒として用い
ることにより、広範囲の有機ハロゲン化合物とＳｉ−Ｈ
結合含有シラン化合物との間で、脱ハロゲン化水素反応
を行い、各種の有機ケイ素化合物を製造することが可能
である。特に、該有機ハロゲン化合物としてハロゲン化
アルキル基含有有機シラン化合物を用いることにより、
複数のケイ素原子を有するシルアルキレン化合物を容易
に得ることができる。また、有機アミンを用いる方法に
比べて、生成物の分離および回収が容易であり、高い収
率で目的物を得ることができる。
【００６７】本発明によって得られる有機ケイ素化合物
は、そのケイ素官能性を利用して、各種の高分子材料の
中間体として有用である。
は、そのケイ素官能性を利用して、各種の高分子材料の
中間体として有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 趙 燃▲そく▼
大韓民国ソウル特別市城北区下月谷洞39
−１ キストアパート９
(72)発明者 韓 準秀
大韓民国ソウル特別市廣津区廣壯洞565
現代アパート801−2401
(56)参考文献 特開 昭50−95228（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07F 7/12
Claims (8)
- 【請求項１】 （Ａ）一般式（１）： ＨＳｉＲ1Ｃｌ2 （１） （式中、Ｒ1は、水素原子、塩素原子、炭素数１〜６の
アルキル基またはフェニル基である）で示されるＳｉ−
Ｈ結合含有シラン化合物と、（Ｂ）一般式（２）： Ｒ2ＣＨ2Ｘ （２） 〔式中、 Ｘは、塩素原子または臭素原子であり；Ｒ2は、炭素数
１〜１７のアルキル基；炭素数１〜１０で、１個以上の
フッ素原子で置換されているフルオロアルキル基；炭素
数２〜５のアルケニル基；一般式：−（ＣＨ2)nＳｉ(Ｃ
Ｈ3)3-mＣｌm（式中、ｎは、０〜２の数であり；ｍは、
０〜３の数である）で示されるケイ素含有基；一般式：
−Ａｒ（Ｒ3)q（式中、Ａｒは、炭素数６〜１４の芳香
族炭化水素基であり、Ｒ3は、炭素数１〜４のアルキル
基、ビニル基、炭素数１〜４のアルコキシ基もしくはハ
ロゲン原子であり；ｑは、０〜５の数である）で示され
る非置換または置換の１価の芳香族炭化水素基；一般
式：−（ＣＨ2)pＸ（式中、Ｘは、前述のとおりであ
り；ｐは、０〜９の数である）で示されるハロゲン原子
もしくは直鎖状ハロアルキル基；あるいは一般式：−Ａ
ｒＣＨ2Ｘ（式中、ＡｒおよびＸは、前述のとおりであ
る）で示される１価のハロメチル化芳香族基である〕で
示される有機ハロゲン化合物とを、（Ｃ）第三級ホスフ
ィン化合物の存在下に脱ハロゲン化水素反応させて、
（Ｄ）一般式（３）： Ｒ4ＣＨ2ＳｉＲ1Ｃｌ2 （３） 〔式中、 Ｒ1は、前述のとおりであり；Ｒ4は、Ｒ2と同じ意味を
有するか、Ｒ2が（ＣＨ2)pＸまたはＡｒＣＨ2Ｘである
場合、−（ＣＨ2)pＳｉＲ1Ｃｌ2または−ＡｒＣＨ2Ｓｉ
Ｒ1Ｃｌ2であってもよい〕で示される有機ケイ素化合物
を製造する方法。 - 【請求項２】 該Ｒ1が、水素原子、塩素原子またはメ
チル基である、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 該第三級ホスフィン化合物が、一般式：
ＰＲ5 3（式中、Ｒ5は、たがいに同一でも異なっていて
もよく、炭素数１〜１２の、基中にフェニル基を含んで
いてもよいアルキル基；シクロヘキシル基またはフェニ
ル基である）で示される、請求項１または２記載の方
法。 - 【請求項４】 該第三級ホスフィン化合物が、一般式：
Ｒ5 2Ｐ（ＣＨ2)yＰＲ5 2（式中、Ｒ5は、前述のとおりで
あり；ｙは、１〜６の数である）で示される、請求項１
または２記載の方法。 - 【請求項５】 該第三級ホスフィン化合物が、一般式：
ＰＲ5 3（式中、Ｒ5は、前述のとおりである）で示され
る配位子を有する金属錯体である、請求項１または２記
載の方法。 - 【請求項６】 該第三級有機ホスフィン化合物の量が、
一般式（２）で示される有機ハロゲン化合物に対して１
〜１００モル％である、請求項１〜５のいずれか１項に
記載の方法。 - 【請求項７】 さらに、塩化銅（Ｉ）を存在させる、請
求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項８】 反応を１０〜２５０℃で行う、請求項１
〜７のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR13006/1999 | 1999-04-13 | ||
| KR1019990013006A KR100306574B1 (ko) | 1999-04-13 | 1999-04-13 | 탈할로겐화수소 반응으로 유기할로겐 화합물에 실란을 결합시키는 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000297091A JP2000297091A (ja) | 2000-10-24 |
| JP3361498B2 true JP3361498B2 (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=19579779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000015275A Expired - Fee Related JP3361498B2 (ja) | 1999-04-13 | 2000-01-25 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3361498B2 (ja) |
| KR (1) | KR100306574B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100453211B1 (ko) * | 2000-11-01 | 2004-10-15 | 한국과학기술연구원 | 유기 실란의 제조방법 |
| KR100487904B1 (ko) * | 2002-04-16 | 2005-05-06 | 한국과학기술연구원 | 환원성 탈산소 실릴화 반응에 의한 유기 실란의 제조방법 |
| KR100491960B1 (ko) * | 2002-05-07 | 2005-05-30 | 한국과학기술연구원 | 이중 규소화반응에 의한 유기 규소화합물의 제조방법 |
| US7504470B2 (en) * | 2004-08-31 | 2009-03-17 | Silecs Oy | Polyorganosiloxane dielectric materials |
| KR100636296B1 (ko) | 2005-03-21 | 2006-10-19 | 한국과학기술연구원 | (유기티오메틸)클로로실란 유도체와 이의 제조방법 |
| KR100928942B1 (ko) * | 2008-05-26 | 2009-11-30 | 제이에스아이실리콘주식회사 | 직선형이나 고리형의 트리실라알칸의 제조방법 |
| DE102009046121A1 (de) * | 2009-10-28 | 2011-05-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55145693A (en) * | 1979-05-02 | 1980-11-13 | Chisso Corp | Preparation of 3-chloropropyltrichlorosilane |
-
1999
- 1999-04-13 KR KR1019990013006A patent/KR100306574B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-01-25 JP JP2000015275A patent/JP3361498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20000066127A (ko) | 2000-11-15 |
| JP2000297091A (ja) | 2000-10-24 |
| KR100306574B1 (ko) | 2001-09-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3856081B2 (ja) | ハロプロピルジメチルクロロシラン化合物の製造方法 | |
| JP3361498B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| US6251057B1 (en) | Dehydrohalogenative coupling reaction of organic halides with silanes | |
| JPH05255355A (ja) | ビスシリルアルカンの製造方法 | |
| JPH0832711B2 (ja) | ジシリル化合物及びその製造方法 | |
| US4059607A (en) | Preparation of hydrocarbon chlorosilanes from polysilanes | |
| US6392077B1 (en) | Process for preparing organochlorosilanes by dehydrohalogenative coupling reaction of alkyl halides with chlorosilanes | |
| KR100453211B1 (ko) | 유기 실란의 제조방법 | |
| JP5474945B2 (ja) | 直線状や環状トリシラアルカンの製造方法 | |
| JP2976011B2 (ja) | ３―クロロプロピルトリアルコキシシラン類の製造方法 | |
| US8278472B2 (en) | Method of preparing allylchlorosilane derivative | |
| JP7168766B2 (ja) | ジクロロシランを脱水素化する方法 | |
| KR100356692B1 (ko) | 탈할로겐화수소 반응에 의한 유기실란의 합성방법 | |
| Han et al. | Direct Synthesis of Tris (chlorosilyl) methanes Containing Si− H Bonds | |
| JP2511244B2 (ja) | トリス（シリル）アルカンとその製造方法 | |
| Belzner et al. | Synthesis of di-and trisilanes with potentially chelating substituents | |
| KR20060121283A (ko) | 디페닐클로로실란의 함량을 증가시키는 그리냐드 공정 | |
| Luderer et al. | Preparation and Synthetic Utility of 1‐Trimethylsiloxyalkyl‐bis (trimethylsilyl) silanes,(Me3Si) 2SiH–C (OSiMe3) R1R2 | |
| KR20200015644A (ko) | 폴리실릴알칸의 제조방법 | |
| KR100491960B1 (ko) | 이중 규소화반응에 의한 유기 규소화합물의 제조방법 | |
| KR100469945B1 (ko) | 비닐클로로실란의제조방법 | |
| Jung et al. | Si–C coupling reaction of polychloromethanes with HSiCl3 in the presence of Bu4PCl: Convenient synthetic method for bis (chlorosilyl) methanes | |
| KR20160036020A (ko) | 폴리실릴알칸의 제조방법 | |
| JPS6059917B2 (ja) | シス−１，２−ジシリルアルケン化合物 | |
| KR950004175B1 (ko) | 트리스실릴알칸들과 그 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071018 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |