JP3355215B2 - 4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−3,3―ビス(トリフルオロメチル)−1−ヘキサノール、及びその製造方法 - Google Patents

4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−3,3―ビス(トリフルオロメチル)−1−ヘキサノール、及びその製造方法

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JP3355215B2
JP3355215B2 JP10038393A JP10038393A JP3355215B2 JP 3355215 B2 JP3355215 B2 JP 3355215B2 JP 10038393 A JP10038393 A JP 10038393A JP 10038393 A JP10038393 A JP 10038393A JP 3355215 B2 JP3355215 B2 JP 3355215B2
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hexanol
trifluoromethyl
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heptafluoro
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伸之 中山
正明 安藤
和仁 出山
弘之 小濱
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Neos Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、摺動性、潤滑性、高い
蒸気圧、および撥水撥油性等の特性を有する化学的に安
定な含フッ素アルコール及びその製造方法を提供するも
のである。該含フッ素アルコールは、高分子改質剤、プ
ラスチック添加剤、作動流体、洗浄剤、摺動剤、潤滑
剤、及び撥水撥油剤等として使用される。また、種々の
農薬や医薬の原料として有用なものである。
【0002】
【従来の技術】フルオロカーボン鎖を有する化合物はそ
の特異的な物理的、化学的性質から高分子、界面活性
剤、医薬品、農薬など、あらゆる産業分野において注目
されている。特に長鎖のフルオロカーボン鎖としてパー
フルオロアルケニル基を有する化合物は、テトラフルオ
ロエチレンやヘキサフルオロプロペン等から比較的簡単
な方法で誘導することができ、多くの誘導体が報告され
ている。
【0003】また、種々の用途に対応するするために、
これらパーフルオロ基に官能基、親水基を導入すること
が試みられている。特に水酸基を含有する化合物が望ま
れている。更に、フッ素の特徴を出すために、分子中の
フッ素の含有率の高い、つまりフッ素と結合しない炭素
鎖が少ないアルコールが望まれている。
【0004】従来、含フッ素アルコールの合成方法とし
て報告されている方法(J.FluorineChem.1988,41,191-2
12)は、式(3)の化合物を出発原料としており、これ
から水和反応によりアルコールを得ている。
【0005】
【化3】 この報告中に記載がある水和反応は、1)メルクリ化−
脱メルクリ反応(日本化学会編、実験化学講座、第4
版、1992,20巻、71頁)を行った後に還元する方法、
2)ヒドロホウ素化(日本化学会編、実験化学講座、第
4版、1992,20巻,72頁)の2種類がある。ただし、1)
の水和反応では還元方法が、2種類(パラジウム触媒を
用いる接触水素化、及び、水素化リチウムアルミニウム
を用いる還元)検討されている。いずれの水和反応にお
いても、基本的には付加反応であり炭素数が減少するこ
とはなく、この方法では、式(4)、式(5)の化合物
の合成に限られ、本発明が提供する水素の付いた炭素が
1少ない本発明の式(1)の化合物は合成し得ない。
【0006】
【化4】
【0007】
【化5】
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記の様な問題点を解
決するために、本発明はフッ素含有量が高い新規な含フ
ッ素アルコール、及び、該化合物のより簡単に高収率で
得る製造方法を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は新規な含フッ素
アルコールに関し、一般式(2)の化合物を還元するに
より得られる式(1)で表される4,4,5,5,6,
6,6−ヘプタフルオロ−3,3−ビス(トリフルオロ
メチル)−1−ヘキサノールを提供する。
【0010】
【化6】 (Rは、水素、アルキル基、またはアリール基を表
す。)
【0011】
【化7】
【0012】一般式(2)中のRは、水素、アルキル
基、アリール基を表す。
【0013】一般式(2)の化合物は、一般的にパーフ
ルオロプロペン二量体とハロゲン化酢酸エステルとの常
法による反応によって得られる。
【0014】一般式(2)の化合物の還元反応には、水
素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミ
ニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ホウ
素ナトリウム等の試薬が用いられるが、特に水素化リチ
ウムアルミニウムが好ましい。使用量は、出発物質1モ
ルに対し0.25モル〜2.5モル用いるのが好まし
い。
【0015】またこの反応は、溶媒中で行われ、溶媒と
してはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系溶媒が用いられるが、特にジエチル
エーテル、テトラヒドロフランが好ましい。更にこの反
応は、水分の存在は好ましくなく、可能な限り水分を除
去して行うとよい。反応温度は、一般に溶媒の還流温度
で行えばよい。
【0016】
【実施例】 実施例 窒素導入管、冷却器、水浴メカニカルスターラー、温度
計、及び、等圧ロートを備えた充分に乾燥済みの4口フ
ラスコ(300ml)に、窒素気流下無水エーテル180
ml、及び、粉末状水素化リチウム アルミニウム3.06
gを加えスラリー状とした。これに攪拌下、等圧ロート
よりフッ素化エステルC613CH2COOEtの20.
31gを無水エーテル20mlに溶解した溶液を適下し
た。適下完了後室温にて3時間攪拌した。その後、攪拌
下加熱還流を4.5時間行った。反応終了後、室温まで
冷却した後、攪拌しながらフラスコ内に水をゆっくりと
加えた。次に、これに15重量%水酸化ナトリウム水溶
液3mlを入れ、更に、水9mlを加えた。析出した白色固
体をロ別し、分液ロートでエーテル層を分けた。この液
を飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。この乾燥剤をロ別しエバポレーターで濃縮後、常
圧で蒸留し生成物15.39g(収率:85%)を得
た。
【0017】以下に生成物の物性値を示した。 1H−NMRとIRから4,4,5,5,6,6,6−
ヘプタフルオロ−3,3−ビス(トリフルオロメチル)
−1−ヘキサノールであることを確認した。
【0018】
【発明の効果】本発明は、摺動性、潤滑性、高い蒸気
圧、および撥油撥水性等の特性を有する化学的に安定な
4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−3,3
−ビス(トリフルオロメチル)−1−ヘキサノール、及
びその製造方法を提供するものである。該含フッ素アル
コールは、高分子改質剤、プラスチック添加剤、作動流
体、洗浄剤、摺動剤、潤滑剤、及び撥水撥油剤等として
使用される。また、種々の農薬や医薬の原料として有用
なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C11D 7/28 C11D 7/28 (72)発明者 小濱 弘之 滋賀県甲賀郡甲西町大池町1番1 株式 会社ネオス内 (56)参考文献 特開 昭63−166840(JP,A) 特開 昭52−116406(JP,A) 米国特許4396784(US,A) 米国特許4273947(US,A) J.Fluorine.Chem., 1990,Vol.48,No.1,P77−84 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 31/38 C07C 29/147 C07C 29/149 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(1): 【化1】 で表される4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオ
    ロ−3,3−ビス(トリフルオロメチル)−1−ヘキサ
    ノール。
  2. 【請求項2】 一般式(2): 【化2】 (式中、Rは、水素、アルキル基、アリール基を示
    す。)で表される化合物を還元することを特徴とする請
    求項1の4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ
    −3,3−ビス(トリフルオロメチル)−1−ヘキサノ
    ールの製造方法。
JP10038393A 1993-04-03 1993-04-03 4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−3,3―ビス(トリフルオロメチル)−1−ヘキサノール、及びその製造方法 Expired - Lifetime JP3355215B2 (ja)

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