JPH01193236A - 含フッ素アルコールおよびその製造法 - Google Patents

含フッ素アルコールおよびその製造法

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JPH01193236A
JPH01193236A JP63017306A JP1730688A JPH01193236A JP H01193236 A JPH01193236 A JP H01193236A JP 63017306 A JP63017306 A JP 63017306A JP 1730688 A JP1730688 A JP 1730688A JP H01193236 A JPH01193236 A JP H01193236A
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JP
Japan
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formula
general formula
compound expressed
fluorine
containing alcohol
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JP63017306A
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English (en)
Inventor
Akihiro Nakamura
中村 章宏
Yukiya Yamashita
行也 山下
Midori Kaneko
金子 みどり
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Mitsubishi Metal Corp
Original Assignee
Mitsubishi Metal Corp
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は文献未記載の新規な含フツ素アルコールとその
製造法に関する。
〈従来の技術〉 既知の含フツ素アルコールは、一般式 Rf−(CH,′h○H(式中Rfは炭素原子数1〜2
0のペルフルオロアルキル基であり、nは1以上の整数
)で表わされ、分子中にペルフルオロアルキル基を一本
の側鎖の型で有する化合物で、撥水。
撥油剤、樹脂改質材、液晶、界面活性剤等の中間体とし
て使用されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
近年、樹脂表面の撥水、撥油性、および液晶。
界面活性剤の特性の向上が要求されてきており。
そのような用途に前記の既知含フツ素アルコールを中間
体として使用した場合、望ましい効果を出すには。
(1)炭素原子数が10以上の長鎖、あるいは分枝鎖を
もったペルフルオロアルキル基を有する化合物が望まし
いが、そのような化合物の原料は価格的に高い、 (2)炭素数が10以下のペルフルオロアルキル基を有
する化合物では、大量の添加が必要となり。
分散性が悪く、その沸点が低いことから高温での反応が
利用できない という問題がある。
〔問題解決に係る知見〕
上記の問題点を解決するために本発明者等が鋭意研究し
た結果、分子中に側鎖として2個のペルフルオロアルキ
ル基を有するアルコール型化合物が適することを見出し
た。
すなわち、本発明に係る化合物は、分子中に側鎖の型で
2個のペルフルオロアルキル基を有することにより、そ
の添加量が少なくても1m水、!1油性といったフッ素
化合物特有の性質を付与することが可能となり、また分
子量が増加することにより、沸点も上昇して高温におけ
る反応にも使用することが可能となる。さらに原料とし
て、現在電解フッ素化、あるいはテロメリゼーションに
よって製造されている炭素原子数が10以下(特に4〜
8)のペルフルオロアルキル基を有するフッ素化合物を
利用して、本発明に係る化合物中の2個のペルフルオロ
アルキル基の炭素原子数をそれぞれ変えることによって
沸点、および界面活性能。
溶解性等を調整することが可能であるということも見出
された。
〔発明の構成〕
本発明は、 一般式 (式中、 Rf、 Rf’はそれぞれ炭素原子数1〜2
0のペルフルオロアルキル基+ n、n’はそれぞれ1
または2の整数)で表わされる新規な含フツ素アルコー
ルを提供する。
本発明はまた 一般式 %式%) (式中、Rfは炭素原子数1〜20のペルフルオロアル
キル基、nは1または2の整数)で表わされるエポキシ
化合物と一般式 %式%() (式中、Rf’は炭素原子数1〜20のペルフルオロア
ルキル基、n′は1または2の整数)で表わされるアル
コールとを、アルカリ金属、アルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ土類金属水酸化物、第3級アミン、第4級アンモ
ニウム塩および鉱酸からなる群から選ばれる触媒の存在
下で反応させることからなる前記一般式(1)で表わさ
れる含フツ素アルコールの製造法を提供する。
本発明はまたさらに、 一般式 %式%() (式中XはC1,Br、または工)で表わされる化合物
と前記一般式(m)で表わされるアルコールとを。
アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物
の存在下で反応させることからなる前記−般式(1)で
表わされる含フツ素アルコールのうちRf=Rf’かつ
n=n’である含フツ素アルコールの製造法を提供する
本発明に係る含フツ素アルコールは、撥水、撥油剤、4
1脂改質剤、液晶および界面活性剤等の中間体として従
来のものより一層有用な化合物である。
本発明に係る一般式(I)で表わされる含フツ素アルコ
ールにおいてRf、 Rf’は炭素原子数1〜20のペ
ルフルオロヒドロカルビル基であり、RfとRf’は等
しくても、異なっていても良い、ここでいうペルフルオ
ロヒドロカルビル基は飽和、不飽和のいずれであっても
良く、直鎖型、分枝鎖を有するもののいずれであっても
良い。また適当な置換基を有していても良く、途中にエ
ーテル結合が介在していても良い、またn、n’はそれ
ぞれ1または2の整数で等しくても、異なっていても良
い。
本発明に係る一般式(I)で表わされる含フツ素アルコ
ールの製造方法において、一般式(II)で表わされる
エポキシ化合物は、一般式 %式%() (式中、Rf、nは一般式(1)に同じ)で表わされる
化合物とエビクロロビリンとをアルカリ金属水酸化物の
存在下反応させることにより容易に得られる。(米国特
許3,361,685号、同3,417,035号明細
書等参照、) また一般式(II)または(V)で表わさ九る化合物は
、フッ素化学工業の原料として一般的な化合物で容易に
入手できる。具体的には。
CF、CH20H,C,F、CH2CH,OH。
C,FユaCHzCHzOH9C7F1sCHzOHが
例示できる。
また一般式(m)で示される化合物は一般式(II)で
示される化合物に対し、1モル当量以上好ましくは1.
5モル当量以上用いる0反応後過剰の一般式(m)で表
わされる化合物は、蒸留により容易に回収できる。
一般式(n)で示される化合物と一般式(III)で示
される化合物の反応は、必要に応じて溶媒を使用し、3
0℃ないし150℃、好ましくは40℃ないし90℃の
温度範囲で加熱攪拌することによって行なわれる。触媒
の使用量は通常一般式(「)で示さ九る化合物に対して
0.01ないし5重量%で良い。
本発明の製造法によれ−ば、一般式(n)および(II
I)の化合物を適宜用いることにより、一般式(1)の
RL Rf’ T n p n ’を任意に選択するこ
とができ、その結果界面活性能、溶解性等を調整するこ
とが可能である。
また一般式(f)においてRf=Rf’かつn=n’の
場合は、一般式(IV)で表わされる化合物とそれに対
し2モル当量以上の一般式(III)で示される化合物
とを、アルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ土類金属
水酸化物の存在下反応させる方法によって製造すること
ができる。この反応は必要に応じて溶媒を使用し、50
℃ないし150℃、好ましくは70ないし90℃の温度
範囲で加熱攪拌することによって行なわれる。アルカリ
金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の使用量
は一般式(IV)で示される化合物に対して工ないし2
モル当量、好ましくは1.1ないし1.5モル当量用い
る。
(発明の具体的開示) 以下実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例1 温度計、攪拌装置、還流冷却装置を備えた200III
Q三ツロフラスコに C,F、、CH,0H(40,4g、 100mmol
)、 NaOH(40mg、 1mmol)を入れ、油
浴を用いて系内を85℃に加熱し5時間攪拌を行なった
。ガスクロマトグラフ分析(TCD :カラム:シリコ
ーン0V−1(ガスクロ工業株式会社H)、10%、1
m;カラム温度100〜250℃、昇温速度2昇温速度
2打 キシドの消失と反応生成物の存在を確認した。反応混合
液を減圧蒸留して.未反応のC, Fl, C1120
817、6gを回収するとともに、43.9gの生成物
(粘稠液体)を得た.収率87.0%.沸点170〜1
80℃/25++nHg、下記のNMR分析、 GC−
MS分析の結果より生成物が (C,F、、c少ocP、cyoy であることを確認した。
)1−NMR(測定条件、溶媒:F−113,内部標準
ベンゼン)δ3,6〜4.0(m、 5H,Hbc) 
 δ4.03(t、 JHF:12Hz、 4H,Ha
)4.73(bs、 IH,Hd)。
GC−MS (測定条件、ガスクロマトグラフ条件:前
記に同じ、イオン化電圧: 70eV)(m/ey相対
強度。
帰属)(2,3%、 M”−F)457(4,4%、 
M”−C,F、、CH20)443(52,9%、 M
”−C,F、、CH20CH,) 413(17,9%
[C,F工、C)120CH,]”)69(18,2%
、  [CF、]”)57(11,4%。
[C□H,Co]+)43(100% 、  [CH3
CO]”)。
実施例2 実施例1で用いた装置に、 C,F、、CH,0H(41,2g、 103mmol
)PhCH,N’Et3”C1−(Phはフェニル基、
Etはエチル基)(23mg、 0.1mmol)を入
れ、油浴を用いて系内を85℃に加熱し、20時間攪拌
を行なった。実施例1と同じ条件でガスクロマトグラフ
分析を行なった結果、上記エポキシドの消失と反応生成
物の存在を確認した1反応混合液を減圧蒸留して、未反
応のC,F、、C)!20H17,Ogを回収するとと
もに、33.0gの生成物(粘稠液体)を得た。収率7
9.6%、沸点155〜160℃723miaHg、実
施例1と同じ条件でNMR,GC−MS分析を行なって
生成物が であることを確認した。
X%4R;δ2.2〜2.6(m、 2)1. Hb)
3.02(bs、 IH,He)3.5〜3.9(m 
、 9H,Ha、 He、 Hd、 Hg)4.05 
(t、 J=12Hz、 2H,Hf) 、 GC−M
S(m/e、相対強度、帰属);820(0,8%、 
M”) 801(2,9%9M“−F) 487(0,
3%。
M“−C,F工、CH,)457(2,3%2M“−C
,Fi、CH,CH,0)443(14,8%、 M”
−C,Fl、CH,CH20CH2) 413(7,7
%。
C,F、CH,0CH2”) 377C23,8%、C
,Fユ3CB、CH20C)l、”)69(19,7%
、 CF3”) 57(34,6%、 [C2H4C0
HI”) 43(100%、  [CH,COH]“)
実施例3 実施例1で用いた装置に CF、CH20H(10,6g、  106mg)Ph
CH,NEt3”CI−(23鵬g。
0.1m脂01)を入れ、油浴を用いて系内を85℃に
加熱し、15時間攪拌した。実施例1と同じ条件でガス
クロマトグラフ分析を行なった結果、上記エポキシドの
消失と反応生成物の存在を確認した0反応混合物を蒸留
して未反応のCF、CH20H4,9gを回収するとと
もに、 19.8gの生成物(液体)を得た。収率75
.1%、沸点125〜130℃、実施例1と同条件でN
’lR,GC−MS分析を行なって生成物が■ であることを確認した。
NMR;δ2.1〜2.5(m、 2H,Hb)2.9
5(bs、 IH,He)3−5〜4−1 (m t 
7Hv Ha * Hc s Hd e )If) m
 GC−MS (m/e を相対強度、帰属) 520
 (2,2%、 M”)503(8,6%。
M”−OF+)407(17,9%、 M”−CF、C
H20CH,)377(20,7%。
C,F、、CH,OCH,+)143(29,6%、 
CF、 CH,0CH2CゝHOH)113(28,4
%、 CF、CH,0CR2”)69(13,5%、 
CF3”)57(33,1% 、  [C,84COH
]+)43(100% 、  [CH,COH]”)一
実施例4 実施例1で用いた装置に C,F、、CH,CH,0H(36,5g、 0.1m
ol)NaOH(40mg、 1.0mmol)を入れ
油浴を用いて系内を60℃に加熱し。
20時間攪拌した。実施例1と同じ条件でガスクロマト
グラフ分析を行なった結果、上記エポキシドの消失と反
応生成物の存在を確認した1反応混合液を減圧蒸留して
未反応のC,F、3CH,CH20H15,6gを回収
するとともに、33.7gの生成物(粘稠液体)を得た
。収率84.6%、沸点155〜158℃/27mmH
g。
実施例1と同条件でNMR,GC−阿S分析を行なって
生成物が であることを確認した。
NMR: δ2.1〜3.0(m、 5H,’Hb、 
 He)3.62(d、  J=5Hz、 4H,)I
c) 3.83(t、 J=7Hz、 4H,Ha)、
 HdはHaHcのピークと重なっている。GC−MS
(m/e、相対強度、帰属) 784(0,7%、 M
”) 765(0,3%、 M”−F)451(0,9
%、M”−C,F工、CI、) 421(3,2%1M
+−CI F、 3CH2C)I、 o )407 (
27、s%、 C,F、 3CH2CH,QC)I2C
”HOH)377(17,8%、 C,Fl、CH,c
o20CH,”)C9(10,6%、CF3”)57(
20,4% 、  [C2H4COH]”)43(10
0% 、  [CH,COH]+)。
実施例5 実施例1で用いた装置に、C7F、、CH,0)I(9
0,3g。
226ma+ol)エピクロロヒドリン(5,30g、
 57.3mmol)NaO)!(3,15g、 78
.8mmol)を入れ、油浴を用いて系内を85℃に加
熱し、5時間攪拌した。実施例1と同じ条件でガスクロ
マトグラフ分析を行なった結果、エピクロロヒドリンの
消失と、微量のした0反応混合液を減圧蒸留して、未反
応のC,F、、CH,OH42,7gを回収するととも
に41.7gの生成物を得た。収率85.1%、実施例
1と同条件でNMR,(iC−MS分析を行なった結果
、生成物は実施例1で得られた化合物と同一であるとい
うことを確認した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rf、Rf′はそれぞれ炭素原子数1〜20の
    ペルフルオロアルキル基、n、n′はそれぞれ1または
    2の整数)で表わされる含フッ素アルコール。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rfは炭素原子数1〜20のペルフルオロアル
    キル基、nは1または2の整数)で表わされるエポキシ
    化合物と一般式 Rf′(CH_2)_n′OH(III) (式中、Rf′は炭素原子数1〜20のペルフルオロア
    ルキル基、n′は1または2の整数)で表わされるアル
    コールとを、アルカリ金属、アルカリ金属水酸化物、ア
    ルカリ土類金属水酸化物、第3級アミン、第4級アンモ
    ニウム塩および鉱酸からなる群から選ばれる触媒の存在
    下で反応させることからなる請求項1に記載の一般式(
    I )で表わされる含フッ素アルコールの製造法。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中XはCl、Br、またはI)で表わされる化合物
    と一般式(III)で表わされるアルコールとを、アルカ
    リ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の存在
    下で反応させることからなる請求項1に記載の一般式(
    I )で表わされる含フッ素アルコールのうちRf=R
    f′かつn=n′である含フッ素アルコールの製造法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994027944A1 (fr) * 1993-06-02 1994-12-08 L'oreal Utilisation de composes hydro- et fluorocarbones dans des compositions cosmetiques, composes hydro- et fluorocarbones et compositions cosmetiques en comportant
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