JP2012525438A - フッ素化アルコールのアルコキシル化 - Google Patents
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Abstract
Description
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−(CH2CH2O)p−XH (1a)
(式中、
Rfは、1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは0〜4であり;
XはOであり;
mは1〜6の整数であり;
pは1〜約40の整数である)
の調製方法を含み、
式(4)のフッ素化アルコール
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−XH (4)
(式中、
Rfは1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは0〜4であり;
mは1〜6の整数であり;
XはOである)
と、2〜10個の炭素原子を有するアルキレンオキシド、または、前記アルキレンオキシドなどの混合物とを、(1)少なくとも1種の水素化ホウ素アルカリ金属、および、(2)少なくとも1種の有機第4級塩を含む触媒系の存在下に接触させる工程を含む。任意により、ハロゲン化アルカリ金属、ハロゲン化アルカリ土類金属、元素ハロゲン、および、これらの混合物からなる群から選択されるハロゲン供給源が触媒中に存在している。
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−(CH2CH2O)p−XH (1)
(式中、
Rfは、1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは1〜4の整数であり;
XはOであり;
mは1〜6の整数であり;
pは1〜約40の整数である)
の調製方法を含む。
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−(CH2CH2O)p−XH (1a)
(式中、
Rfは、1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは0〜4であり;
XはOであり;
mは1〜6の整数であり;
pは1〜約40の整数である)
の化合物の調製方法を含む。
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−XH (4)
(式中、
Rfは、1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは0〜4であり;
mは1〜6の整数であり;
XはOである)
のフッ素化アルコール、または、このようなフッ素化アルコールの混合物と、アルキレンエポキシドなどの1種または複数種のアルコキシル化剤とを、(1)水素化ホウ素アルカリ金属、および、(2)少なくとも1種の有機第4級塩を含む触媒系の存在下に接触させる工程を含む。任意により、ヨウ化アルカリ金属、ヨウ化アルカリ土類金属、元素ヨウ素、および、これらの混合物からなる群から選択されるヨウ素供給源もまた存在している。触媒系は、強塩基などの助触媒または他の触媒の不在下においても有効であるが、このような材料が所望の場合には存在していることが可能である。
[(R1)4Q]+Y- (2)
(式中、
Qは、窒素、リン、砒素、アンチモン、および、ビスマスからなる群から選択される周期律表の第Vb族の元素であり;
各R1は、任意によりフッ素を含有しており、および、任意によりアルキルで置換されている、C1〜C16アルキル、C1〜C16アリール、C1〜C16アルカリール、C1〜C16アラルキル、C1〜C16シクロアルキル、C1〜C16フルオロアルキルラジカル、および、C1〜C16芳香族炭素環からなる群から独立して選択され、ただし、4個のR1部分における炭素原子の総数は少なくとも16であり;
Yはハロゲンまたはカルボエトキシラジカルである)
の1つまたは複数の基を含む。
(C4H9)4N+Br-、
(C4H9)4N+Cl-、
(C4H9)4N+I-、
(C4H9)4N+F-、
(C4H9)4N+OAc-、
(ヘキシル)4N+Br-、
(ヘプチル)4N+Cl-、
(C2H5)3N+CH2(C6H5)Br-、
[CH3(CH2)15]N+(CH3)3Br-、
(C4H9)4P+Br−、
(C6H5)3P+CH3Br-、
(C6H5)3P+CH2(C6H5)Br-
が挙げられる。
により表されているジ第4級塩を形成することが可能である。
Rf(CH2CF2)n(CH2)m−OH (4)
(式中、Rfは1〜6個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり、下付文字nは0〜4であり、および、mは、1〜6、好ましくは1〜4、より好ましくは2〜4の整数である)のフッ素化アルコールは、nが正の整数である、以下のスキーム1による合成により入手可能である。
250mL丸底フラスコ(RBF)を反応器として用いた。フラスコは、エチレンオキシド(EO)供給ラインに接続されたガス導入チューブ、ドライアイスコンデンサ、および、機械的攪拌機を備えていた。J−KEM,Gemini controller(St.Louis,MOのJ−KEM Scientific,Inc.製)に接続した熱電対を用いてバッチ温度を制御した。
Kruess Tensiometer、K11 Version 2.501を器具に付属の説明書に従って用いて表面張力を計測した。Wilhelmyプレート方法を用いた。周長が既知である垂直なプレートをはかりに取り付け、および、濡れによる力を計測した。被試験サンプルは水で希釈した。実施例の各々を脱イオン水中の添加剤の固形分に基づく重量基準で脱イオン水に添加し;標準偏差は1ダイン/cm(1mN/m)未満であり;温度は約21℃であった。脱イオン水の通常の表面張力は72〜73ダイン/cm(72〜73mN/m)である。10個の反復試料の各々の希釈物を試験し、および、以下の機械設定を用いた:方法:プレート法SFT;間隔:1.0秒;濡れ長さ:40.2mm;読み取り限界:10;最低標準偏差:2ダイン/cm(2mN/m);Gr.Acc.:9.80665m/s2。
清浄な乾燥した丸底フラスコ(RBF)に、40グラムの精製C4F9(CH2CF2)nCH2CH2OH(121.9mmol)(式中、主にn=1)、0.175グラム(1.16mmol)のヨウ化ナトリウム、0.20グラム(5.29mmol)の水素化ホウ素ナトリウムおよび0.43グラム(1.17mmol)のヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウムを仕込んだ。反応器をN2パージ下(EO供給なし)に約125℃まで加熱し、1時間保持して、触媒形成中の水素の発生を完了させた。窒素パージを閉じた状態での出口バブラーでの泡立ちの消失によって示される水素の発生が終わった後、EOの供給を開始した。約125℃±15℃で維持しながら1〜4グラムの小増分でエチレンオキシドを導入した。エチレンオキシドの添加は約3〜8時間のシフトで6日間にわたって継続し、反応混合物を、一晩の間、窒素下に冷却および静置させた。反応は大気圧で行った。反応器へのエチレンオキシドの添加は、添加の最中でのエチレンオキシドボンベの総重量の差異により推定した。エチレンオキシドの添加は大気圧で行い、および、未反応エチレンオキシドをスクラバーに蒸発させた。反応の進行は、1H NMR(CD2Cl2/トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により特徴付け、および、(EO#)、または、重合度(DP)としても公知であるエトキシル化アルコールのエチレンオキシド番号として表1に示されている。この実験の目的のための(EO#)は、エチレンオキシド(EO)のモル数をエトキシル化アルコールのモル数で除したものと定義される。反応1日目の終了時で、約6.5グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、(EO#)は1.4であった。2日目の終了時で、約25〜27グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、EO#は1.5であった。3日目の後、EOの消費は過度に遅いことが明らかであり、追加の0.18グラムのNaI、0.18グラムのNaBH4、および0.43グラムのヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウムを反応混合物に添加した。混合物を80℃に再加熱し、および、1時間保持して、触媒形成させ、および、発生した水素を通気させた。水素の発生は上記に記載の通りであった。エチレンオキシドの添加を再開し、混合物のサンプルを採取し、および、以下のとおり、経時的に1H NMR(CD2Cl2/トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により特徴付けた。4日目の終了時で、約45〜47グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、EO#は3.4であった。5日目の終了時で、約50〜52グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、EO#は5.9であった。6日目の終了時で、約53〜55グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、EO#は6.4であった。6日目のエチレンオキシドの添加の後、混合物を室温に冷却したところ、反応質量は合計で65.2グラムであった。6日目からの最終生成物を、1H NMR(CD2Cl2/トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により、C4F9(CH2CF2)nCH2CH2(OCH2CH2)p−OH(主にn=1およびpは約6.4であった)として特徴付けた。反応および転換の進行が表1に示されている。実施例1からの6日目終了時の最終生成物を水に添加し、および、試験法1に従って表面張力について試験を行った。結果は表4のとおりである。
清浄な乾燥した丸底フラスコに、40グラムの精製C4F9(CH2CF2)nCH2CH2OH(121.9mmol)(主にn=1)、0.35gms(2.33mmol)のヨウ化ナトリウム、および、0.20グラム(5.29mmol)の水素化ホウ素ナトリウムを仕込んだ。反応器を窒素パージ下(エチレンオキシド供給なし)に約125℃に加熱し、約1時間保持して水素の発生を完了させた。次いで40gmsのエチレンオキシドを、実施例1と同一のプロセスにおいて徐々にフラスコに添加した。反応の後、反応混合物の一部を減圧下、126℃、12mm Hg(1600Pa)で精製して、過剰量のC4F9(CH2CF2)nCH2CH2OHを除去した。遊離アルコール蒸留画分は17.5gmsと計量され、エトキシル化ポット残渣は11.5gmsと計量された。最終生成物エトキシレート残渣を、1H NMR(CD2Cl2トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により、C4F9(CH2CF2)nCH2CH2(OCH2CH2)p−OH(主に、n=1およびpは約1.9であった)として特徴付けた。反応および転換の進行が表2に示されている。
清浄な乾燥した(丸底フラスコ)RBFに、40グラムの精製C4F9(CH2CF2)nCH2CH2OH(121.9mmol)(主にn=1);0.20gms(1.33mmol)のヨウ化ナトリウム)、0.20グラム(5.29mmol)の水素化ホウ素ナトリウムおよび.47グラム(1.16mmol)のメチルトリフェニルホスホニウムヨージドを仕込んだ。反応器を窒素パージ下(EO供給なし)で約80℃に加熱し、約1時間保持して、触媒形成中の水素の発生を完了させた。窒素パージを閉じた状態での出口バブラーでの泡立ちの消失によって示される水素の発生が終わった後、EOの供給を開始した。125℃±15℃への維持を試みながら、1〜4グラムの小増分でエチレンオキシドを導入した。エチレンオキシドの添加は約3〜8時間のシフトで6日間にわたって継続し、反応混合物を、一晩の間、窒素下に冷却および静置させた。反応は大気圧で行ったため、反応器へのエチレンオキシドの添加は、添加の最中でのエチレンオキシドボンベの総重量の差異により推定した。未反応エチレンオキシドはすべてスクラバーに蒸発させた。反応の進行は、実施例1に記載の方法による1H NMR(CD2Cl2/トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により特徴付けた。2日目の終了時で、約6.0グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、EO#は2であった。2日目の後、EOの消費は過度に遅いことが明らかであり、追加の0.18グラムのNaI、0.20グラムのNaBH4を反応混合物に添加した。混合物を125℃に再加熱し、および、約1.3時間保持して、触媒形成させ、および、発生したH2を通気させた。水素の発生は上記に記載の通りであった。エチレンオキシドの添加を再開し、経時的に混合物のサンプルを採取した。3日目の終了時で、約10〜12グラム(累積量)のEOがフラスコに投入されており、EO#は1.7であった。5日目の終了時で、約21〜23グラム(累積量)のEOがフラスコに投入されており、EO#は2.3であった。反応はなお遅く見えたので、追加の047グラムのメチルトリフェニルホスホニウムヨージドをフラスコに添加した。6日目の終了時で、47.5〜50.5グラムのEO(累積量)がフラスコに投入されており、EO#は6.2であった。6日目のエチレンオキシドの添加の後、混合物を室温に冷却したところ、反応質量は合計で67.2グラムであった。上記の6日目からの最終生成物を、1H NMR(CD2Cl2/トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により、C4F9(CH2CF2)nCH2CH2(OCH2CH2)p−OH(主にn=1およびpは約6.2であった)として特徴付けた。反応および転換の進行が表3に示されている。実施例2からの最終生成物を水に添加し、および、試験法1に従って表面張力について試験を行った。結果は表4のとおりである。
式CxF2x+1CH2CH2(OCH2CH2)pOH(式中、xは、約4〜約14の分布を有しており、および、p(平均エトキシル化度)は約7であった)によって表される、Wilmington DEのE.I.du Pont de Nemours and Company製の市販されているフルオロアルキルアルコキシレートを水に添加し、試験法1に従って表面張力を試験した。結果は表4のとおりである。
反応器に、40グラムの精製C4F9(CH2CF2)nCH2CH2OH(121.9mmol)、主にn=1;0.35グラム(2.32mmol)のヨウ化ナトリウム、および0.20グラム(5.29mmol)の水素化ホウ素ナトリウムを仕込んだ。反応器を窒素パージ下(エチレンオキシド供給なし)で約80℃に加熱し、約1時間保持して、触媒形成中の水素の発生を完了させた。20グラムのエチレンオキシドを導入した後、9psig(163×103Pa)の窒素で0℃で反応器を加圧した。反応を12時間実施し、および、反応器の温度を約135℃に維持した。開始時点で反応器の圧力は約35〜40psig(343×103〜377×103Pa)であったが、エチレンオキシドが消費されるに伴って低下し、エチレンオキシドの消費が完了した各時点では9psig(163×103Pa)に低下した。生成物は、1H NMR(CD2Cl2/トリフルオロ酢酸無水物、500MHz)により、C4F9(CH2CF2)nCH2CH2(OCH2CH2)p−OH(主にn=1およびpは約1.4であった)として特徴付けた。
Claims (12)
- 式(1a)の化合物
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−(CH2CH2O)p−XH (1a)
(式中、
Rfは、1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは0〜4であり;
XはOであり;
mは1〜6の整数であり;
pは1〜約40の整数である)
の調製方法であって、式(4)のフッ素化アルコール
Rf−(CH2CF2)n(CH2)m−XH (4)
(式中、
Rfは、1〜6個の炭素原子の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基であり;
nは0〜4の整数であり;
mは1〜6の整数であり;
XはOである)
と、2〜10個の炭素原子を有するアルキレンオキシド、または、前記アルキレンオキシドの混合物とを、(1)少なくとも1種の水素化ホウ素アルカリ金属、および、(2)少なくとも1種の有機第4級塩を含む触媒系の存在下に接触させる工程を含む調製方法。 - 有機第4級塩が、式(2)
[(R1)4Q]+Y- (2)
(式中、
Qは、窒素、リン、砒素、アンチモン、および、ビスマスからなる群から選択され;
各R1は、任意によりフッ素を含有しており、および、任意によりアルキルで置換されている、C1〜C16アルキル、C1〜C16アリール、C1〜C16アルカリール、C1〜C16アラルキル、C1〜C16シクロアルキル、C1〜C16フルオロアルキルラジカル(fluoroalkyl radical)、および、C1〜C16芳香族炭素環からなる群から独立して選択され、ただし、4個のR1部分における炭素原子の総数は少なくとも16であり;
Yはハロゲンまたはカルボエトキシラジカル(carboethoxy radical)である)
のものである、請求項1に記載の方法。 - 有機第4級塩が:
(C4H9)4N+Br-、
(C4H9)4N+Cl-、
(C4H9)4N+I-、
(C4H9)4N+F-、
(C4H9)4N+OAc-、
(ヘキシル)4N+Br-、
(ヘプチル)4N+Cl-、
(C2H5)3N+CH2(C6H5)Br-、
[CH3(CH2)15]N+(CH3)3Br-、
(C4H9)4P+Br-、
(C6H5)3P+CH3Br-、および
(C6H5)3P+CH2(C6H5)Br-
からなる群から選択される、請求項2に記載の方法。 - 触媒中の水素化ホウ素アルカリ金属対フッ素化アルコールのモル比が、約0.005:1〜約0.25:1である、請求項1に記載の方法。
- 第4級塩中の部分Q対水素化ホウ素アルカリ金属の触媒中のモル比が、約0.1:1〜約3:1である、請求項1に記載の方法。
- 触媒系が、ハロゲン化アルカリ金属、ハロゲン化アルカリ土類金属、元素ハロゲン、および、これらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のハロゲン供給源をさらに含み、ハロゲン供給源対水素化ホウ素アルカリ金属のモル比が約0.01:1〜約300:1である、請求項1に記載の方法。
- エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリ−エチレングリコールジメチルエーテル、テトラ−エチレングリコールジメチルエーテル、エチレンオキシド環状六量体、エチレンオキシド環状五量体、および、これらの混合物からなる群から選択される溶剤中で実施される、請求項1に記載の方法。
- 接触が、約100℃〜約145℃の温度、および、大気圧〜約100psig(791×103Pa)の圧力で行われる、請求項1に記載の方法。
- (1)水素化ホウ素アルカリ金属、および、(2)少なくとも1種の有機第4級塩を含む触媒系。
- 有機第4級塩が、式(2)
[(R1)4Q]+Y- (2)
(式中、
Qは、窒素、リン、砒素、アンチモン、および、ビスマスからなる群から選択され;
各R1が、任意によりフッ素を含有しており、および、任意によりアルキルで置換されている、C1〜C16アルキル、C1〜C16アリール、C1〜C16アルカリール、C1〜C16アラルキル、C1〜C16シクロアルキル、C1〜C16フルオロアルキルラジカル、および、C1〜C16芳香族炭素環からなる群から独立して選択され、ただし、4個のR1部分における炭素原子の総数は少なくとも16であり;
Yはハロゲンまたはカルボエトキシラジカルである)
のものである、請求項9に記載の触媒系。 - 有機第4級塩が:
(C4H9)4N+Br-、
(C4H9)4N+Cl-、
(C4H9)4N+I-、
(C4H9)4N+F-、
(C4H9)4N+OAc-、
(ヘキシル)4N+Br-、
(ヘプチル)4N+Cl-、
(C2H5)3N+CH2(C6H5)Br-、
[CH3(CH2)15]N+(CH3)3Br-、
(C4H9)4P+Br-、
(C6H5)3P+CH3Br-、および
(C6H5)3P+CH2(C6H5)Br-
からなる群から選択される、請求項10に記載の触媒系。 - ハロゲン化アルカリ金属、ハロゲン化アルカリ土類金属、元素ハロゲン、および、これらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のハロゲン供給源をさらに含む、請求項10に記載の触媒系。
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