JP3350281B2 - α−オレフイン低重合体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、α−オレフイン低重合
体の製造方法に関するものであり、詳しくは、特に、エ
チレンから１−ヘキセンを主体としたα−オレフイン低
重合体を高収率かつ高選択率で製造することが出来る工
業的有利なα−オレフイン低重合体の製造方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、エチレン等のα−オレフイン
の低重合方法として、特定のクロム化合物と特定の有機
アルミニウム化合物の組み合せから成るクロム系触媒を
使用する方法が知られている。例えば、特公昭４３−１
８７０７号公報には、クロムを含むＶＩＡ族の遷移金属
化合物とポリヒドロカルビルアルミニウムオキシドから
成る触媒系により、エチレンから１−ヘキセンとポリエ
チレンを得る方法が記載されている。

【０００３】また、特開平３−１２８９０４号公報に
は、クロム−ピロリル結合を有するクロム含有化合物と
金属アルキル又はルイス酸とを予め反応させて得られた
触媒を使用してα−オレフインを三量化する方法が記載
されている。さらに、南アフリカ特許ＺＡ９３／０３５
０号公報には、クロム化合物、ピロール含有化合物およ
び金属アルキル化合物を共通の溶媒中で混合することに
より得られた触媒系を使用して、α−オレフインを低重
合する方法が記載されている。

【０００４】一方、先に本発明者らは、特願平４−２４
７８１１号において、クロム−ピロリル結合を持つクロ
ム含有化合物、α−オレフイン及びアルキルアルミニウ
ムの接触方法を規定することにより、α−オレフインの
低重合反応を行う方法を提案した。この方法に従えば、
特に、エチレンの低重合反応により、１−ヘキセンを驚
異的な高活性で得ることが出来る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公昭
４３−１８７０７号公報に記載された方法では、１−ヘ
キセンと同時に生成するポリエチレンの量が多く、ポリ
エチレンの副生量を少なくした条件では、触媒活性が低
下するという問題がある。また、特開平３−１２８９０
４号公報に記載された方法は、高分子量重合体の生成量
は少ないが、触媒活性が十分でないという問題がある。
しかも、特開平３−１２８９０４号公報に記載の方法
は、α−オレフインの低重合プロセスの他に、クロム−
ピロリル結合を有するクロム含有化合物を触媒として使
用するため、クロム塩と高価なピロ−ル又は２，５−ジ
メチルピロ−ルから得られる金属ピロライドとの反応工
程および得られたクロム含有化合物の単離工程を必要と
し、操作が煩雑であるばかりか、触媒製造プロセスを含
めた全体の製造プロセスに要する建設費が高いという欠
点がある。さらに、クロム−ピロリル結合を有するクロ
ム含有化合物は、空気や湿度に対して極めて不安定な物
質であるため、その取扱が容易ではないという欠点もあ
る。

【０００６】また、南アフリカ特許ＺＡ９３／０３５０
号公報に記載された方法は、上記と同様に、高価なピロ
−ル又は２，５−ジメチルピロ−ルを使用した触媒の前
調製工程、および、触媒の単離工程を必要とし、操作が
煩雑であるばかりか、全体の製造プロセスに要する建設
費が高いという欠点がある。

【０００７】本発明は、上記実情に鑑みなされたもので
あり、その目的は、煩雑な操作なしで工業的有利に１−
ヘキセン等のα−オレフイン低重合体を高収率かつ高選
択率で製造することが出来るα−オレフイン低重合体の
製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく鋭意検討を進めた結果、特定のクロム系
触媒を使用するならば、α−オレフインの低重合反応、
特に、エチレンの三量化を主体とする低重合反応が、高
活性に進行して高純度の１−ヘキセンが生成するとの知
見を得た。本発明は、斯かる知見に基づいて完成された
ものであり、その要旨は、クロム系触媒を使用したα−
オレフイン低重合体の製造方法において、クロム系触媒
として、少なくとも、クロム化合物、酸アミド又はイミ
ド化合物および金属アルキル化合物の組み合わせから成
る触媒系を使用することを特徴とするα−オレフイン低
重合体の製造方法に存する。

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、クロム系触媒として、少なくとも、クロム化
合物（ａ）、酸アミド又はイミド化合物（ｂ）及び金属
アルキル化合物（ｃ）の組み合わせから成る触媒系を使
用する。

【００１０】本発明で使用するクロム化合物は、一般式
ＣｒＸｎで表される。但し、一般式中、Ｘは、任意の有
機基または無機の基もしくは陰性原子、ｎは１〜６の整
数を表し、そして、ｎが２以上の場合、Ｘは同一または
相互に異なっていてもよい。クロムの価数は０〜６価で
あり、上記の式中のｎとしては２以上が好ましい。

【００１１】有機基としては、炭素数が通常１〜３０の
各種の基が挙げられる。具体的には、炭化水素基、カル
ボニル基、アルコキシ基、カルボキシル基、β−ジケト
ナート基、β−ケトカルボキシル基、β−ケトエステル
基およびアミド基などが例示れる。炭化水素基として
は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アル
キルアリール基、アラルキル基、シクロペンタジエニル
基など等が挙げられる。無機の基としては、硝酸基、硫
酸基などのクロム塩形成基が挙げられ、陰性原子として
は、酸素、ハロゲン等が挙げられる。

【００１２】好ましいクロム化合物は、クロムのアルコ
キシ塩、カルボキシル塩、β−ジケトナート塩、β−ケ
トエステルのアニオンとの塩、または、クロムハロゲン
化物であり、具体的には、クロム(IV)tert−ブトキシ
ド、クロム(III) アセチルアセトナート、クロム(III)
トリフルオロアセチルアセトナート、クロム(III) ヘキ
サフルオロアセチルアセトナート、クロム（III)（２，
２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナー
ト）、Ｃｒ（ＰｈＣＯＣＨＣＯＰｈ)₃（但し、ここでＰ
ｈはフェニル基を示す。）、クロム(II)アセテート、ク
ロム(III) アセテート、クロム(III) ２−エチルヘキサ
ノエート、クロム(III) ベンゾエート、クロム(III) ナ
フテネート、Ｃｒ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＯＣＨ₃)₃ 、塩
化第一クロム、塩化第二クロム、臭化第一クロム、臭化
第二クロム、ヨウ化第一クロム、ヨウ化第二クロム、フ
ッ化第一クロム、フッ化第二クロム等が挙げられる。

【００１３】また、上記のクロム化合物と電子供与体か
ら成る錯体も好適に使用することが出来る。電子供与体
としては、窒素、酸素、リン又は硫黄を含有する化合物
の中から選択される。

【００１４】窒素含有化合物としては、ニトリル、アミ
ン、アミド等が挙げられ、具体的には、アセトニトリ
ル、ピリジン、ジメチルピリジン、ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルホルムアミド、アニリン、ニトロベンゼ
ン、テトラメチルエチレンジアミン、ジエチルアミン、
イソプロピルアミン、ヘキサメチルジシラザン、ピロリ
ドン等が挙げられる。

【００１５】酸素含有化合物としては、エステル、エー
テル、ケトン、アルコール、アルデヒド等が挙げられ、
具体的には、エチルアセテート、メチルアセテート、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタン、ジグライム、トリグライム、アセト
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、ア
セトアルデヒド等が挙げられる。

【００１６】リン含有化合物としては、ヘキサメチルフ
ォスフォルアミド、ヘキサメチルフォスフォラストリア
ミド、トリエチルフォスファイト、トリブチルフォスフ
ィンオキシド、トリエチルフォスフィン等が例示され
る。一方、硫黄含有化合物としては、二硫化炭素、ジメ
チルスルフォキシド、テトラメチレンスルフォン、チオ
フェン、ジメチルスルフィド等が例示される。

【００１７】従って、クロム化合物と電子供与体から成
る錯体例としては、ハロゲン化クロムのエーテル錯体、
エステル錯体、ケトン錯体、アルデヒド錯体、アルコー
ル錯体、アミン錯体、ニトリル錯体、ホスフィン錯体、
チオエーテル錯体などが挙げられる。具体的には、Ｃｒ
Ｃｌ₃ ・３ＴＨＦ、ＣｒＣｌ₃ ・３ｄｉｏｘａｎｅ、Ｃ
ｒＣｌ₃ ・（ＣＨ₃ ＣＯ₂ ｎ−Ｃ₄ Ｈ₉ ）、ＣｒＣｌ₃
・（ＣＨ₃ ＣＯ₂ Ｃ₂Ｈ₅ ）、ＣｒＣｌ₃ ・３（ｉ−Ｃ₃
Ｈ₇ ＯＨ）、ＣｒＣｌ₃ ・３［ＣＨ₃ （ＣＨ ₂ ）₃ Ｃ
Ｈ（Ｃ₂ Ｈ₅ ）ＣＨ₂ ＯＨ］、ＣｒＣｌ₃ ・３ｐｙｒｉ
ｄｉｎｅ、ＣｒＣｌ₃ ・２（ｉ−Ｃ₃ Ｈ₇ ＮＨ₂ ）、
［ＣｒＣｌ₃ ・３ＣＨ₃ ＣＮ］・ＣＨ₃ ＣＮ、ＣｒＣｌ
₃ ・３ＰＰｈ₃ 、ＣｒＣｌ₂ ・２ＴＨＦ、ＣｒＣｌ₂ ・
２ｐｙｒｉｄｉｎｅ、ＣｒＣｌ₂ ・２［（Ｃ₂ Ｈ₅)₂ Ｎ
Ｈ］、ＣｒＣｌ₂ ・２ＣＨ₃ ＣＮ、ＣｒＣｌ₂ ・２［Ｐ
（ＣＨ₃ ）₂ Ｐｈ］等が挙げられる。

【００１８】クロム化合物としては、炭化水素溶媒に可
溶な化合物が好ましく、クロムのβ−ジケトナート塩、
カルボン酸塩、β−ケトエステルのアニオンとの塩、β
−ケトカルボン酸塩、アミド錯体、カルボニル錯体、カ
ルベン錯体、各種シクロペンタジエニル錯体、アルキル
錯体、フェニル錯体などが挙げられる。クロムの各種カ
ルボニル錯体、カルベン錯体、シクロペンタジエニル錯
体、アルキル錯体、フェニル錯体としては、具体的に
は、Ｃｒ（ＣＯ）₆ 、（Ｃ₆ Ｈ ₆）Ｃｒ（ＣＯ）₃ 、
（ＣＯ）₅ Ｃｒ（＝ＣＣＨ₃ （ＯＣＨ₃ ））、（ＣＯ）
₅ Ｃｒ（＝ＣＣ₆ Ｈ₅ （ＯＣＨ₃ ））、ＣｐＣｒＣｌ₂
（ここでＣｐはシクロペンタジエニル基を示す。）、(
Ｃｐ* ＣｒＣｌＣＨ₃)₂ （ここでＣｐ* はペンタメチル
シクロペンタジエニル基を示す。）、（ＣＨ₃)₂ ＣｒＣ
ｌ等が例示される。

【００１９】クロム化合物は、無機酸化物などの担体に
担持して使用することも出来るが、担体に担持させず
に、他の触媒成分と組み合わせて使用するのが好まし
い。すなわち、本発明において、クロム系触媒は、後述
する特定の接触態様で使用されるが、斯かる態様によれ
ば、クロム化合物の担体への担持を行わなくとも高い触
媒活性が得られる。そして、クロム化合物を担体に担持
させずに使用する場合は、複雑な操作を伴う担体への担
持を省略でき、しかも、担体の使用による総触媒使用量
（担体と触媒成分の合計量）の増大と言う問題をも回避
することが出来る。

【００２０】本発明で使用する酸アミド又はイミド化合
物は、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物など
が挙げられる。

【００２１】

【化６】

【００２２】一般式（１）中、Ｍ¹ は、水素原子または
周期律表のＩＡ、IIＡ、ＩＢ、 IIIＢ族（新周期律表の
１族、２族、１１族、１３族）から選ばれる金属元素で
あり、Ｒ¹ は、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、置換基を有していて
もよいアリール基、または、ヘテロ元素を含んでいても
よいアリール基を表し、Ｒ² は、水素原子、炭素数１〜
３０のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基、ヘテロ元素を含んで
いてもよいアリール基、または、アシル基Ｃ（＝Ｏ）Ｒ
³ （Ｒ³ はＲ¹ と同じ定義であり、Ｒ¹ と異なっていて
もよい。

【００２３】

【化７】

【００２４】一般式（２）中、Ｍ² 及びＭ³ は、水素原
子または周期律表のＩＡ、IIＡ、ＩＢ、 IIIＢ族から選
ばれる金属元素であり、Ｒ⁴ 及びＲ ⁵は、水素原子、炭
素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、または、ヘ
テロ元素を含んでいてもよいアリール基を表し、Ｒ⁴と
Ｒ ⁵は環を形成していてもよく、Ａは不飽和結合を含ん
でいてもよいアルキレン基を表す。

【００２５】一般式（１）又は一般式（２）で表される
酸アミド類としては、例えば、アセトアミド、Ｎ−メチ
ルヘキサンアミド、スクシンアミド、マレアミド、Ｎ−
メチルベンズアミド、イミダゾール−２−カルボキソア
ミド、ジ−２−テノイルアミン、β−ラクタム、δ−ラ
クタム、ε−カプロラクタム、および、これらと周期律
表のＩＡ、IIＡまたは IIIＢ族の金属との塩が挙げられ
る。イミド類としては、例えば、１，２−シクロヘキサ
ンジカルボキシイミド、スクシンイミド、フタルイミ
ド、マレイミド、２，４，６−ピペリジントリオン、ペ
ルヒドロアゼシン−２，１０−ジオン、および、これら
と周期律表のＩＡ、IIＡ、ＩＢまたは IIIＢ族の金属と
の塩が挙げられる。

【００２６】

【化８】

【００２７】一般式（３）中、Ｍ⁴ は、水素原子または
周期律表のＩＡ、IIＡ、ＩＢ、 IIIＢ族から選ばれる金
属元素であり、Ｒ⁶ は、水素原子、炭素数１〜３０のア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換基を有し
ていてもよいアリール基、または、ヘテロ元素を含んで
いてもよいアリール基を表し、Ｒ⁷ は、水素原子、炭素
数１〜３０のアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロ元素
を含んでいてもよいアリール基、または、ＳＯ₂Ｒ⁸ 基
（Ｒ⁸ はＲ⁶ と同じ定義であり、Ｒ⁶ と異なっていても
よい）を表し、Ｒ⁶ とＲ⁷ は環を形成してもよい。

【００２８】一般式（３）で示されるスルホンアミド類
およびスルホンイミド類としては、例えば、ベンゼンス
ルホンアミド、Ｎ−メチルメタンスルホンアミド、Ｎ−
メチルトリフルオロメチルスルホンアミド、および、こ
れらと周期律表のＩＡ、IIＡ、ＩＢまたは IIIＢ族の金
属との塩が挙げられる。

【００２９】上記の酸アミド又はイミド化合物の中、一
般式（１）で表される化合物が好ましく、特に、一般式
（１）中のＲ² がアシル基Ｃ（＝Ｏ）Ｒ³ を表し、Ｒ¹
とＲ³ が環を形成しているイミド化合物が好ましい。

【００３０】本発明において、金属アルキル化合物とし
ては、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ｚｎ、Ａｌ等の金属アルキル化
合物であり、例えば、ブチルリチウム、エチルマグネシ
ウムブロミド、トリレエチルボラン、ジエチル亜鉛、ま
たは、アルキルアルミニウム化合物が挙げられる。これ
らの中では、一般式（７）で示されるアルキルアルミニ
ウム化合物が好適に使用される。

【００３１】

【化９】 Ｒ¹ _m Ａｌ（ＯＲ² ）_n Ｈ_p Ｘ_q ・・・（７)

【００３２】一般式（７）中、Ｒ¹ 及びＲ² は、炭素数
が通常１〜１５、好ましくは１〜８の炭化水素基であっ
て互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｘはハロ
ゲン原子を表し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐ
は０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３のそれぞれの数であっ
て、しかも、ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である数を表す。

【００３３】上記のアルキルアルミニウム化合物として
は、例えば、下記一般式（８) で示されるトリアルキル
アルミニウム化合物、一般式（９）で示されるハロゲン
化アルキルアルミニウム化合物、一般式（10）で示され
るアルコキシアルミニウム化合物、一般式（11）で水素
化アルキルアルミニウム化合物などが挙げられる。な
お、各式中のＲ¹ 、ＸおよびＲ² の意義は前記と同じで
ある。

【００３４】

【化１０】 Ｒ¹ ₃Ａｌ ・・・ （８） Ｒ¹ _m ＡｌＸ_3-m （ｍは１. ５≦ｍ＜３） ・・・ （９) Ｒ¹ _m Ａｌ（ＯＲ² ）_3-m （ｍは０＜ｍ＜３、好ましくは１. ５≦ｍ＜３） ・・・（10） Ｒ¹ _m ＡｌＨ_3-m ・・・（11) （ｍは０＜ｍ＜３、好ましくは１. ５≦ｍ＜３）

【００３５】上記のアルキルアルミニウム化合物の具体
例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアル
ミニウムモノクロリド、ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。こ
れらの中では、ポリマーの副生が少ないと言う点でトリ
アルキルアルミニウム又はトリアルキルアルミニウムと
ハロゲン化アルキルアルミニウムとの混合物が特に好ま
しい。アルキルアルミニウム化合物は、２種以上の混合
物であってもよい。

【００３６】本発明においては、上記のクロム化合物
（ａ）、酸アミド又はイミド化合物（ｂ）及び金属アル
キル化合物（ｃ）の組み合わせから成る触媒系を使用し
てα−オレフイン低重合反応を行うが、反応系に特定の
第４成分を存在させるならば、触媒活性および三量体の
選択率が更に向上するので好ましい。斯かる第４成分と
しては、ハロゲン含有化合物、下記一般式（４）又は
（５）で表される化合物、または、下記一般式（６）で
表される化合物が挙げられる。

【００３７】

【化１１】

【００３８】一般式（４）及び（５）中、Ｍ⁵ 及びＭ ⁶
は、周期律表のIII Ｂ、ＩＶＢ、ＶＢ、ＶＩＢ族（新周
期律表の１３族、１４族、１５族、１６族）から選ばれ
る金属元素であり、Ｒ9 〜Ｒ15は、有機基、無機基また
は陰性原子を表し、［Ｌ］⁺は、周期律表のＩＡ、ＶII
Ａ、ＶIII 、ＩＢ及びIII Ｂ〜ＶＩＢ族（新周期律表の
１族、７族、８〜１０族 、１１族および１３族〜１６
族）から選ばれる元素を含むカチオンを表す。

【００３９】

【化１２】 Ｒ¹⁶ＯＨ ・・・ （６）

【００４０】一般式（６）中、Ｒ¹⁶は、水素原子、炭素
数１〜３０のアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロ元素
を含んでいてもよいアリール基、ハロゲン化アルキル
基、アシル基Ｃ（＝Ｏ）Ｒ¹⁷（Ｒ¹⁷はＲ¹⁶と同じ定義で
あり、Ｒ¹⁶と異なっていてもよい）、または、Ｒ¹⁸ＳＯ
₂基（Ｒ¹⁸はＲ¹⁶と同じ定義であり、Ｒ¹⁶と異なってい
てもよい）を表す。

【００４１】第４成分として用いるハロゲン含有化合物
は、ハロゲン原子が含まれる化合物であればよい。中で
も、周期律表のＩＩＩＡ、ＩＩＩＢ、ＩＶＡ、ＩＶＢ、
ＶＢ、ＶＩＢ族から選ばれる元素を含むハロゲン含有化
合物が好ましく、ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素の何れでもよいが、好ましくは、塩素、臭素
である。また、前記したアルミニウム化合物は、ハロゲ
ンを含有している化合物であってよい。

【００４２】ハロゲン含有化合物としては、金属ハロゲ
ン化合物やハロゲン化炭化水素が挙げられ、金属ハロゲ
ン化合物には無機金属ハロゲン化合物や有機金属ハロゲ
ン化合物が挙げられ、また、ハロゲン化炭化水素には、
鎖状ハロゲン化炭化水素、環状炭化水素、ハロゲン化芳
香族炭化水素等があげられる。

【００４３】ハロゲン含有化合物の具体例としては、塩
化スカンシウム、塩化イットリウム、塩化ランタン、四
塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニウム、
三塩化ホウ素、塩化アルミニウム、ジエチルアルミニウ
ムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチ
ルアルミニウムジクロリド、塩化ガリウム、四塩化炭
素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン、テトタクロロエタン、ヘキサクロロシ
クロヘキサン、ヘキサクロロベンゼン、１，３，５トリ
クロロベンゼン、トリチルクロリド、四塩化シラン、ト
リメチルクロロシラン、四塩化ゲルマニウム、四塩化ス
ズ、トリブチルスズクロリド、ジブチルスズジクロリ
ド、ジブチルスズジブロミド、三塩化リン、三塩化アン
チモン、トリエチルヘキサクロロアンチモネート、五塩
化アンチモン、三塩化ビスマス、三臭化ホウ素、三塩化
アルミニウム、四臭化炭素、ブロモホルム、ジブロモメ
タン、ペンチルブロミド、ブロモベンゼン、ヨードメタ
ン、四臭化ケイ素、ヘキサフルオロベンゼン、フッ化ア
ルミニウム、スズトリフルオロメタンスルホネート、ト
リメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、ｔ−
ブチルジメチルトリフルオロメタンスルホネート等が挙
げられる。これらの中では、液状の化合物は溶媒として
使用してもよく、また、これらは、単独で使用する他、
２種類以上の混合物として使用することも出来る。

【００４４】第４成分として使用される一般式（４）又
は（５）で表される化合物は、非配位性のルイス酸を含
む化合物を意味し、以下「化合物（Ａ）又は（Ｂ）」を
以て表すこととする。一般式中、Ｍ⁵ 及びＭ⁶ は、周期
律表のＩＩＩＢ族、ＩＶＢ族、ＶＢ族およびＶＩＢ族か
ら選ばれる元素であり、Ｍ⁵ 及びＭ⁶ としては、特に、
Ｂ、Ａｌ、Ｉｎ等が好適に使用される。

【００４５】Ｒ⁹ 〜Ｒ¹⁵は、有機基、無機基または陰性
原子であり、水素原子、ジアルキルアミノ基、炭素数１
〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキ
シ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０の
アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル
基、炭素数１〜２０のハロゲン置換炭化水素基、炭素数
１〜２０のアシルオキシ基、炭素数１〜２０のアルコキ
シアリール基、炭素数１〜２０のハロゲン置換アルコキ
シアリール基、有機メタロイド基またはハロゲン原子な
どから選ばれ、その２つ以上が互いに結合して環を形成
していてもよい。

【００４６】Ｒ⁹ 〜Ｒ¹⁵としては、具体的には、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリル基、２，５−
ジメチルピロリル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプ
ロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フェノ
キシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、２，６−ｔ−
ブチルフェノキシ基、ナフチルフェノキシ基、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オ
クチル基、フェニル基、３−メチルフェニル基、２，４
−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、
３，５−ジメチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニ
ル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，３，５
−トリメチルフェニル基、２，３，４−トリメチルフェ
ニル基、３−ｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−
ブチルフェニル基、ベンジル基、ｐ−フルオロフェニル
基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタクロロフェ
ニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル基、ペンタ
フルオロフェニル基、３，５−ジ（トリフルオロメチ
ル）フェニル基、３−メトキシフェニル基、２，４−ジ
メトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、
３，５−ジメトキシフェニル基、２，３−ジメトキシフ
ェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、２，
３，５−トリメトキシフェニル基、２，３，４−トリメ
トキシフェニル基、３，５−ビス（１−メトキシ−２，
２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エ
チル）フェニル基、３−（１−メトキシ−２，２，２−
トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル）−
５−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−（２，
２，２−トリフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシ）−１−（トリフルオロメチル）エチル）−
５−（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス
（２，２，２−トリフルオロ−１−（２，２，２−トリ
フルオロエトキシ））−１−（トリフルオロメチル）エ
チル）フェニル基、トリメチルシリル基、トリメチルゲ
ルミル基、ジフェニルアルシン基、ジシクロヘキシルア
ンチモン基、ペンタフルオロテルルオキシ基、Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。

【００４７】一般式（４）中、［Ｌ］⁺ は、周期律表の
ＩＡ族、ＶＩＩＡ族、ＶＩＩＩ族、ＩＢ族およびＩＩＩ
Ｂ族〜ＶＩＢ族から選ばれる元素を含むカチオンを示
す。Ｌは、Ｍ⁷ 、Ｍ⁸ Ｒ²¹Ｒ²²、Ｅ¹ Ｒ²³Ｒ²⁴Ｒ²⁵又は
Ｅ² Ｒ²⁶Ｒ²⁷Ｒ²⁸Ｒ²⁹で表されるものであり、Ｍ⁷ は、
周期律表のＩ族、ＩＢ族およびIII Ｂ族から選ばれる元
素、Ｍ⁸ は、ＶIIＡ族およびＶIII 族から選ばれる元
素、Ｅ¹ は、炭素原子、酸素原子または硫黄原子、Ｅ²
は、窒素原子またはリン原子を示す。Ｍ⁷ としては、特
に、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ａｇ等、Ｍ⁸ としては、特に、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉが好適である。

【００４８】Ｒ²¹及びＲ²²は、シクロペンタジエニル
基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基または
フルオレニル基から選ばれる置換基であり、互いに結合
して環を形成していてもよい。Ｒ²¹及びＲ²²の置換シク
ロペンタジエニル基の置換基は、通常、炭素数が１〜６
のアルキル基であり、置換基の数は１〜５の整数であ
る。Ｒ²¹及びＲ²²の具体例としては、メチルシクロペン
タジエニル基、ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル基などが挙げられる。

【００４９】Ｒ²³〜Ｒ²⁹は、水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリー
ル基、アルキルアリール基、アリールアルキル基または
有機メタロイド基から選ばれ、具体的には、水素、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
オクチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル
基、３−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル
基、２，６−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフ
ェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４，６−
トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニ
ル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、３−ｔ−ブ
チルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。

【００５０】化合物（Ａ）又は（Ｂ）の中では、Ｍ⁵ 又
はＭ⁶ がホウ素である化合物が特に好ましく、化合物
（Ａ）の中では、具体的には、下記の化合物が特に好ま
しい。

【００５１】ＬがＭ⁷ の化合物としては、テトラフェニ
ルボレート銀、テトラフェニルボレートナトリウム、テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート銀、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートリチウム、
テトラキス（ペンタフルオロテルルオキシ）ボレート
銀、テトラフルオロボレート銀、テトラフルオロヒ素酸
銀、テトラフルオロアンチモン酸銀等が好適である。

【００５２】ＬがＭ⁸ Ｒ²¹Ｒ²²の化合物としては、テト
ラフェニルボレートフェロセニウム、テトラフェニルボ
レートマンガン（テトラフェニルポルフィリン）、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートフェロセニ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
デカメチルフェロセニウム、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートアセチルフェロセニウム、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレートホルミルフェ
ロセニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートシアノフェロセニウム等が好適である。

【００５３】ＬがＥ¹ Ｒ²³Ｒ²⁴Ｒ²⁵の化合物としては、
テトラフェニルボレートトリチル、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートトリチル、テトラフェニル
ボレートメチルスルホニウム、テトラフェニルボレート
ベンジルジメチルスルホニウム、テトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートベンジルジメチルスルホニウ
ム等が好適である。

【００５４】ＬがＥ² Ｒ²⁶Ｒ²⁷Ｒ²⁸Ｒ²⁹の化合物として
は、テトラフェニルボレートアンモニウム、テトラフェ
ニルボレートトリエチルアンモニウム、テトラフェニル
ボレートトリ（ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェ
ニルボレートトリメチルアンモニウム、テトラフェニル
ボレートピロリニウム、テトラフェニルボレート２，５
−ジメチルピロリニウム、テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレートアンモニウム、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートトリエチルアンモニウム、
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートトリ
（ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラキス（ペンタフル
オロフェニル）ボレートトリメチルアンモニウム、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニリニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートモ
ノメチルアニリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）ボレートジメチルアニリニウム、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートテトラフェニルホ
スホニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートテトラブチルアンモニウム、テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートメチルジフェニルアンモニ
ウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
トリフェニルアンモニウム、テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートピリジニウム、テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートジメチル（ｍ−ニトロア
ニリニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレートジメチル（ｐ−ブロモアニリニウム）、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ｐ−シアノ
ピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートトリメチルアニリニウム、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート（Ｎ−メチルピリジウ
ム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
トリメチルスルホニウム、テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレート（ｏ−シアノ−Ｎ−メチルピリジニ
ウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
トジメチルジフェニルアンモニウム、テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート（ｐ−シアノ−Ｎ−ベン
ジルピリジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレートメチルトリフェニルアンモニウム、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートピロリニウ
ム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
２，５−ジメチルピロリニウム、テトラキス（３，５−
ジ（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートジメチル
アニリニウム、ヘキサフルオロヒ素酸トリエチルアンモ
ニウム、テトラキス（３，５−ビス（１−メトキシ−
２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチ
ル）エチル））フェニルボレートジメチルアニリニウ
ム、テトラキス（３−（１−メトキシ−２，２，２−ト
リフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル）−５
−（トリフルオロメチル））フェニルボレートジメチル
アニリニウム、テトラキス（３−（２，２，２−トリフ
ルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−
１−（トリフルオロメチル）エチル）−５−（トリフル
オロメチル））フェニルボレートジメチルアニリニウ
ム、テトラキス（３，５−ビス（２，２，２−トリフル
オロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１
−（トリフルオロメチル）エチル）フェニルボレートジ
メチルアニリニウム、テトラフェニルボレートテトラエ
チルアンモニウム、テトラフェニルボレートメチルトリ
（ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェニルボレート
ベンジルトリ（ｎ−ブチル）アンモニウム、テトラフェ
ニルボレートトリメチルアニリニウム、テトラフェニル
ボレートジメチルジフェニルアンモニウム、テトラフェ
ニルボレートメチルトリフェニルアンモニウム、テトラ
フェニルボレートメチルピリジニウム、テトラフェニル
ボレートベンジルピリジニウム、テトラフェニルボレー
トメチル（２−シアノピリジニウム）、テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート（テトラエチルアンモ
ニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート（メチルトリ（ｎ−ブチル）アンモニウム）、テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ベンジル
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム）、テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレートメチル（４−シアノピリ
ジニウム）、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートベンジルピリジニウム等が好適である。

【００５５】化合物（Ｂ）の中では、具体的には、トリ
ス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素、トリス（３，５
−ビス（１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ−１
−（トリフルオロメチル）エチル））フェニルホウ素、
トリス３−（１−メトキシ−２，２，２−トリフルオロ
−１−（トリフルオロメチル）エチル）−５−（トリフ
ルオロメチル））フェニルホウ素、トリス（３−（２，
２，２−トリフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオ
ロエトキシ）−１−（トリフルオロメチル）エチル）−
５−（トリフルオロメチル））フェニルホウ素、トリス
（３，５−ビス（２，２，２−トリフルオロ−１−
（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１−（トリフ
ルオロメチル）エチル）フェニルホウ素、トリフェニル
ホウ素、トリス（ペンタフルオロテルルオキシ）ホウ素
などが特に好ましい。

【００５６】第４成分として用いられる一般式（６）で
表される化合物として、メタノール、エタノール、プロ
パノール、プロペノール、プロピノール、２−プロパノ
ール、２−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、
エチレングリコール、トリエチレングリコール、ベンジ
ルアルコール、１−フェニルエタノール、１−フェニル
プロパノール、シンナムアルコール、トリフルオロメタ
ノール、ビストリフルオロメチルメタノール等のアルコ
ール類、フェノール、ジｔ−ブチルフェノール、カテコ
ール等のフェノール類、酢酸、酪酸、シュウ酸、安息香
酸などのカルボン酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、メタ
ンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのス
ルホン酸類などが挙げられる。これらの中では、スルホ
ン酸類が好ましく、トリフルオロメタンスルホン酸が特
に好ましい。

【００５７】本発明においては、上記の各触媒成分から
成る触媒系を使用して溶液中でα−オレフインの低重合
を行なう。各触媒成分とα−オレフインとの接触態様
は、特には限定されないが、次のような接触態様が好ま
しい。

【００５８】１）酸アミド又はイミド化合物および金属
アルキル化合物を含む溶液中にα−オレフイン及びクロ
ム化合物を導入する方法。 ２）クロム化合物および酸アミド又はイミド化合物を含
む溶液中にα−オレフイン及び金属アルキル化合物を導
入する方法。 ３）クロム化合物および金属アルキルを含む溶液中にα
−オレフイン及び酸アミド又はイミド化合物を導入する
方法。 ４）クロム化合物を含む溶液中にα−オレフイン、酸ア
ミド又はイミド化合物および金属アルキル化合物を導入
する方法。 ５）金属アルキル化合物を含む溶液中にα−オレフイ
ン、クロム化合物および酸アミド又はイミド化合物を導
入する方法。 ６）酸アミド又はイミド化合物を含む溶液中にα−オレ
フイン、クロム化合物および金属アルキル化合物を導入
する方法。 ７）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属ア
ルキル化合物を含む溶液中にα−オレフインを導入する
方法。 ８）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属ア
ルキル化合物およびα−オレフインをそれぞれ同時かつ
独立に反応器に導入する方法。

【００５９】また、溶媒中に各成分を独立に又は予め適
宜混合した混合物を供給して反応を行ってもよい。例え
ば、次の態様が挙げられる。

【００６０】１）溶媒中にクロム化合物、酸アミド又は
イミド化合物、金属アルキルおよびα−オレフインを独
立に同時に供給する方法。 ２）溶媒中にクロム化合物、酸アミド又はイミド化合物
と金属アルキルの混合物およびα−オレフインを独立に
同時に供給する方法。 ３）溶媒中にクロム化合物と酸アミド又はイミド化合物
の混合物、金属アルキル及びα−オレフインを独立に同
時に供給する方法。

【００６１】また、ハロゲン含有化合物や一般式（４）
〜（６）で表される化合物などを第４成分と表現した場
合は、各触媒成分とα−オレフインとの次の様な接触態
様が例示される。

【００６２】１）酸アミド又はイミド化合物、第４成分
および金属アルキル化合物を含む溶液中にα−オレフイ
ン及びクロム化合物を導入する方法。 ２）酸アミド又はイミド化合物および金属アルキル化合
物を含む溶液中にα−オレフイン、第４成分およびクロ
ム化合物を導入する方法。 ３）クロム化合物、第４成分および酸アミド又はイミド
化合物を含む溶液中にα−オレフイン及び金属アルキル
化合物を導入する方法。 ４）クロム化合物および酸アミド又はイミド化合物を含
む溶液中にα−オレフイン、第４成分および金属アルキ
ル化合物を導入する方法。 ５）クロム化合物、第４成分および金属アルキルを含む
溶液中にα−オレフイン及び酸アミド又はイミド化合物
を導入する方法。 ６）クロム化合物および金属アルキルを含む溶液中にα
−オレフイン、第４成分および酸アミド又はイミド化合
物を導入する方法。 ７）クロム化合物および第４成分を含む溶液中にα−オ
レフイン、酸アミド又はイミド化合物および金属アルキ
ル化合物を導入する方法。 ８）クロム化合物を含む溶液中に−オレフイン、酸アミ
ド又はイミド化合物、第４成分および金属アルキル化合
物を導入する方法。 ９）金属アルキル化合物および第４成分を含む溶液中に
α−オレフイン、クロム化合物、及び酸アミド又はイミ
ド化合物を導入する方法。 １０）金属アルキル化合物を含む溶液中にα−オレフイ
ン、クロム化合物、第４成分および酸アミド又はイミド
化合物を導入する方法。 １１）酸アミド又はイミド化合物および第４成分を含む
溶液中にα−オレフイン、クロム化合物および金属アル
キル化合物を導入する方法。 １２）酸アミド又はイミド化合物を含む溶液中にα−オ
レフイン、クロム化合物、第４成分および金属アルキル
化合物を導入する方法。 １３）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属
アルキル化合物および第４成分を含む溶液中にα−オレ
フインを導入する方法。 １４）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属
アルキル化合物を含む溶液中にα−オレフインおよび第
４成分を導入する方法。 １５）第４成分を含む溶液中にクロム化合物、酸アミド
又はイミド化合物、金属アルキル化合物およびα−オレ
フインを導入する方法。 １６）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属
アルキル化合物、第４成分およびα−オレフインをそれ
ぞれ同時かつ独立に反応器に導入する方法。

【００６３】そして、上記の各溶液は、通常、反応溶媒
を使用して調製される。２種以上の金属アルキル化合物
の混合物を使用する場合や２種以上の溶媒を混合して使
用する場合は、その混合される各々の成分は、予め混合
されていてもよいが、必ずしもその必要はなく、別々に
反応器に導入することも可能である。

【００６４】また、溶媒中に各成分を独立に又は予め適
宜混合した混合物を供給して反応を行ってもよい。例え
ば、次の様な態様が挙げられる。

【００６５】１）溶媒中にクロム化合物、酸アミド又は
イミド化合物、金属アルキル、第４成分およびα−オレ
フインを独立に同時に供給する方法。 ２）溶媒中にクロム化合物、酸アミド又はイミド化合物
と金属アルキルの混合物、第４成分およびα−オレフイ
ンを独立に同時に供給する方法。 ３）溶媒中にクロム化合物と酸アミド又はイミド化合物
の混合物、金属アルキル、第４成分およびα−オレフイ
ンを独立に同時に供給する方法。 ４）溶媒中にクロム化合物と第４成分の混合物、酸アミ
ド又はイミド化合物の混合物、金属アルキル及びα−オ
レフインを独立に同時に供給する方法。 ５）溶媒中にクロム化合物、酸アミド又はイミド化合物
の混合物、金属アルキルと第４成分の混合物およびα−
オレフインを独立に同時に供給する方法。

【００６６】本発明において、原料α−オレフインとし
ては、炭素数が２〜３０の置換または非置換のα−オレ
フインが使用される。具体的には、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン、３−メ
チル−１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン等が挙げ
られる。特に、原料α−オレフインとしてエチレンが好
適であり、エチレンからその三量体である１−ヘキセン
を高収率かつ高選択率で得ることが出来る。

【００６７】本発明において、反応溶媒としては、ブタ
ン、ペンタン、３−メチルペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、２−メチルヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、２，２，４−トリメチルペンタ
ン、デカリン等の炭素数１〜２０の鎖状または脂環式の
飽和炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素
などが使用される。これらは、単独で使用する他、混合
溶媒として使用することも出来る。

【００６８】また、反応溶媒として、反応原料のα−オ
レフインそれ自体または主原料以外のα−オレフインを
使用することも出来る。反応溶媒用としては、炭素数が
４〜３０のα−オレフインが使用されるが、常温で液状
のα−オレフインが特に好ましい。

【００６９】特に、反応溶媒としては、炭素数が４〜１
０の鎖状飽和炭化水素または脂環式飽和炭化水素が好ま
しい。これらの溶媒を使用することにより、ポリマーの
副生を抑制することが出来、更に、脂環式炭化水素を使
用した場合は、高い触媒活性が得られると言う利点があ
る。

【００７０】本発明において、クロム化合物の使用量
は、溶媒１リットル当たり、通常１．０×１０^-7〜０．
５ｍｏｌ、好ましくは１．０×１０^-6〜０．２ｍｏｌ、
更に好ましくは１．０×１０^-5〜０．０５ｍｏｌの範囲
とされる。一方、金属アルキル化合物の使用量は、クロ
ム化合物１ｍｏｌ当たり、通常５０ｍｍｏｌ以上である
が、触媒活性および三量体の選択率の観点から、０．１
ｍｏｌ以上とするのがよい。そして、上限は、通常１．
０×１０⁴ ｍｏｌである。また、酸アミド及びイミド化
合物の使用量は、クロム化合物１ｍｏｌ当たり、通常
０．００１ｍｏｌ以上であり、好ましくは０．００５〜
１０００ｍｏｌ、更に好ましくは０．０１〜１００ｍｏ
ｌの範囲とされる。また、第４成分として使用されるハ
ロゲン含有化合物および前記一般式（４）〜（６）で表
される化合物の使用量は、クロム化合物１ｍｏｌ当た
り、通常０．００１ｍｏｌ以上であり、好ましくは０．
０１ｍｏｌ以上である。そして、その上限は、特に制限
されないが、通常１．０×１０⁴ｍｏｌである。

【００７１】本発明においては、クロム化合物（ａ）、
酸アミド又はイミド化合物（ｂ）及び金属アルキル化合
物（ｃ）、び第４成分として使用されるハロゲン含有化
合物および前記一般式（４）〜（６）で表される化合物
（ｄ）のモル比（ａ）：（ｂ）：（ｃ）：（ｄ）は１：
０．１〜１０：１〜１００：０．１〜２０が好ましく、
１：１〜５：５〜５０：１〜１０が特に好ましい。斯か
る特定条件の結合により、α−オレフイン低重合体とし
て、例えば、ヘキセンを９０％以上（全生成量に対する
割合）の収率で製造することが出来、しかも、ヘキセン
中の１−ヘキセンの純度を９９％以上に高めることが出
来る。

【００７２】反応温度は、通常０〜２５０℃、好ましく
は０〜１５０℃、更に好ましくは２０〜１３０℃であ
る。一方、反応圧力は、常圧ないし２５０ｋｇ／ｃｍ²
の範囲から選択し得るが、通常は、１００ｋｇ／ｃｍ²
の圧力で十分である。そして、滞留時間は、通常１分か
ら２０時間、好ましくは０．５〜６時間の範囲とされ
る。また、反応形式は、回分式、半回分式または連続式
の何れであってもよい。そして、反応時に水素を共存さ
せるならば、触媒活性および三量体の選択率の向上が認
められるので好ましい。また、水素の共存により、副生
するポリマーの性状が付着性の少ない紛状となる効果も
得られる。共存させる水素の量は、水素分圧として、通
常０．１〜１００ｋｇ／ｃｍ² 、好ましくは１．０〜８
０ｋｇ／ｃｍ² の範囲とされる。

【００７３】反応液中の副生ポリマーの分離除去は、公
知の固液分離装置を適宜使用して行われ、回収されたα
−オレフイン低重合体は、必要に応じて精製される。精
製には、通常、蒸留精製が採用され、目的とする成分を
高純度で回収することが出来る。本発明においては、特
に、エチレンから高純度の１−ヘキセンを工業的有利に
製造することが出来る。そして、公知の重合触媒を使用
した重合反応により、本発明の製造方法で得られた１−
ヘキセンから有用な樹脂であるＬ−ＬＤＰＥを製造する
ことが出来る。

【００７４】

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例により更
に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限
り以下の実施例に限定されるものではない。なお、反応
条件は、表２〜７にまとめて示した。また、反応結果
は、表８〜１８にまとめた示した。反応時間は、全て
０．５時間とした。

【００７５】実施例１ １２０℃の乾燥器で加熱乾燥した３００ｍｌのオートク
レーブを熱時に組み立て、真空窒素置換した。このオー
トクレーブには破裂板を備えた触媒成分フィード管を取
り付けておいた。シクロヘキサン( １２０ｍｌ) 、マレ
イミド（０．１５６ｍｍｏｌ）のヘプタン溶液およびト
リエチルアルミニウム（０. ７７９ｍｍｏｌ）のｎ−ヘ
プタン溶液をオートクレーブ胴側に仕込み、一方、触媒
成分フィード管にクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノ
エート（２５ｍｇ、０. ０５２ｍｍｏｌ）のｎ−ヘプタ
ン溶液を仕込んだ。ｎ−ヘプタンの全体量は５ｍｌであ
った。この時点では、クロム化合物とトリエチルアルミ
ニウムは接触していない。

【００７６】先ず、オートクレーブを８０℃に加熱し、
次いで、８０℃でエチレンを触媒成分フィード管より導
入した。エチレン圧により破裂板が破裂し、クロム化合
物がオートクレーブ胴側に導入されエチレンの低重合が
開始された。エチレンを全圧が３５ｋｇ／ｃｍ² Ｇにな
るまで導入し、以後、全圧を３５ｋｇ／ｃｍ² Ｇに、反
応温度を８０℃に維持した。０．５時間後、オートクレ
ーブ中にエタノール圧入して反応を停止した。オートク
レーブの圧力を解除して脱ガスを行った後、濾過機によ
って反応液中の副生ポリマー（主としてポリエチレン）
を分離除去してα−オレフイン低重合体を回収した。ガ
スクロマトグラフによるα−オレフイン低重合体の組成
分析を行った。

【００７７】実施例２ 実施例１において、溶媒量と触媒成分仕込量を変更し
た。すなわち、シクロヘキサン( ４８ｍｌ) 、マレイミ
ド（０．０６２ｍｍｏｌ）トリエチルアルミニウム
（０. ３１１ｍｍｏｌ）、クロム（ＩＩＩ）２−エチル
ヘキサノエート（１０ｍｇ、０. ０２１ｍｍｏｌ）、ｎ
−ヘプタン（２ｍｌ）を使用した他は、実施例１記載の
方法で反応を行った。

【００７８】実施例３ 実施例１において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、マレイミドのｎ−ヘプタン溶
液およびクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートの
ｎ−ヘプタン溶液をオートクレーブ胴側に、一方、トリ
エチルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶液を触媒成分フィ
ード管に仕込んだ他は、実施例１記載の方法で反応を行
った。

【００７９】実施例４ 実施例２において、トリエチルアルミニウム（０. ３１
１ｍｍｏｌ）のｎ−ヘプタン溶液の代わりに、トリエチ
ルアルミニウム（０. ３１１ｍｍｏｌ）のｎ−ヘプタン
溶液およびエチルアルミニウムジクロリド（０．０４２
ｍｍｏｌ）のｎ−ヘプタン溶液を使用した他は、実施例
２記載の方法で反応を行った。

【００８０】実施例５ 実施例１において、マレイミドの代わりに、３−メチル
マレイミドを使用した他は、実施例１記載の方法で反応
を行った。

【００８１】実施例６ 実施例１において、マレイミドの代わりに、３、４−ジ
メチルマレイミドを使用した他は、実施例１記載の方法
で反応を行った。

【００８２】実施例７ 実施例２において、マレイミドの代わりに３、４−ジク
ロロマレイミドを使用した他は、実施例２記載の方法で
反応を行った。

【００８３】実施例８ 実施例１において、マレイミドの代わりに、マレイミド
銀塩を使用した他は、実施例１記載の方法で反応を行っ
た。

【００８４】実施例９ 実施例３において、マレイミドの代わりに、マレイミド
銀塩を使用した他は、実施例３記載の方法で反応を行っ
た。

【００８５】実施例１０ 実施例４において、マレイミドの代わりに、３，４−ジ
メチルマレイミドを使用した他は、実施例４記載の方法
で反応を行った。

【００８６】実施例１１ 実施例４において、マレイミドの代わりに、３，４−ジ
クロロマレイミドを使用した他は、実施例４記載の方法
で反応を行った。

【００８７】実施例１２ 実施例１において、シクロヘキサン（５５ｍｌ）、マレ
イミド（０．０７８ｍｍｏｌ）、トリアルキルアルミニ
ウム（０．３９０ｍｍｏｌ）、クロム（ＩＩＩ）２−エ
チルヘキサノエト（１２．５ｍｇ，０．０２６ｍｍｏ
ｌ）、ｎ−ヘプタン（５ｍｌ）を使用し、トリアルキル
アルミニウムとしてトリイソブチルアルミニウムを使用
した他は、実施例１記載の方法で反応を行った。

【００８８】実施例１３ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジエチルアルミニウムクロリドを使用した他
は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【００８９】実施例１４ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、セスキアルミニウムクロリドを使用した他は、
実施例４記載の方法で反応を行った。

【００９０】実施例１５ 実施例２において、シクロヘキサンの代わりに、ヘプタ
ンを使用した他は、実施例２記載の方法で反応を行っ
た。

【００９１】実施例１６ 実施例１において、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）の代
わりに、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）及びトルエン
（２．５ｍｌ）を使用した他は、実施例１記載の方法で
反応を行った。

【００９２】実施例１７ 実施例４において、シクロヘキサン（４８ｍｌ）の代わ
りに、シクロヘキサン（４８ｍｌ）及びトルエン（１ｍ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【００９３】実施例１８ 実施例１において、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）の代
わりに、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）及びクロロホル
ム（０．５ｍｌ）を使用した他は、実施例１記載の方法
で反応を行った。

【００９４】実施例１９ 実施例１において、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）の代
わりに、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）及びジクロロメ
タン（０．３ｍｌ）を使用した他は、実施例１記載の方
法で反応を行った。

【００９５】実施例２０ 実施例１において、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）の代
わりに、シクロヘキサン（１２０ｍｌ）及びジクロロメ
タン（１．５５ｍｌ）を使用した他は、実施例１記載の
方法で反応を行った。

【００９６】実施例２１ 実施例１において触媒成分仕込量を変更した。すなわ
ち、マレイミド（０．０３９ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ルミニウム（０. １９５ｍｍｏｌ）、クロム（ＩＩＩ）
２−エチルヘキサノエート（６．３ｍｇ、０. ０１３ｍ
ｍｏｌ）を使用した他は、実施例１記載の方法で反応を
行った。

【００９７】実施例２２ 実施例４において溶媒量と触媒仕込量を変更した。すな
わち、シクロヘキサン( １２０ｍｌ) 、マレイミド
（０．１５６ｍｍｏｌ、トリエチルアルミニウム（０.
７７９ｍｍｏｌ）、エチルアルミニウムジクロリド
（０．１０４ｍｍｏｌ）、クロム（ＩＩＩ）２−エチル
ヘキサノエート（２．５ｍｇ、０. ００５２ｍｍｏ
ｌ）、ｎ−ヘプタン（５ｍｌ）を使用した他は、実施例
４記載の方法で反応を行った。

【００９８】実施例２３ 実施例１において、トリエチルアルミニウムの仕込量を
３．１１ｍｍｏｌに変更した他は、実施例１記載の方法
で反応を行った。

【００９９】実施例２４ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの仕
込量を０．０７３ｍｍｏｌに変更した他は、実施例４記
載の方法で反応を行った。

【０１００】実施例２５ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの仕
込量を０．２０８ｍｍｏｌに変更した他は、実施例４記
載の方法で反応を行った。

【０１０１】実施例２６ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの仕
込量を０．１２６ｍｍｏｌに変更した他は、実施例４記
載の方法で反応を行った。

【０１０２】実施例２７ 実施例４において、トリエチルアルミニウムの仕込量を
０．９３４ｍｍｏｌに変更した他は、実施例４記載の方
法で反応を行った。

【０１０３】実施例２８ 実施例４において、触媒仕込量を変更した。すなわち、
マレイミド（０．１０８ｍｍｏｌ）、トリエチルアルミ
ニウム（０．４２ｍｍｏｌ）、エチルアルミニウムジク
ロリド（０．０６２ｍｍｏｌ）を使用した他は、実施例
４記載の方法で反応を行った。

【０１０４】実施例２９ 実施例１において、マレイミドの仕込量を０．０５２ｍ
ｍｏｌに変更した他は、実施例１記載の方法で反応を行
った。

【０１０５】実施例３０ 実施例１において、マレイミドの仕込量を０．２６０ｍ
ｍｏｌに変更した他は、実施例１記載の方法で反応を行
った。

【０１０６】実施例３１ 実施例１において、エチレン導入時のオートクレーブの
温度および反応温度を１１５℃に変更する他は、実施例
１記載の方法で反応を行った。

【０１０７】実施例３２ 実施例３において、エチレン導入時のオートクレーブの
温度および反応温度を１１５℃に変更する他は、実施例
３記載の方法で反応を行った。

【０１０８】実施例３３ 実施例２２において、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキ
サノエート（２５ｍｇ、０.０５２ｍｍｏｌ）を使用
し、エチレン導入時のオートクレーブの温度と反応温度
を５０℃に変更し、反応時の圧力を２０ｋｇ／ｃｍ² Ｇ
に変更する他は、実施例２２記載の方法で反応を行っ
た。

【０１０９】実施例３４ 実施例１において、反応時の全圧を６０ｋｇ／ｃｍ² Ｇ
に変更する他は、実施例１記載の方法で反応を行った。

【０１１０】実施例３５ 実施例１において、反応時の全圧を２０ｋｇ／ｃｍ² Ｇ
に変更する他は、実施例１記載の方法で反応を行った。

【０１１１】実施例３６ 実施例１と同様にして、マレイミド、トエチルアルミニ
ウム、クロム（ＩＩＩ）（２−エチルヘサノエート）を
オートクレーブに仕込んだ。水素を３．５ｋｇ／ｃｍ²
導入し、オートクレーブを８０℃に加熱した。８０℃で
エチレンを触媒成分フィード管より全圧が３８．５ｋｇ
／ｃｍ² Ｇになるまで導入し、以後、８０℃、３８．５
ｋｇ／ｃｍ² Ｇを維持して反応を行った

【０１１２】実施例３７ 実施例３６において、水素の仕込み圧を７ｋｇ／ｃｍ
² 、反応時の全圧を４２ｋｇ／ｃｍ² Ｇに変更する他
は、実施例３６記載の方法で反応を行った。

【０１１３】実施例３８ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、四塩化スズ（０．０３２ｍｍｏｌ）を使用した
他は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１１４】実施例３９ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブチルチンジクロリド（０．０６３ｍｍｏ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１１５】実施例４０ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブチルチンジブロミド（０．０８４ｍｍｏ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１１６】実施例４１ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブチルチンジブロミド（０．０２１ｍｍｏ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１１７】実施例４２ 実施例３３において、エチルアルミニウムジクロリドの
代わりに、四塩化炭素（０．１０４ｍｍｏｌ）を使用
し、反応温度を８０℃とした他は、実施例３３記載の方
法で反応を行った。

【０１１８】実施例４３ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、テトラクロロエタン（０．０６２ｍｍｏｌ）を
使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１１９】実施例４４ 実施例４２において、四塩化炭素の代わりに、ジクロロ
メタン（２３．４ｍｍｏｌ）を使用した他は、実施例４
記載の方法で反応を行った。

【０１２０】実施例４５ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、四臭化炭素（０．０８４ｍｍｏｌ）を使用した
他は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１２１】実施例４６ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブロモメタン（０．０８４ｍｍｏｌ）を使用
した他は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１２２】実施例４７ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ペンチルブロミド（０．０８４ｍｍｏｌ）を使
用した他は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１２３】実施例４８ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブチルチンジクロリド（０．０８４ｍｍｏ
ｌ）及びジブチルチンジブロミド（０．０２１ｍｍｏ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１２４】実施例４９ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブチルチンジクロリド（０．０６２ｍｍｏ
ｌ）及びジブチルチンジブロミド（０．０１０ｍｍｏ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１２５】実施例５０ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジブチルチンジクロリド（０．０６２ｍｍｏ
ｌ）及びジブチルチンジブロミド（０．００２ｍｍｏ
ｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１２６】実施例５１ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、ジエチルアルミニウムクロリド（０．１６８ｍ
ｍｏｌ）及び四臭化炭素（０．０４２ｍｍｏｌ）を使用
した他は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１２７】実施例５２ 実施例４２において、四塩化炭素の代わりに、ｔ−ブチ
ルジメチルシリルトリフラート（０．２６ｍｍｏｌ）を
使用した他は、実施例４２記載の方法で反応を行った。

【０１２８】実施例５３ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、トリスペンタフルオロフェニルボラン（０．０
４２ｍｍｏｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で
反応を行った。

【０１２９】実施例５４ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、別容器にてｎ−ヘプタン中でトリフルオロメタ
ンスルホン酸（０．１２６ｍｍｏｌ）とトリエチルアル
ミニウム（０．１２５ｍｍｏｌ）を混合して反応させた
溶液を使用した他は、実施例４記載の方法で反応を行っ
た。

【０１３０】実施例５５ 実施例５４において、別容器で混合して反応させる触媒
成分の仕込量をトリフルオロメタンスルホン酸（０．４
１５ｍｍｏｌ）、トリエチルアルミニウム（０．４１１
ｍｍｏｌ）に変更した他は、実施例５４記載の方法で反
応した。

【０１３１】実施例５６ 実施例５４において、別容器で混合して反応させる触媒
成分の仕込量をトリフルオロメタンスルホン酸（１．２
４６ｍｍｏｌ）、トリエチルアルミニウム（０．４１１
ｍｍｏｌ）に変更した他は、実施例５４記載の方法で反
応した。

【０１３２】実施例５７ 実施例５４において、トリフルオロメタンスルホン酸の
代わりに、エタノールを使用した他は、実施例５４記載
の方法で反応を行った。

【０１３３】実施例５８ 実施例４２において、四塩化炭素の代わりに、ビストリ
フルオロメチルメタノール（０．１０４ｍｍｏｌ）を使
用した他は、実施例４２記載の方法で反応を行った。

【０１３４】実施例５９ 実施例４において、エチルアルミニウムジクロリドの代
わりに、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール（０．１０
４ｍｍｏｌ）を使用した他は、実施例４記載の方法で反
応を行った。

【０１３５】実施例６０ 実施例２において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、クロム（ＩＩＩ）２−エチル
ヘキサノエートのｎ−ヘプタン溶液、および、トリエチ
ルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶液をオートクレーブ胴
側に、一方、マレイミドのｎ−ヘプタン溶液を触媒成分
フィード管に変更した他は、実施例２記載の方法で反応
を行った。

【０１３６】実施例６１ 実施例２において、シクロヘキサン、クロム（ＩＩＩ）
２−エチルヘキサノエートのｎ−ヘプタン溶液、トリエ
チルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶液、および、マレイ
ミドのｎ−ヘプタン溶液の全てをオートクレーブ胴側に
仕込んだ他は、実施例２記載の方法で反応を行った。

【０１３７】実施例６２ 実施例４において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、マレイミドのｎ−ヘプタン溶
液、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのｎ−
ヘプタン溶液、および、エチルアルミニウムジクロリド
のｎ−ヘプタン溶液をオートクレーブ胴側に、一方、ト
リエチルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶液を触媒成分フ
ィード管に変更した他は、実施例４記載の方法で反応を
行った。

【０１３８】実施例６３ 実施例４において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、マレイミドのｎ−ヘプタン溶
液、および、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエー
トのｎ−ヘプタン溶液をオートクレーブ胴側に、一方、
トリエチルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶液、および、
エチルアルミニウムジクロリドのｎ−ヘプタン溶液を触
媒成分フィード管に変更した他は、実施例４記載の方法
で反応を行った。

【０１３９】実施例６４ 実施例４において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、マレイミドのｎ−ヘプタン溶
液、および、トリエチルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶
液をオートクレーブ胴側に、一方、クロム（ＩＩＩ）２
−エチルヘキサノエートのｎ−ヘプタン溶液およびエチ
ルアルミニウムジクロリドのｎ−ヘプタン溶液を触媒成
分フィード管に変更した他は、実施例４記載の方法で反
応を行った。

【０１４０】実施例６５ 実施例４において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、クロム（ＩＩＩ）２−エチル
ヘキサノエートのｎ−ヘプタン溶液、および、トリエチ
ルアルミニウムのｎ−ヘプタン溶液をオートクレーブ胴
側に、一方、マレイミドのｎ−ヘプタン溶液およびエチ
ルアルミニウムジクロリドのｎ−ヘプタン溶液を触媒成
分フィード管に変更した他は、実施例４記載の方法で反
応を行った。

【０１４１】実施例６６ 実施例４において、触媒成分の仕込場所を変更した。す
なわち、シクロヘキサン、クロム（ＩＩＩ）２−エチル
ヘキサノエートのｎ−ヘプタン溶液、トリエチルアルミ
ニウムのｎ−ヘプタン溶液、エチルアルミニウムジクロ
リドのｎ−ヘプタン溶液、および、マレイミドのｎ−ヘ
プタン溶液の全てをオートクレーブ胴側に仕込んだ他
は、実施例４記載の方法で反応を行った。

【０１４２】表２〜７中、溶媒種類の記号Ａ〜Ｉは次の
表１に示す溶媒を表す（ＣＨＸ：シクロヘキサン、Ｈ
Ｐ：ｎ−ヘプタン、ＴＬ：トルエン）。

【０１４３】

【表１】 Ａ：ＣＨＸ（１２０ｍｌ）＋ＨＰ（５ｍｌ） Ｂ：ＣＨＸ（４８ｍｌ）＋ＨＰ（２ｍｌ） Ｃ：ＨＰ Ｄ：ＣＨＸ（５５ｍｌ）＋ＨＰ（５ｍｌ） Ｅ：ＣＨＸ（１２０ｍｌ）＋ＨＰ（５ｍｌ）＋ＴＬ（２．５ｍｌ） Ｆ：ＣＨＸ（４８ｍｌ）＋ＨＰ（２ｍｌ）＋ＴＬ（１ｍｌ） Ｇ：ＣＨＸ（１２０ｍｌ）＋ＨＰ（５ｍｌ）＋ＣＨＣｌ₃ （０．５ｍｌ） Ｈ：ＣＨＸ（１２０ｍｌ）＋ＨＰ（５ｍｌ）＋ＣＨ₂ Ｃｌ₂ （０．３０ｍｌ） Ｉ：ＣＨＸ（１２０ｍｌ）＋ＨＰ（５ｍｌ）＋ＣＨ₂ Ｃｌ₂ （１．５５ｍｌ）

【０１４４】また、表２〜７中の「Ｃｒ（２ＥＨＡ）
₃ 」はクロム(III) ２−エチルヘキサノエート、「Ｅｔ
₃ Ａｌ」はトリエチルアルミニウムを表し、表８〜１８
中の「ＨＸ」は１−ｈｅｘｅｎｅを表す。

【０１４５】また、表２〜７中の接触方法の各記号は次
の態様を表す。 ａ）酸アミド又はイミド化合物および金属アルキル化合
物（及び第４成分）を含む溶液中にα−オレフイン及び
クロム化合物を導入する方法。 ｂ）クロム化合物および酸アミド又はイミド化合物を含
む溶液中にα−オレフイン及び金属アルキル化合物を導
入する方法。 ｃ）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属ア
ルキル化合物を含む溶液中にα−オレフインを導入する
方法。 ｄ）クロム化合物、金属アルキル及び酸アミド又はイミ
ド化合物を含む溶液中にα−オレフインを導入する方
法。 ｅ）クロム化合物、第４成分および酸アミド又はイミド
化合物を含む溶液中にα−オレフイン及び金属アルキル
化合物を導入する方法。 ｆ）クロム化合物および酸アミド又はイミド化合物を含
む溶液中にα−オレフイン、第４成分および金属アルキ
ル化合物を導入する方法。 ｇ）酸アミド又はイミド化合物および金属アルキル化合
物を含む溶液中にα−オレフイン、第４成分およびクロ
ム化合物を導入する方法。 ｈ）クロム化合物および金属アルキルを含む溶液中にα
−オレフイン、第４成分および酸アミド又はイミド化合
物を導入する方法。 ｉ）クロム化合物、酸アミド又はイミド化合物、金属ア
ルキル化合物および第４成分含む溶液中にα−オレフイ
ンを導入する方法。

【０１４６】また、表８〜１８中の触媒効率の単位はｇ
−α−オレフイン／１ｇ−クロム、触媒活性の単位はｇ
−α−オレフイン／１ｇ−クロム・Ｈｒである。

【０１４７】

【表２】 ──────────────────────────────────── 実施例 １ ２ ３ ４ ５ ６ 溶媒種類 Ａ Ｂ Ａ Ｂ Ａ Ａ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.052 0.021 0.052 0.021 0.052 0.052 マレイミド類（mmol） 0.156 0.062 0.156 0.062 0.156 0.156 Et₃Al(mmol） 0.779 0.311 0.779 0.311 0.779 0.779 第４成分種類 − − − （１） − − 第４成分（mmol） − − − 0.042 − − 接触方法 ａ ａ ｂ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 実施例 ７ ８ ９ 10 11 12 溶媒種類 Ｂ Ａ Ａ Ｂ Ｂ Ｄ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.052 0.052 0.021 0.021 0.026 マレイミド類（mmol） 0.062 0.156 0.156 0.062 0.062 0.078 Et₃Al(mmol） 0.311 0.779 0.779 0.311 0.311 − 第４成分種類 − − − （１） （１） （２） 第４成分（mmol） − − − 0.042 0.042 0.390 接触方法 ａ ａ ｂ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 （注）（１）EtAlCl₂ 、（２）iBu₃Al

【０１４８】

【表３】 ──────────────────────────────────── 実施例 13 14 15 16 17 18 溶媒種類 Ｂ Ｂ Ｃ Ｅ Ｆ Ｇ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.021 0.021 0.052 0.021 0.052 マレイミド類（mmol） 0.062 0.062 0.062 0.156 0.062 0.156 Et₃Al(mmol） 0.311 0.311 0.311 0.779 0.311 0.779 第４成分種類 （３） （４） − − （１） − 第４成分（mmol） 0.042 0.042 − − 0.042 − 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 実施例 19 20 21 22 23 24 溶媒種類 Ｈ Ｉ Ａ Ａ Ａ Ｂ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.052 0.052 0.013 0.0052 0.052 0.021 マレイミド類（mmol） 0.156 0.156 0.039 0.156 0.156 0.062 Et₃Al(mmol） 0.779 0.779 0.389 0.779 3.110 0.311 第４成分種類 − − − （１） − （１） 第４成分（mmol） − − − 0.104 − 0.073 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 （注）（３）： Et₂AlCl、（４）： Et₃Al₂Cl₃

【０１４９】

【表４】 ──────────────────────────────────── 実施例 25 26 27 28 29 30 溶媒種類 Ｂ Ｂ Ｂ Ｂ Ａ Ａ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.021 0.021 0.021 0.052 0.052 マレイミド類（mmol） 0.062 0.062 0.062 0.108 0.052 0.260 Et₃Al(mmol） 0.311 0.311 0.934 0.420 0.779 0.779 第４成分種類 （１） （１） （１） （１） − − 第４成分（mmol） 0.208 0.126 0.042 0.062 − − 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 実施例 31 32 33 34 35 36 溶媒種類 Ａ Ａ Ａ Ａ Ａ Ａ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.052 0.052 0.052 0.052 0.052 0.052 マレイミド類（mmol） 0.156 0.156 0.156 0.156 0.156 0.156 Et₃Al(mmol） 0.779 0.779 0.779 0.779 0.779 0.779 第４成分種類 − − （１） − − − 第４成分（mmol） − − 0.104 − − − 接触方法 ａ ｂ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 115 115 50 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 60 20 38.5

【０１５０】

【表５】 ──────────────────────────────────── 実施例 37 38 39 40 41 42 溶媒種類 Ａ Ｂ Ｂ Ｂ Ｂ Ａ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.052 0.021 0.021 0.021 0.021 0.052 マレイミド類（mmol） 0.156 0.062 0.062 0.062 0.062 0.156 Et₃Al(mmol） 0.779 0.311 0.311 0.311 0.311 0.779 第４成分種類 − （５） （６） （13） （13） （７） 第４成分（mmol） − 0.032 0.063 0.084 0.021 0.104 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 42 35 35 35 35 35 実施例 43 44 45 46 47 48 溶媒種類 Ｂ Ａ Ｂ Ｂ Ｂ Ｂ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.052 0.021 0.021 0.021 0.021 マレイミド類（mmol） 0.062 0.156 0.062 0.062 0.062 0.062 Et₃Al(mmol） 0.311 0.779 0.311 0.311 0.311 0.311 第４成分種類 （８） （９） （10） （11） （12） （６） 第４成分（mmol） 0.062 23.4 0.084 0.084 0.084 0.084 第４成分種類 − − − − − （13） 第４成分（mmol） − − − − − 0.021 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G 35 35 35 35 35 35 （注）(5)SnCl₄、(6)Bu₂SnCl₂ 、(7) CCl₄、(8) Cl₂CHCHCl₂、(9)CH₂Cl₂ (10) CBr₄ 、(11)CH₂Br₂、(12)C₅H₁₁Br 、(13)Bu₂SnBr₂

【０１５１】

【表６】 ──────────────────────────────────── 実施例 49 50 51 52 53 54 溶媒種類 Ｂ Ｂ Ｂ Ａ Ｂ Ｂ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.021 0.021 0.052 0.021 0.021 マレイミド類（mmol） 0.062 0.062 0.062 0.156 0.062 0.062 Et₃Al(mmol） 0.311 0.311 0.311 0.779 0.311 0.436 第４成分種類 （６） （６） （３） （14） （15） （16） 第４成分（mmol） 0.062 0.062 0.168 0.260 0.042 0.126 第４成分種類 （13） （13） （10） − − − 第４成分（mmol） 0.010 0.002 0.042 − − − 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ａ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 実施例 55 56 57 58 59 60 溶媒種類 Ｂ Ｂ Ｂ Ａ Ｂ Ｂ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.021 0.021 0.052 0.021 0.021 マレイミド類（mmol） 0.062 0.062 0.062 0.156 0.062 0.062 Et₃Al(mmol） 0.722 0.722 0.436 0.779 0.311 0.311 第４成分種類 （16) （16) （17） （18） （19） − 第４成分（mmol） 0.415 1.246 0.126 0.104 0.104 − 接触方法 ａ ａ ａ ａ ａ ｃ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35 （注）(14)t-BuMe₂SiOSO₂CF₃、(15)B(C₆H₅)₃、(16) CF₃SO₃H、(17)C₂H₅OH (18)(CF₃)₂CHOH、(19)2,6-(t Bu)₂C₆H₃OH

【０１５２】

【表７】 ──────────────────────────────────── 実施例 61 62 63 64 65 66 溶媒種類 Ｂ Ｂ Ｂ Ｂ Ｂ Ｂ Cr(2EHA)₃ （mmol） 0.021 0.021 0.021 0.021 0.021 0.021 マレイミド類（mmol） 0.062 0.062 0.062 0.062 0.062 0.062 Et₃Al(mmol） 0.311 0.311 0.311 0.311 0.311 0.311 第４成分種類 − 第４成分（mmol） − 0.042 0.042 0.042 0.042 0.042 接触方法 ｄ ｅ ｆ ｇ ｈ ｉ 反応温度（℃） 80 80 80 80 80 80エチレン圧(Kg/cm²G) 35 35 35 35 35 35

【０１５３】

【表８】 ──────────────────────────────────── 実施例 １ ２ ３ ４ ５ ６ ＜生成物量(g) ＞ 7.31 3.11 18.7 25.7 4.93 9.46 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 11.0 14.6 6.1 0.3 41.7 29.2 Ｃ₆ 全体 50.8 49.6 52.4 67.7 25.7 15.1 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 91.7 91.8 89.4 92.6 85.6 75.2 Ｃ₈ 3.6 3.4 3.8 0.4 2.6 2.5 Ｃ_10-20 17.7 16.6 24.8 29.6 13.6 8.9 Ｃ_22-30 0.8 0.6 1.3 0.6 0.6 0.0 Ｗａｘ 0.0 0.0 0.3 0.1 − − 副生ＰＥ 16.1 15.1 11.1 1.3 15.8 44.4 ＜触媒効率＞ 292 311 747 2567 197 378 ＜触媒活性＞ 5420 5770 13830 47540 3650 7010 ────────────────────────────────────

【０１５４】

【表９】 ──────────────────────────────────── 実施例 ７ ８ ９ 10 11 12 ＜生成物量(g) ＞ 5.08 3.27 1.45 3.33 4.57 8.30 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 1.6 10.6 15.2 3.5 0.1 10.1 Ｃ₆ 全体 18.3 56.7 45.9 35.5 19.5 55.5 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 90.1 92.9 90.3 79.9 89.1 85.6 Ｃ₈ 0.8 4.4 4.2 1.0 − 4.8 Ｃ_10-20 6.8 17.0 14.7 27.8 5.5 21.3 Ｃ_22-30 0.3 0.9 0.4 0.4 0.0 1.0 Ｗａｘ 0.2 0.0 − 0.0 − 0.5 副生ＰＥ 72.1 10.3 19.6 31.7 74.8 6.8 ＜触媒効率＞ 508 131 58 333 457 664 ＜触媒活性＞ 9410 2420 1070 6160 8470 12300 ────────────────────────────────────

【０１５５】

【表１０】 ──────────────────────────────────── 実施例 13 14 15 16 17 18 ＜生成物量(g) ＞ 15.5 34.8 2.96 4.77 4.26 3.48 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 1.5 0.2 9.1 15.7 0.2 0.3 Ｃ₆ 全体 70.4 65.0 51.2 30.8 66.4 6.0 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 92.2 93.1 91.7 94.9 96.0 67.9 Ｃ₈ 2.0 0.3 4.3 4.8 0.5 − Ｃ_10-20 23.0 33.0 17.6 13.3 9.1 1.0 Ｃ_22-30 1.2 0.2 0.9 1.6 0.2 0.0 Ｗａｘ 0.2 0.0 0.5 0.5 0.1 − 副生ＰＥ 2.2 1.2 16.3 33.3 23.5 92.7 ＜触媒効率＞ 1545 3475 296 191 426 139 ＜触媒活性＞ 28610 64360 5480 3540 7890 2580 ────────────────────────────────────

【０１５６】

【表１１】 ──────────────────────────────────── 実施例 19 20 21 22 23 24 ＜生成物量(g) ＞ 11.9 9.64 4.15 20.9 3.89 41.7 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 0.6 0.4 17.6 0.2 10.9 0.1 Ｃ₆ 全体 64.6 48.1 51.3 74.6 58.7 68.6 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 95.8 96.9 90.8 93.8 90.7 94.1 Ｃ₈ 0.4 0.5 2.9 0.3 4.8 0.3 Ｃ_10-20 11.0 6.4 14.8 22.8 15.6 29.7 Ｃ_22-30 0.3 0.2 1.0 0.2 0.6 0.2 Ｗａｘ − − − − − 0.0 副生ＰＥ 23.2 44.5 12.4 1.9 9.4 1.1 ＜触媒効率＞ 477 386 665 8375 156 4173 ＜触媒活性＞ 8840 7140 12310 155100 1440 77280 ────────────────────────────────────

【０１５７】

【表１２】 ──────────────────────────────────── 実施例 25 26 27 28 29 30 ＜生成物量(g) ＞ 4.45 5.13 15.4 26.3 1.01 6.97 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 0.3 0.3 1.4 0.1 19.0 9.5 Ｃ₆ 全体 86.9 88.1 67.6 69.3 45.1 52.8 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 95.1 95.2 93.3 94.2 87.2 91.5 Ｃ₈ 0.2 − 2.2 0.3 5.6 4.0 Ｃ_10-20 9.3 8.8 24.3 28.6 15.3 19.7 Ｃ_22-30 − − 1.9 0.1 0.2 1.1 Ｗａｘ − − 0.6 − − 0.1 副生ＰＥ 3.3 2.8 2.0 1.5 14.8 12.8 ＜触媒効率＞ 445 513 1545 2626 40 279 ＜触媒活性＞ 8250 9510 28600 48630 750 5160 ────────────────────────────────────

【０１５８】

【表１３】 ──────────────────────────────────── 実施例 31 32 33 34 35 36 ＜生成物量(g) ＞ 16.5 35.0 5.00 12.3 2.57 9.45 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 7.9 7.3 0.8 13.9 9.7 11.2 Ｃ₆ 全体 51.4 45.3 68.5 46.0 51.1 55.5 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 90.7 87.1 92.2 91.0 90.5 89.4 Ｃ₈ 4.9 4.8 0.8 3.3 3.6 3.3 Ｃ_10-20 21.6 21.3 24.3 16.7 16.1 21.6 Ｃ_22-30 2.9 3.8 0.3 1.1 0.1 0.6 Ｗａｘ 1.1 1.4 − 0.2 − − 副生ＰＥ 10.2 16.0 6.8 18.7 18.8 7.8 ＜触媒効率＞ 659 1398 500 491 103 378 ＜触媒活性＞ 12210 25900 9250 9090 1900 7000 ────────────────────────────────────

【０１５９】

【表１４】 ──────────────────────────────────── 実施例 37 38 39 40 41 42 ＜生成物量(g) ＞ 13.9 9.20 33.4 2.52 4.38 21.4 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 8.4 0.1 0.0 0.3 0.2 0.0 Ｃ₆ 全体 57.8 83.2 70.4 85.6 83.9 73.2 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 89.8 95.8 94.1 95.7 95.1 94.8 Ｃ₈ 3.0 0.2 − 0.3 0.3 0.2 Ｃ_10-20 22.5 13.4 28.7 11.1 12.1 19.6 Ｃ_22-30 0.7 − 0.1 − − 0.0 Ｗａｘ 0.1 − − − − 0.0 副生ＰＥ 7.6 3.1 0.8 2.8 3.4 6.8 ＜触媒効率＞ 556 920 3337 252 438 856 ＜触媒活性＞ 10290 17030 61800 4670 8120 15850 ────────────────────────────────────

【０１６０】

【表１５】 ──────────────────────────────────── 実施例 43 44 45 46 47 48 ＜生成物量(g) ＞ 13.3 9.64 0.86 3.43 2.98 3.10 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 0.4 0.4 0.0 0.2 0.5 0.3 Ｃ₆ 全体 74.9 48.1 38.7 25.6 78.4 76.1 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 92.7 96.9 96.9 95.4 95.4 95.7 Ｃ₈ 0.5 0.5 − 0.2 0.2 0.2 Ｃ_10-20 20.4 6.4 2.8 3.4 8.9 9.4 Ｃ_22-30 0.3 0.2 − 0.1 − − Ｗａｘ 0.1 − − − − − 副生ＰＥ 3.4 44.5 58.0 70.4 12.0 14.0 ＜触媒効率＞ 1326 386 86 343 298 307 ＜触媒活性＞ 24560 7140 800 6350 5520 5680 ────────────────────────────────────

【０１６１】

【表１６】 ──────────────────────────────────── 実施例 49 50 51 52 53 54 ＜生成物量(g) ＞ 6.07 14.9 2.56 9.75 19.6 5.53 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 0.1 1.0 0.7 10.9 1.5 6.6 Ｃ₆ 全体 83.9 72.6 78.5 55.0 57.7 58.2 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 94.5 92.8 94.7 88.7 88.5 88.5 Ｃ₈ 0.4 1.2 − 3.0 1.0 3.2 Ｃ_10-20 12.2 22.5 8.1 23.2 21.1 24.4 Ｃ_22-30 − 0.6 − 0.5 1.2 0.9 Ｗａｘ − 0.0 − 0.0 0.7 0.3 副生ＰＥ 3.5 2.1 12.7 7.3 16.8 6.3 ＜触媒効率＞ 607 1485 256 390 1957 553 ＜触媒活性＞ 11240 27510 4750 7220 36240 10240 ────────────────────────────────────

【０１６２】

【表１７】 ──────────────────────────────────── 実施例 55 56 57 58 59 60 ＜生成物量(g) ＞ 9.02 2.46 2.60 7.11 8.09 3.21 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 5.5 0.3 17.9 9.3 6.8 5.2 Ｃ₆ 全体 59.1 67.1 45.7 46.8 48.4 51.9 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 89.9 90.4 89.6 90.6 88.6 90.7 Ｃ₈ 3.3 0.6 4.9 3.5 3.7 2.7 Ｃ_10-20 23.1 13.3 20.6 20.1 23.8 15.3 Ｃ_22-30 1.1 − 0.9 1.1 1.3 0.9 Ｗａｘ 0.1 − 0.4 0.1 0.3 0.2 副生ＰＥ 7.8 18.7 9.6 19.1 15.7 23.8 ＜触媒効率＞ 902 246 260 284 648 321 ＜触媒活性＞ 16710 4560 4820 5260 11990 5950 ────────────────────────────────────

【０１６３】

【表１８】 ──────────────────────────────────── 実施例 61 62 63 64 65 66 ＜生成物量(g) ＞ 3.86 24.6 12.6 10.2 3.59 3.94 ＜組成分布(wt%) ＞ Ｃ₄ 11.1 0.5 0.4 0.1 0.0 0.3 Ｃ₆ 全体 50.9 63.3 70.2 68.6 82.8 87.9 Ｃ₆ 中のＨＸ含量(wt%) 91.5 91.9 91.9 92.6 94.8 95.3 Ｃ₈ 3.3 0.5 0.5 1.0 0.0 0.0 Ｃ_10-20 19.0 29.6 21.7 23.0 6.7 8.6 Ｃ_22-30 0.7 0.4 0.8 0.4 0.0 0.0 Ｗａｘ 0.1 0.1 0.1 0.2 0.0 0.0 副生ＰＥ 1.48 5.7 6.3 6.0 10.3 3.2 ＜触媒効率＞ 386 2458 1265 1023 359 394 ＜触媒活性＞ 7140 45510 23420 18940 6650 7300 ────────────────────────────────────

【０１６４】

【発明の効果】本発明方法によれば、煩雑な操作なしで
工業的有利に１−ヘキセン等のα−オレフインの低重合
物を高収率かつ高選択率で製造することが出来る。ま
た、全体の製造プロセスに要する建設費が安いという利
点を有するため、本発明の工業的価値は顕著である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高原 潤 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社 横浜総合研究所内 (72)発明者 岩出 慎二 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化 学株式会社 水島開発研究所内 (72)発明者 難波 美明 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化 学株式会社 水島開発研究所内 (56)参考文献 特開 平７−157512（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−157655（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07C 2/06 - 2/36 C07C 11/107 - 11/113 C08F 4/69

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 クロム系触媒を使用したα−オレフイン
   低重合体の製造方法において、クロム系触媒として、少
   なくとも、クロム化合物、イミド化合物および金属アル
   キル化合物（但し、金属は、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｂ、Ｚｎ、Ａ
   ｌの群から選択される１種である）の組み合わせから成
   る触媒系を使用することを特徴とするα−オレフイン低
   重合体の製造方法。
2. 【請求項２】 イミド化合物が下記一般式（１）で表さ
   れる化合物である請求項１に記載のα−オレフイン低重
   合体の製造方法。 【化１】 （一般式（１）中、Ｍ¹ は、水素原子または周期律表の
   １族、２族、１１族、１３族から選ばれる金属元素であ
   り、Ｒ¹ は、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、
   アルケニル基、アラルキル基、置換基を有していてもよ
   いアリール基、または、ヘテロ元素を含んでいてもよい
   アリール基を表し、Ｒ² はアシル基Ｃ（＝Ｏ）Ｒ³ （Ｒ
   ³ はＲ¹ と同じ定義であり、Ｒ¹ と異なっていてもよ
   い）を表し、Ｒ¹ とＲ² は環を形成してもよい。）
3. 【請求項３】 イミド化合物として、一般式（１）中の
   Ｒ² がアシル基Ｃ（＝Ｏ）Ｒ³ であり、Ｒ¹ とＲ³ が環
   を形成しているイミド化合物を使用する請求項２に記載
   のα−オレフイン低重合体の製造方法。
4. 【請求項４】 ハロゲン含有化合物の存在下に反応を行
   う請求項１〜３の何れかに記載のα−オレフイン低重合
   体の製造方法。
5. 【請求項５】 下記一般式（４）又は（５）で表される
   化合物の存在下に反応を行う請求項１〜３の何れかに記
   載のα−オレフイン低重合体の製造方法。 【化４】 （一般式（４）及び（５）中、Ｍ⁵ 及びＭ ⁶は、周期律
   表の１３族、１４族、１５族、１６族から選ばれる金属
   元素であり、Ｒ⁹ 〜Ｒ¹⁵は、有機基、無機基または陰性
   原子を表し、［Ｌ］⁺ は、周期律表の１族、７族、８〜
   １０族 、１１族および１３族〜１６族から選ばれる元
   素を含むカチオンを表す。）
6. 【請求項６】 下記一般式（６）で表される化合物の存
   在下に反応を行う請求項１〜３の何れかに記載のα−オ
   レフイン低重合体の製造方法。 【化５】 （一般式（６）中、Ｒ¹⁶は、水素原子、炭素数１〜３０
   のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、置換基を
   有していてもよいアリール基、ヘテロ元素を含んでいて
   もよいアリール基、ハロゲン化アルキル基、アシル基Ｃ
   （＝Ｏ）Ｒ¹⁷（Ｒ¹⁷はＲ¹⁶と同じ定義であり、Ｒ¹⁶と異
   なっていてもよい）、または、Ｒ¹⁸ＳＯ₂基（Ｒ¹⁸はＲ
   ¹⁶と同じ定義であり、Ｒ¹⁶と異なっていてもよい）を表
   す。）
7. 【請求項７】 α−オレフインがエチレンであり、α−
   オレフイン低重合体が主として１−ヘキセンである請求
   項１〜６の何れかに記載のα−オレフイン低重合体の製
   造方法。