JP3336677B2 - ジアセトキシブテンの製造方法 - Google Patents
ジアセトキシブテンの製造方法Info
- Publication number
- JP3336677B2 JP3336677B2 JP11725493A JP11725493A JP3336677B2 JP 3336677 B2 JP3336677 B2 JP 3336677B2 JP 11725493 A JP11725493 A JP 11725493A JP 11725493 A JP11725493 A JP 11725493A JP 3336677 B2 JP3336677 B2 JP 3336677B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diacetoxybutene
- distillation column
- distillation
- film evaporator
- reaction product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/48—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C67/52—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C67/54—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/04—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds
- C07C67/05—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds with oxidation
- C07C67/055—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides onto unsaturated carbon-to-carbon bonds with oxidation in the presence of platinum group metals or their compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はジアセトキシブテンの製
造方法に関する。ジアセトキシブテンは、溶剤あるいは
合成樹脂原料等として利用される１，４−ブタンジオー
ル、テトラヒドロフランの製造のための出発原料として
重要なものである。
造方法に関する。ジアセトキシブテンは、溶剤あるいは
合成樹脂原料等として利用される１，４−ブタンジオー
ル、テトラヒドロフランの製造のための出発原料として
重要なものである。
【０００２】
【従来の技術】ジアセトキシブテンは、通常、パラジウ
ム系触媒の存在下、ブタジエン、酢酸及び酸素を反応さ
せることにより製造される。そして、かかる反応方法で
得られるアセトキシ化反応生成物から所望のジアセトキ
シブテンを取得する必要があるが、反応生成物中に含ま
れる未反応物及び所望物はいずれも不飽和基を有する化
合物であり、その取り扱い如何によっては重合物が生成
し、収率低下の原因となるほか、操作上の支障をきたす
ことがある。
ム系触媒の存在下、ブタジエン、酢酸及び酸素を反応さ
せることにより製造される。そして、かかる反応方法で
得られるアセトキシ化反応生成物から所望のジアセトキ
シブテンを取得する必要があるが、反応生成物中に含ま
れる未反応物及び所望物はいずれも不飽和基を有する化
合物であり、その取り扱い如何によっては重合物が生成
し、収率低下の原因となるほか、操作上の支障をきたす
ことがある。
【０００３】特開昭５０−１２１２１０号公報では、上
記の反応生成物からジアセトキシブテンを蒸留分離する
にあたり、蒸留塔の塔内圧力を調節して、塔底温度を１
９０℃以下に保持すれば、ジアセトキシブテン類は比較
的安定に存在し得るので、上記の問題が解決されること
が教示されている。
記の反応生成物からジアセトキシブテンを蒸留分離する
にあたり、蒸留塔の塔内圧力を調節して、塔底温度を１
９０℃以下に保持すれば、ジアセトキシブテン類は比較
的安定に存在し得るので、上記の問題が解決されること
が教示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、反応生
成物から、より高収率でジアセトキシブテン類を分離回
収しようとするためには、実際には蒸留塔での滞留時間
を長くせざるえない。そのため、塔底温度を低く保持し
ても、重合、分解等を完全に防止することが困難であ
り、留出ジアセトキシブテン類への分解物の混入、塔底
の加熱器の重合物による閉塞等の問題が生ずる。そこ
で、従来は、塔底より缶出する高沸物とともに、有効成
分であるジアセトキシブテン類の一部を廃棄せざる得な
かった。
成物から、より高収率でジアセトキシブテン類を分離回
収しようとするためには、実際には蒸留塔での滞留時間
を長くせざるえない。そのため、塔底温度を低く保持し
ても、重合、分解等を完全に防止することが困難であ
り、留出ジアセトキシブテン類への分解物の混入、塔底
の加熱器の重合物による閉塞等の問題が生ずる。そこ
で、従来は、塔底より缶出する高沸物とともに、有効成
分であるジアセトキシブテン類の一部を廃棄せざる得な
かった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、ジアセト
キシブテン類のより効率的な分離方法について鋭意検討
した結果、薄膜蒸発器を用いた特定の分離プロセス条件
を採用すれば上記の問題点が解決できることを見いだ
し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明の
要旨は、パラジウム系触媒の存在下、ブタジエン、酢酸
及び酸素を反応させて得られる反応生成物からジアセト
キシブテンを蒸留分離するにあたり、反応生成物を第１
蒸留塔に供給し、水及び酢酸を留去し、塔底液を第２蒸
留塔に供給し、第２蒸留塔における塔底液中の高沸物の
割合を２０重量％以下に保持しながらジアセトキシブテ
ンの少なくとも一部を留出させ、残りのジアセトキシブ
テンと高沸物とを含む塔底液を薄膜蒸発器に供給し、該
薄膜蒸発器の内圧を第２蒸留塔の塔底圧より低くして、
残りのジアセトキシブテンを蒸発させることを特徴とす
るジアセトキシブテンの製造方法、に存する。
キシブテン類のより効率的な分離方法について鋭意検討
した結果、薄膜蒸発器を用いた特定の分離プロセス条件
を採用すれば上記の問題点が解決できることを見いだ
し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明の
要旨は、パラジウム系触媒の存在下、ブタジエン、酢酸
及び酸素を反応させて得られる反応生成物からジアセト
キシブテンを蒸留分離するにあたり、反応生成物を第１
蒸留塔に供給し、水及び酢酸を留去し、塔底液を第２蒸
留塔に供給し、第２蒸留塔における塔底液中の高沸物の
割合を２０重量％以下に保持しながらジアセトキシブテ
ンの少なくとも一部を留出させ、残りのジアセトキシブ
テンと高沸物とを含む塔底液を薄膜蒸発器に供給し、該
薄膜蒸発器の内圧を第２蒸留塔の塔底圧より低くして、
残りのジアセトキシブテンを蒸発させることを特徴とす
るジアセトキシブテンの製造方法、に存する。
【０００６】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明における反応生成物は、パラジウム系触媒の存在
下、ブタジエン、酢酸及び酸素を反応させて得られるア
セトキシ化反応物である。アセトキシ化反応は、特に制
限は無く、公知の方法に従って実施される。パラジウム
系触媒としては、パラジウム金属またはその塩を単独で
用いる場合、また、助触媒としてビスマス、セレン、ア
ンチモン、テルル、銅等の金属またはその塩を組み合わ
せて用いる場合がある。触媒は、シリカ、アルミナ、活
性炭等の担体に担持させて用いることが好ましく、その
担体付触媒中の触媒金属量は、通常、パラジウム金属が
０．１〜２０重量％、他の助触媒金属は０．０１〜３０
重量％の範囲で選定される。
発明における反応生成物は、パラジウム系触媒の存在
下、ブタジエン、酢酸及び酸素を反応させて得られるア
セトキシ化反応物である。アセトキシ化反応は、特に制
限は無く、公知の方法に従って実施される。パラジウム
系触媒としては、パラジウム金属またはその塩を単独で
用いる場合、また、助触媒としてビスマス、セレン、ア
ンチモン、テルル、銅等の金属またはその塩を組み合わ
せて用いる場合がある。触媒は、シリカ、アルミナ、活
性炭等の担体に担持させて用いることが好ましく、その
担体付触媒中の触媒金属量は、通常、パラジウム金属が
０．１〜２０重量％、他の助触媒金属は０．０１〜３０
重量％の範囲で選定される。
【０００７】アセトキシ化反応は固定床方式、流動床方
式、懸濁触媒方式等の任意の方式で実施される。反応
は、通常、４０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃
の温度範囲で常圧以上の圧力下で実施される。このよう
にして得られるアセトキシ化の反応生成物には、未反応
のブタジエン等が含まれているので、反応生成物を脱ガ
ス処理して以下の蒸留を行うのが望ましい。
式、懸濁触媒方式等の任意の方式で実施される。反応
は、通常、４０〜１８０℃、好ましくは６０〜１５０℃
の温度範囲で常圧以上の圧力下で実施される。このよう
にして得られるアセトキシ化の反応生成物には、未反応
のブタジエン等が含まれているので、反応生成物を脱ガ
ス処理して以下の蒸留を行うのが望ましい。
【０００８】脱ガス処理後の反応物中には、１，４−ジ
アセトキシブテン、及びジアセトキシブテンの異性体、
反応により生成した水、酢酸、その他高沸物が含まれて
いる。本発明では、該反応生成物を第１蒸留塔に供給
し、水及び酢酸を留去する。そして、第１蒸留塔の塔底
液を第２蒸留塔に供給する。各蒸留塔の条件としては、
塔底温度が通常１９０℃以下、好ましくは１２０〜１８
０℃に保持し、塔頂圧力を、通常、第１蒸留塔では３０
〜３００ｍｍＨｇ、第２蒸留塔では２〜１００ｍｍＨｇ
である。塔底温度が１９０℃を越えるとアセトキシブテ
ンの分解が顕著になるので好ましくない。
アセトキシブテン、及びジアセトキシブテンの異性体、
反応により生成した水、酢酸、その他高沸物が含まれて
いる。本発明では、該反応生成物を第１蒸留塔に供給
し、水及び酢酸を留去する。そして、第１蒸留塔の塔底
液を第２蒸留塔に供給する。各蒸留塔の条件としては、
塔底温度が通常１９０℃以下、好ましくは１２０〜１８
０℃に保持し、塔頂圧力を、通常、第１蒸留塔では３０
〜３００ｍｍＨｇ、第２蒸留塔では２〜１００ｍｍＨｇ
である。塔底温度が１９０℃を越えるとアセトキシブテ
ンの分解が顕著になるので好ましくない。
【０００９】また、各蒸留塔とも、必要に応じ蒸留塔を
２基以上に分けてもよく、例えば、第１蒸留塔を常圧塔
と減圧塔の２基に分けることも可能である。更に、必要
に応じて、第１蒸留塔と第２蒸留塔の間、あるいは、第
２蒸留塔の後にジアセトキシブテンの異性体分離塔を設
置してもよい。第２蒸留塔では、第１蒸留塔での塔底
液、すなわち、反応生成物中の水と酢酸を除いたジアセ
トキシブテンと高沸物を蒸留分離する。この場合、本発
明では、第２蒸留塔における高沸物の割合が２０重量％
以下、好ましくは１５重量％以下に保持しながらジアセ
トキシブテンの少なくとも一部を留出させ、残りのジア
セトキシブテンと高沸物とを含む塔底液を薄膜蒸発器に
供給することを特徴とする。
２基以上に分けてもよく、例えば、第１蒸留塔を常圧塔
と減圧塔の２基に分けることも可能である。更に、必要
に応じて、第１蒸留塔と第２蒸留塔の間、あるいは、第
２蒸留塔の後にジアセトキシブテンの異性体分離塔を設
置してもよい。第２蒸留塔では、第１蒸留塔での塔底
液、すなわち、反応生成物中の水と酢酸を除いたジアセ
トキシブテンと高沸物を蒸留分離する。この場合、本発
明では、第２蒸留塔における高沸物の割合が２０重量％
以下、好ましくは１５重量％以下に保持しながらジアセ
トキシブテンの少なくとも一部を留出させ、残りのジア
セトキシブテンと高沸物とを含む塔底液を薄膜蒸発器に
供給することを特徴とする。
【００１０】第２蒸留塔の塔底液中の高沸物濃度が上記
範囲を越える場合、結果として高沸物の塔底での滞留時
間が長くなり、塔底温度が上がり、重合、分解が起きや
すくなる。また、留出分に分解物が混入するほか、塔底
液の粘度が上がり、塔底液の缶出が困難になり蒸留運転
に支障をきたす場合がある。第２蒸留塔におけるジアセ
トキシブテンの留出量は、反応生成物の組成により最適
範囲が変化するが、通常、第２蒸留塔に供給されるジア
セトキシブテンの６０〜９７％、好ましくは８０〜９４
％である。なお、本発明における高沸物とは、ジアセト
キシブテンより高沸点の反応副生成分をいう。ジアセト
キシブテンの常圧下での沸点が約２１０〜２３０℃であ
り、高沸物は沸点が通常２５０℃以上、あるいは気化す
る以前に熱分解するような物質である。かかる高沸物
は、特に構造は特定されていないが、その多くはブタジ
エンあるいはジアセトキシブテン等の重合物と推定され
るものである。
範囲を越える場合、結果として高沸物の塔底での滞留時
間が長くなり、塔底温度が上がり、重合、分解が起きや
すくなる。また、留出分に分解物が混入するほか、塔底
液の粘度が上がり、塔底液の缶出が困難になり蒸留運転
に支障をきたす場合がある。第２蒸留塔におけるジアセ
トキシブテンの留出量は、反応生成物の組成により最適
範囲が変化するが、通常、第２蒸留塔に供給されるジア
セトキシブテンの６０〜９７％、好ましくは８０〜９４
％である。なお、本発明における高沸物とは、ジアセト
キシブテンより高沸点の反応副生成分をいう。ジアセト
キシブテンの常圧下での沸点が約２１０〜２３０℃であ
り、高沸物は沸点が通常２５０℃以上、あるいは気化す
る以前に熱分解するような物質である。かかる高沸物
は、特に構造は特定されていないが、その多くはブタジ
エンあるいはジアセトキシブテン等の重合物と推定され
るものである。
【００１１】薄膜蒸発器では、操作条件として、その内
圧を第２蒸留塔の塔底圧より低くすることが必要であ
る。これにより、第２蒸留塔での塔底液中の有効成分の
ジアセトキシブテンを蒸発回収し、高沸物を非蒸発分と
して分離することができる。この内圧は、通常１〜５０
ｍｍＨｇの範囲で設定される。また、蒸発温度は、第１
蒸留塔、第２蒸留塔の塔底温度と同様に、１９０℃以下
に設定することが好ましい。更に、液の平均滞留時間は
通常０．５〜１０分、好ましくは１〜５分と蒸留塔の場
合と比較して非常に短かいのが特徴である。
圧を第２蒸留塔の塔底圧より低くすることが必要であ
る。これにより、第２蒸留塔での塔底液中の有効成分の
ジアセトキシブテンを蒸発回収し、高沸物を非蒸発分と
して分離することができる。この内圧は、通常１〜５０
ｍｍＨｇの範囲で設定される。また、蒸発温度は、第１
蒸留塔、第２蒸留塔の塔底温度と同様に、１９０℃以下
に設定することが好ましい。更に、液の平均滞留時間は
通常０．５〜１０分、好ましくは１〜５分と蒸留塔の場
合と比較して非常に短かいのが特徴である。
【００１２】ジアセトキシブテンを含む蒸発分は、蒸留
塔により精留することが好ましいが、工業的には、第２
蒸留塔に循環させる方法が効率的である。なお、薄膜蒸
発器の構造は市販の装置と同様なものであって特別の構
造を有する必要はなく、上昇薄膜式、プレート型流下薄
膜式、チューブ型流下薄膜式等の形式のものが例示され
る。
塔により精留することが好ましいが、工業的には、第２
蒸留塔に循環させる方法が効率的である。なお、薄膜蒸
発器の構造は市販の装置と同様なものであって特別の構
造を有する必要はなく、上昇薄膜式、プレート型流下薄
膜式、チューブ型流下薄膜式等の形式のものが例示され
る。
【００１３】以上の本発明の態様例を図１に示す。反応
器１でアセトキシ反応を実施した後、気液分離器でガス
分を分離後（図示せず）、液相分を第１蒸留塔２に供給
する。第１蒸留塔２にて水、酢酸その他軽沸物を留去
し、塔底液を第２蒸留塔３に供給する。第２蒸留塔にて
ジアセトキシブテンを留去する。また、塔底液の一部缶
出し、薄膜蒸発器４の蒸発分を第２蒸留塔３に循環させ
ている。
器１でアセトキシ反応を実施した後、気液分離器でガス
分を分離後（図示せず）、液相分を第１蒸留塔２に供給
する。第１蒸留塔２にて水、酢酸その他軽沸物を留去
し、塔底液を第２蒸留塔３に供給する。第２蒸留塔にて
ジアセトキシブテンを留去する。また、塔底液の一部缶
出し、薄膜蒸発器４の蒸発分を第２蒸留塔３に循環させ
ている。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお、実施例において「部」とは「重量部」を
意味する。 実施例１ 図１に示すプロセスフローに従ってジアセトキシブテン
の製造を行った。パラジウム２重量％、テルル０．１重
量％を活性炭に担持した触媒の存在下、ブタジエン、酢
酸及び酸素を９０ＫＧ、１００℃の条件下で反応させ、
ジアセトキシブテン１５．４重量％（１，４体は１４．
０重量％）、高沸物１．１重量％を含む反応生成物を得
た。
明する。なお、実施例において「部」とは「重量部」を
意味する。 実施例１ 図１に示すプロセスフローに従ってジアセトキシブテン
の製造を行った。パラジウム２重量％、テルル０．１重
量％を活性炭に担持した触媒の存在下、ブタジエン、酢
酸及び酸素を９０ＫＧ、１００℃の条件下で反応させ、
ジアセトキシブテン１５．４重量％（１，４体は１４．
０重量％）、高沸物１．１重量％を含む反応生成物を得
た。
【００１５】該反応生成物を３６００部／ｈｒで第１蒸
留塔に供給し、以下の条件で蒸留を行った。
留塔に供給し、以下の条件で蒸留を行った。
【表１】 塔底温度：１４４℃ 塔頂圧力：９０ｍｍＨｇ 平均滞留時間：０．５時間 還流比：０．０７ 実段数：１０ 第１蒸留塔において、水及び酢酸の大部分を２９４０部
／ｈｒで留去し、一方、ジアセトキシブテン８２．０重
量％（１，４体は７４．１重量％）、高沸物を６．２重
量％含む塔底液を６６０部／ｈｒで缶出した。
／ｈｒで留去し、一方、ジアセトキシブテン８２．０重
量％（１，４体は７４．１重量％）、高沸物を６．２重
量％含む塔底液を６６０部／ｈｒで缶出した。
【００１６】第２蒸留塔には、上記の第１蒸留塔からの
塔底液を６６０部／ｈｒで、また、後述の薄膜蒸発器で
の蒸発分を４０部／ｈｒで供給し、以下の条件で蒸留を
行った。
塔底液を６６０部／ｈｒで、また、後述の薄膜蒸発器で
の蒸発分を４０部／ｈｒで供給し、以下の条件で蒸留を
行った。
【表２】 塔底温度：１４８℃ 塔底圧力：２０ｍｍＨｇ 平均滞留時間：９時間 還流比：０．４１ 実段数：１７
【００１７】第２蒸留塔では、純度８４．４％のジアセ
トキシブテン（１，４体は７６．３重量％）を６３４部
／ｈｒで留出させた（第２蒸留塔に供給されたジアセト
キシブテンの約９３％を留去させた。）。また、塔底液
（１，４−ジアセトキシブテン５９．５重量％、高沸物
２０．０重量％）を６６部／ｈｒで缶出した。
トキシブテン（１，４体は７６．３重量％）を６３４部
／ｈｒで留出させた（第２蒸留塔に供給されたジアセト
キシブテンの約９３％を留去させた。）。また、塔底液
（１，４−ジアセトキシブテン５９．５重量％、高沸物
２０．０重量％）を６６部／ｈｒで缶出した。
【００１８】該塔底液を薄膜蒸発器に供給し、内圧１５
ｍｍＨｇ、蒸発温度１７５℃、平均滞留時間１分間の条
件で薄膜蒸発を行った。その結果、４０部／ｈｒで蒸発
分（ジアセトキシブテン８６．０重量％（１，４体は８
５．０重量％））を得、これを前記の第２蒸留塔に循環
させた。以上につき、約１ケ月間につき連続運転を実施
したが、一定純度の１，４−ジアセトキシブテンが定常
的に得られた。
ｍｍＨｇ、蒸発温度１７５℃、平均滞留時間１分間の条
件で薄膜蒸発を行った。その結果、４０部／ｈｒで蒸発
分（ジアセトキシブテン８６．０重量％（１，４体は８
５．０重量％））を得、これを前記の第２蒸留塔に循環
させた。以上につき、約１ケ月間につき連続運転を実施
したが、一定純度の１，４−ジアセトキシブテンが定常
的に得られた。
【００１９】比較例１ 実施例１における第１蒸留塔の塔底液につき、以下の条
件で連続蒸留を行った。
件で連続蒸留を行った。
【表３】 塔底温度：１５１℃ 塔底圧力：２５ｍｍＨｇ 還流比：０．４ 実段数：１２ 該蒸留では、薄膜蒸発器は使用せず、ジアセトキシブテ
ンの留出率を高めるために、塔底液中の高沸物の濃度を
高めていったところ、高沸物濃度が２０重量％を超えた
あたりから液の粘度上昇が大きくなり、４０重量％にお
いて塔底液の缶出が困難となった。
ンの留出率を高めるために、塔底液中の高沸物の濃度を
高めていったところ、高沸物濃度が２０重量％を超えた
あたりから液の粘度上昇が大きくなり、４０重量％にお
いて塔底液の缶出が困難となった。
【００２０】
【発明の効果】本発明の方法においては、ジアセトキシ
ブテンの留出量を制限し、塔底液の缶出量を高めた比較
的緩やかな条件でジアセトキシブテンの蒸留が実施され
る。更に、缶出された塔底液を薄膜蒸発器に供給する
が、薄膜蒸発器での液の滞留時間は非常に短く、高沸物
が効率よく除去でき、かつ、前記塔底液中のジアセトキ
シブテンの大部分が回収される。以上のような方法によ
り、ジアセトキシブテンが、高純度、かつ、高収率で回
収することができ、工業的な利用価値は極めて高い。
ブテンの留出量を制限し、塔底液の缶出量を高めた比較
的緩やかな条件でジアセトキシブテンの蒸留が実施され
る。更に、缶出された塔底液を薄膜蒸発器に供給する
が、薄膜蒸発器での液の滞留時間は非常に短く、高沸物
が効率よく除去でき、かつ、前記塔底液中のジアセトキ
シブテンの大部分が回収される。以上のような方法によ
り、ジアセトキシブテンが、高純度、かつ、高収率で回
収することができ、工業的な利用価値は極めて高い。
【図１】本発明の実施態様の一例である。
【符号の説明】 １ 反応器 ２ 第１蒸留塔 ３ 第２蒸留塔 ４ 薄膜蒸発器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−110646（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−141439（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−51313（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−2239（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−121210（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−65152（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−63544（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 67/54 C07C 67/055 C07C 69/16
Claims (4)
- 【請求項１】 パラジウム系触媒の存在下、ブタジエ
ン、酢酸及び酸素を反応させて得られる反応生成物から
ジアセトキシブテンを蒸留分離するにあたり、反応生成
物を第１蒸留塔に供給し、水及び酢酸を留去し、塔底液
を第２蒸留塔に供給し、第２蒸留塔における塔底液中の
高沸物の割合を２０重量％以下に保持しながらジアセト
キシブテンの少なくとも一部を留出させ、残りのジアセ
トキシブテンと高沸物とを含む塔底液を薄膜蒸発器に供
給し、該薄膜蒸発器の内圧を第２蒸留塔の塔底圧より低
くして、残りのジアセトキシブテンを蒸発させることを
特徴とするジアセトキシブテンの製造方法。 - 【請求項２】 薄膜蒸発器で蒸発させたジアセトキシブ
テンを第２蒸留塔に循環させることを特徴とする請求項
１のジアセトキシブテンの製造方法。 - 【請求項３】 第１蒸留塔および第２蒸留塔の塔底温
度、並びに薄膜蒸発器の蒸発温度を各々１９０℃以下に
することを特徴とする請求項１のジアセトキシブテンの
製造方法。 - 【請求項４】 第２蒸留塔におけるジアセトキシブテン
の留出量が、第２蒸留塔に供給されるジアセトキシブテ
ンの６０〜９７％であることを特徴とする請求項１のジ
アセトキシブテンの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11725493A JP3336677B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | ジアセトキシブテンの製造方法 |
| DE69405290T DE69405290T2 (de) | 1993-05-19 | 1994-05-18 | Verfahren zur Herstellung von Diacetoxybuten |
| US08/245,663 US5429721A (en) | 1993-05-19 | 1994-05-18 | Process for preparing diacetoxybutene |
| EP94107697A EP0625503B1 (en) | 1993-05-19 | 1994-05-18 | Process for preparing diacetoxybutene |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11725493A JP3336677B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | ジアセトキシブテンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06321861A JPH06321861A (ja) | 1994-11-22 |
| JP3336677B2 true JP3336677B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=14707216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11725493A Expired - Lifetime JP3336677B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | ジアセトキシブテンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5429721A (ja) |
| EP (1) | EP0625503B1 (ja) |
| JP (1) | JP3336677B2 (ja) |
| DE (1) | DE69405290T2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69801350T2 (de) * | 1997-04-16 | 2002-05-16 | Mitsubishi Chem Corp | Verfahren zur Herstellung von Diacetoxybuten |
| JP2005350388A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アニリンの製造方法 |
| DE102011118953B4 (de) | 2011-11-19 | 2014-06-05 | Oxea Gmbh | Destillatives Verfahren zur Gewinnung von Di-Trimethylolpropan |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4057472A (en) * | 1974-03-12 | 1977-11-08 | Noboru Haji | Method of separating diacetoxybutene |
| JPS50129515A (ja) * | 1974-03-28 | 1975-10-13 | ||
| US4075413A (en) * | 1975-06-17 | 1978-02-21 | Mitsubishi Chemical Industries Limited | Process for preparation of diacetoxybutene |
| DE2723961C2 (de) * | 1976-06-02 | 1986-08-21 | Mitsubishi Chemical Industries Ltd., Tokio/Tokyo | Verfahren zur Herstellung von 1,4-Glykoldiacetaten |
| GB1570952A (en) * | 1976-06-25 | 1980-07-09 | Sumitomo Chemical Co | Process for producing diacetoxybutene |
| US4228301A (en) * | 1977-10-21 | 1980-10-14 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Process for the preparation of diacetoxybutene |
| DE3224509A1 (de) * | 1982-07-01 | 1984-01-05 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von diacyloxibutenen |
| JP2530333B2 (ja) * | 1987-04-23 | 1996-09-04 | 三菱化学株式会社 | 不飽和グリコ−ルジエステルの製造方法 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP11725493A patent/JP3336677B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-05-18 EP EP94107697A patent/EP0625503B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-18 DE DE69405290T patent/DE69405290T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-05-18 US US08/245,663 patent/US5429721A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0625503A1 (en) | 1994-11-23 |
| US5429721A (en) | 1995-07-04 |
| EP0625503B1 (en) | 1997-09-03 |
| DE69405290D1 (de) | 1997-10-09 |
| JPH06321861A (ja) | 1994-11-22 |
| DE69405290T2 (de) | 1998-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100690034B1 (ko) | 아크릴산의 제조 방법 | |
| US20010020111A1 (en) | Method for producing acrylic acid | |
| US4199410A (en) | Purification of crude acrylic acid | |
| US4518462A (en) | Distillation process for purifying methyl methacrylate | |
| US5292917A (en) | Process for purifying dimethyl carbonate | |
| JPH089567B2 (ja) | アクリル酸製造においてアクリル酸を高純度に精製する方法 | |
| US20120149939A1 (en) | Recovery of Acetic Acid from Heavy Ends in Vinyl Acetate Synthesis Process | |
| JP3336677B2 (ja) | ジアセトキシブテンの製造方法 | |
| EP0501374A1 (en) | Process for purifying dimethyl carbonate | |
| JPH0987273A (ja) | ε−カプロラクトンの精製方法 | |
| JP3312566B2 (ja) | アクリル酸からの酢酸の分離方法 | |
| JP3682805B2 (ja) | 飽和脂肪族カルボン酸アミドの製造方法 | |
| US5011987A (en) | Process for manufacturing high-purity o-toluic acid | |
| EP0872472B1 (en) | Process for producing diacetoxybutene | |
| JP3463326B2 (ja) | １，４−ブタンジオール及びテトラヒドロフランの製造方法 | |
| US4578511A (en) | Method of preparing pure benzoic acid | |
| JP4765165B2 (ja) | 高純度アクリル酸の製造方法 | |
| JPS5938233B2 (ja) | プロピレンオキシド含有溶液の分離方法 | |
| DE102004008574B4 (de) | Verfahren zur Reinigung von (Meth)Acrylsäure aus destillativer Aufarbeitung mittels Dimerenspaltung | |
| JPH0565279A (ja) | ε−カプロラクトンと芳香族カルボン酸の分離方法 | |
| JPH0296548A (ja) | 酢酸アリルの製造法 | |
| JP3043571B2 (ja) | ジアミノジフェニルエーテルの精製法 | |
| JP3314450B2 (ja) | 廃油混合物から酢酸を回収する方法 | |
| JPH10204011A (ja) | １，４−ブタンジオールの製造方法 | |
| JPH0541620B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070809 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080809 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090809 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100809 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100809 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110809 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120809 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130809 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |