JP3315447B2 - 液体中の微粒子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法 - Google Patents
液体中の微粒子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法Info
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 50
- 239000012535 impurity Substances 0.000 title claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims description 16
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 title claims description 15
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 title claims 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 23
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 claims description 19
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 17
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 claims description 16
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims description 13
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000002510 pyrogen Substances 0.000 claims description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 6
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 6
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 23
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- -1 LSIs Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 201000007902 Primary cutaneous amyloidosis Diseases 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/324—Lamp cleaning installations, e.g. brushes
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/30—Wastewater or sewage treatment systems using renewable energies
- Y02W10/37—Wastewater or sewage treatment systems using renewable energies using solar energy
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液体中の微粒子状不純
物の光化学凝集、イオン化処理方法に関するもので、液
体に含有されている微量なコロイド物質、バクテリア、
パイロジェン、細菌等の微粒子状不純物、イオンを測定
または除去することに特徴がある。
物の光化学凝集、イオン化処理方法に関するもので、液
体に含有されている微量なコロイド物質、バクテリア、
パイロジェン、細菌等の微粒子状不純物、イオンを測定
または除去することに特徴がある。
【０００２】
【従来の技術】最近、半導体、液晶、医薬品業界や原子
力発電所等においては、超純水を始めとする高純度の液
体が使用されている。例えば、ＬＳＩ等の半導体を製造
する際には、半導体の洗浄水として超純水が使用されて
いるが、通常の場合、この分野で用いられる超純水は、
イオン交換装置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等を適宜
組み合わせた超純水製造システムによって製造されてい
る。
力発電所等においては、超純水を始めとする高純度の液
体が使用されている。例えば、ＬＳＩ等の半導体を製造
する際には、半導体の洗浄水として超純水が使用されて
いるが、通常の場合、この分野で用いられる超純水は、
イオン交換装置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等を適宜
組み合わせた超純水製造システムによって製造されてい
る。
【０００３】しかし、この超純水製造システムは、被処
理対象である原水中に含まれている各種の不純物イオ
ン、有機物、懸濁粒状物等の除去には有効であるが、微
量なコロイド物質（コロイドシリカ、コロイド鉄）、バ
クテリア、パイロジェン（発熱性物質）、細菌等の微粒
子状不純物の除去には不適当であり、処理液である超純
水中にリークすることが多かった。
理対象である原水中に含まれている各種の不純物イオ
ン、有機物、懸濁粒状物等の除去には有効であるが、微
量なコロイド物質（コロイドシリカ、コロイド鉄）、バ
クテリア、パイロジェン（発熱性物質）、細菌等の微粒
子状不純物の除去には不適当であり、処理液である超純
水中にリークすることが多かった。
【０００４】そして、これらの微粒子状不純物は微量で
あると、簡単、容易な測定機器では測定できず、見逃さ
れて超純水中に残留したままであることが多く、このよ
うな超純水を半導体の洗浄水として使用すると、これら
の微粒子状不純物が半導体にスケールとして付着し、半
導体の汚染、回路破壊等のトラブルを発生することもあ
った。
あると、簡単、容易な測定機器では測定できず、見逃さ
れて超純水中に残留したままであることが多く、このよ
うな超純水を半導体の洗浄水として使用すると、これら
の微粒子状不純物が半導体にスケールとして付着し、半
導体の汚染、回路破壊等のトラブルを発生することもあ
った。
【０００５】また、これらの微量な微粒子状不純物は、
かなり高度で、精密な測定機器で慎重に測定すると、測
定が可能であるが、しかし、これらの微量な微粒子状不
純物の除去は非常に難しく、適切な除去手段がないのが
実情であった。
かなり高度で、精密な測定機器で慎重に測定すると、測
定が可能であるが、しかし、これらの微量な微粒子状不
純物の除去は非常に難しく、適切な除去手段がないのが
実情であった。
【０００６】前述した半導体、液晶、医薬品業界や原子
力発電所等においては、近年の技術革新、技術の高度化
に伴い、この微量なコロイド物質、バクテリア、パイロ
ジェン、細菌等の微粒子状不純物の液体よりの除去を簡
単、容易に、かつ正確に測定することによって、事前に
トラブルを回避したり、適切な対応をとることが求めら
れており、さらに技術課題としては、この微量の微粒子
状不純物を液体より完全に除去することが切望されてい
る。
力発電所等においては、近年の技術革新、技術の高度化
に伴い、この微量なコロイド物質、バクテリア、パイロ
ジェン、細菌等の微粒子状不純物の液体よりの除去を簡
単、容易に、かつ正確に測定することによって、事前に
トラブルを回避したり、適切な対応をとることが求めら
れており、さらに技術課題としては、この微量の微粒子
状不純物を液体より完全に除去することが切望されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、液体中の微
量なコロイド物質、バクテリア、パイロジェン、細菌等
の微粒子状不純物を、簡単、容易に測定し、これに応じ
て適切に対処することによって、これらの微量な微粒子
状不純物に起因して発生する各種のトラブルを事前に回
避することにある。
量なコロイド物質、バクテリア、パイロジェン、細菌等
の微粒子状不純物を、簡単、容易に測定し、これに応じ
て適切に対処することによって、これらの微量な微粒子
状不純物に起因して発生する各種のトラブルを事前に回
避することにある。
【０００８】また、本発明は、液体中の微量なコロイド
物質、バクテリア、パイロジェン、細菌等の微粒子状不
純物を、簡単、容易に除去し、この純度の高い処理液体
を各種の産業分野で使用して、高品質の製品を製造する
ことにある。
物質、バクテリア、パイロジェン、細菌等の微粒子状不
純物を、簡単、容易に除去し、この純度の高い処理液体
を各種の産業分野で使用して、高品質の製品を製造する
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、液体中の微粒
子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法に関するも
のであり、微量なコロイド物質、バクテリア、パイロジ
ェン、細菌等の微粒子状不純物を含有する液体に、紫外
線（望ましくは２２０ｎｍの紫外線）、太陽光線等の光
照射を行い、液体中の微粒子状不純物を光化学凝集、イ
オン化処理することによって、液体中の微粒子状不純
物、イオンの測定を可能にしたことに特徴がある。
子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法に関するも
のであり、微量なコロイド物質、バクテリア、パイロジ
ェン、細菌等の微粒子状不純物を含有する液体に、紫外
線（望ましくは２２０ｎｍの紫外線）、太陽光線等の光
照射を行い、液体中の微粒子状不純物を光化学凝集、イ
オン化処理することによって、液体中の微粒子状不純
物、イオンの測定を可能にしたことに特徴がある。
【００１０】また、本発明は、前述した液体の光化学凝
集、イオン化処理方法に関するもので、光化学凝集、イ
オン化処理した液体中の微量な微粒子状不純物を、イオ
ン交換装置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等の液体処理
装置のいずれか、またはこれらの液体処理装置を組み合
わせたシステムで除去することに特徴がある。
集、イオン化処理方法に関するもので、光化学凝集、イ
オン化処理した液体中の微量な微粒子状不純物を、イオ
ン交換装置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等の液体処理
装置のいずれか、またはこれらの液体処理装置を組み合
わせたシステムで除去することに特徴がある。
【００１１】さらに、本発明は、前述した液体の光化学
凝集、イオン化処理方法に関するもので、液体中の微量
な微粒子状不純物を紫外線、太陽光線等の光照射を行う
について、光照射とともにオゾンを添加して、微粒子状
不純物の光化学凝集、イオン化処理を一段と促進するこ
とに特徴がある。
凝集、イオン化処理方法に関するもので、液体中の微量
な微粒子状不純物を紫外線、太陽光線等の光照射を行う
について、光照射とともにオゾンを添加して、微粒子状
不純物の光化学凝集、イオン化処理を一段と促進するこ
とに特徴がある。
【００１２】さらに、本発明は、前述した液体の光化学
凝集、イオン化処理方法に関するもので、液体中の微量
な微粒子状不純物を紫外線、太陽光線等の光照射を行う
について、光照射とともに酸化剤を添加して、微粒子状
不純物の光化学凝集、イオン化処理を一段と促進するこ
とに特徴がある。
凝集、イオン化処理方法に関するもので、液体中の微量
な微粒子状不純物を紫外線、太陽光線等の光照射を行う
について、光照射とともに酸化剤を添加して、微粒子状
不純物の光化学凝集、イオン化処理を一段と促進するこ
とに特徴がある。
【００１３】
【作用】以上のように、液体中の微量なコロイド物質、
バクテリア、パイロジェン、細菌等の微粒子状不純物
に、紫外線、太陽光線等の光照射を行うと、微量な微粒
子状不純物は、相互に光化学反応によって凝集して増粒
化することによって、さらに光化学反応によってイオン
化（例えばコロイド状シリカはイオン化する）すること
によって、簡単、容易に測定、除去し易くなる。
バクテリア、パイロジェン、細菌等の微粒子状不純物
に、紫外線、太陽光線等の光照射を行うと、微量な微粒
子状不純物は、相互に光化学反応によって凝集して増粒
化することによって、さらに光化学反応によってイオン
化（例えばコロイド状シリカはイオン化する）すること
によって、簡単、容易に測定、除去し易くなる。
【００１４】本発明の液体中の微粒子状不純物の光化学
凝集、イオン化処理方法を実施する装置の一例について
説明すると、図１に示すように、周知の紫外線照射装置
のステンレス製の処理筒１内に紫外線ランプ２を配設す
るが、この紫外線ランプ２は紫外線透過率が高く、かつ
被照射体に溶出物が流出しない材質、たとえば石英ガラ
スよりなる透過筒３に収めることが通常である。以上の
ように、処理筒１を構成することによって、処理筒１内
に流入する液体中の微量な微粒子状不純物に紫外線照射
することによって、微粒子状不純物の光化学凝集、イオ
ン化処理を行う流路４を形成し、さらに処理筒１には、
液体の流入管５と処理液の流出管６を接続し、そして、
この液体の流入管５には、必要に応じて、オゾン発生機
（図示せず）または酸化剤貯槽（図示せず）を接続する
とよい。
凝集、イオン化処理方法を実施する装置の一例について
説明すると、図１に示すように、周知の紫外線照射装置
のステンレス製の処理筒１内に紫外線ランプ２を配設す
るが、この紫外線ランプ２は紫外線透過率が高く、かつ
被照射体に溶出物が流出しない材質、たとえば石英ガラ
スよりなる透過筒３に収めることが通常である。以上の
ように、処理筒１を構成することによって、処理筒１内
に流入する液体中の微量な微粒子状不純物に紫外線照射
することによって、微粒子状不純物の光化学凝集、イオ
ン化処理を行う流路４を形成し、さらに処理筒１には、
液体の流入管５と処理液の流出管６を接続し、そして、
この液体の流入管５には、必要に応じて、オゾン発生機
（図示せず）または酸化剤貯槽（図示せず）を接続する
とよい。
【００１５】
【実施例１】公知のイオン交換装置、超濾過膜装置、逆
浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システムによっ
て製造した超純水を、（イ）株式会社堀場製作所製の微
粒子測定装置、ＰＬＣＡ−３１０（０．０７μｍ以上の
微粒子測定可能）、（ロ）ＤＫＫ株式会社製のシリカモ
ニター、ＳＬＣ−１６０５によって、微粒子とシリカイ
オンを測定したところ、以下のような測定結果になっ
た。
浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システムによっ
て製造した超純水を、（イ）株式会社堀場製作所製の微
粒子測定装置、ＰＬＣＡ−３１０（０．０７μｍ以上の
微粒子測定可能）、（ロ）ＤＫＫ株式会社製のシリカモ
ニター、ＳＬＣ−１６０５によって、微粒子とシリカイ
オンを測定したところ、以下のような測定結果になっ
た。
【００１６】 超純水中の微粒子とシリカイオンの測定結果 （イ）微粒子量（個／ｍｌ） ０ （ロ）微粒子径（μｍ） ０ （ハ）シリカイオン（μｇ（Ｓｉ０2 ／ｌ）） ０
【００１７】前述した超純水製造システムによって製造
した超純水を、次の三種類の実験装置に流速２ｔ／ｈｒ
で通液して光化学凝集、イオン化処理を行った。 （Ａ）実験装置 ステンレス製の処理筒（１０００ｍｍ(L) ×２０００ｍ
ｍ(W) ×２０００ｍｍ(H））の内部に、株式会社日本フ
ォトサイエンス製の１８５ｎｍの波長、６５Ｗの紫外線
ランプ（ＡＹ−６）を内蔵した石英ガラス製の透過筒を
２０本配置したもの。 （Ｂ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、株式会社日本フォトサイエ
ンス製のオゾン発生装置（ＮＰＳ−０３）を付設し、超
純水にオゾンを１０ｐｐｍ添加したもの。 （Ｃ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、酸化剤貯槽を付設し、超純
水に酸化剤として過酸化水素を７ｐｐｍ添加したもの。 以上の実験装置によって超純水を処理した結果、半導体
の洗浄水中の微粒子とシリカイオンは、以下に示すよう
な状態になった。
した超純水を、次の三種類の実験装置に流速２ｔ／ｈｒ
で通液して光化学凝集、イオン化処理を行った。 （Ａ）実験装置 ステンレス製の処理筒（１０００ｍｍ(L) ×２０００ｍ
ｍ(W) ×２０００ｍｍ(H））の内部に、株式会社日本フ
ォトサイエンス製の１８５ｎｍの波長、６５Ｗの紫外線
ランプ（ＡＹ−６）を内蔵した石英ガラス製の透過筒を
２０本配置したもの。 （Ｂ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、株式会社日本フォトサイエ
ンス製のオゾン発生装置（ＮＰＳ−０３）を付設し、超
純水にオゾンを１０ｐｐｍ添加したもの。 （Ｃ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、酸化剤貯槽を付設し、超純
水に酸化剤として過酸化水素を７ｐｐｍ添加したもの。 以上の実験装置によって超純水を処理した結果、半導体
の洗浄水中の微粒子とシリカイオンは、以下に示すよう
な状態になった。
【００１８】 本発明法で処理した超純水中の微粒子とシリカイオンの測定結果 実験装置 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） （イ）微粒子量（個／ｍｌ） ４０ ４５ ６０ （ロ）微粒子径（μｍ） 0.07 以上 0.07以上 0.07 以上 （ハ）シリカイオン ５〜１７ ６〜１８ ９〜２５ （μｇ（Ｓｉ０2 ／ｌ）） 以上の結果で明なように、本発明の紫外線照射、紫外線
照射とオゾン添加、紫外線照射と酸化剤添加を行うと、
超純水の微量な微粒子は光化学凝集によって増粒（０．
０７μｍ以上の微粒子径に増粒）したため、またシリカ
は光化学イオン化によってイオン化したため、前述した
微粒子測定装置、シリカモニターで簡単、容易に測定で
きた。
照射とオゾン添加、紫外線照射と酸化剤添加を行うと、
超純水の微量な微粒子は光化学凝集によって増粒（０．
０７μｍ以上の微粒子径に増粒）したため、またシリカ
は光化学イオン化によってイオン化したため、前述した
微粒子測定装置、シリカモニターで簡単、容易に測定で
きた。
【００１９】
【実施例２】公知のイオン交換装置、超濾過膜装置、逆
浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システムで製造
した超純水によって半導体を洗浄し、その洗浄水を回収
し、前述した（イ）の微粒子測定装置、（ロ）のシリカ
モニターによって、微粒子とシリカイオンを測定したと
ころ、以下のような結果になった。
浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システムで製造
した超純水によって半導体を洗浄し、その洗浄水を回収
し、前述した（イ）の微粒子測定装置、（ロ）のシリカ
モニターによって、微粒子とシリカイオンを測定したと
ころ、以下のような結果になった。
【００２０】 洗浄水中の微粒子とシリカイオンの測定結果 （イ）微粒子量（個／ｍｌ） ５００ （ロ）微粒子径（μｍ） 0.07以上 （ハ）シリカイオン（μｇ（Ｓｉ０2 ／ｌ）） ３〜６
【００２１】前述した半導体の洗浄水を、次の三種類の
実験装置に流速１ｔ／ｈｒで通液して光化学凝集、イオ
ン化処理をおこなった。 （Ａ）実験装置 ステンレス製の処理筒（１０００ｍｍ(L) ×１０００ｍ
ｍ(W) ×１０００ｍｍ(H) ）の内部に、株式会社日本フ
ォトサイエンス製の２２０ｎｍ以下の波長、７８０Ｗの
紫外線ランプ（ＡＶ−９）を内蔵した石英ガラス製の透
過筒を２本配置したもの。 （Ｂ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、株式会社日本フォトサイエ
ンス製のオゾン発生装置（ＮＰＳ−０３）を付設し、超
純水にオゾンを１１ｐｐｍ添加したもの。 （Ｃ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、酸化剤貯槽を付設し、超純
水に酸化剤として過酸化水素を８ｐｐｍ添加したもの。 以上の実験装置によって半導体の洗浄水を処理した結
果、その洗浄水中の微粒子とシリカイオンは、以下に示
すような状態になった。
実験装置に流速１ｔ／ｈｒで通液して光化学凝集、イオ
ン化処理をおこなった。 （Ａ）実験装置 ステンレス製の処理筒（１０００ｍｍ(L) ×１０００ｍ
ｍ(W) ×１０００ｍｍ(H) ）の内部に、株式会社日本フ
ォトサイエンス製の２２０ｎｍ以下の波長、７８０Ｗの
紫外線ランプ（ＡＶ−９）を内蔵した石英ガラス製の透
過筒を２本配置したもの。 （Ｂ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、株式会社日本フォトサイエ
ンス製のオゾン発生装置（ＮＰＳ−０３）を付設し、超
純水にオゾンを１１ｐｐｍ添加したもの。 （Ｃ）実験装置 前述した（Ａ）実験装置に、酸化剤貯槽を付設し、超純
水に酸化剤として過酸化水素を８ｐｐｍ添加したもの。 以上の実験装置によって半導体の洗浄水を処理した結
果、その洗浄水中の微粒子とシリカイオンは、以下に示
すような状態になった。
【００２２】 本発明法で処理した洗浄水中の微粒子とシリカイオンの測定結果 実験装置 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） （イ）微粒子量（個／ｍｌ） ６９５ ８１５ ８８０ （ロ）微粒子径（μｍ） 0.07以上 0.07以上 0.07以上 （ハ）イオン状シリカ ８〜１７ ９〜１８ ９〜２５ （μｇ（Ｓｉ０2 ／ｌ）） 以上の結果で明なように、本発明の紫外線照射、紫外線
照射とオゾン添加、紫外線照射と酸化剤添加を行うと、
洗浄水の微粒子は光化学凝集によって増粒（０．０７μ
ｍ以上の微粒子径に増粒）したため、またシリカは光化
学イオン化によってイオン化したため、前述した微粒子
測定装置、シリカモニターで簡単、容易に測定できた。
照射とオゾン添加、紫外線照射と酸化剤添加を行うと、
洗浄水の微粒子は光化学凝集によって増粒（０．０７μ
ｍ以上の微粒子径に増粒）したため、またシリカは光化
学イオン化によってイオン化したため、前述した微粒子
測定装置、シリカモニターで簡単、容易に測定できた。
【００２３】次いで、以上の実験装置（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）で処理した光化学凝集した微粒子とイオン化した
シリカを含む洗浄水を、公知のイオン交換装置と逆浸透
膜装置等を組み合わせた超純水製造システムに流速１ｔ
／ｈｒで通液して処理したところ、その処理結果は、以
下に示す通りであった。
（Ｃ）で処理した光化学凝集した微粒子とイオン化した
シリカを含む洗浄水を、公知のイオン交換装置と逆浸透
膜装置等を組み合わせた超純水製造システムに流速１ｔ
／ｈｒで通液して処理したところ、その処理結果は、以
下に示す通りであった。
【００２４】 超純水製造システムで処理した洗浄水の微粒子とシリカイオンの除去結果 実験装置 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） （イ）微粒子量（個／ｍｌ） ０〜２ ０〜１ ０ （ロ）微粒子径（μｍ） 0.28 〜0.2 0.24〜0.2 0.2〜0.15 （ハ）シリカ（μｇ（Ｓｉ０2 ／ｌ）） 0.4〜0.5 0.35〜0.4 0.3〜0.4 以上の結果で明なように、本発明の紫外線照射、紫外線
照射とオゾン添加、紫外線照射と酸化剤添加を行うと、
超純水の微量な微粒子は光化学凝集によって増粒し、ま
たシリカは光化学イオン化によってイオン化した結果、
超純水製造システムで洗浄水中の微粒子とシリカイオン
を除去することができた。
照射とオゾン添加、紫外線照射と酸化剤添加を行うと、
超純水の微量な微粒子は光化学凝集によって増粒し、ま
たシリカは光化学イオン化によってイオン化した結果、
超純水製造システムで洗浄水中の微粒子とシリカイオン
を除去することができた。
【００２５】前述した実施例においては、被処理対象液
に含まれている微粒子状不純物のうち、微粒子とコロイ
ド物質について言及したが、バクテリア、パイロジェ
ン、細菌等の微粒子状不純物微粒子の測定、除去につい
ても同様である。
に含まれている微粒子状不純物のうち、微粒子とコロイ
ド物質について言及したが、バクテリア、パイロジェ
ン、細菌等の微粒子状不純物微粒子の測定、除去につい
ても同様である。
【００２６】光照射手段としては紫外線照射が一般的あ
り、この場合に使用される紫外線ランプとしては、波長
１８５ｎｍの低圧ランプ、波長２２０ｎｍ以下の中・高
圧ランプが最適であり、これ以外の主波長２５４ｎｍの
低圧殺菌ランプ、主波長３６５ｎｍの中・高圧ランプ
は、光化学凝集、イオン化処理効果が落ちる。またが紫
外線ランプ以外にも、光化学凝集、イオン化処理の目的
に応じて、太陽光ランプ、ケミカルランプ、ブラックラ
イトランプ、メタルライトランプ、ナトリウムランプ等
の各種ランプを使用してもよい。
り、この場合に使用される紫外線ランプとしては、波長
１８５ｎｍの低圧ランプ、波長２２０ｎｍ以下の中・高
圧ランプが最適であり、これ以外の主波長２５４ｎｍの
低圧殺菌ランプ、主波長３６５ｎｍの中・高圧ランプ
は、光化学凝集、イオン化処理効果が落ちる。またが紫
外線ランプ以外にも、光化学凝集、イオン化処理の目的
に応じて、太陽光ランプ、ケミカルランプ、ブラックラ
イトランプ、メタルライトランプ、ナトリウムランプ等
の各種ランプを使用してもよい。
【００２７】光化学凝集、イオン化処理を促進するため
に液体に添加するオゾンとしては、オゾン発生機によっ
て発生したオゾンを用いることが一般的であり、オゾン
の添加量は３〜２０ｐｐｍの範囲であればよく、３ｐｐ
ｍ未満であると所期の処理効果があがらず、また２０ｐ
ｐｍを超えても、オゾン添加量の増加に応じた処理効果
があがらない。
に液体に添加するオゾンとしては、オゾン発生機によっ
て発生したオゾンを用いることが一般的であり、オゾン
の添加量は３〜２０ｐｐｍの範囲であればよく、３ｐｐ
ｍ未満であると所期の処理効果があがらず、また２０ｐ
ｐｍを超えても、オゾン添加量の増加に応じた処理効果
があがらない。
【００２８】光化学凝集、イオン化処理を促進するため
に液体に添加する酸化剤としては、Ｈ2 Ｏ2 以外にＢｒ
Ｏ3 、Ｏ2 、Ｏ3 等を用いるとよく、これらの一種また
は二種以上を光化学凝集、イオン化処理目的に応じて適
宜選択して使用する。酸化剤の添加量は５〜１０ｐｐｍ
の範囲であればよく、５ｐｐｍ未満であると所期の処理
効果があがらず、また１０ｐｐｍを超えると、これに応
じた処理効果があがらず、酸化剤の添加量が過剰とな
り、かえって不純物が増加する結果にもなるので不都合
である。なお酸化剤を併用する場合には、酸化剤の濃度
により紫外線等の光吸収係数が異なるために、酸化剤の
濃度と光吸収係数との関係を考慮して液体の光化学凝
集、イオン化処理を行う必要がある。
に液体に添加する酸化剤としては、Ｈ2 Ｏ2 以外にＢｒ
Ｏ3 、Ｏ2 、Ｏ3 等を用いるとよく、これらの一種また
は二種以上を光化学凝集、イオン化処理目的に応じて適
宜選択して使用する。酸化剤の添加量は５〜１０ｐｐｍ
の範囲であればよく、５ｐｐｍ未満であると所期の処理
効果があがらず、また１０ｐｐｍを超えると、これに応
じた処理効果があがらず、酸化剤の添加量が過剰とな
り、かえって不純物が増加する結果にもなるので不都合
である。なお酸化剤を併用する場合には、酸化剤の濃度
により紫外線等の光吸収係数が異なるために、酸化剤の
濃度と光吸収係数との関係を考慮して液体の光化学凝
集、イオン化処理を行う必要がある。
【００２９】
【考案の効果】本発明によると、液体中の微量なコロイ
ド物質（コロイドシリカ、コロイド鉄）、バクテリア、
パイロジェン（発熱性物質）、細菌等の微粒子状不純物
を、簡単、容易な測定機器で測定して、除去することが
可能であり、これらの微粒子状不純物を含有しない高純
度の処理液を得ることができる。
ド物質（コロイドシリカ、コロイド鉄）、バクテリア、
パイロジェン（発熱性物質）、細菌等の微粒子状不純物
を、簡単、容易な測定機器で測定して、除去することが
可能であり、これらの微粒子状不純物を含有しない高純
度の処理液を得ることができる。
【００３０】したがって、処理液である超純水中に微粒
子状不純物が残留することがないために、たとえば半導
体の洗浄水として使用しても、微粒子状不純物が半導体
にスケールとして付着し、半導体の汚染、回路破壊等の
トラブルを発生することはなく、高品質の半導体を歩留
りよく製造することができる。
子状不純物が残留することがないために、たとえば半導
体の洗浄水として使用しても、微粒子状不純物が半導体
にスケールとして付着し、半導体の汚染、回路破壊等の
トラブルを発生することはなく、高品質の半導体を歩留
りよく製造することができる。
【００３１】特に、光照射とともにオゾンまたは酸化剤
を併用添加した場合は、液体中微粒子状不純物の光化学
凝集、イオン化処理が促進して処理効率が一段と向上
し、より純度の高い処理液体を得ることができる。
を併用添加した場合は、液体中微粒子状不純物の光化学
凝集、イオン化処理が促進して処理効率が一段と向上
し、より純度の高い処理液体を得ることができる。
【００３２】本発明は、半導体、液晶、医薬品の製造工
程や原子力発電所等において使用する用水の処理の他
に、飲料水の浄化等にも活用することができる。
程や原子力発電所等において使用する用水の処理の他
に、飲料水の浄化等にも活用することができる。
【図１】本発明の光化学凝集、イオン化処理を行う紫外
線ランプを円筒状の透過筒に内蔵させて配設した処理筒
の断面図である。
線ランプを円筒状の透過筒に内蔵させて配設した処理筒
の断面図である。
１ 処理筒 ２ 紫外線ランプ ３ 透過筒 ４ 流路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/52 ＺＡＢ Ｃ０２Ｆ 1/52 ＺＡＢＺ 1/72 １０１ 1/72 １０１ ＺＡＢ ＺＡＢ 1/78 ＺＡＢ 1/78 ＺＡＢ 9/00 ＺＡＢ 9/00 ＺＡＢ Ｇ０１Ｎ 15/00 Ｇ０１Ｎ 15/00 Ｃ 15/06 15/06 Ｅ 31/18 31/18
Claims (5)
- 【請求項１】 微量なコロイド物質、バクテリア、パイ
ロジェン、細菌等の微粒子状不純物を含有する液体に、
紫外線、太陽光線等の光照射を行い、液体中の微粒子状
不純物を光化学凝集、イオン化処理することによって、
液体中の微粒子状不純物、イオンを測定することを特徴
とする液体中の微粒子状不純物の光化学凝集、イオン化
処理方法。 - 【請求項２】 請求項１の液体中の測定した光化学凝
集、イオン化処理した微粒子状不純物を、イオン交換装
置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等の液体処理装置のい
ずれか、またはこれらの液体処理装置を組み合わせたシ
ステムで除去して処理液体を製造する液体の光化学凝
集、イオン化処理方法。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２の液体中の微粒
子状不純物を光化学凝集、イオン化処理するについて、
光照射とともにオゾンを添加して、液体中の微粒子状不
純物、イオンを測定することを特徴とする液体の光化学
凝集、イオン化処理方法。 - 【請求項４】 請求項１または請求項２の液体中の微粒
子状不純物を光化学凝集、イオン化処理するについて、
光照射とともに酸化剤を添加して、液体中の微粒子状不
純物、イオンを測定することを特徴とする液体の光化学
凝集、イオン化処理方法。 - 【請求項５】 請求項１または請求項２の液体中の微粒
子状不純物を光化学凝集、イオン化処理するについて、
光照射として、２２０ｎｍ以下の紫外線の照射を行っ
て、液体中の微粒子状不純物、イオンを測定することを
特徴とする液体の光化学凝集、イオン化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30627392A JP3315447B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 液体中の微粒子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30627392A JP3315447B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 液体中の微粒子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06134455A JPH06134455A (ja) | 1994-05-17 |
| JP3315447B2 true JP3315447B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=17955102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30627392A Expired - Fee Related JP3315447B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | 液体中の微粒子状不純物の光化学凝集、イオン化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3315447B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2170626B1 (es) * | 1999-12-28 | 2003-06-16 | Soc Es Carburos Metalicos Sa | Procedimiento para la degradacion de compuestos organicos en disolucion acuosa mediante la ozonizacion e irradiacion con luz solar. |
| JP4660390B2 (ja) * | 2006-02-07 | 2011-03-30 | 株式会社東芝 | 微粒子の凝集装置及びその凝集方法 |
| CN108097648B (zh) * | 2016-11-25 | 2021-02-12 | 宁德市凯欣电池材料有限公司 | 物料洗涤装置 |
-
1992
- 1992-10-20 JP JP30627392A patent/JP3315447B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06134455A (ja) | 1994-05-17 |
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