CN203284280U - 一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,包括:二级RO水箱(1);脱气膜装置(3);UV元件(2),其安装于二级RO水箱与脱气膜装置之间的输送管路;EDI装置(4),其接于脱气膜装置的出口端;氮封水箱(5),其接于EDI装置的出口端;抛光混床(6),其接于氮封水箱的出口端;终端超滤器(8),其安装于超纯水设备的末端;UV杀菌装置(7),其安装于抛光混床与终端超滤器之间的输送管路;所述终端超滤器与氮封水箱之间设有循环回路管道。本实用新型的有益效果是:由于整套系统中增加185UV除TOC装置和脱气膜装置,并且循环回路管道采用PVDF洁净管道,保证超纯水的所有用水点水质大于18MΩ·cm。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置。
背景技术
在太阳能光伏行业需要超纯水设备--单/多晶硅、硅片切割、太阳能电池、半导体硅材料工艺超纯水。
在电子工业需要超纯水设备--半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器、件等生产工艺用超纯水。
在国防科技中尖端的工业生产,如航空工业,他们因研究的需要,要模拟万米以上的高空环境,这样就需要超纯水的水来制造云层或近地太空环境。
在国家支持的尖端生物研究,比方说很多保密的免疫疫苗生产、尖端药物研究、大型的超洁净实验室等,这些都要求水中不含有任何的杂质的超纯水。
生产与光有关的企业,如相机镜头、高级镜片、微观环境显示灯等,都要用到超纯的水来进行冲刷,这样的行业比较闭塞,需要有十足的客户资源才能做好。
实用新型内容
本实用新型的目的就是为了解决上述问题,提供一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,包括:
二级RO水箱(1);
脱气膜装置(3);
UV元件(2),其安装于二级RO水箱与脱气膜装置之间的输送管路;
EDI装置(4),其接于脱气膜装置的出口端;
氮封水箱(5),其接于EDI装置的出口端;
抛光混床(6),其接于氮封水箱的出口端;
终端超滤器(8),其安装于超纯水设备的末端;
UV杀菌装置(7),其安装于抛光混床与终端超滤器之间的输送管路;
所述终端超滤器与氮封水箱之间设有循环回路管道。
进一步,所述UV元件的波长为185nm,185nm紫外线去除水中的有机物原理如下列反应式:
TOC+ UV→ CO2 + H2O。
利用紫外射线将水中的碳水化合物的碳键打断,在足够的照射剂量照射下,绝大部分有机物被分解成CO2和H2O, CO2被脱气膜装置除去,水中残留TOC降至ppb级,而其它被离子化的物质,接下来由后续工艺设备吸附净化。
进一步,所述UV杀菌装置波长为254nm的紫外线杀菌器。
进一步,超纯水设备的输送管路采用不锈钢制成。
进一步,所述循环回路管道采用PVDF管道。
本实用新型具有如下有益效果:
1、由于整套系统中增加185UV除TOC装置和脱气膜装置,并且循环回路管道采用PVDF洁净管道,保证超纯水的所有用水点水质大于18MΩ·cm。
2、整个超纯水设备不仅仅能够产出高质量的超纯水,而且采用循环回路设计,能够有效的对于设备中的超纯水进行保存。
3、保证所有用水点>18MΩ·cm,短时间能达到18.2 MΩ·cm理论 值。
4、由于反渗透膜无法滤除水中溶解的CO2、O2和其他气体,在反渗透系统后专门设计脱气膜装置,它对水中的CO2脱出率可达到85%以上,同时对DO也有很高的脱除率。
附图说明
图1为一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。
如图1所示,一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其包括:二级RO水箱1;脱气膜装置3;UV元件2,其安装于二级RO水箱与脱气膜装置之间的输送管路;EDI装置4,其接于脱气膜装置的出口端;氮封水箱5,其接于EDI装置的出口端;抛光混床6,其接于氮封水箱的出口端;终端超滤器8,其安装于超纯水设备的末端;UV杀菌装置7,其安装于抛光混床与终端超滤器之间的输送管路;所述终端超滤器与氮封水箱之间设有循环回路管道9,所述循环回路管道采用PVDF管道,至用水点的所有超纯水再循环进入氮封水箱,确保用水点水质指标大于18MΩ·cm。
作为UV元件,其具备波长为185nm的紫外光,能够与水发生化学反应,而生成的强氧化能力的羟基自由基OH-,它能有效的击碎有机物的C-H-O链,使得有机物变成无机盐而被EDI装置或精混床脱除,在高纯水和超纯水制取工艺中,应用185nm的紫外光去除TOC,将二级RO水箱产水中的有机物氧化,降解为带电物质而被EDI装置和抛光树脂清除。在整个超纯水制取工艺中,应用185nm的紫外光去除TOC装置是脱除TOC而获取电子一级水的可靠保证。
纯水中的O2、CO2等气体对太阳能电池硅片制造工艺有很大损害, 并且这些气体附着在树脂颗粒周围,会严重影响EDI装置的纯水室中的离子交换树脂的交换能力,因此对O2、CO2等气体的脱除就显得异常重要。本超纯水设备采用的脱气膜由于只透气不透水,对气体种类没有选择性,可以在负压下将溶解在水中的各种气体以微小气泡的形式逸出,大大提高了脱气效率,且成本低、体积小,DO脱除率可达95%以上。
细菌在不流动的水中或纯水管道设备的拐弯、死角、缝隙部分极易滋生和繁殖,为了保护产水水质稳定,必须要考虑纯水循环流动时有足够流量和压力,仅仅制造超纯水还不够完善,还应该具有输送和保存高纯水和超纯水的方法,鉴于此,我们在抛光混床前设置超纯水循环回路,在循环回路中设置波长为254nm的紫外线杀菌器和终端超滤器,可以保证各个用水点的水质达到要求。
超纯水设备的输送管路采用不锈钢制成。
以上所述仅为本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅限于上述实施方式,凡是属于本实用新型原理的技术方案均属于本实用新型的保护范围。对于本领域的技术人员而言,在不脱离本实用新型的原理的前提下进行的若干改进,这些改进也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,包括:
二级RO水箱(1);
脱气膜装置(3);
UV元件(2),其安装于二级RO水箱与脱气膜装置之间的输送管路;
EDI装置(4),其接于脱气膜装置的出口端;
氮封水箱(5),其接于EDI装置的出口端;
抛光混床(6),其接于氮封水箱的出口端;
终端超滤器(8),其安装于超纯水设备的末端;
UV杀菌装置(7),其安装于抛光混床与终端超滤器之间的输送管路;
所述终端超滤器与氮封水箱之间设有循环回路管道。
2.如权利要求1所述的一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,所述UV元件的波长为185nm。
3.如权利要求1所述的一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,所述UV杀菌装置波长为254nm的紫外线杀菌器。
4.如权利要求1所述的一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,超纯水设备的输送管路采用不锈钢制成。
5.如权利要求1所述的一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置,其特征在于,所述循环回路管道采用PVDF管道。
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