JP3267462B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置に関す
る。特にDRAM(ダイナミック型ランダムアクセスメ
モリ)のコア部のデータバス及びバッファ回路の配置及
びその接続関係に関する。
【0002】
【従来の技術】図11に従来のDRAMのメモリセルア
レイ、データバス及びバッファ回路の配置及びその接続
関係の概略を示す。すなわち、メモリセルアレイ11 、
12 、データバス21 、22 、23 (以下DQ線と記
す)、バッファ回路41 、42 、43 (以下、DQバッ
ファと記す)、データバス5(以下、メインデータバス
若しくはRWD線と記す)、ロウデコード回路61 、6
2 等から構成される。
【0003】図11から容易に看取れるとおり、各DQ
線2毎に対応してDQバッファ4が配置されており、そ
れぞれロウデコード回路6の間に挿入されている。しか
し、DQ線の出口に相当するロウデコード回路間には、
その他多くの回路要素を配置する必要がある。例えば、
これら回路要素とは、プリデコード回路、ビット線イコ
ライズ回路を駆動する回路、センスアンプ回路を駆動す
る回路、リダンダンシフューズ回路、後述するシェアー
ドセンスアンプ構造のビット線配置を有するメモリにお
いてはセンスアンプビット線接続スイッチ制御回路(以
下φT 制御回路と記す)等である。しかし、これら回路
要素全てを配置することにより、ロウデコード間すなわ
ちDQ線の出口は大変に込み合い、多くの場合、メモリ
セルアレイピッチを粗くして対応することを迫られてい
た。また、DQバッファの個数も、メモリセルアレイの
個数に1加えた数だけ必要となっていた。さらに、これ
ら回路要素の制御にも工夫が必要であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の半導体記憶装置のデータバス、バッファ回路の配
置及びその接続関係によると、面積の縮小化が困難であ
り、バッファ回路もメモリセルアレイの個数よりも多く
必要となり、これらの制御も困難であるという問題があ
った。
【0005】本発明は上記欠点を解決し、バッファ回路
の個数とメモリセルアレイの個数とを等しくし、面積の
縮小化をはかりつつ、容易に制御が可能となる半導体記
憶装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、列方向に沿在した第1、第2及び第3
のデータバスと、第1及び第2のデータバス間に配置さ
れ、行列状に配置した複数のメモリセルを有する第1の
メモリセルアレイと、第2及び第3のデータバス間に配
置され、行列状に配置した複数のメモリセルを有する第
2のメモリセルアレイと、第1のメモリセルアレイの一
端に行方向に沿在した第4のデータバスと、第2のメモ
リセルアレイの一端に行方向に沿在した第5のデータバ
スと、第1のデータバスと第4のデータバスとを選択的
に接続する第1のスイッチ回路と、第2のデータバスと
第4のデータバス及び第5のデータバスとをそれぞれ選
択的に接続する第2のスイッチ回路と、第3のデータバ
スと第5のデータバスとを選択的に接続する第3のスイ
ッチ回路と、第4のデータバスに接続された第1のバッ
ファ回路と、第5のデータバスに接続された第2のバッ
ファ回路と、第1及び第2のバッファ回路に共通に接続
された第6のデータバスと、第1のメモリセルアレイを
選択する際には第1のスイッチ回路を第1のデータバス
と第4のデータバスとを接続するように制御すると同時
に第2のスイッチ回路を第2のデータバスと第5のデー
タバスとを接続するように制御し、第2のメモリセルア
レイを選択する際には第2のスイッチ回路を第2のデー
タバスと第4のデータバスとを接続するように制御する
と同時に第3のスイッチ回路を第3のデータバスと第5
のデータバスとを接続するように制御する制御回路とを
具備することを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
【0007】また、本発明においては、それぞれ選択的
に活性化されるN個のメモリセルアレイと、N+1個の
センスアンプ回路群及び第一のデータバス群を交互に配
置して構成したメモリブロックと、このメモリセルアレ
イに対応するN個の第二のデータバス群と、第一のデー
タバス群と第二のデータバス群とを選択的に接続するN
+1個の切り替え回路を有することを特徴とする半導体
記憶装置を提供する。この半導体記憶装置は、さらに、
第二のデータバスにそれぞれ対応するN個のバッファ回
路を有するとともに、メモリセルアレイに対応するN個
のロウデコード回路を有し、このロウデコード回路及び
このロウデコード回路に対応するバッファ回路は共通の
選択信号により制御されることを特徴とする。さらに、
この半導体記憶装置は、N個の第二のデータバス群と平
行に配設され、N個のバッファ回路に共通に接続された
第三のデータバス群を有する。
【0008】
【作用】本発明で提供する手段を用いると、従来例に加
えて、第1、第2、第3のスイッチ回路及び第4、第5
のデータバスを新たに配置することにより、各スイッチ
及びデータバスを介して第1、第2のバッファ回路にデ
ータを供給することができる。ここで、第4、第5のデ
ータバスは第1、第2、第3のデータバスと直交して配
置され、各々メモリセルアレイの一端に行方向に沿在し
ているため、各バッファ回路は各メモリセルアレイの一
端に配置することができ、第1、第2、第3のデータバ
スの出口に配置する必要がない。さらに、制御回路が、
第1のメモリセルアレイを選択する際には第1のスイッ
チ回路を第1のデータバスと第4のデータバスとを接続
するように制御すると同時に第2のスイッチ回路を第2
のデータバスと第5のデータバスとを接続するように制
御し、第2のメモリセルアレイを選択する際には第2の
スイッチ回路を第2のデータバスと第4のデータバスと
を接続するように制御すると同時に第3のスイッチ回路
を第3のデータバスと第5のデータバスとを接続するよ
うに制御するため、メモリセルアレイの個数とデータバ
スの個数を同一とすることができる。従って、本発明に
して、バッファ回路の個数とメモリセルアレイの個数と
を等しくし、面積の縮小化をはかりつつ、制御も容易に
行うことが可能となる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の半導体記憶
装置を説明する。本発明は各種の半導体記憶装置(SR
AM、EPROM、MROM等)に用いることができる
ことは言うまでもないが、後述するようにDRAMに好
適の構成のため、以下、DRAMを例にとり説明を行
う。
【0010】図1に本発明の主要部のみを取り出した回
路図構成図を示す。図1は、図4〜図10を用いて後述
する本発明の実施例の一部であり、メモリセルアレイ、
データバス及びバッファ回路の配置及びその接続関係の
概略図である。すなわち、メモリセルアレイ111 、1
12 、データバス121 、122 、123 (以下DQ線
と記す)、データバス131 、132 、133 、134
(以下DP線と記す)、バッファ回路141 、142
(以下、DQバッファと記す)、データバス15(以
下、メインデータバス若しくはRWD線と記す)、ロウ
デコード回路161、162 、スイッチ回路171 、1
72 、173 、プリデコード回路及びプリデコード線駆
動回路181 、182 、リダンダンシフューズ回路1
9、ブロック制御回路20、アドレスバス及び制御信号
バス21等から構成される。
【0011】メモリセルアレイ11は、1トランジスタ
1キャパシタから構成されるダイナミック型メモリセル
MCを行列状に配置し、同一の列に属するメモリセルを
行方向に沿在する同一のビット線対BLに、同一の行に
属するメモリセルを列方向に沿在する同一のワード線W
Lに接続して構成している。このメモリセルアレイはシ
ェアードセンスアンプ構造を取っており、メモリセルト
ランジスタの行列の他、行方向の両端にはセンスアンプ
等のコア部周辺回路が配置されている。メモリセルアレ
イ111 、112 の間には両者に共用されるセンスアン
プ、カラム選択トランジスタ等が配置されている。
【0012】DQ線12は4対(合計8本)の列方向に
沿在する配線からなり、メモリセルアレイ11間にそれ
ぞれ配置され、メモリセルからビット線対BL、図示し
ないセンスアンプを介して読み出されたデータを(DP
線と相まって)DQバッファに転送し、書き込みデータ
を同様にDQバッファよりメモリセルアレイに転送する
役割をはたしている。なお、後述するように、DQ線1
21 は行方向左側に隣接する図示しないメモリセルアレ
イと共用されており、DQ線123 は行方向右側に隣接
する図示しないメモリセルアレイと共用されている(後
述するように、コアブロックの右端若しくは左端のメモ
リセルアレイの場合には隣接するメモリセルアレイは存
在しない)。
【0013】DP線13は4対(合計8本)の行方向に
沿在する配線からなり、メモリセルアレイ11の一端に
それぞれ沿在して配置されている。メモリセルからビッ
ト線、DQ線を介してメモリセルアレイ外部に転送され
た読み出しデータをDQバッファまで転送し、書き込み
データをDQバッファよりDQ線まで転送する役割をは
している。DP線133 は行方向左側に隣接する図示し
ないメモリセルアレイに対応し、DP線124 は行方向
右側に隣接する図示しないメモリセルアレイに対応する
(後述するように、コアブロックの右端若しくは左端の
メモリセルアレイの場合には隣接するメモリセルアレイ
は存在しない)。
【0014】DQバッファ14はDP線13乃至メモリ
セルアレイ11にそれぞれ対応して配置され、DP線1
3及び行方向に沿在するRWD線15に接続されてい
る。このDQバッファ14はDP線13により供給され
た読み出しデータを増幅しRWD線15に出力し、RW
D線15により供給された書き込みデータを増幅しDP
線13に出力する。
【0015】ロウデコード回路16はメモリセルアレイ
11にそれぞれ対応して設けられており、メモリセルア
レイ11内のアドレスバス21により供給されたアドレ
ス信号に基づいてワード線WLを駆動する。
【0016】スイッチ回路17はそれぞれ、ブロック制
御回路20の制御の基でDP線とDQ線とを選択的に接
続する。接続の組み合わせについては後述する。プリデ
コード回路及びプリデコード線駆動回路18は、それぞ
れ隣接するロウデコード回路にプリデコード信号を供給
する。すなわち、ロウデコード回路16は部分デコード
構成を取っており、アドレス信号とプリデコード信号と
の両者に基づいてワード線WLを選択的に駆動する。
【0017】リダンダンシフューズ回路19はメモリセ
ルアレイ11内に設けられているリダンダンシ行(51
2行につき、8行のリダンダンシ行が配置されている)
を選択するためのファーズアレイ及び比較回路から構成
される。リダンダンシフューズ回路は隣接するロウデコ
ード回路16と共に動作する。
【0018】ブロック制御回路20は主としてスイッチ
回路、DQバッファ回路、ロウデコード回路16等のの
動作を制御する。アドレスバス及び制御信号バス21に
接続されている。
【0019】続いて、図1に示した回路の動作を説明す
る。図2に示すように、第1のメモリセルアレイ111
内のメモリセルが選択されたときは(すなわち、メモリ
セルアレイ111 が選択されたときは)、選択ビット線
対はカラム選択トランジスタを介してDQ線121 及び
122 に接続される。このように、メモリセルアレイ1
11 はシェアードセンスアンプ構造を取っているため、
選択されたメモリセルアレイの両端のDQ線121 及び
122 が用いられる。メモリセルアレイ111が選択さ
れたときにはスイッチ回路171 はDQ線121 とDP
線131 とを接続し、スイッチ回路172 はDQ線12
2 とDP線132 とを接続する。この結果、DQ線12
1 はDQバッファ141 に、DQ線122 はDQバッフ
ァ142に接続される。従って、データの読み出し時に
は、メモリセルから読み出されたデータである微小なビ
ット線対の電位差がセンスアンプにより増幅され、カラ
ム選択トランジスタを介してDQ線、DP線を通り、D
Qバッファにて再度増幅され、RWD線15に伝達され
る。データの書き込み時には、RWD線15から供給さ
れたデータがDQバッファにて増幅され、DP線、DQ
線を通り、カラム選択トランジスタを介して選択ビット
線対に伝達される。
【0020】図3に示すように、第2のメモリセルアレ
イ112 内のメモリセルが選択されたときは(すなわ
ち、メモリセルアレイ112 が選択されたときは)、選
択ビット線対はカラム選択トランジスタを介してDQ線
122 及び123 に接続される。メモリセルアレイ11
2 が選択されたときにはスイッチ回路172 はDQ線1
22 とDP線131 とを接続し、スイッチ回路173 は
DQ線123 とDP線132 とを接続する。この結果、
DQ線122 はDQバッファ141 に、DQ線123 は
DQバッファ142 に接続される。従って、データの読
み出し時には、メモリセルから読み出されたデータであ
る微小なビット線対の電位差がセンスアンプにより増幅
され、カラム選択トランジスタを介してDQ線、DP線
を通り、DQバッファにて再度増幅され、RWD線15
に伝達される。データの書き込み時には、RWD線15
から供給されたデータがDQバッファにて増幅され、D
P線、DQ線を通り、カラム選択トランジスタを介して
選択ビット線対に伝達される。
【0021】以上、本発明の概略構成及びその動作につ
いて説明した。この結果、バッファ回路の個数とメモリ
セルアレイの個数とを等しくし、面積の縮小化をはかり
つつ、制御も容易に行うことが可能となる。以下、これ
を分説する。
【0022】本発明において、メモリセルアレイに対応
するDP線を新たに設けたことにより、DQバッファの
位置に関する自由度が非常に大きくなった。従来のよう
に、必ずしもDQ線の「出口」に設ける必要がなくなっ
たからである。このため、メモリセルアレイ間のピッチ
を密にすることが可能になった。各種の周辺回路を配置
するのに設計が容易になったことは言うまでもない。
【0023】また、DP線とスイッチ回路とが相俟っ
て、データの転送方向を規定するため、メモリセルアレ
イの個数とDQバッファの個数とを等しくすることがで
きる。従来はメモリセルアレイの個数に1加えた個数の
DQバッファが必要であったの比べると、大幅な面積の
縮小化に寄与する。
【0024】また、従来の回路構成においては、N+1
個のDQバッファの内2個選択すると共にN個のロウデ
コード回路の内1個を選択する必要があり、これらの制
御(ブロック制御)は、比較的複雑であった。しかし、
本発明においては、DQバッファの個数とロウデコード
回路の個数は同じであり、ブロック制御回路は常に2個
を選択すれば良いのみである。従って、従来と比較して
非常に簡略化することが可能になる。
【0025】続いて、図1に示した回路構成のさらに周
辺部を含めた実施例を図4〜図10を参照して説明す
る。図4に本実施例のDRAMの概略構成図を示す。総
記憶容量は64MビットDRAMを仮定している。半導
体チップ9には4個の16Mビットのメモリセルとこれ
に付随するセンスアンプ、デコーダ等のコア部周辺回路
から構成されるコアブロックCB0、CB1、CB2、
CB3が配置されている。CB0とCB1との間及びC
B2とCB3との間にはワード線の昇圧電位Vppを発生
させるVpp発生回路VPP Pumpがそれぞれ配置さ
れている。各コアブロックCBのデータ出力部にはデー
タマルチプレクサ回路MUX及びデータバッファ回路D
IBがそれぞれ配置されている。また、各コアブロック
の近傍にはカラム冗長回路の置き換えデータを保持する
フューズアレイCFUSEがそれぞれ配置され、CB0
とCB1との間には1/2Vcc等の中間電位の参照電位
を発生させる参照電位発生回路VREFが、CB2とC
B3との間には電源投入時のチップ内部の初期化を行う
際の初期化信号を発生させるパワーオンリセット回路P
WRONがそれぞれ配置されている。CB0とCB2と
の間には基板電位発生回路SSB、データ入出力バッフ
ァI/Obuffer及びPad、データ出力幅に応じ
てPadを選択するIOデータマルチプレクサ回路X1
MUXを順に配置し、CB1とCB3との間にはセルフ
リフレッシュ制御回路Self refresh、アド
レスバッファAddress buffer、ロウ系制
御回路RAS series、データコントロール回路
DCが順に配置されている。また、チップ9の中心部に
はカラムパーシャルデコーダ回路CPD、アドレス遷移
検出回路ATD、ロウパーシャルデコーダ回路RPD、
カラムアドレススイッチ回路ASDがそれぞれ配置され
ている。
【0026】続いて、図5に16MコアブロックCBの
構成を示す。64個のメモリセルアレイ111 〜1164
と66個のコア部周辺回路421 〜4266が複数個交互
に配置され、メモリセルブロックを構成し、その一端に
カラムデコーダ回路C/Dが配置されている。カラム選
択線CSLは列方向に複数本配列され、カラムデコーダ
回路C/Dにより選択駆動される。カラム選択線CSL
は同一の列に属する各行のコア部周辺回路42に選択信
号を供給する。より詳細には、カラム選択線CSLはセ
ンスアンプ回路の部分活性及びカラムゲート回路の駆動
に用いられる。メモリセルブロックは上下組となり16
MコアブロックCBを構成し、両者の間には各メモリセ
ルアレイに対応するロウデコーダ回路(内部ロウアドレ
ス信号により選択的にワード線WLを駆動させる)16
1 〜1664、ロウデコーダ回路の駆動信号供給回路WD
RV(18)及びロウ冗長回路置き換えデータを保持す
るRFUSE(19)がそれぞれ配置され、また、DQ
バッファDQB(14)、ブロック制御回路BC(2
0)等がそれぞれ配置されている。また、コアブロック
CBの周辺部には各コア部周辺回路に対応したPチャネ
ル型センスアンプ駆動回路PSADがそれぞれ配置され
ている。図のように、ロウデコード回路16をDQバッ
ファ14の間に配置することにより、全ての回路素子を
密に配置することが可能となり、より小さなチップ面積
で大容量のDRAMを提供することができる。
【0027】図6にメモリセルアレイ111 、112 、
113 、114 、1133、1134、1135、1136を含
む領域の詳細な内部回路構成を示す。すなわち、メモリ
セルアレイ11とコア部周辺回路42はそれぞれ交互に
配置され、各コア部周辺回路上にには平行にDQ線12
が走っている。メモリセルアレイはシェアードセンスア
ンプ構造とされており、1センスアンプブロック52に
対し、左右に同一のカラム選択線CSLにより選択され
る4ビット線対から構成されたビット線対束511 、5
12 がそれぞれ接続されている。このセンスアンプブロ
ック52とビット線対束511 、512 から構成される
ビット線ブロックを千鳥状に配置してメモリセルアレイ
が構成される。以上のように構成すると、コア部周辺回
路42にはセンスアンプブロック52が連続して配列
し、メモリセルアレイ11にはビット線対束511 及び
512 が交互に配列する。DQ線12は対応するセンス
アンプブロック52に接続されている。このように、図
1においては簡単のため省略したが、図6のスイッチ回
路17は上半分のメモリセルアレイと下半分のメモリセ
ルアレイとの何れの出力データの交換スイッチとして作
用する。したがって、バッファ回路の個数をさらに半分
に減ずることができる。
【0028】図7に左側ビット線対束511 、センスア
ンプブロック52、右側ビット線対束512 のさらに詳
細な回路構成を示す。すなわち、左側ビット線対束51
1 は4対のビット線対BL1 、/BL1 〜BL4 、/B
L4 より構成され、行列状のダイナミック型メモリセル
MC11〜MC24に接続されている。メモリセルMC11〜
MC14は同一のワード線WL1 に、メモリセルMC21〜
MC24は同一のワード線WL2 により選択駆動される。
各ビット線対にはイコライズ回路EQ1 〜EQ4 から接
続されており、信号φE1により駆動され、イコライズ時
には1/2Vccの定電圧であるVBLとビット線対とを接
続する。
【0029】センスアンプブロック52は各ビット線対
に接続されたセンスアンプSA1 〜SA4 と同一のカラ
ム選択線CSLにより選択的に駆動されるカラム選択ト
ランジスタ対CG1 〜CG4 とから構成される。さら
に、センスアンプブロック52は、このセンスアンプブ
ロック52と左側ビット線対束511 とを選択的に接続
するスイッチ回路T11〜T14(何れも同一の制御信号φ
T1により駆動される)及び右側ビット線対束512 とセ
ンスアンプブロック52とを選択的に接続するスイッチ
回路T21〜T24(何れも同一の制御信号φT2により駆動
される)を含む。センスアンプSAはPチャネルMOS
トランジスタ対とNチャネルMOSトランジスタ対から
構成され、PチャネルMOSトランジスタ対はSAP信
号により駆動され、NチャネルMOSトランジスタ対は
/DSSA及び/SAN信号により駆動される。/DS
SAと/SANが分離されている理由は、カラム選択線
CSLにより選択されたセンスアンプをより高速に活性
化するためである。図示したように、DQ線は4対存在
し、それぞれ異なったビット線対にカラム選択トランジ
スタCG1 〜CG4 を介して接続されている。
【0030】以上説明したように、シェアードセンスア
ンプ構造とすることにより、センスアンプの列方向のピ
ッチをビット線対の2倍とすることができ、これは、コ
ア部周辺回路の行方向の幅を小さくすることを可能と
し、本発明のデータバス配置の必要性がより高くなる。
この結果、本発明のデータバス配置と組み合わせること
により、さらなるチップ面積の縮小化に寄与する。
【0031】図8にスイッチ回路17の内部回路構成を
示す。双方向伝送スイッチ素子SWE1 〜SWE8 がそ
れぞれ上側DQ線(例えば122 )及び下側DQ線(例
えば1235)と左側DP線(例えば131 )及び右側D
P線(例えば132 )に接続されている。各スイッチ素
子SWEは同一の制御信号により制御される。
【0032】図9にスイッチ素子SWEのさらに詳細な
内部回路を示す。すなわち、NチャネルMOSトランジ
スタQ11、Q21、Q31、Q41及びPチャネルMOSトラ
ンジスタQ12、Q22、Q32、Q42から構成され、それぞ
れ対応するトランジスタ毎に相補的な信号により駆動さ
れる伝送ゲートを構成している。信号SWU1 が“H”
レベルに、信号/SWU1 が“L”レベルになると、D
Q1 とDP1 とが接続され、信号SWU0 が“H”レベ
ルに、信号/SWU0 が“L”レベルになると、DQ1
とDP2 とが接続される。また、信号SWD1 が“H”
レベルに、信号/SWD1 が“L”レベルになると、D
Q2 とDP1 とが接続され、信号SWD0 が“H”レベ
ルに、信号/SWD0 が“L”レベルになると、DQ2
とDP2とが接続される。このように、スイッチ回路に
用いるトランジスタの個数はそれほど多くなく、ロウデ
コード回路6間もしくはその周辺部に容易に配置するこ
とが可能となる。なお、各制御信号はブロック制御回路
20より供給される。
【0033】図10にDQバッファ14の内部回路の詳
細を示す。DQバッファ14は読み出し部14O と書き
込み部14I とから構成され、読み出し部14O は、信
号φE により制御されるイコライズ回路141、信号φ
AMにより制御されるセンス部142、信号φOEにより制
御される出力駆動部143から構成される。また、書き
込み部14I は信号φE により制御されるイコライズ回
路141及び信号φIEにより制御されるデータ取り込み
部145から構成される。この様に、センス感度の高い
バッファを配置するためには、図10のように多段の回
路が必要となり、本実施例のデータバス構成を用いる
と、このDQバッファをDQ線の「出口」以外のところ
に配置することが可能となる。この結果、高速かつ高感
度のバッファを配したDRAMを提供することが可能と
なる。
【0034】以上説明したように、本発明を用いると、
バッファ回路の個数とメモリセルアレイの個数とを等し
くし、面積の縮小化をはかりつつ、容易に制御が可能な
半導体記憶装置を提供することができる。なお、本発明
は上述の実施例に限定されること無く、発明の主旨を逸
脱しない限り種々の変形が可能であることは言うまでも
ない。
【0035】
【発明の効果】本発明を用いることにより、バッファ回
路の個数とメモリセルアレイの個数とを等しくし、面積
の縮小化をはかりつつ、容易に制御が可能な半導体記憶
装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の主要部を示した回路構成図である。
【図2】図1に示した回路の動作を示した図である。
【図3】図1に示した回路の動作を示した図である。
【図4】本発明の実施例を示した平面図である。
【図5】図4の要部を詳細に示した回路図構成である。
【図6】図5の要部をさらに詳細に示した回路図構成で
ある。
【図7】図6の要部をさらに詳細に示した回路図であ
る。
【図8】図6の別の要部をさらに詳細にしめした回路構
成図である。
【図9】図8の要部をさらに詳細に示した回路図であ
る。
【図10】図6のさらに別の要部をさらに詳細に示した
回路図である。
【図11】従来の半導体記憶装置のデータバスの構成及
びその接続関係を示した回路構成図である。
【符号の説明】
11 メモリセルアレイ 12 DQ線 13 DP線 15 RWD線 16 ロウデコード回路 17 スイッチ回路 18 ワード線駆動信号供給回路 19 リダンダンシフューズ回路 20 ブロック制御回路 21 アドレスバス及び制御信号バス

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 列方向に沿在した第1、第2及び第3の
    データバスと、 前記第1及び第2のデータバス間に配置され、前記第1
    及び第2のデータバスにデータが読み出される複数のメ
    モリセルを有する第1のメモリセルアレイと、 前記第2及び第3のデータバス間に配置され、前記第2
    及び第3のデータバスにデータが読み出される複数のメ
    モリセルを有する第2のメモリセルアレイと、 前記第1のメモリセルアレイの一端に行方向に沿在した
    第4のデータバスと、 前記第2のメモリセルアレイの一端に行方向に沿在した
    第5のデータバスと、 前記第1のデータバスと前記第4のデータバスとを選択
    的に接続する第1のスイッチ回路と、 前記第2のデータバスと前記第4のデータバス及び前記
    第5のデータバスとをそれぞれ選択的に接続する第2の
    スイッチ回路と、 前記第3のデータバスと前記第5のデータバスとを選択
    的に接続する第3のスイッチ回路と、 前記第4のデータバスに接続された第1のバッファ回路
    と、 前記第5のデータバスに接続された第2のバッファ回路
    と、 前記第1及び第2のバッファ回路に共通に接続された第
    6のデータバスと、 前記第1のメモリセルアレイを選択する際には前記第1
    のスイッチ回路を前記第1のデータバスと前記第4のデ
    ータバスとを接続するように制御すると同時に前記第2
    のスイッチ回路を前記第2のデータバスと前記第5のデ
    ータバスとを接続するように制御し、前記第2のメモリ
    セルアレイを選択する際には前記第2のスイッチ回路を
    前記第2のデータバスと前記第4のデータバスとを接続
    するように制御すると同時に前記第3のスイッチ回路を
    前記第3のデータバスと前記第5のデータバスとを接続
    するように制御する制御回路とを具備することを特徴と
    する半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
    て、前記第1のメモリセルアレイは行方向に沿在し両端
    がそれぞれ第1のセンスアンプ回路群及び第2のセンス
    アンプ回路群に接続された第1のビット線群を含み、前
    記第2のメモリセルアレイは行方向に沿在し両端がそれ
    ぞれ前記第2のセンスアンプ回路群及び第3のセンスア
    ンプ回路群に接続された第2のビット線群を含み、前記
    第1及び第2のビット線はそれぞれ第1及び第2の転送
    ゲートを介して前記第2のセンスアンプ回路群に接続さ
    れ、前記第1のセンスアンプ回路群は前記第1のデータ
    バスに選択的に接続され、前記第2のセンスアンプ回路
    群は前記第2のデータバスに選択的に接続され、前記第
    3のセンスアンプ回路群は前記第3のデータバスに選択
    的に接続されることを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
    て、さらに、 列方向に沿在した第7、第8及び第9のデータバスと、 前記第7及び第8のデータバス間に配置され、前記第7
    及び第8のデータバスにデータが読み出される複数のメ
    モリセルを有する第3のメモリセルアレイと、 前記第8及び第9のデータバス間に配置され、前記第8
    及び第9のデータバスにデータが読み出される複数のメ
    モリセルを有する第4のメモリセルアレイとを具備し、 前記第1のスイッチ回路は前記第7のデータバスと前記
    第4のデータバスとを選択的に接続し、前記第2のスイ
    ッチ回路は前記第8のデータバスと前記第4及び前記第
    5のデータバスとを選択的に接続し、前記第3のスイッ
    チ回路は前記第9のデータバスと前記第5のデータバス
    とを選択的に接続し、 前記制御回路は前記第3のメモリセルアレイを選択する
    際には前記第1のスイッチ回路を前記第7のデータバス
    と前記第4のデータバスとを接続するように制御すると
    同時に前記第2のスイッチ回路を前記第8のデータバス
    と前記第5のデータバスとを接続するように制御し、前
    記第4のメモリセルアレイを選択する際には前記第2の
    スイッチ回路を前記第8のデータバスと前記第4のデー
    タバスとを接続するように制御すると同時に前記第3の
    スイッチ回路を前記第9のデータバスと前記第5のデー
    タバスとを接続するように制御する制御回路とを具備す
    ることを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体記憶装置におい
    て、 前記第1のメモリセルアレイは行方向に沿在し両端がそ
    れぞれ第1のセンスアンプ回路群及び第2のセンスアン
    プ回路群に接続された第1のビット線群を含み、前記第
    2のメモリセルアレイは行方向に沿在し両端がそれぞれ
    前記第2のセンスアンプ回路群及び第3のセンスアンプ
    回路群に接続された第2のビット線群を含み、前記第1
    及び第2のビット線はそれぞれ第1及び第2の転送ゲー
    トを介して前記第2のセンスアンプ回路群に接続され、
    前記第1のセンスアンプ回路群は前記第1のデータバス
    に選択的に接続され、前記第2のセンスアンプ回路群は
    前記第2のデータバスに選択的に接続され、前記第3の
    センスアンプ回路群は前記第3のデータバスに選択的に
    接続され、 前記第3のメモリセルアレイは行方向に沿在し両端がそ
    れぞれ第4のセンスアンプ回路群及び第5のセンスアン
    プ回路群に接続された第3のビット線群を含み、前記第
    4のメモリセルアレイは行方向に沿在し両端がそれぞれ
    前記第5のセンスアンプ回路群及び第6のセンスアンプ
    回路群に接続された第4のビット線群を含み、前記第3
    及び第4のビット線はそれぞれ第3及び第4の転送ゲー
    トを介して前記第5のセンスアンプ回路群に接続され、
    前記第4のセンスアンプ回路群は前記第7のデータバス
    に選択的に接続され、前記第5のセンスアンプ回路群は
    前記第8のデータバスに選択的に接続され、前記第6の
    センスアンプ回路群は前記第9のデータバスに選択的に
    接続されたことを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 請求項2記載の半導体記憶装置におい
    て、さらに、 前記第1のメモリセルアレイの行選択を行い、前記第1
    のメモリセルアレイと前記第1のバッファ回路との間に
    挟まれて配置された第1のロウデコード回路と、 前記第2のメモリセルアレイの行選択を行い、前記第2
    のメモリセルアレイと前記第2のバッファ回路との間に
    挟まれて位置された第2のロウデコード回路と、 を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 請求項4記載の半導体記憶装置におい
    て、さらに、 前記第3のメモリセルアレイの行選択を行い、前記第3
    のメモリセルアレイと前記第1のバッファ回路との間に
    挟まれて配置された第3のロウデコード回路と、 前記第4のメモリセルアレイの行選択を行い、前記第4
    のメモリセルアレイと前記第2のバッファ回路との間に
    挟まれて位置された第4のロウデコード回路と、 を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
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