JP3264843B2 - マスタリング製造方法と製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の高
密度記録原盤を作るマスタリング工程において、ディス
ク基板の洗浄から導電化処理までの一連の作業を自動的
に行うマスタリング製造方法と製造装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク等の高密度記録原盤を作る工
程は、一般にマスタリング工程と呼ばれており、ディス
ク基板の洗浄・レジスト塗布・ベーキング・レーザによ
る信号などの記録・現像・メッキ・スパッタ等の導電化
処理工程が含まれている。

【０００３】マスタリング製造中に記録原盤の表面上に
空気中のごみやほこり等が付着すると、それが最終ディ
スクの状態で信号のドロップアウトやエラーの原因とな
り、ディスクの性能を著しく低下させる。

【０００４】そのため、高密度記録原盤を作る工程はク
リーン度の高いクリーンルーム内で作業が行われてお
り、また、生産性の向上のためにロボットにより自動化
されている。

【０００５】従来の自動化されたマスタリング製造装置
は、図４に示すように構成されている。１はマガジン供
給部、２は洗浄装置、３はレジスト塗布装置、４ａはプ
リベーク用のベーキング装置、４ｂはポストベーク用の
ベーキング装置、５はレーザーカッティング装置、６は
現像導電化処理装置、７は完成品収納部、８ａ，８ｂは
１軸制御のディスク基板搬送ロボットである。

【０００６】上記の各処理部は記録原盤の作製の順序に
従って横並び状に配置されており、この各処理部の上部
には図４に仮想線で示すように、ディスク基板搬送ロボ
ット８ａ，８ｂの搬送方向と平行な搬送経路部材９が形
成されている。この搬送経路部材９にはディスク基板搬
送ロボット８ａ，８ｂによって各処理部の前部に到着し
たディスク基板を掴んで搬入し、処理の終わったディス
ク基板を掴んでディスク基板搬送ロボット８ａ，８ｂの
上に搬出する搬入搬出装置１０が取り付けられている。

【０００７】作業者によりマガジン供給部１にディスク
基板が供給され、ディスク基板搬送ロボット８ａによっ
てマガジン供給部１から取り出されて洗浄装置２の前部
に搬送されたディスク基板は、搬送経路部材９を移動自
在で図５に示すように洗浄装置２の上部で待機中の搬入
搬出装置１０によって把持されて洗浄装置２に搬入され
る。

【０００８】具体的には、洗浄装置２はディスク基板１
１を吸着して回転させるターンテーブルユニット１２
と、矢印Ａ方向に出退自在の洗浄液供給ノズル１３と、
チャンバー１４とで構成されている。

【０００９】搬入搬出装置１０は、搬送経路部材９に沿
って移動自在の第１の可動部材１５と、第１の可動部材
１５に取り付けられてディスク基板搬送ロボット８ａ，
８ｂに対して接近離間方向〔矢印Ｂ方向〕と矢印Ｃ方向
に昇降駆動される第２の可動部材１６と、第２の可動部
材１６に取り付けられた保持部材１７と、保持部材１７
の両端に設けた保持治具１８とで構成されている。

【００１０】ディスク基板搬送ロボット８ａによって洗
浄装置２の前部に到着したディスク基板１１は、保持治
具１８がディスク基板１１の外縁部を把持してディスク
基板搬送ロボット８ａから持ち上げられて、ターンテー
ブルユニット１２にセットされる。洗浄処理の完了した
ディスク基板１１は搬入時と逆の手順でディスク基板搬
送ロボット８ａの上に戻される。

【００１１】その他の各処理部でも洗浄装置２の場合と
同様に、搬入搬出装置１０がディスク基板搬送ロボット
８ａ，８ｂからのディスク基板１１の搬入と搬出を行っ
ている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の構成
では、ディスク基板１１の供給・取り出し・搬送の各動
作は、全て各処理部の上部において搬入搬出装置１０を
介して実施されているため、ディスク基板１１の上面に
ごみやほこりが付着する要因となり、ディスク基板１１
の上面に形成される記録原盤の品質が低下すると云う問
題を有している。

【００１３】また、搬入搬出装置１０が各処理部の上部
で移動するため、各処理部が邪魔になって、作業者によ
る第１，第２の可動部材１５，１６、保持部材１７、保
持治具１８のメンテナンス作業が困難である。

【００１４】さらに、搬入搬出装置１０とは別に複数個
のディスク基板搬送ロボット８ａ，８ｂを有することに
なり、大型化する。また、作業者がディスク基板の供給
・取り出し作業を行うマガジン供給部１と完成品収納部
７とが離れた位置となるため、作業性および生産性が悪
いと云う問題を有している。

【００１５】本発明は構成を従来よりもコンパクトにす
ることができ、処理中のディスク基板の表面にごみやほ
こり等が付着しない様にしてディスク基板の品質を確保
することができるマスタリング製造方法と製造装置を提
供することを目的とする。

【００１６】また、各処理部の部品の劣化や錆の発生を
防いで長期間にわたって高品質の高密度記録原盤を製造
できるマスタリング製造製造装置を提供することを目的
とする。

【００１７】また、生産性の向上と作業者によるディス
ク基板の供給・取り出し作業の容易性を実現できるマス
タリング製造装置を提供することを目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明のマスタリング製
造装置は、各処理部の側方に何れの処理部に対してもデ
ィスク基板の下面を吸着保持してディスク基板を搬入搬
出できる単一の搬送ロボットを設けたことを特徴とす
る。

【００１９】また、本発明のマスタリング製造方法は、
単一の搬送ロボットによって前記の各処理部に対してデ
ィスク基板の下面を保持しながら搬入搬出するととも
に、レジスト形成後のディスク基板のプリベークと現像
後のポストベークとは前記の搬送ロボットによって同一
のベーキング処理部に搬入してディスク基板のプリベー
クとポストベークを実施することを特徴とする。

【００２０】この本発明によると、マスタリング製造装
置のコンパクト化と、処理中のディスク基板の品質を確
保と、生産性の向上と作業者による作業の容易性などを
実現でき、各処理部の部品の劣化や錆の発生を防いで長
期間にわたって高品質の高密度記録原盤を製造できる。

【００２１】

【発明の実施の形態】請求項１に記載のマスタリング製
造装置は、ディスク基板を洗浄し、レジストをディスク
基板の表面に形成し、形成されたレジスト層に記録し、
現像し、導電化処理する各処理部を設け、前記各処理部
の側方に何れの処理部に対してもディスク基板の下面を
吸着保持してディスク基板を搬入搬出できる単一の搬送
ロボットを設けたことを特徴とする。

【００２２】この構成によると、ディスク基板搬送ロボ
ットの共用化が可能となり、構成ががシンプルかつコン
パクトになる。また、搬送ロボットを各処理部の側方に
配設したため、メンテナンス性が良く、各処理部の上部
で移動する搬送装置を設置しなくても済み、高品質な原
盤の作製が可能である。

【００２３】請求項２に記載のマスタリング製造装置
は、ディスク基板を洗浄し、レジストをディスク基板の
表面に形成し、形成されたレジスト層に記録し、現像
し、導電化処理する各処理部を設け、前記の各処理部の
側方に何れの処理部に対してもディスク基板の下面を吸
着保持してディスク基板を搬入搬出できる単一の搬送ロ
ボットを設け、前記の処理部のうちの必要な処理部の上
部に清浄空気を発生する清浄空気発生部を設けたことを
特徴とする。

【００２４】この構成によると、ディスク基板搬送ロボ
ットの共用化が可能となり、そのため製造システムがシ
ンプルかつコンパクトになり、生産性が向上するととも
に、必要な処理部ではディスク基板の上面にいつも清浄
空気が流れており、そのためディスク基板の上面に高品
質かつ高密度な記録原盤を形成することができる。

【００２５】請求項３に記載のマスタリング製造装置
は、請求項１、請求項２において、各処理部を横並び状
に配設し、搬送ロボットを横並び状に配設した各処理部
の前部または後部に平行直線状に配置したことを特徴と
する。

【００２６】請求項４記載のマスタリング製造装置によ
ると、請求項１、請求項２において、マスタリングによ
る高密度記録原盤の作製順序に無関係に各処理部を横並
び状に配設し、搬送ロボットを横並び状に配設した各処
理部の前部または後部に平行直線状に配置したことを特
徴とする。

【００２７】請求項５記載のマスタリング製造装置によ
ると、請求項１、請求項２において、搬送ロボットを、
各処理部の間を移動する搬送部材と、基端部が前記の搬
送部材の端部に取り付けられてこの基端部を中心に回動
自在のアームとで構成し、アームの先端に設けた気体吸
着穴から気体を吸い込んでディスク基板を吸着してディ
スク基板を水平状に保持しながら各処理部へ供給・取り
出し・搬送するよう構成したことを特徴とする。

【００２８】請求項６記載のマスタリング製造方法によ
ると、ディスク基板を洗浄し、レジストをディスク基板
の表面に形成し、形成されたレジスト層に記録し、現像
し、導電化処理する各処理部を経て高密度記録原盤を作
成するに際し、単一の搬送ロボットによって前記の各処
理部に対してディスク基板の下面を保持しながら搬入搬
出するとともに、レジスト形成後のディスク基板のプリ
ベークと現像後のポストベークとは前記の搬送ロボット
によって同一のベーキング処理部に搬入してディスク基
板のプリベークとポストベークを実施することを特徴と
する。

【００２９】この構成によると、搬送ロボットによって
同一のベーキング処理部に搬入してディスク基板のプリ
ベークとポストベークを実施するので、ベーキング処理
部を単一にできる。

【００３０】請求項７記載のマスタリング製造装置によ
ると、請求項１、請求項２において、マスタリングによ
る高密度記録原盤の作製順序に無関係に薬品や水を使用
する処理部と光学部品や精密機構を有する処理部とを分
離して横並び状に配設し、搬送ロボットを横並び状に配
設した各処理部の前部または後部に平行直線状に配置し
たことを特徴とする。

【００３１】この構成によると、部品の薬液雰囲気によ
る酸化などの劣化または湿気による錆を防ぐことがで
き、長期間にわたって高品質の高密度記録原盤を製造で
きる。請求項８記載のマスタリング製造装置は、請求項
１、請求項２において、マスタリングによる高密度記録
原盤の作製順序に無関係に薬品や水を使用する処理部と
光学部品や精密機構を有する処理部とを分離し、かつデ
ィスク基板の収納されたマガジン供給部と完成品収納部
とを近接して横並び状に配設し、搬送ロボットを横並び
状に配設した各処理部の前部または後部に平行直線状に
配置したことを特徴とする。

【００３２】この構成によると、マガジン供給部と完成
品収納部が離れていないため、作業者によるディスク基
板の供給・取り出し作業が容易となり作業性、生産性の
向上を実現できる。

【００３３】以下、本発明のマスタリング製造方法と製
造装置を図１〜図３に示す具体的な実施の形態に基づい
て説明する。なお、従来例を示す図４，図５と同様の作
用をなすものには同一の符号を付けて説明する。

【００３４】（実施の形態）図１と図２に示すように、
カバー１９の内部には、ディスク基板を洗浄し、レジス
トをディスク基板の表面に形成し、形成されたレジスト
層に記録し、現像し、導電化処理すると云う高密度記録
原盤の作成順序とは無関係に、ここでは薬品や水を使用
する処理部と光学部品や精密機構を有する処理部とに分
離して横並び状に配設されている。

【００３５】具体的には、複数個のディスク基板を収納
するマガジン供給部１と、完成したディスク基板を複数
個収納する完成品収納部７と、ディスク基板を洗浄する
洗浄装置２と、導電化処理する現像導電化処理装置６
と、ディスク基板を加熱するベーキング装置４と、ディ
スク基板の表面にレジストを塗布するレジスト塗布装置
３と、レジスト塗布されたディスク基板に信号を記録す
るためのレーザーカッティング装置５とが順に横並び状
に平面配置されている。

【００３６】上記のように配置された各処理部の側方に
は、単一のディスク基板搬送ロボット２０が配置されて
いる。このディスク基板搬送ロボット２０は図１と図３
に示すように構成されている。

【００３７】複数軸制御型のこのディスク基板搬送ロボ
ット２０は、各処理部が配設されている位置に平行に配
設された搬送経路部材２１と、搬送経路部材２１に沿っ
て移動可能な搬送部材２２と、基端部が搬送部材２２の
端部に取り付けられてこの基端部を中心に回動自在のア
ーム２３とで構成し、アーム２３の先端に設けた薄板状
のヘッド部分に形成された気体吸着穴２４から気体を吸
い込んでディスク基板１１を吸着し、ディスク基板１１
を水平状に保持しながら適当な位置で昇降してディスク
基板１１を各処理部へ供給し、取り出し、前記の作成順
序の次の処理部へ搬送するように構成されている。

【００３８】制御装置２５は高密度記録原盤の作成順序
にしたがってディスク基板搬送ロボット２０を下記のよ
うに運転する。 ディスク基板搬送ロボット２０が作動し、マガジン
供給部１からディスク基板１１を１個取り出し、洗浄装
置２へ供給する。

【００３９】 洗浄装置５においてディスク基板１１
は、ターンテーブルユニット１２に載置され、図示して
いない洗浄供給ノズルから洗浄液を供給されながら表面
を清浄な状態に洗浄される。洗浄装置２での処理が終了
すると、ディスク基板搬送ロボット２０が洗浄装置２か
らディスク基板１１を取り出してレジスト塗布装置３に
搬入する。

【００４０】 レジスト塗布装置３において、ディス
ク基板１１の表面には図示されていないノズルからレジ
ストが均一に塗布される。レジスト塗布装置３での処理
が終了すると、ディスク基板搬送ロボット２０がレジス
ト塗布装置３からディスク基板１１を取り出してベーキ
ング装置４に搬入する。

【００４１】 ベーキング装置４では制御装置２５で
設定された温度にディスク基板１１がプリベークされ、
ディスク基板１１の上面にむらなく均一なレジスト膜
（レジスト層）が形成される。ベーキング装置４での処
理が終了すると、ディスク基板搬送ロボット２０がベー
キング装置４からディスク基板１１を取り出してレーザ
ーカッティング装置５に搬入する。

【００４２】 レーザーカッティング装置５では、制
御装置３の指令で設定された信号をディスク基板１１の
レジスト膜（レジスト層）に高密度に記録する。レーザ
ーカッティング装置５での処理が終了すると、ディスク
基板搬送ロボット２０がレーザーカッティング装置５か
らディスク基板１１を取り出して現像導電化処理装置６
に搬入する。

【００４３】 現像導電化処理装置６においては、信
号を記録されたディスク基板１１の上面の現像と、無電
解メッキによる導電化処理を行う。現像導電化処理装置
６での処理が終了すると、ディスク基板搬送ロボット２
０が現像導電化処理装置６からディスク基板１１を取り
出してベーキング装置４に搬入する。

【００４４】 ベーキング装置４では制御装置２５で
設定された温度にディスク基板１１がポストベークされ
る。ポストベークを終了するとディスク基板搬送ロボッ
ト２０がベーキング装置４からディスク基板１１を取り
出して完成品収納部７に搬入する。完成品収納部７は複
数個の導電化処理されたディスク基板１１を、図示して
いない一個づつの専用カートリッジに収納することがで
きる。

【００４５】このように従来では２台のディスク基板搬
送ロボット８ａ，８ｂと搬入搬出装置１０とが必要であ
ったものが、単一のディスク基板搬送ロボット２０だけ
で各処理部へのディスク基板１１の搬入搬出を実施でき
るので、従来に比べて装置をコンパクトにできる。

【００４６】しかも、単一のディスク基板搬送ロボット
２０で済むとともに、ディスク基板搬送ロボット２０は
各処理部の側方に配置されているため、メンテナンス性
が良く、従来のように各処理部の上方位置を移動してデ
ィスク基板１１を搬入搬出する搬入搬出装置１０が設け
られていないため、このような搬入搬出装置１０から発
生するごみやほこりが要因でディスク基板１１に異物が
付着することがなくなり、記録原盤の品質の向上を期待
できる。

【００４７】さらに、この実施の形態では図１に示すよ
うに各処理部の上方位置に、清浄空気発生部２６を設
け、カバー１９の内部に清浄空気を供給するように構成
したので、各処理部は清浄空気の環境下でそれぞれの処
理を実行するため、記録原盤の品質の向上を期待でき
る。各処理部では吸い込んだ清浄空気はカバー１９の内
部に再放出するようなことはせずにカバー１９の外部に
排気するように構成されている。

【００４８】また、各処理部の配列順序を高密度記録原
盤の作製順序によらずに、薬品や水を使用する処理部で
ある洗浄装置２，現像導電化処理装置６，レジスト塗布
装置３から、光学部品や精密機構を有する処理部として
のレーザーカッティング装置５を離して横並び状に配設
したため、部品の薬液雰囲気による酸化などの劣化また
は湿気による錆を防ぐことができ、長期間にわたって高
品質の高密度記録原盤を製造できる。

【００４９】さらに、ディスク基板搬送ロボット２０は
ディスク基板１１を吸着保持しているので、ディスク基
板１１の端面に、ディスク基板を保持するための保持治
具などが接することがないため、ディスク基板１１の端
面に付着したレジストがベーキング後に固まって固形物
になり、それが保持治具に接触して欠け落ち、ディスク
基板１１の上面に再付着し、ディフェクトになるような
事態を回避することもできるという優れた効果がある。

【００５０】上記の実施の形態では、ディスク基板搬送
ロボット２０を各処理部の搬入搬出が実施される側の前
部に平行直線状に配置したが、各処理部の後部に平行直
線状に配置してもよい。

【００５１】上記の実施の形態では、各処理部を平面に
配置したが、各処理部を上下方向に配置して構成するこ
ともできる。

【００５２】

【発明の効果】以上のように本発明のマスタリング製造
装置は、ディスク基板を洗浄し、レジストをディスク基
板の表面に形成し、形成されたレジスト層に記録し、現
像し、導電化処理する各処理部を設け、前記各処理部の
側方に何れの処理部に対してもディスク基板を搬入搬出
できる単一の搬送ロボットを設けたため、ディスク基板
搬送ロボットの共用化が可能となり、構成ががシンプル
かつコンパクトになる。また、搬送ロボットを各処理部
の側方に配設したため、メンテナンス性が良く、各処理
部の上部で移動する搬送装置を設置しなくても済み、高
品質な原盤の作製が可能である。

【００５３】また、前記の処理部のうちの必要な処理部
の上部に清浄空気を発生する清浄空気発生部を設けた場
合には、必要な処理部ではディスク基板の上面にいつも
清浄空気が流れており、そのためディスク基板の上面に
高品質かつ高密度な記録原盤を形成することができる。

【００５４】具体的には、各処理部を横並び状に配設
し、搬送ロボットを横並び状に配設した各処理部の前部
または後部に平行直線状に配置することによって実現で
きる。また、各処理部を高密度記録原盤の作製順序に無
関係に横並び状に配設し、搬送ロボットを横並び状に配
設した各処理部の前部または後部に平行直線状に配置す
ることによっても実現できる。

【００５５】また、搬送ロボットを、各処理部の間を移
動する搬送部材と、基端部が前記の搬送部材の端部に取
り付けられてこの基端部を中心に回動自在のアームとで
構成し、アームの先端に設けた気体吸着穴から気体を吸
い込んでディスク基板を吸着してディスク基板を水平状
に保持しながら各処理部へ供給・取り出し・搬送するよ
う構成した場合には、搬送ロボットはディスク基板を吸
着保持しているので、ディスク基板の端面に、ディスク
基板を保持するための保持治具などが接することがない
ため、ディスク基板の端面に付着したレジストがベーキ
ング後に固まって固形物になり、それが保持治具に接触
して欠け落ち、ディスク基板の上面に再付着し、ディフ
ェクトになるような事態を回避することもできるという
優れた効果がある。

【００５６】また、各処理部を高密度記録原盤の作製順
序によらずに、薬品や水を使用する処理部と光学部品や
精密機構を有する処理部とに分離して横並び状に配設
し、搬送ロボットを横並び状に配設した各処理部の前部
または後部に平行直線状に配置したため、部品の薬液雰
囲気による酸化などの劣化または湿気による錆を防ぐこ
とができ、長期間にわたって高品質の高密度記録原盤を
製造できる。

【００５７】また、各処理部を高密度記録原盤の作製順
序によらずに、薬品や水を使用する処理部と光学部品や
精密機構を有する処理部とに分離し、かつガラス基板の
収納されたマガジン供給部と完成品収納部とを近接して
横並び状に配設し、搬送ロボットを横並び状に配設した
各処理部の前部または後部に平行直線状に配置したた
め、作業者によるディスク基板の供給・取り出し作業が
容易となり作業性、生産性の向上に寄与することができ
る。

【００５８】本発明のマスタリング製造方法によると、
ディスク基板を洗浄し、レジストをディスク基板の表面
に形成し、形成されたレジスト層に記録し、現像し、導
電化処理する各処理部を経て高密度記録原盤を作成する
に際し、単一の搬送ロボットによって前記の各処理部に
対してディスク基板を搬入搬出するとともに、レジスト
塗布後のディスク基板のプリベークと現像後のポストベ
ークレジスト塗布後と現像後には前記の搬送ロボットに
よって同一のベーキング処理部に搬入してディスク基板
のプリベークとポストベークを実施するので、搬送ロボ
ットによって同一のベーキング処理部に搬入してディス
ク基板のプリベークとポストベークを実施するので、ベ
ーキング処理部を単一にできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態のマスタリング製造装置の
透視斜視図

【図２】同実施の形態の全体構成を示す平面図

【図３】同実施の形態の洗浄装置とディスク基板搬送ロ
ボットの側面断面図

【図４】従来のマスタリング製造装置の全体構成を示す
平面図

【図５】同従来例の要部の側面断面図

【符号の説明】

１ マガジン供給部 ２ 洗浄装置 ３ レジスト塗布装置 ４ ベーキング装置 ５ レーザーカッティング装置 ６ 現像導電化処理装置 ７ 完成品収納部 １１ ディスク基板 １９ カバー ２０ ディスク基板搬送ロボット ２１ 搬送経路部材 ２２ 搬送部材 ２３ アーム ２４ 気体吸着穴 ２５ 制御装置 ２６ 清浄空気発生部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−195764（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−221444（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−178747（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 7/26 G11B 7/24

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ディスク基板を洗浄し、レジストをディス
   ク基板の表面に形成し、形成されたレジスト層に記録
   し、現像し、導電化処理する各処理部を設け、 前記各処理部の側方に何れの処理部に対してもディスク
   基板の下面を吸着保持してディスク基板を搬入搬出でき
   る単一の搬送ロボットを設けたマスタリング製造装置。
2. 【請求項２】ディスク基板を洗浄し、レジストをディス
   ク基板の表面に形成し、形成されたレジスト層に記録
   し、現像し、導電化処理する各処理部を設け、 前記の各処理部の側方に何れの処理部に対してもディス
   ク基板の下面を吸着保持してディスク基板を搬入搬出で
   きる単一の搬送ロボットを設け、 前記の処理部のうちの必要な処理部の上部に清浄空気を
   発生する清浄空気発生部を設けたマスタリング製造装
   置。
3. 【請求項３】各処理部を横並び状に配設し、搬送ロボッ
   トを横並び状に配設した各処理部の前部または後部に平
   行直線状に配置した請求項１または請求項２記載のマス
   タリング製造装置。
4. 【請求項４】マスタリングによる高密度記録原盤の作製
   順序に無関係に各処理部を横並び状に配設し、搬送ロボ
   ットを横並び状に配設した各処理部の前部または後部に
   平行直線状に配置した請求項１または請求項２記載のマ
   スタリング製造装置。
5. 【請求項５】搬送ロボットを、各処理部の間を移動する
   搬送部材と、基端部が前記の搬送部材の端部に取り付け
   られてこの基端部を中心に回動自在のアームとで構成
   し、 アームの先端に設けた気体吸着穴から気体を吸い込んで
   ディスク基板を吸着してディスク基板を水平状に保持し
   ながら各処理部へ供給・取り出し・搬送するよう構成し
   た請求項１または請求項２記載のマスタリング製造装
   置。
6. 【請求項６】ディスク基板を洗浄し、レジストをディス
   ク基板の表面に形成し、形成されたレジスト層に記録
   し、現像し、導電化処理する各処理部を経て高密度記録
   原盤を作成するに際し、単一の搬送ロボットによって前
   記の各処理部に対してディスク基板の下面を保持しなが
   ら搬入搬出するとともに、レジスト形成後のディスク基
   板のプリベークと現像後のポストベークとは前記の搬送
   ロボットによって同一のベーキング処理部に搬入してデ
   ィスク基板のプリベークとポストベークを実施するマス
   タリング製造方法。
7. 【請求項７】マスタリングによる高密度記録原盤の作製
   順序に無関係に薬品や水を使用する処理部と光学部品や
   精密機構を有する処理部とを分離して横並び状に配設
   し、搬送ロボットを横並び状に配設した各処理部の前部
   または後部に平行直線状に配置した請求項１または請求
   項２記載のマスタリング製造装置。
8. 【請求項８】マスタリングによる高密度記録原盤の作製
   順序に無関係に薬品や水を使用する処理部と光学部品や
   精密機構を有する処理部とを分離し、かつディスク基板
   の収納されたマガジン供給部と完成品収納部とを近接し
   て横並び状に配設し、搬送ロボットを横並び状に配設し
   た各処理部の前部または後部に平行直線状に配置した請
   求項１または請求項２記載のマスタリング製造装置。