JP3263401B2 - 結晶化によりアジピン酸を精製する方法 - Google Patents

結晶化によりアジピン酸を精製する方法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも1種のカルボン酸から結晶化又
は再結晶することによりアジピン酸を精製する方法に関
する。
アジピン酸は、ポリアミド6−6を製造するための二
つの基礎材料である。ポリアミド6−6に対する用途の
ためには、それは非常に高い純度を有する必要があり、
この純度は先駆物質の段階で、特にアジピン酸の段階で
既に存在しなければならない。
アジピン酸が含有する純度は、これを製造する方法に
応じて、明らかに相違する。本発明の方法は、各種の合
成方法に由来するアジピン酸に適用することができる。
事実、最もやっかいで且つ時には最も経費のかかる不純
物の一つは、アジピン酸の製造中に使用される触媒の微
量の存在によって形成される。
しかしながら、以下の説明においては、本発明の方法
は、特に、ブタジエンの二段階ヒドロキシカルボニル化
から得られるアジピン酸に適用される。
ブタジエンの第一ヒドロキシカルボニル化はペンテン
酸類の混合物、主として3−ペンテン酸をもたらす。第
二ヒドロキシカルボニル化は、第一反応で得られたペン
テン酸に影響し、ある種の量の2−メチルグルタル酸、
2−エチルこはく酸及び第一ヒドロキシカルボニル化反
応に由来するその他の化合物、例えばγ−バレロラクト
ン、未転化のペンテン酸及びメチルブテン酸も含有する
アジピン酸をもたらす。また、それは、第二ヒドロキシ
カルボニル化反応で使用された微量の触媒、通常イリジ
ウム及び(又は)ロジウムも含有する。
シクロヘキサのアジピン酸への直接酸化は、一般に、
コバルト触媒の存在下に実施されので、この方法では得
られるアジピン酸は微量のコバルト触媒を含有する。
アジピン酸は、低温では水への溶解度は低いが、高温
では一層溶解性であるので、アジピン酸の結晶化にはこ
の溶媒が一般に使用される。
しかしながら、特に、微量の金属に関する限りでは、
アジピン酸に対してますます要求されている純度が非常
に高いために、水からの一回又は何回もの再結晶はしば
しば不適切であることがわかる。
アジピン酸の各種の用途に対して微量金属の存在に起
因しうる欠点に加えて、ある種の触媒、例えばイリジウ
ム又はロジウムの本質的な価値は、アジピン酸のトン数
が非常に大きいことを念頭におけば、経済的に実施可能
な工業的方法との関係でそれらを可能な限り完全に回収
することが必須であることを意味する。
本発明は、アジピン酸を結晶化又は再結晶するにあた
り、該結晶化又は再結晶を20℃以下の融点を有する少な
くとも1種のカルボン酸中で実施することを特徴とす
る、アジピン酸の改良結晶化又は再結晶方法である。
本発明の方法で使用されるカルボン酸は、詳しくいえ
ば、飽和であるか又はエチレン性不飽和を含有する脂肪
族カルボン酸である。
それらは、好ましくは、2〜6個の炭素原子を含有す
る線状又は分岐状のモノカルボン酸である。
このようなモノカルボン酸の例としては、酢酸、プロ
ピオン酸、ブタン酸類、ペンタン酸類、ヘキサン酸類、
ペンテン酸類などであるが、これらに限定されない。
酢酸及びペンテン酸が好ましく、酢酸はその入手可能
性のため及びシクロヘキサンからのアジピン酸の合成に
これを使用するためであり、またペンテン酸類はそれが
ブタジエンからのアジピン酸の製造における中間体であ
るためである。
この方法で再結晶されるアジピン酸の純度は、再結晶
を一酸化炭素の存在下に実施したときはさらに改善され
得る。
一酸化炭素は、結晶化又は再結晶反応器における溶液
上の雰囲気(即ち、反応器ヘッドスペース)の少なくと
も一部分を構成することができ、或いは該反応器内に大
気圧よりも高い圧力を創生させることができる。
従って、実際には、本発明の方法は、0(好ましく
は、少なくとも0.5バール)〜50バールの一酸化炭素の
絶対圧の下で操作され、その上限はその性質上臨界的で
はないが、過度に経費のかからない工業的装置によって
決められる。
本発明の方法に従う再結晶に付される粗製のアジピン
酸は、通常は、ほぼ95%の最低純度をもたらすように、
1回又は2回以上の精製操作を、特に水からの結晶化、
精製或いはまたは蒸留による操作を既に受けたアジピン
酸である。
一般に、本発明の方法により再結晶されるアジピン酸
は、95〜99.95%の純度を有する。
再結晶は、精製しようとするアジピン酸を取り、それ
を最低量の熱い脂肪族カルボン酸に、即ち、通常は80〜
250℃の温度で、要すれば一酸化炭素の少なくとも分圧
下に又は一酸化炭素の雰囲気下に溶解させ、次いで、要
すれば純アジピン酸の結晶を使用して溶液に播種した後
に、溶液を冷却することにより溶解アジピン酸の結晶化
を誘発させることからなる。
一般に、カルボン酸の使用量は、選定された温度でア
ジピン酸の飽和溶液をもたらすようなものである。例示
として、90℃では、3−ペンテン酸中の飽和溶液は重量
/重量でほぼ33%のアジピン酸を含有する。
また、アジピン酸の触媒含有量は、再結晶を強プロト
ン酸の存在下に実施するときに削減することができる。
本明細書において、強プロトン酸とは、1以下のpKa
を有する無機プロトン酸を意味する。
このような強プロトン酸の限定的でない例としては、
沃化水素酸、臭化水素酸、塩酸、硝酸及び硫酸が挙げら
れる。
強プロトン酸の量は、アジピン酸中に存在する触媒金
属の1モル当たり0モル〜100モルの範囲内にあり得
る。好ましくは、強プロトン酸の量は、触媒金属の1モ
ル当たり0モル(好ましくは1モル)〜50モルの範囲内
にあり得る。
本発明の方法は、同様に、アジピン酸が存在する反応
混合物からのアジピン酸の結晶化も包含する。
従って、ペンテン酸を水及び一酸化炭素によりヒドロ
キシカルボニル化することによって得られた混合物から
アジピン酸を結晶化させることが可能である。この反応
混合物は、ヒドロキシカルボニル化のために使用される
一酸化炭素の存在下又は不存在下にカルボン酸と混合す
ることができ、この全混合物は再結晶について上で示し
たように80〜250℃の温度に保持することができる。
また、結晶化は、ヒドロキシカルボニル化反応器で反
応混合物を、好ましくは一酸化炭素の圧力下に冷却する
ことによって実施することができる。この別法は、特
に、ヒドロキシカルボニル化をカルボン酸中で実施する
ときに或いはそれを3−ペンテン酸の転化率が不完全で
ある3−ペンテン酸中で実施するときに使用することが
できる。
ヒドロキシカルボニル化反応は一酸化炭素の存在下に
実施されるので、結晶化のためにこの化合物を添加する
ことは一般に必要ではないが、適当な場合にはこの可能
性は排除されない。
同様に、ヒドロキシカルボニル化反応で使用される促
進剤が沃化水素酸又は臭化水素酸であってよいので、強
プロトン酸を添加する必要がないかもしれない。しかし
ながら、所望ならば、反応混合物中に存在する強プロト
ン酸の量を補給することができる。アジピン酸の再結晶
については、好ましくないが強プロトン酸の不存在下に
操作することも可能である。
本発明に従う再結晶は、触媒金属の含有量をさらに削
減するためにアジピン酸について多数回連続して実施す
ることができる。また、本発明に従う結晶化又は再結晶
に続いて水からの1回以上の再結晶を実施することも可
能である。
下記の実施例は本発明を例示するものである。
例1(参考) 31.2μgのCo(アジピン酸の単位重量当たり0.0006重
量%)を含有する5.2gのアジピン酸及び7.5mlの酢酸を
ガラスバルブに装入する。このアジピン酸は、酢酸Coの
存在下にシクロヘキサンの直接酸化により製造され、水
からの再結晶により精製されたものである。このもの
は、測定可能な有機不純物を何も含有しない。
解放されたバルブを125mlのオートクレーブに入れ、
次いでこれを密閉する。
ヘッドスペースに冷間で窒素を充填する(ほぼ1バー
ル)。
温度を185℃に上昇させ、このレベルにほぼ30分間保
持する。
オートクレーブを冷却し、窒素でパージした後、アジ
ピン酸をろ過により取り出し、オートクレーブを数mlの
酢酸ですすぐ。
ろ過により取り出したアジピン酸を5mlの酢酸で2
回、次いで8mlの酢酸で3回洗浄する。
アジピン酸をオーブン60℃)終夜乾燥する。最終アジ
ピン酸中に存在するコバルトを、質量分光計(ICP/質
量)と組み合わせた誘導結合プラズマによって評価す
る。重量/重量で0.00008%のCoが見出された。
例2(参考) 例1を、同じ装入物及び同じ条件下であるが、ただし
使用した反応混合物に使用したアジピン酸中に存在する
Coの1モル当量当たり10モル当量のHClを添加して、反
復する。
例1と同じ処理によって重量/重量で0.000009%のCo
を含有する乾燥された最終アジピン酸が得られた。
例3〜8 例1を、同じ操作条件下であるが、ただし使用した反
応混合物にHI(後記の表1に示した通りのHI対Irのモル
比で)を添加し、さらに再結晶用溶媒として3−ペンテ
ン酸(P3)を使用し、イリジウムを含有するアジピン酸
(AdOH)を使用して、反復する。このアジピン酸は、Ir
を基材とした触媒の存在下に3−ペンテン酸のヒドロキ
シカルボニル化によって製造され、水からの再結晶によ
って精製された。それは測定可能な量の有機不純物を何
ら含有しない。
再結晶に続いて、アジピン酸はアジピン酸で飽和され
た3−ペンテン酸により、次いでアジピン酸で飽和され
た水により洗浄する。
下記の表1は、例を実施した条件(Tp=温度)並びに
使用したアジピン酸のIrの初期含有量及び最終含有量
(初期Ir及び最終Ir)(μg/gで表す)を要約する。
例9〜12 例3〜8を反復するが、ただしロジウムを含有するア
ジピン酸(AdOH)を使用する。このアジピン酸は、Rhを
基材とした触媒の存在下に3−ペンテン酸のヒドロキシ
カルボニル化によって製造され、水からの再結晶によっ
て精製された。それは測定可能な量の有機不純物を何ら
含有しない。
再結晶に続いて、アジピン酸はアジピン酸で飽和され
た3−ペンテン酸により、次いでアジピン酸で飽和され
た水により洗浄する。
下記の表2は、例を実施した条件(Tp=温度)並びに
使用したアジピン酸のRhの初期含有量及び最終含有量
(初期Rh及び最終Rh)(μg/gで表す)を要約する。
例13 例13においては、例7で得た再結晶アジピン酸を使用
して、例3〜8に記載した再結晶を反復する。
後記の表3は、例を実施した条件並びに使用したアジ
ピン酸のIrの初期含有量及び最終含有量(初期Ir及び最
終Ir)(μg/gで表す)を要約する。
比較試験1 イリジウム及びHIの存在下に3−ペンテン酸のヒドロ
キシカルボニル化により得られたアジピン酸を水から再
結晶する。このアジピン酸は既に1回の結晶化を受けて
受けており、それでも0.00022%のイリジウムを含有す
る。
再結晶を、該アジピン酸を最低量の水にほぼ95%で溶
解し、次いで得られた溶液を徐々に冷却し、次いでろ過
し、最後にろ過により取りだしたアジピン酸を5mlの水
で2回、次いで8mlの水で3回洗浄することによって慣
用的な方法で実施する。
アジピン酸をオーブン(60℃)終夜乾燥する。最終ア
ジピン酸中に存在するイリジウムを定量する。重量/重
量で0.00022%のIrが見出された。従って、アジピン酸
のイリジウム含有量は成功裏に削減されなかった。
例14 下記の装入物: ・77.5gの3−ペンテン酸、 ・88.1mgの[IrCl(COD)]、 ・169.6mgの57重量%HI水溶液、 ・5.7gの水 を反応器に連続的に装入して3−ペンテン酸のヒドロキ
シカルボニル化を実施する。
反応温度(185℃)での一酸化炭素の圧力を22バール
に保持し、1時間5分の期間後に反応を停止させる。
22バールの一酸化炭素の圧力を徐々に低下させた後
に、結晶化したアジピン酸を引き出し、ろ過する。次い
で、ろ液の化合物のガスクロマトグラフィー及び高性能
液体クロマトグラフィーによる検定法を使用して、3−
ペンテン酸について56.6%の転化率が決定された。
この方法で結晶化されたアジピン酸は0.000122%のイ
リジウムを含有する。
このアジピン酸を一酸化炭素の雰囲気下に(泡ごと循
環させて)3−ペンテン酸から再結晶する。
再結晶後に、アジピン酸はアジピン酸で飽和された3
−ペンテン酸により、次いでアジピン酸で飽和された水
により洗浄する。
再結晶され乾燥されたアジピン酸は、重量/重量で0.
00002%のイリジウム含有量を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 パトワ,カルル フランス国 エフ69003 リヨン,アブ ニュ ジュル ジュスラン,2 (72)発明者 ペロン,ロベール フランス国 エフ69390 シャルリ,ラ プコリエール (56)参考文献 特公 昭49−812(JP,B1) 特公 昭38−8711(JP,B1) 仏国特許発明901841(FR,B1) 仏国特許発明1349134(FR,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 51/43 C07C 55/14

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ペンテン酸を水及び一酸化炭素によりヒド
    ロキシカルボニル化することによって得られたアジピン
    酸を結晶化又は再結晶するにあたり、該結晶化又は再結
    晶を20℃以下の融点を有する少なくとも1種のカルボン
    酸中で実施すること及び再結晶に付するアジピン酸が最
    低で95%の純度まで精製されたものであることを特徴と
    する、微量金属含有量の削減を可能ならしめるアジピン
    酸の結晶化又は再結晶方法。
  2. 【請求項2】使用するカルボン酸が飽和であるか又はエ
    チレン性不飽和を含有する脂肪族カルボン酸、好ましく
    は、2〜6個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のモ
    ノカルボン酸から選択されることを特徴とする、請求項
    1に記載の方法。
  3. 【請求項3】使用するカルボン酸が酢酸、プロピオン
    酸、ブタン酸類、ペンタン酸類、ヘキサン酸類及びペン
    テン酸類のうちから選択されることを特徴とする、請求
    項1又は2に記載の方法。
  4. 【請求項4】結晶化又は再結晶を一酸化炭素の存在下に
    実施することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに
    記載の方法。
  5. 【請求項5】一酸化炭素が、結晶化又は再結晶反応器に
    おける溶液上の雰囲気の少なくとも一部分を構成し又は
    該反応器内に大気圧よりも高い圧力を創生させることを
    特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項6】0.5バール〜50バールの一酸化炭素の絶対
    圧の下で実施することを特徴とする、請求項4又は5に
    記載の方法。
  7. 【請求項7】再結晶に付される粗製のアジピン酸が95〜
    99.95%の純度を有することを特徴とする、請求項1〜
    6のいずれかに記載の方法。
  8. 【請求項8】再結晶を強プロトン酸の存在下に実施する
    ことを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の方
    法。
  9. 【請求項9】強プロトン酸が沃化水素酸、臭化水素酸、
    塩酸、硝酸及び硫酸のうちから選択されることを特徴と
    する、請求項8に記載の方法。
  10. 【請求項10】強プロトン酸の量が、アジピン酸中に存
    在する触媒金属の1モル当たり0〜100モルの範囲、好
    ましくは触媒金属の1モル当たり0〜50モルの範囲内に
    あることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載
    の方法。
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