JP3258921B2 - ２，４−オキサゾリジンジオン化合物の製造法 - Google Patents
２，４−オキサゾリジンジオン化合物の製造法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、血糖および血中脂
質低下作用およびインスリン感受性増強作用を有し、糖
尿病治療剤として有用な2,4-オキサゾリジンジオン化合
物の製造法、および該化合物を製造する際の原料として
有用な化合物に関する。
質低下作用およびインスリン感受性増強作用を有し、糖
尿病治療剤として有用な2,4-オキサゾリジンジオン化合
物の製造法、および該化合物を製造する際の原料として
有用な化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】血糖および血中脂質低下作用を有し、糖
尿病治療剤として有用な2,4-オキサゾリジンジオン化合
物は、例えばEP-A 710659，EP-A 612743，WO-A 95/3145
4等に記載されている。
尿病治療剤として有用な2,4-オキサゾリジンジオン化合
物は、例えばEP-A 710659，EP-A 612743，WO-A 95/3145
4等に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記2,4-オキサゾリジ
ンジオン化合物を工業的規模で製造するにあたり、再現
性が必ずしも十分でないこと，カラムクロマトグラフィ
ーや低温反応を必要とする工程が多いこと，操作性の困
難な工程が含まれること，収率が十分には高くないなど
の多くの問題点を解決することが望まれている。
ンジオン化合物を工業的規模で製造するにあたり、再現
性が必ずしも十分でないこと，カラムクロマトグラフィ
ーや低温反応を必要とする工程が多いこと，操作性の困
難な工程が含まれること，収率が十分には高くないなど
の多くの問題点を解決することが望まれている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １）一般式（II）
【化６】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素ま
たは複素環基を；Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−また
は−ＮＲ3−（Ｒ3は置換されていてもよいＣ1-4アルキ
ル基を示す）で示される基を；ｍは０または１を；ｎは
０，１または２を；Ｒ1およびＲ4は同一又は異なって水
素原子またはＣ1-4アルキル基を；Ａは２価のＣ1-7脂肪
族炭化水素基を；環Ｅはさらに１ないし２個の置換基を
有していてもよいベンゼン環を示す。〕で表される化合
物またはその塩を閉環反応に付すことを特徴とする一般
式（Ｉ）
たは複素環基を；Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−また
は−ＮＲ3−（Ｒ3は置換されていてもよいＣ1-4アルキ
ル基を示す）で示される基を；ｍは０または１を；ｎは
０，１または２を；Ｒ1およびＲ4は同一又は異なって水
素原子またはＣ1-4アルキル基を；Ａは２価のＣ1-7脂肪
族炭化水素基を；環Ｅはさらに１ないし２個の置換基を
有していてもよいベンゼン環を示す。〕で表される化合
物またはその塩を閉環反応に付すことを特徴とする一般
式（Ｉ）
【化７】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物またはその塩の製造法； ２）一般式（II）で表される化合物またはその塩； ３）５−［４−［２−（２−フリル）−５−メチル−４
−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシフェニル］−
２−ヒドロキシペンタン酸またはその塩；および ４）（Ｒ）−（＋）−５−［４−［２−（２−フリル）
−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メト
キシフェニル］−２−ヒドロキシペンタン酸またはその
塩に関する。
物またはその塩の製造法； ２）一般式（II）で表される化合物またはその塩； ３）５−［４−［２−（２−フリル）−５−メチル−４
−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシフェニル］−
２−ヒドロキシペンタン酸またはその塩；および ４）（Ｒ）−（＋）−５−［４−［２−（２−フリル）
−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メト
キシフェニル］−２−ヒドロキシペンタン酸またはその
塩に関する。
【０００５】一般式（Ｉ）〜（III）中、Ｒで表される
置換されていてもよい炭化水素基における炭化水素基と
しては、脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、脂環族
−脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、芳香族炭
化水素基が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、
炭素数１〜８のもの、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−ブチ
ル、t.−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、t.−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂肪族炭化水素基
（例、アルキル基等）、およびエテニル、１−プロペニ
ル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３
−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペンテ
ニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニ
ル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセニル、３−
ヘキセニル、２,４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニ
ル、１−ヘプテニル、１−オクテニル、エチニル、１−
プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチ
ニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニ
ル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニ
ル、３−ヘキシニル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘ
キシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなど炭素数
２〜８の不飽和脂肪族炭化水素基（例、アルケニル基、
アルキニル基等）が挙げられる。該脂環族炭化水素基と
しては、炭素数３〜７のもの、例えばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素基
（例、シクロアルキル基等）および１−シクロペンテニ
ル、２−シクロペンテニル、３−シクロペンテニル、１
−シクロヘキセニル、２−シクロヘキセニル、３−シク
ロヘキセニル、１−シクロヘプテニル、２−シクロヘプ
テニル、３−シクロヘプテニル、２,４−シクロヘプタ
ジエニルなど炭素数５〜７の不飽和脂環族炭化水素基
（例、シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基
等）が挙げられる。
置換されていてもよい炭化水素基における炭化水素基と
しては、脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、脂環族
−脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、芳香族炭
化水素基が挙げられる。該脂肪族炭化水素基としては、
炭素数１〜８のもの、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−ブチ
ル、t.−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、t.−ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂肪族炭化水素基
（例、アルキル基等）、およびエテニル、１−プロペニ
ル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３
−ブテニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペンテ
ニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニ
ル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセニル、３−
ヘキセニル、２,４−ヘキサジエニル、５−ヘキセニ
ル、１−ヘプテニル、１−オクテニル、エチニル、１−
プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチ
ニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニ
ル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニ
ル、３−ヘキシニル、２，４−ヘキサジイニル、５−ヘ
キシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなど炭素数
２〜８の不飽和脂肪族炭化水素基（例、アルケニル基、
アルキニル基等）が挙げられる。該脂環族炭化水素基と
しては、炭素数３〜７のもの、例えばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチルなど炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素基
（例、シクロアルキル基等）および１−シクロペンテニ
ル、２−シクロペンテニル、３−シクロペンテニル、１
−シクロヘキセニル、２−シクロヘキセニル、３−シク
ロヘキセニル、１−シクロヘプテニル、２−シクロヘプ
テニル、３−シクロヘプテニル、２,４−シクロヘプタ
ジエニルなど炭素数５〜７の不飽和脂環族炭化水素基
（例、シクロアルケニル基、シクロアルカジエニル基
等）が挙げられる。
【０００６】該脂環族−脂肪族炭化水素基としては、上
記脂環族炭化水素基と脂肪族炭化水素基とが結合したも
の（例、シクロアルキル−アルキル基、シクロアルケニ
ル−アルキル基、シクロアルキニル−アルキル基等）の
うち、炭素数４〜９のもの、例えばシクロプロピルメチ
ル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シク
ロペンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３−
シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２−
シクロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチ
ル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、
シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどが挙
げられる。該芳香脂肪族炭化水素基としては、炭素数７
〜１３のもの、例えばベンジル、フェネチル、１−フェ
ニルエチル、３−フェニルプロピル、２−フェニルプロ
ピル、１−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、α
−ナフチルエチル、β−ナフチルメチル、β−ナフチル
エチルなどが挙げられる。該芳香族炭化水素基として
は、炭素数６〜１４のもの、例えばフェニル、ナフチル
（α−ナフチル，β−ナフチル）などが挙げられる。
記脂環族炭化水素基と脂肪族炭化水素基とが結合したも
の（例、シクロアルキル−アルキル基、シクロアルケニ
ル−アルキル基、シクロアルキニル−アルキル基等）の
うち、炭素数４〜９のもの、例えばシクロプロピルメチ
ル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シク
ロペンチルメチル、２−シクロペンテニルメチル、３−
シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチル、２−
シクロヘキセニルメチル、３−シクロヘキセニルメチ
ル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピル、
シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルなどが挙
げられる。該芳香脂肪族炭化水素基としては、炭素数７
〜１３のもの、例えばベンジル、フェネチル、１−フェ
ニルエチル、３−フェニルプロピル、２−フェニルプロ
ピル、１−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、α
−ナフチルエチル、β−ナフチルメチル、β−ナフチル
エチルなどが挙げられる。該芳香族炭化水素基として
は、炭素数６〜１４のもの、例えばフェニル、ナフチル
（α−ナフチル，β−ナフチル）などが挙げられる。
【０００７】一般式（Ｉ）〜（III）中、Ｒで表される
置換されていてもよい複素環基における複素環基として
は、例えば１個の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を
含む５〜７員複素環基、２〜４個の窒素原子を含む５〜
６員複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原
子または酸素原子を含む５〜６員複素環基が挙げられ、
これらの複素環基は２個以下の窒素原子を含む６員環、
ベンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合し
ていてもよい。このような複素環基の具体例としては、
例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニ
ル、６−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダ
ジニル、２−ピラジニル、２−ピロリル、３−ピロリ
ル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダ
ゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、イソチアゾ
リル、イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾ
リル、５−チアゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサ
ゾリル、５−オキサゾリル、１，２，４−オキサジアゾ
ール−５−イル、１，２，４−トリアゾ−ル−３−イ
ル、１，２，３−トリアゾ−ル−４−イル、テトラゾ−
ル−５−イル、ベンズイミダゾ−ル−２−イル、インド
−ル−３−イル、１Ｈ−インダゾ−ル−３−イル、１Ｈ
−ピロロ〔２，３−ｂ〕ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピ
ロロ〔２，３−ｂ〕ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダ
ゾ〔４，５−ｂ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｃ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピラジン−２−イル等が挙げられる。こ
れらの中でもオキサゾリル、チアゾリルおよびトリアゾ
リルが好ましい。一般式（Ｉ）〜（III）中、Ｒは好ま
しくは置換されていてもよい複素環基である。Ｒはさら
に好ましくは置換されていてもよいオキサゾリル基であ
る。
置換されていてもよい複素環基における複素環基として
は、例えば１個の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を
含む５〜７員複素環基、２〜４個の窒素原子を含む５〜
６員複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原
子または酸素原子を含む５〜６員複素環基が挙げられ、
これらの複素環基は２個以下の窒素原子を含む６員環、
ベンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合し
ていてもよい。このような複素環基の具体例としては、
例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニ
ル、６−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダ
ジニル、２−ピラジニル、２−ピロリル、３−ピロリ
ル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダ
ゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、イソチアゾ
リル、イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾ
リル、５−チアゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサ
ゾリル、５−オキサゾリル、１，２，４−オキサジアゾ
ール−５−イル、１，２，４−トリアゾ−ル−３−イ
ル、１，２，３−トリアゾ−ル−４−イル、テトラゾ−
ル−５−イル、ベンズイミダゾ−ル−２−イル、インド
−ル−３−イル、１Ｈ−インダゾ−ル−３−イル、１Ｈ
−ピロロ〔２，３−ｂ〕ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピ
ロロ〔２，３−ｂ〕ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダ
ゾ〔４，５−ｂ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｃ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ
〔４，５−ｂ〕ピラジン−２−イル等が挙げられる。こ
れらの中でもオキサゾリル、チアゾリルおよびトリアゾ
リルが好ましい。一般式（Ｉ）〜（III）中、Ｒは好ま
しくは置換されていてもよい複素環基である。Ｒはさら
に好ましくは置換されていてもよいオキサゾリル基であ
る。
【０００８】一般式（Ｉ）〜（III）中、Ｒで表される
炭化水素基および複素環基は、それぞれ置換可能な位置
に置換基を１〜３個有していてもよい。かかる置換基と
しては、例えば脂肪族鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素
基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、非芳香族複素
環基、ハロゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよい
アミノ基、置換されていてもよいアシル基、置換されて
いてもよいヒドロキシル基、置換されていてもよいチオ
ール基、エステル化されていてもよいカルボキシル基が
挙げられる。該脂肪族鎖式炭化水素基としては、炭素数
１〜１５の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基、
例えば炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０の
アルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基などが挙
げられる。アルキル基の好適な例としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec.−ブチル、t.−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、t.−ペンチル、１−エチルプロピ
ル、ヘキシル、イソヘキシル、１,１−ジメチルブチ
ル、２,２−ジメチルブチル、３,３−ジメチルブチル、
２−エチルブチル、ヘキシル、ペンチル、オクチル、ノ
ニル、デシルなどが挙げられる。アルケニル基の好適な
例としては、例えばビニル、アリル、イソプロペニル、
１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブ
テニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−エチル−１
−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペンテニ
ル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニ
ル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、２
−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−
ヘキセニルなどが挙げられる。アルキニル基の好適な例
としては、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロ
ピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、
１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４
−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−
ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルなどが挙
げられる。
炭化水素基および複素環基は、それぞれ置換可能な位置
に置換基を１〜３個有していてもよい。かかる置換基と
しては、例えば脂肪族鎖式炭化水素基、脂環式炭化水素
基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、非芳香族複素
環基、ハロゲン原子、ニトロ基、置換されていてもよい
アミノ基、置換されていてもよいアシル基、置換されて
いてもよいヒドロキシル基、置換されていてもよいチオ
ール基、エステル化されていてもよいカルボキシル基が
挙げられる。該脂肪族鎖式炭化水素基としては、炭素数
１〜１５の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基、
例えば炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０の
アルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基などが挙
げられる。アルキル基の好適な例としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec.−ブチル、t.−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、t.−ペンチル、１−エチルプロピ
ル、ヘキシル、イソヘキシル、１,１−ジメチルブチ
ル、２,２−ジメチルブチル、３,３−ジメチルブチル、
２−エチルブチル、ヘキシル、ペンチル、オクチル、ノ
ニル、デシルなどが挙げられる。アルケニル基の好適な
例としては、例えばビニル、アリル、イソプロペニル、
１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブ
テニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−エチル−１
−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペンテニ
ル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニ
ル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、２
−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−
ヘキセニルなどが挙げられる。アルキニル基の好適な例
としては、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロ
ピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、
１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４
−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−
ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニルなどが挙
げられる。
【０００９】該脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜
１２の飽和または不飽和の脂環式炭化水素基、例えばシ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジ
エニル基などが挙げられる。シクロアルキル基の好適な
例としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シク
ロオクチル、ビシクロ〔２.２.１〕ヘプチル、ビシクロ
〔２.２.２〕オクチル、ビシクロ〔３.２.１〕オクチ
ル、ビシクロ〔３.２.２〕ノニル、ビシクロ〔３.３.
１〕ノニル、ビシクロ〔４.２.１〕ノニル、ビシクロ
〔４.３.１〕デシルなどが挙げられる。シクロアルケニ
ル基の好適な例としては、例えば２−シクロペンテン−
１−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロ
ヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルな
どが挙げられる。シクロアルカジエニル基の好適な例と
しては、例えば２,４−シクロペンタジエン−１−イ
ル、２,４−シクロヘキサジエン−１−イル、２,５−シ
クロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。該芳香
族炭化水素基としては炭素数６〜１４のもの、例えばフ
ェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アセ
ナフチレニルなどが挙げられ、なかでもフェニル、１−
ナフチル、２−ナフチルなどが好ましい。
１２の飽和または不飽和の脂環式炭化水素基、例えばシ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカジ
エニル基などが挙げられる。シクロアルキル基の好適な
例としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シク
ロオクチル、ビシクロ〔２.２.１〕ヘプチル、ビシクロ
〔２.２.２〕オクチル、ビシクロ〔３.２.１〕オクチ
ル、ビシクロ〔３.２.２〕ノニル、ビシクロ〔３.３.
１〕ノニル、ビシクロ〔４.２.１〕ノニル、ビシクロ
〔４.３.１〕デシルなどが挙げられる。シクロアルケニ
ル基の好適な例としては、例えば２−シクロペンテン−
１−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロ
ヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルな
どが挙げられる。シクロアルカジエニル基の好適な例と
しては、例えば２,４−シクロペンタジエン−１−イ
ル、２,４−シクロヘキサジエン−１−イル、２,５−シ
クロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。該芳香
族炭化水素基としては炭素数６〜１４のもの、例えばフ
ェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アセ
ナフチレニルなどが挙げられ、なかでもフェニル、１−
ナフチル、２−ナフチルなどが好ましい。
【００１０】該芳香族複素環基の好適な例としては、例
えばフリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジアゾリル、１,
２,４−オキサジアゾリル、１,３,４−オキサジアゾリ
ル、フラザニル、１,２,３−チアジアゾリル、１,２,４
-チアジアゾリル、１,３,４−チアジアゾリル、１,２,
３−トリアゾリル、１,２,４−トリアゾリル、テトラゾ
リル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジ
ニル、トリアジニルなどの芳香族単環式複素環基；例え
ばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ〔b〕
チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−インダ
ゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、
１,２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、
１,２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾ
リル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾ
リニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリジニ
ル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−カル
ボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、アク
リジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、フェ
ナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、フェ
ナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニル、ピ
ロロ〔１,２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ〔１,５−
ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリジル、イミ
ダゾ〔１,５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ｂ〕ピ
リダジニル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリミジニル、１,
２,４−トリアゾロ〔４,３−ａ〕ピリジル、１,２,４−
トリアゾロ〔４,３−ｂ〕ピリダジニルなどの芳香族縮
合複素環基などが挙げられる。
えばフリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジアゾリル、１,
２,４−オキサジアゾリル、１,３,４−オキサジアゾリ
ル、フラザニル、１,２,３−チアジアゾリル、１,２,４
-チアジアゾリル、１,３,４−チアジアゾリル、１,２,
３−トリアゾリル、１,２,４−トリアゾリル、テトラゾ
リル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジ
ニル、トリアジニルなどの芳香族単環式複素環基；例え
ばベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ〔b〕
チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−インダ
ゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、
１,２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、
１,２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリアゾ
リル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾ
リニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリジニ
ル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−カル
ボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、アク
リジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、フェ
ナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、フェ
ナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニル、ピ
ロロ〔１,２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ〔１,５−
ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリジル、イミ
ダゾ〔１,５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１,２−ｂ〕ピ
リダジニル、イミダゾ〔１,２−ａ〕ピリミジニル、１,
２,４−トリアゾロ〔４,３−ａ〕ピリジル、１,２,４−
トリアゾロ〔４,３−ｂ〕ピリダジニルなどの芳香族縮
合複素環基などが挙げられる。
【００１１】該非芳香族複素環基の好適な例としては、
例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チ
エタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラ
ニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、モルホリニ
ル、チオモルホリニル、ピペラジニル、ピロリジノ、ピ
ペリジノ、モルホリノなどが挙げられる。該ハロゲン原
子の例としてはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げ
られ、とりわけフッ素および塩素が好ましい。該置換さ
れていてもよいアミノ基としては、炭素数１〜１０のア
ルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０
のアシルまたは芳香族基によりモノ−もしくはジ−置換
されていてもよいアミノ基が挙げられる。置換されたア
ミノ基としては、例えばメチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、
ジアリルアミノ、シクロヘキシルアミノ、アセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ、フェニル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ等が挙げられ
る。
例えばオキシラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チ
エタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラ
ニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、モルホリニ
ル、チオモルホリニル、ピペラジニル、ピロリジノ、ピ
ペリジノ、モルホリノなどが挙げられる。該ハロゲン原
子の例としてはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げ
られ、とりわけフッ素および塩素が好ましい。該置換さ
れていてもよいアミノ基としては、炭素数１〜１０のア
ルキル、炭素数２〜１０のアルケニル、炭素数１〜１０
のアシルまたは芳香族基によりモノ−もしくはジ−置換
されていてもよいアミノ基が挙げられる。置換されたア
ミノ基としては、例えばメチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、
ジアリルアミノ、シクロヘキシルアミノ、アセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ、フェニル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ等が挙げられ
る。
【００１２】該置換されていてもよいアシル基におい
て、アシル基としては、(i)ホルミルの他、(ii)例えば
炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニ
ルまたは炭素数６〜１２の芳香族基がカルボニル基と結
合したもの（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、
イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、
ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、シクロブ
タンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘ
キサンカルボニル、シクロヘプタンカルボニル、クロト
ニル、２−シクロヘキセンカルボニル、ベンゾイル、ニ
コチノイル等）が挙げられる。置換されたアシルとして
は、前記アシル基に例えば炭素数１〜３のアルキル、炭
素数１〜３のアルコキシ、ハロゲン（例、塩素，フッ
素，臭素など）、ニトロ、ヒドロキシル、アミノなどが
置換したものが挙げられる。
て、アシル基としては、(i)ホルミルの他、(ii)例えば
炭素数１〜１０のアルキル、炭素数２〜１０のアルケニ
ルまたは炭素数６〜１２の芳香族基がカルボニル基と結
合したもの（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、
イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、
ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、シクロブ
タンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘ
キサンカルボニル、シクロヘプタンカルボニル、クロト
ニル、２−シクロヘキセンカルボニル、ベンゾイル、ニ
コチノイル等）が挙げられる。置換されたアシルとして
は、前記アシル基に例えば炭素数１〜３のアルキル、炭
素数１〜３のアルコキシ、ハロゲン（例、塩素，フッ
素，臭素など）、ニトロ、ヒドロキシル、アミノなどが
置換したものが挙げられる。
【００１３】該置換されていてもよいヒドロキシル基に
おいて、置換されたヒドロキシル基としては、例えばア
ルコキシ、アルケニルオキシ、アラルキルオキシ、アシ
ルオキシ、アリールオキシなどが挙げられる。アルコキ
シの好適な例としては、炭素数１〜１０のもの、例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、イソブトキシ、sec.−ブトキシ、t.−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオ
キシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロ
ヘキシルオキシなどが挙げられる。アルケニルオキシの
好適な例としては、炭素数２〜１０のもの、例えばアリ
ル（allyl）オキシ、クロチルオキシ、２−ペンテニル
オキシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニル
メトキシ、２−シクロヘキセニルメトキシなどが挙げら
れる。アラルキルオキシの好適な例としては、炭素数７
〜１０のもの、例えばベンジルオキシ、フェネチルオキ
シなどが挙げられる。アシルオキシの好適な例として
は、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ（例、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブ
チリルオキシなど）などが挙げられる。アリールオキシ
の好適な例としては、炭素数６〜１４のもの、例えばフ
ェノキシ、４−クロロフェノキシなどが挙げられる。
おいて、置換されたヒドロキシル基としては、例えばア
ルコキシ、アルケニルオキシ、アラルキルオキシ、アシ
ルオキシ、アリールオキシなどが挙げられる。アルコキ
シの好適な例としては、炭素数１〜１０のもの、例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、イソブトキシ、sec.−ブトキシ、t.−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオ
キシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロ
ヘキシルオキシなどが挙げられる。アルケニルオキシの
好適な例としては、炭素数２〜１０のもの、例えばアリ
ル（allyl）オキシ、クロチルオキシ、２−ペンテニル
オキシ、３−ヘキセニルオキシ、２−シクロペンテニル
メトキシ、２−シクロヘキセニルメトキシなどが挙げら
れる。アラルキルオキシの好適な例としては、炭素数７
〜１０のもの、例えばベンジルオキシ、フェネチルオキ
シなどが挙げられる。アシルオキシの好適な例として
は、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ（例、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブ
チリルオキシなど）などが挙げられる。アリールオキシ
の好適な例としては、炭素数６〜１４のもの、例えばフ
ェノキシ、４−クロロフェノキシなどが挙げられる。
【００１４】該置換されていてもよいチオール基として
は、例えばアルキルチオ、アラルキルチオ、アシルチオ
などが挙げられる。アルキルチオの好適な例としては、
炭素数１〜１０のアルキルチオ、例えばメチルチオ、エ
チルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、イソブチルチオ、sec.−ブチルチオ、t.−ブチルチ
オ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチ
オ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニルチオ、シクロ
ブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ
などが挙げられる。アラルキルチオの好適な例として
は、炭素数７〜１０のもの、例えばベンジルチオ、フェ
ネチルチオなどが挙げられる。アシルチオの好適な例と
しては、炭素数２〜４のアルカノイルチオ、例えばアセ
チルチオ、プロピオニルチオ、ブチリルチオ、イソブチ
リルチオなどが挙げられる。
は、例えばアルキルチオ、アラルキルチオ、アシルチオ
などが挙げられる。アルキルチオの好適な例としては、
炭素数１〜１０のアルキルチオ、例えばメチルチオ、エ
チルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、イソブチルチオ、sec.−ブチルチオ、t.−ブチルチ
オ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチ
オ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニルチオ、シクロ
ブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ
などが挙げられる。アラルキルチオの好適な例として
は、炭素数７〜１０のもの、例えばベンジルチオ、フェ
ネチルチオなどが挙げられる。アシルチオの好適な例と
しては、炭素数２〜４のアルカノイルチオ、例えばアセ
チルチオ、プロピオニルチオ、ブチリルチオ、イソブチ
リルチオなどが挙げられる。
【００１５】該エステル化されていてもよいカルボキシ
ル基において、エステル化されたカルボキシル基として
は、例えば炭素数２〜５のアルコキシカルボニル（例え
ばメトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロポキ
シカルボニル，ブトキシカルボニルなど），炭素数８〜
１０のアラルキルオキシカルボニル（例えばベンジルオ
キシカルボニルなど），炭素数７〜１５のアリールオキ
シカルボニル（例えばフェノキシカルボニル，ｐ−トリ
ルオキシカルボニルなど）などが挙げられる。Ｒで示さ
れる炭化水素基上および複素環基上の置換基の中でもフ
ェニル、ナフチル、フリル、チエニル、Ｃ1-3アルキル
が特に好ましい。
ル基において、エステル化されたカルボキシル基として
は、例えば炭素数２〜５のアルコキシカルボニル（例え
ばメトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロポキ
シカルボニル，ブトキシカルボニルなど），炭素数８〜
１０のアラルキルオキシカルボニル（例えばベンジルオ
キシカルボニルなど），炭素数７〜１５のアリールオキ
シカルボニル（例えばフェノキシカルボニル，ｐ−トリ
ルオキシカルボニルなど）などが挙げられる。Ｒで示さ
れる炭化水素基上および複素環基上の置換基の中でもフ
ェニル、ナフチル、フリル、チエニル、Ｃ1-3アルキル
が特に好ましい。
【００１６】一般式（Ｉ）〜（III）中、Ｒで表される
炭化水素基および複素環基上の置換基は、それらが脂環
式炭化水素基，芳香族炭化水素基，芳香族複素環基，非
芳香族複素環基であるときは、さらにそれぞれ適当な置
換基を１個以上、好ましくは１〜３個有していてもよ
く、該置換基としては、例えば炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアル
キニル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数６
〜１４の芳香族炭化水素基（例、フェニル，ナフチルな
ど）、芳香族複素環基（例、チエニル，フリル，ピリジ
ル，オキサゾリル，チアゾリルなど）、非芳香族複素環
基（例、テトラヒドロフリル，モルホリノ，ピペリジ
ノ，ピロリジノ，ピペラジノなど）、炭素数７〜９のア
ラルキル基、アミノ基、Ｎ−モノ（Ｃ1-4）アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1-4）アルキルアミノ基、炭素
数２〜８のアシルアミノ基（例、アセチルアミノ，プロ
ピオニルアミノ，ベンゾイルアミノなど）、アミジノ
基、炭素数２〜８のアシル基、カルバモイル基、Ｎ−モ
ノ（Ｃ1-4）アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ
1-4）アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、Ｎ
−モノ（Ｃ1-4）アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジ（Ｃ1-4）アルキルスルファモイル基、カルボキシル
基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ヒドロキ
シル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５の
アルケニルオキシ基、炭素数３〜７のシクロアルキルオ
キシ基、炭素数７〜９のアラルキルオキシ基、炭素数６
〜１４のアリールオキシ基（例、フェニルオキシ，ナフ
チルオキシなど）、メルカプト基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数７〜９のアラルキルチオ基、炭素数
６〜１４のアリールチオ基（例、フェニルチオ，ナフチ
ルチオなど）、スルホ基、シアノ基、アジド基、ニトロ
基、ニトロソ基、ハロゲン（例、フッ素，塩素，臭素，
ヨウ素）などが挙げられる。一般式（Ｉ）〜（III）
中、Ｒはさらに好ましくはフェニル，ナフチル，フリ
ル，チエニルおよびＣ1-3アルキル基から選ばれる１〜
３個の置換基を有していてもよいオキサゾリル，チアゾ
リルまたはトリアゾリル基である。一般式（Ｉ）〜（II
I）中、Ｒは特に好ましくはフェニル，ナフチル，フリ
ル，チエニルおよびＣ1-3アルキル基から選ばれる１〜
３個の置換基を有していてもよいオキサゾリル基であ
る。
炭化水素基および複素環基上の置換基は、それらが脂環
式炭化水素基，芳香族炭化水素基，芳香族複素環基，非
芳香族複素環基であるときは、さらにそれぞれ適当な置
換基を１個以上、好ましくは１〜３個有していてもよ
く、該置換基としては、例えば炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアル
キニル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数６
〜１４の芳香族炭化水素基（例、フェニル，ナフチルな
ど）、芳香族複素環基（例、チエニル，フリル，ピリジ
ル，オキサゾリル，チアゾリルなど）、非芳香族複素環
基（例、テトラヒドロフリル，モルホリノ，ピペリジ
ノ，ピロリジノ，ピペラジノなど）、炭素数７〜９のア
ラルキル基、アミノ基、Ｎ−モノ（Ｃ1-4）アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ1-4）アルキルアミノ基、炭素
数２〜８のアシルアミノ基（例、アセチルアミノ，プロ
ピオニルアミノ，ベンゾイルアミノなど）、アミジノ
基、炭素数２〜８のアシル基、カルバモイル基、Ｎ−モ
ノ（Ｃ1-4）アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ
1-4）アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、Ｎ
−モノ（Ｃ1-4）アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジ（Ｃ1-4）アルキルスルファモイル基、カルボキシル
基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ヒドロキ
シル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５の
アルケニルオキシ基、炭素数３〜７のシクロアルキルオ
キシ基、炭素数７〜９のアラルキルオキシ基、炭素数６
〜１４のアリールオキシ基（例、フェニルオキシ，ナフ
チルオキシなど）、メルカプト基、炭素数１〜４のアル
キルチオ基、炭素数７〜９のアラルキルチオ基、炭素数
６〜１４のアリールチオ基（例、フェニルチオ，ナフチ
ルチオなど）、スルホ基、シアノ基、アジド基、ニトロ
基、ニトロソ基、ハロゲン（例、フッ素，塩素，臭素，
ヨウ素）などが挙げられる。一般式（Ｉ）〜（III）
中、Ｒはさらに好ましくはフェニル，ナフチル，フリ
ル，チエニルおよびＣ1-3アルキル基から選ばれる１〜
３個の置換基を有していてもよいオキサゾリル，チアゾ
リルまたはトリアゾリル基である。一般式（Ｉ）〜（II
I）中、Ｒは特に好ましくはフェニル，ナフチル，フリ
ル，チエニルおよびＣ1-3アルキル基から選ばれる１〜
３個の置換基を有していてもよいオキサゾリル基であ
る。
【００１７】一般式（Ｉ）〜（IV）中、Ｒ1，Ｒ4または
Ｒ5で示されるＣ1-4アルキル基としては、メチル，エチ
ル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，se
c.−ブチル，t.−ブチルが挙げられる。Ｒ1およびＲ5と
しては水素原子が好ましい。Ｒ4としては、Ｃ1-4アルキ
ル基が好ましい。ｍは０または１を示すが０が好まし
い。ｎは０，１または２を示すが０または１が好ましく
０が最も好ましい。Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−ま
たは−ＮＲ3−を示すが、−ＣＨ（ＯＨ）−または−Ｎ
Ｒ3−が好ましい。Ｒ3で示される置換されていてもよい
Ｃ1-4アルキル基において、Ｃ1-4アルキル基としては、
前記したＲ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基
と同様のものが用いられる。また、その置換基として
は、例えばハロゲン原子（例、フッ素，塩素，臭素，ヨ
ウ素），炭素数１〜４のアルコキシ基（例えばメトキ
シ，エトキシ，プロポキシ，ブトキシ，イソブトキシ，
sec.−ブトキシ，t.−ブトキシなど），ヒドロキシル
基，ニトロ基，炭素数１〜４のアシル基（例えばホルミ
ル，アセチル，プロピオニルなど）などが挙げられる。
Ｒ5で示されるＣ1-4アルキル基としては、メチル，エチ
ル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，se
c.−ブチル，t.−ブチルが挙げられる。Ｒ1およびＲ5と
しては水素原子が好ましい。Ｒ4としては、Ｃ1-4アルキ
ル基が好ましい。ｍは０または１を示すが０が好まし
い。ｎは０，１または２を示すが０または１が好ましく
０が最も好ましい。Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−ま
たは−ＮＲ3−を示すが、−ＣＨ（ＯＨ）−または−Ｎ
Ｒ3−が好ましい。Ｒ3で示される置換されていてもよい
Ｃ1-4アルキル基において、Ｃ1-4アルキル基としては、
前記したＲ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基
と同様のものが用いられる。また、その置換基として
は、例えばハロゲン原子（例、フッ素，塩素，臭素，ヨ
ウ素），炭素数１〜４のアルコキシ基（例えばメトキ
シ，エトキシ，プロポキシ，ブトキシ，イソブトキシ，
sec.−ブトキシ，t.−ブトキシなど），ヒドロキシル
基，ニトロ基，炭素数１〜４のアシル基（例えばホルミ
ル，アセチル，プロピオニルなど）などが挙げられる。
【００１８】一般式（Ｉ）〜（III）中、Ａで示される
２価のＣ1-7脂肪族炭化水素基は直鎖状、分枝状のいず
れでもよく、また飽和不飽和のいずれでもよい。その具
体例としては、例えば−CH2−，−CH(CH3)−，−(CH2)2
−，−CH(C2H5)−，−(CH2)3−，−(CH2)4−，−(CH2)5
−，−(CH2)6−，−(CH2)7−の飽和のもの、例えば−CH
＝CH−，−C(CH3)＝CH−，−CH＝CH−CH2−，−C(C2H5)
＝CH−，−CH2−CH＝CH−CH2−，−CH2−CH2−CH＝CH−
CH2−，−CH＝CH−CH＝CH−CH2−，−CH＝CH−CH＝CH−
CH＝CH−CH2−などの不飽和のものが挙げられる。なか
でも炭素数１〜４の飽和のものが好ましく、−CH2−ま
たは−(CH2)2−がさらに好ましい。Ａは特に好ましくは
−(CH2)2−である。
２価のＣ1-7脂肪族炭化水素基は直鎖状、分枝状のいず
れでもよく、また飽和不飽和のいずれでもよい。その具
体例としては、例えば−CH2−，−CH(CH3)−，−(CH2)2
−，−CH(C2H5)−，−(CH2)3−，−(CH2)4−，−(CH2)5
−，−(CH2)6−，−(CH2)7−の飽和のもの、例えば−CH
＝CH−，−C(CH3)＝CH−，−CH＝CH−CH2−，−C(C2H5)
＝CH−，−CH2−CH＝CH−CH2−，−CH2−CH2−CH＝CH−
CH2−，−CH＝CH−CH＝CH−CH2−，−CH＝CH−CH＝CH−
CH＝CH−CH2−などの不飽和のものが挙げられる。なか
でも炭素数１〜４の飽和のものが好ましく、−CH2−ま
たは−(CH2)2−がさらに好ましい。Ａは特に好ましくは
−(CH2)2−である。
【００１９】一般式（Ｉ）〜（III）中、環Ｅは置換可
能な任意の位置に１ないし２個の置換基を有する。この
ような置換基としては、アルキル基、置換されていても
よいヒドロキシル基，ハロゲン原子，置換されていても
よいアシル基，ニトロ基および置換されていてもよいア
ミノ基が挙げられる。これらは、いずれもＲで示される
炭化水素基および複素環基の置換基として述べたものと
同様のものが用いられる。環Ｅすなわち部分構造式
能な任意の位置に１ないし２個の置換基を有する。この
ような置換基としては、アルキル基、置換されていても
よいヒドロキシル基，ハロゲン原子，置換されていても
よいアシル基，ニトロ基および置換されていてもよいア
ミノ基が挙げられる。これらは、いずれもＲで示される
炭化水素基および複素環基の置換基として述べたものと
同様のものが用いられる。環Ｅすなわち部分構造式
【化８】 〔式中、Ｒ2は置換されていてもよいヒドロキシル基，
ハロゲン原子，置換されていてもよいアシル基，ニトロ
基または置換されていてもよいアミノ基を示す。〕を示
す。Ｒ2で示される置換されていてもよいヒドロキシル
基，ハロゲン原子，置換されていてもよいアシル基，お
よび置換されていてもよいアミノ基としては、いずれも
Ｒで示される炭化水素基および複素環基の置換基として
述べたものと同様のものが挙げられる。Ｒ2は、好まし
くは置換されていてもよいヒドロキシル基またはハロゲ
ン原子である。Ｒ2は、さらに好ましくは置換されてい
てもよいヒドロキシル基であり、特に好ましくはＣ1-4
アルコキシ基である。
ハロゲン原子，置換されていてもよいアシル基，ニトロ
基または置換されていてもよいアミノ基を示す。〕を示
す。Ｒ2で示される置換されていてもよいヒドロキシル
基，ハロゲン原子，置換されていてもよいアシル基，お
よび置換されていてもよいアミノ基としては、いずれも
Ｒで示される炭化水素基および複素環基の置換基として
述べたものと同様のものが挙げられる。Ｒ2は、好まし
くは置換されていてもよいヒドロキシル基またはハロゲ
ン原子である。Ｒ2は、さらに好ましくは置換されてい
てもよいヒドロキシル基であり、特に好ましくはＣ1-4
アルコキシ基である。
【００２０】一般式（Ｉ）〜（III）で表される化合物
（以下、化合物（Ｉ）〜（III）と略記する）の好まし
い例としては、例えば、Ｒがフェニル，ナフチル，フリ
ル，チエニルおよびＣ1-3アルキルから選ばれる１ない
し２個の置換基で置換されていてもよいオキサゾリル
基；ｍが０；ｎが０または１；Ｒ1が水素原子；環Ｅす
なわち部分構造式
（以下、化合物（Ｉ）〜（III）と略記する）の好まし
い例としては、例えば、Ｒがフェニル，ナフチル，フリ
ル，チエニルおよびＣ1-3アルキルから選ばれる１ない
し２個の置換基で置換されていてもよいオキサゾリル
基；ｍが０；ｎが０または１；Ｒ1が水素原子；環Ｅす
なわち部分構造式
【化９】 かつＲ2がＣ1-4アルコキシ基；Ａが−(CH2)2−である化
合物が挙げられる。
合物が挙げられる。
【００２１】化合物（Ｉ）〜（III）に関し、それぞれ
の有する不斉炭素に基づく（Ｒ）−体、（Ｓ）−体の光
学活性体が存在する。化合物（Ｉ）〜（III）は、これ
らの光学活性体およびラセミ体を含む。
の有する不斉炭素に基づく（Ｒ）−体、（Ｓ）−体の光
学活性体が存在する。化合物（Ｉ）〜（III）は、これ
らの光学活性体およびラセミ体を含む。
【００２２】化合物（Ｉ）の好ましい具体例としては、
例えば（Ｒ）−（＋）−５−［３−［４−［２−（２−
フリル）−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−
３−メトキシフェニル］プロピル］−２，４−オキサゾ
リジンジオンが挙げられる。化合物（II）の好ましい具
体例としては、例えば（Ｒ）−（＋）−２−エトキシカ
ルボニルオキシ−５−［４−［２−（２−フリル）−５
−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシ
フェニル］ペンタン酸アミドが挙げられる。化合物（II
I）の好ましい具体例としては、例えば５−［４−［２
−（２−フリル）−５−メチル−４−オキサゾリルメト
キシ］−３−メトキシフェニル］−２−ヒドロキシペン
タン酸が挙げられ、特に（Ｒ）−（＋）−５−［４−
［２−（２−フリル）−５−メチル−４−オキサゾリル
メトキシ］−３−メトキシフェニル］−２−ヒドロキシ
ペンタン酸が好ましい。
例えば（Ｒ）−（＋）−５−［３−［４−［２−（２−
フリル）−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−
３−メトキシフェニル］プロピル］−２，４−オキサゾ
リジンジオンが挙げられる。化合物（II）の好ましい具
体例としては、例えば（Ｒ）−（＋）−２−エトキシカ
ルボニルオキシ−５−［４−［２−（２−フリル）−５
−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシ
フェニル］ペンタン酸アミドが挙げられる。化合物（II
I）の好ましい具体例としては、例えば５−［４−［２
−（２−フリル）−５−メチル−４−オキサゾリルメト
キシ］−３−メトキシフェニル］−２−ヒドロキシペン
タン酸が挙げられ、特に（Ｒ）−（＋）−５−［４−
［２−（２−フリル）−５−メチル−４−オキサゾリル
メトキシ］−３−メトキシフェニル］−２−ヒドロキシ
ペンタン酸が好ましい。
【００２３】化合物（Ｉ）〜（III）の塩としては、薬
学的に許容される塩が好ましく、例えば無機塩基との
塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩
基性または酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機
塩基との塩の好適な例としては、例えばナトリウム塩、
カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグ
ネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミ
ニウム塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基
との塩の好適な例としては、例えばトリメチルアミン、
トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジ
シクロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジ
アミンなどとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な
例としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リ
ン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例
としては、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマ
ール酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コ
ハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアル
ギニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられる。
酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパ
ラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。
学的に許容される塩が好ましく、例えば無機塩基との
塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩
基性または酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機
塩基との塩の好適な例としては、例えばナトリウム塩、
カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグ
ネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミ
ニウム塩、アンモニウム塩などが挙げられる。有機塩基
との塩の好適な例としては、例えばトリメチルアミン、
トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジ
シクロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジ
アミンなどとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な
例としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リ
ン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例
としては、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマ
ール酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コ
ハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアル
ギニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられる。
酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパ
ラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。
【００２４】化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（I
I）またはその塩を閉環反応に付すことにより製造され
る。本反応は、化合物（II）またはその塩を、有機溶媒
中、塩基と接触させることにより行われる。有機溶媒
は、反応を阻害しないものであればよく、具体的には、
メチルアルコール，エチルアルコール，プロピルアルコ
ール，イソプロピルアルコールなどのアルコール類；ジ
エチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサ
ン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル類；酢
酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエチルケ
トンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメタン，
1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン類；
ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)などのアミド類；アセト
ニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの
有機溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用い
てもよい。有機溶媒は、特に好ましくはエチルアルコー
ル，THFまたはＤＭＦである。また、有機溶媒中の化合
物（II）またはその塩の濃度は、例えば1〜50（ｗ／
ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。塩基と
しては、例えば水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ
金属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-ブトキシ
ド，カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属Ｃ1-4ア
ルコキシド；トリエチルアミン，トリｎ-ブチルアミ
ン，1,8-ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデセ-7-エン（DB
U），ピリジン，4-ジメチルアミノピリジンなどのアミ
ン類などが挙げられ、なかでもカリウムt-ブトキシド，
トリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、例えば
化合物（II）またはその塩に対し、1〜10当量である。
反応温度は、例えば-50〜100℃、好ましくは-30〜50℃
である。反応時間は、例えば10分〜20時間である。この
ようにして得られる化合物（Ｉ）またはその塩は、公知
の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶
出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離
精製することができる。
I）またはその塩を閉環反応に付すことにより製造され
る。本反応は、化合物（II）またはその塩を、有機溶媒
中、塩基と接触させることにより行われる。有機溶媒
は、反応を阻害しないものであればよく、具体的には、
メチルアルコール，エチルアルコール，プロピルアルコ
ール，イソプロピルアルコールなどのアルコール類；ジ
エチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサ
ン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル類；酢
酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエチルケ
トンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメタン，
1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン類；
ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)などのアミド類；アセト
ニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの
有機溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用い
てもよい。有機溶媒は、特に好ましくはエチルアルコー
ル，THFまたはＤＭＦである。また、有機溶媒中の化合
物（II）またはその塩の濃度は、例えば1〜50（ｗ／
ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。塩基と
しては、例えば水素化ナトリウムなどの水素化アルカリ
金属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-ブトキシ
ド，カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属Ｃ1-4ア
ルコキシド；トリエチルアミン，トリｎ-ブチルアミ
ン，1,8-ジアザビシクロ［5.4.0］ウンデセ-7-エン（DB
U），ピリジン，4-ジメチルアミノピリジンなどのアミ
ン類などが挙げられ、なかでもカリウムt-ブトキシド，
トリエチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、例えば
化合物（II）またはその塩に対し、1〜10当量である。
反応温度は、例えば-50〜100℃、好ましくは-30〜50℃
である。反応時間は、例えば10分〜20時間である。この
ようにして得られる化合物（Ｉ）またはその塩は、公知
の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶
出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離
精製することができる。
【００２５】なお、上記閉環反応および以下の原料化合
物や中間体を製造するための反応において、反応に用い
られる化合物が置換基としてアミノ基，カルボキシル
基，ヒドロキシル基を有する場合、これらの基にペプチ
ド化学などで一般的に用いられるような保護基が導入さ
れていてもよい。また、このような保護基は反応後に必
要に応じて除去してもよい。アミノ基の保護基として
は、例えば置換基を有していてもよいＣ1-6アルキルカ
ルボニル（例えば、ホルミル、メチルカルボニル、エチ
ルカルボニルなど）、フェニルカルボニル、Ｃ1-6アル
キル−オキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニルなど）、フェニルオキシカルボ
ニル（例えば、ベンズオキシカルボニルなど）、Ｃ7-10
アラルキルオキシ−カルボニル（例えば、ベンジルオキ
シカルボニルなど）、トリチル、フタロイルなどが用い
られる。これらの置換基としては、ハロゲン原子（例え
ば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキ
ル−カルボニル（例えば、メチルカルボニル、エチルカ
ルボニル、ブチルカルボニルなど）、ニトロ基などが用
いられ、置換基の数は１ないし３個程度である。カルボ
キシル基の保護基としては、例えば置換基を有していて
もよいＣ1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチルなど）、フ
ェニル、トリチル、シリルなどが用いられる。これらの
置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキルカルボニル
（例えば、ホルミル、メチルカルボニル、エチルカルボ
ニル、ブチルカルボニルなど）、ニトロ基などが用いら
れ、置換基の数は１ないし３個程度である。
物や中間体を製造するための反応において、反応に用い
られる化合物が置換基としてアミノ基，カルボキシル
基，ヒドロキシル基を有する場合、これらの基にペプチ
ド化学などで一般的に用いられるような保護基が導入さ
れていてもよい。また、このような保護基は反応後に必
要に応じて除去してもよい。アミノ基の保護基として
は、例えば置換基を有していてもよいＣ1-6アルキルカ
ルボニル（例えば、ホルミル、メチルカルボニル、エチ
ルカルボニルなど）、フェニルカルボニル、Ｃ1-6アル
キル−オキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニルなど）、フェニルオキシカルボ
ニル（例えば、ベンズオキシカルボニルなど）、Ｃ7-10
アラルキルオキシ−カルボニル（例えば、ベンジルオキ
シカルボニルなど）、トリチル、フタロイルなどが用い
られる。これらの置換基としては、ハロゲン原子（例え
ば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキ
ル−カルボニル（例えば、メチルカルボニル、エチルカ
ルボニル、ブチルカルボニルなど）、ニトロ基などが用
いられ、置換基の数は１ないし３個程度である。カルボ
キシル基の保護基としては、例えば置換基を有していて
もよいＣ1-6アルキル（例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチルなど）、フ
ェニル、トリチル、シリルなどが用いられる。これらの
置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキルカルボニル
（例えば、ホルミル、メチルカルボニル、エチルカルボ
ニル、ブチルカルボニルなど）、ニトロ基などが用いら
れ、置換基の数は１ないし３個程度である。
【００２６】ヒドロキシル基の保護基としては、例えば
置換基を有していてもよいＣ1-6アルキル（例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert
−ブチルなど）、フェニル、Ｃ7-10アラルキル（例え
ば、ベンジルなど）、Ｃ1-6アルキルカルボニル（例え
ば、ホルミル、メチルカルボニル、エチルカルボニルな
ど）、フェニルオキシカルボニル、Ｃ7-10アラルキルオ
キシ−カルボニル（例えば、ベンジルオキシカルボニル
など）、ピラニル、フラニル、シリルなどが用いられ
る。これらの置換基としては、ハロゲン原子（例えば、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキル、
フェニル、Ｃ7-10アラルキル、ニトロ基などが用いら
れ、置換基の数は１ないし４個程度である。また、保護
基の導入および除去方法としては、それ自体公知または
それに準じる方法（例えば、プロテクティブ グループ
ス イン オーガニックケミストリー、J. F. W. McOmi
eら、プレネムプレス社に記載の方法）が用いられる。
保護基の除去方法としては、例えば酸、塩基、還元、紫
外光、ヒドラジン、フェニルヒドラジン、Ｎ−メチルジ
チオカルバミン酸ナトリウム、テトラブチルアンモニウ
ムフルオリド、酢酸パラジウムなどで処理する方法が用
いられる。
置換基を有していてもよいＣ1-6アルキル（例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert
−ブチルなど）、フェニル、Ｃ7-10アラルキル（例え
ば、ベンジルなど）、Ｃ1-6アルキルカルボニル（例え
ば、ホルミル、メチルカルボニル、エチルカルボニルな
ど）、フェニルオキシカルボニル、Ｃ7-10アラルキルオ
キシ−カルボニル（例えば、ベンジルオキシカルボニル
など）、ピラニル、フラニル、シリルなどが用いられ
る。これらの置換基としては、ハロゲン原子（例えば、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、Ｃ1-6アルキル、
フェニル、Ｃ7-10アラルキル、ニトロ基などが用いら
れ、置換基の数は１ないし４個程度である。また、保護
基の導入および除去方法としては、それ自体公知または
それに準じる方法（例えば、プロテクティブ グループ
ス イン オーガニックケミストリー、J. F. W. McOmi
eら、プレネムプレス社に記載の方法）が用いられる。
保護基の除去方法としては、例えば酸、塩基、還元、紫
外光、ヒドラジン、フェニルヒドラジン、Ｎ−メチルジ
チオカルバミン酸ナトリウム、テトラブチルアンモニウ
ムフルオリド、酢酸パラジウムなどで処理する方法が用
いられる。
【００２７】化合物（II）またはその塩は、例えば化合
物（III）またはその塩を、所望により加水分解した
後、一般式（IV）で表される化合物（以下、化合物（I
V）と略記する）およびアンモニアと反応させることに
より製造される。一般式（IV）において、Ｘで示される
ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素およ
びヨウ素が挙げられ、なかでも塩素および臭素が好まし
い、
物（III）またはその塩を、所望により加水分解した
後、一般式（IV）で表される化合物（以下、化合物（I
V）と略記する）およびアンモニアと反応させることに
より製造される。一般式（IV）において、Ｘで示される
ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素およ
びヨウ素が挙げられ、なかでも塩素および臭素が好まし
い、
【００２８】化合物（III）において、Ｒ5がＣ1-4アル
キル基である場合、まず、加水分解により、Ｒ5が水素
原子である化合物を製造し、これを次の反応に付すこと
が好ましい。加水分解は、例えばアルコール類中、塩基
と接触させ、ついで酸と接触させることによって行われ
る。アルコール類としては、例えばメチルアルコール，
エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプロピル
アルコールなどが挙げられ、なかでもエチルアルコール
が好ましい。アルコール類中の化合物（III）またはそ
の塩の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5
〜30（ｗ／ｗ）％である。塩基としては，例えば水酸化
ナトリウム，水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金
属；炭酸水素ナトリウムなどの炭酸水素アルカリ金属；
炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金
属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-ブトキシド，
カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属Ｃ1-4アルコ
キシドなどが挙げられ、なかでも水酸化ナトリウムが好
ましい。塩基の使用量は、例えば化合物（III）または
その塩に対し、1〜10当量である。酸としては、例えば
塩酸，臭化水素酸，硫酸，酢酸などが挙げられ、なかで
も塩酸が好ましい。酸の使用量は、例えば化合物（II
I）またはその塩に対し、1〜10当量である。反応温度
は、例えば-10〜100℃、好ましくは0〜80℃である。反
応時間は、例えば30分〜10時間である。このように加水
分解を行うことにより、Ｒ5が水素原子である化合物（I
II）またはその塩を製造することができる。
キル基である場合、まず、加水分解により、Ｒ5が水素
原子である化合物を製造し、これを次の反応に付すこと
が好ましい。加水分解は、例えばアルコール類中、塩基
と接触させ、ついで酸と接触させることによって行われ
る。アルコール類としては、例えばメチルアルコール，
エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプロピル
アルコールなどが挙げられ、なかでもエチルアルコール
が好ましい。アルコール類中の化合物（III）またはそ
の塩の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5
〜30（ｗ／ｗ）％である。塩基としては，例えば水酸化
ナトリウム，水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金
属；炭酸水素ナトリウムなどの炭酸水素アルカリ金属；
炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金
属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-ブトキシド，
カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属Ｃ1-4アルコ
キシドなどが挙げられ、なかでも水酸化ナトリウムが好
ましい。塩基の使用量は、例えば化合物（III）または
その塩に対し、1〜10当量である。酸としては、例えば
塩酸，臭化水素酸，硫酸，酢酸などが挙げられ、なかで
も塩酸が好ましい。酸の使用量は、例えば化合物（II
I）またはその塩に対し、1〜10当量である。反応温度
は、例えば-10〜100℃、好ましくは0〜80℃である。反
応時間は、例えば30分〜10時間である。このように加水
分解を行うことにより、Ｒ5が水素原子である化合物（I
II）またはその塩を製造することができる。
【００２９】Ｒ5が水素原子である化合物（III）または
その塩と化合物（IV）との反応は、有機溶媒中、塩基の
存在下に行われる。有機溶媒は、反応を阻害しないもの
であればよく、具体的には、ジエチルエーテル，ジイソ
プロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン
（THF）などのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル
類；アセトン，メチルエチルケトンなどのケトン類；ク
ロロホルム，ジクロロメタン，1,2-ジクロロエタン，1,
1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類；ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水
素類；ピリジンなどのアミン類；ジメチルホルムアミ
ド，ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトニトリ
ルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの有機溶
媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよ
い。有機溶媒は、特に好ましくはTHFである。また、有
機溶媒中の化合物（III）またはその塩の濃度は、例え
ば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％で
ある。化合物（IV）の好適な例としては、クロロ炭酸メ
チル，クロロ炭酸エチル，クロロ炭酸プロピル，クロロ
炭酸イソプロピル，クロロ炭酸ブチル，ブロモ炭酸メチ
ル，ブロモ炭酸エチル，ブロモ炭酸プロピル，ブロモ炭
酸イソプロピル，ブロモ炭酸ブチルなどが挙げられ、な
かでもクロロ炭酸エチルが好ましい。化合物（IV）の使
用量は、例えば化合物（III）またはその塩に対し、2〜
10当量である。塩基としては、例えばトリエチルアミ
ン，トリｎ-ブチルアミン，1,8-ジアザビシクロ［5.4.
0］ウンデセ-7-エン（DBU），ピリジン，4-ジメチルア
ミノピリジンなどのアミン類が挙げられ、なかでもトリ
エチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、例えば化合
物（III）またはその塩に対し、2〜10当量である。反応
温度は、例えば-60〜100℃、好ましくは-20〜50℃であ
る．反応時間は、例えば30分〜10時間である。
その塩と化合物（IV）との反応は、有機溶媒中、塩基の
存在下に行われる。有機溶媒は、反応を阻害しないもの
であればよく、具体的には、ジエチルエーテル，ジイソ
プロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン
（THF）などのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル
類；アセトン，メチルエチルケトンなどのケトン類；ク
ロロホルム，ジクロロメタン，1,2-ジクロロエタン，1,
1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類；ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化水
素類；ピリジンなどのアミン類；ジメチルホルムアミ
ド，ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトニトリ
ルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの有機溶
媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよ
い。有機溶媒は、特に好ましくはTHFである。また、有
機溶媒中の化合物（III）またはその塩の濃度は、例え
ば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％で
ある。化合物（IV）の好適な例としては、クロロ炭酸メ
チル，クロロ炭酸エチル，クロロ炭酸プロピル，クロロ
炭酸イソプロピル，クロロ炭酸ブチル，ブロモ炭酸メチ
ル，ブロモ炭酸エチル，ブロモ炭酸プロピル，ブロモ炭
酸イソプロピル，ブロモ炭酸ブチルなどが挙げられ、な
かでもクロロ炭酸エチルが好ましい。化合物（IV）の使
用量は、例えば化合物（III）またはその塩に対し、2〜
10当量である。塩基としては、例えばトリエチルアミ
ン，トリｎ-ブチルアミン，1,8-ジアザビシクロ［5.4.
0］ウンデセ-7-エン（DBU），ピリジン，4-ジメチルア
ミノピリジンなどのアミン類が挙げられ、なかでもトリ
エチルアミンが好ましい。塩基の使用量は、例えば化合
物（III）またはその塩に対し、2〜10当量である。反応
温度は、例えば-60〜100℃、好ましくは-20〜50℃であ
る．反応時間は、例えば30分〜10時間である。
【００３０】上記したＲ5が水素原子である化合物（II
I）またはその塩と化合物（IV）との反応液中にアンモ
ニアを添加して反応させ、化合物（II）またはその塩を
製造する。アンモニアは、通常水溶液として用いられ
る。この場合、アンモニアの水溶液中の濃度は、例えば
５〜20％である。反応温度は、例えば-60〜100℃、好ま
しくは-10〜50℃である．反応時間は、例えば30分〜10
時間である。このようにして得られる化合物（II）また
はその塩は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。
I）またはその塩と化合物（IV）との反応液中にアンモ
ニアを添加して反応させ、化合物（II）またはその塩を
製造する。アンモニアは、通常水溶液として用いられ
る。この場合、アンモニアの水溶液中の濃度は、例えば
５〜20％である。反応温度は、例えば-60〜100℃、好ま
しくは-10〜50℃である．反応時間は、例えば30分〜10
時間である。このようにして得られる化合物（II）また
はその塩は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃
縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィ
ーなどにより単離精製することができる。
【００３１】化合物（II）またはその塩を製造する際に
原料として用いられる化合物（III）またはその塩は、
例えば次のようにして製造することができる。
原料として用いられる化合物（III）またはその塩は、
例えば次のようにして製造することができる。
【化１０】 〔式中、Ｒ6はＣ1-4アルキル基をその他の記号は前記と
同意義を示す〕 上記Ｒ6で示されるＣ1-4アルキル基は、前記したＲ1，
Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基と同意義を示
す。
同意義を示す〕 上記Ｒ6で示されるＣ1-4アルキル基は、前記したＲ1，
Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基と同意義を示
す。
【００３２】化合物（VII）と化合物（VIII）との反応
は、アルコール類中、塩基の存在下に行われる。アルコ
ール類としては、化合物（III）またはその塩を加水分
解する際に用いたアルコール類と同様のものが用いられ
る。アルコール類中の化合物（VII）の濃度は、例えば1
〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％であ
る。塩基としては、例えば水素化ナトリウムなどの水素
化アルカリ金属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-
ブトキシド，カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属
Ｃ1-4アルコキシドなどが挙げられ、なかでもカリウムt
-ブトキシドが好ましい。塩基の使用量は、例えば化合
物（VII）に対し、1〜5当量である。化合物（VIII）の
好適な例としては、シュウ酸ジメチル，シュウ酸ジエチ
ル，シュウ酸ジイソプロピルなどが挙げられ、なかでも
シュウ酸ジエチルが好ましい。化合物（VIII）の使用量
は、例えば化合物（VII）に対し、1〜10当量である。反
応温度は、例えば-10〜100℃、好ましくは10〜80℃であ
る。反応時間は、例えば30分〜10時間である。
は、アルコール類中、塩基の存在下に行われる。アルコ
ール類としては、化合物（III）またはその塩を加水分
解する際に用いたアルコール類と同様のものが用いられ
る。アルコール類中の化合物（VII）の濃度は、例えば1
〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％であ
る。塩基としては、例えば水素化ナトリウムなどの水素
化アルカリ金属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-
ブトキシド，カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属
Ｃ1-4アルコキシドなどが挙げられ、なかでもカリウムt
-ブトキシドが好ましい。塩基の使用量は、例えば化合
物（VII）に対し、1〜5当量である。化合物（VIII）の
好適な例としては、シュウ酸ジメチル，シュウ酸ジエチ
ル，シュウ酸ジイソプロピルなどが挙げられ、なかでも
シュウ酸ジエチルが好ましい。化合物（VIII）の使用量
は、例えば化合物（VII）に対し、1〜10当量である。反
応温度は、例えば-10〜100℃、好ましくは10〜80℃であ
る。反応時間は、例えば30分〜10時間である。
【００３３】化合物（VI）の脱炭酸反応は、化合物（V
I）を反応を阻害しない溶媒中で加熱することによって
行われる。反応を阻害しない溶媒としては、例えば水；
ジメチルスルホキシド(DMSO)などのスルホキシド類；ジ
メチルホルムアミド，ジメチルアセトアミド，N-メチル
ピペリドンなどのアミド類；ベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。これら
の溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用いて
もよい。溶媒は、特に好ましくは水，DMSOである。溶媒
中の化合物（VI）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）
％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。反応温度
は、例えば50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。反
応時間は、例えば30分〜20時間である。
I）を反応を阻害しない溶媒中で加熱することによって
行われる。反応を阻害しない溶媒としては、例えば水；
ジメチルスルホキシド(DMSO)などのスルホキシド類；ジ
メチルホルムアミド，ジメチルアセトアミド，N-メチル
ピペリドンなどのアミド類；ベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられる。これら
の溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用いて
もよい。溶媒は、特に好ましくは水，DMSOである。溶媒
中の化合物（VI）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）
％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。反応温度
は、例えば50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。反
応時間は、例えば30分〜20時間である。
【００３４】化合物（Ｖ）の還元反応は、例えばEP-A 7
10659，EP-A 612743，特願平08-282186，特願平08-2821
87に記載の方法あるいはこれに準ずる方法にしたがって
行われる。該還元反応は、好ましくは特開昭64-68387に
記載されたルテニウム−ホスフィン錯体の存在下に接触
還元することによって行われる。
10659，EP-A 612743，特願平08-282186，特願平08-2821
87に記載の方法あるいはこれに準ずる方法にしたがって
行われる。該還元反応は、好ましくは特開昭64-68387に
記載されたルテニウム−ホスフィン錯体の存在下に接触
還元することによって行われる。
【００３５】Ａが-(CH)2-である化合物（VII）は、例え
ば次のようにして製造することができる。
ば次のようにして製造することができる。
【化１１】 〔式中、Ｍは脱離基を、その他の記号は前記と同意義を
示す〕 Ｍで表される脱離基としては、例えばハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）；メタンスルホニ
ルオキシなどのＣ1-4アルキルスルホニルオキシ基；ベ
ンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキ
シなどのＣ6-10アリールスルホニルオキシ基などが挙げ
られる。
示す〕 Ｍで表される脱離基としては、例えばハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）；メタンスルホニ
ルオキシなどのＣ1-4アルキルスルホニルオキシ基；ベ
ンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキ
シなどのＣ6-10アリールスルホニルオキシ基などが挙げ
られる。
【００３６】本反応は、反応を阻害しない溶媒中、塩基
の存在下に行われる。反応を阻害しない溶媒としては、
例えば水；メチルアルコール，エチルアルコール，プロ
ピルアルコール，イソプロピルアルコールなどのアルコ
ール類；ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，
ジオキサン，テトラヒドロフランなどのエーテル類；酢
酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエチルケ
トンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメタン，
1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン類；
ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)などのアミド類；アセト
ニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの
溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用いても
よい。溶媒は、特に好ましくはエチルアルコール，アセ
トニトリルまたはジメチルホルムアミドである。溶媒中
の化合物（IX）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、
好ましくは5〜30（ｗ／ｗ）％である。塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム，水酸化カリウムなどの水酸化
アルカリ金属；炭酸水素ナトリウムなどの炭酸水素アル
カリ金属；炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどの炭酸ア
ルカリ金属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-ブト
キシド，カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属Ｃ
1-4アルコキシド；トリエチルアミン，1,8-ジアザビシ
クロ[5,4,0]ウンデセ-7-エン（DBU），ピリジン，4-ジ
メチルアミノピリジンなどのアミン類が挙げられ、なか
でも炭酸カリウムが好ましい。塩基の使用量は、例えば
化合物（IX）に対し、1〜5当量である。化合物（VIII）
の使用量は、例えば化合物（IX）に対し、1〜5当量であ
る。反応温度は、例えば0〜200℃、好ましくは30〜100
℃である。反応時間は、例えば10分〜20時間である。
の存在下に行われる。反応を阻害しない溶媒としては、
例えば水；メチルアルコール，エチルアルコール，プロ
ピルアルコール，イソプロピルアルコールなどのアルコ
ール類；ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，
ジオキサン，テトラヒドロフランなどのエーテル類；酢
酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエチルケ
トンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメタン，
1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，キシレ
ンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン類；
ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)などのアミド類；アセト
ニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの
溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用いても
よい。溶媒は、特に好ましくはエチルアルコール，アセ
トニトリルまたはジメチルホルムアミドである。溶媒中
の化合物（IX）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、
好ましくは5〜30（ｗ／ｗ）％である。塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム，水酸化カリウムなどの水酸化
アルカリ金属；炭酸水素ナトリウムなどの炭酸水素アル
カリ金属；炭酸ナトリウム，炭酸カリウムなどの炭酸ア
ルカリ金属；ナトリウムメトキシド，ナトリウムt-ブト
キシド，カリウムt-ブトキシドなどのアルカリ金属Ｃ
1-4アルコキシド；トリエチルアミン，1,8-ジアザビシ
クロ[5,4,0]ウンデセ-7-エン（DBU），ピリジン，4-ジ
メチルアミノピリジンなどのアミン類が挙げられ、なか
でも炭酸カリウムが好ましい。塩基の使用量は、例えば
化合物（IX）に対し、1〜5当量である。化合物（VIII）
の使用量は、例えば化合物（IX）に対し、1〜5当量であ
る。反応温度は、例えば0〜200℃、好ましくは30〜100
℃である。反応時間は、例えば10分〜20時間である。
【００３７】上記化合物（IX）は、例えば次のようにし
て製造することができる。
て製造することができる。
【化１２】 〔式中、Ｒ7は保護基を、Ｒ8はＣ1-4アルキル基を、
Ｍ’は脱離基を、その他の記号は前記と同意義を示す〕
Ｍ’は脱離基を、その他の記号は前記と同意義を示す〕
【００３８】Ｒ7で表される保護基としては、例えばメ
チル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソ
ブチル，sec.-ブチル，t.-ブチルなどのＣ1-4アルキル
基；フェニル，ナフチルなどのＣ6-10アリール基；ベン
ジル，フェニルエチル，ナフチルメチルなどのＣ7-12の
アラルキル基などが挙げられる。Ｒ8で示されるＣ1-4ア
ルキル基は、前記したＲ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ
1-4アルキル基と同意義を示す。Ｍ’で表される脱離基
は、前記したＭで表される脱離基と同意義を示す。
チル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソ
ブチル，sec.-ブチル，t.-ブチルなどのＣ1-4アルキル
基；フェニル，ナフチルなどのＣ6-10アリール基；ベン
ジル，フェニルエチル，ナフチルメチルなどのＣ7-12の
アラルキル基などが挙げられる。Ｒ8で示されるＣ1-4ア
ルキル基は、前記したＲ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ
1-4アルキル基と同意義を示す。Ｍ’で表される脱離基
は、前記したＭで表される脱離基と同意義を示す。
【００３９】まず、化合物（XIII）を、還元反応に付
し、化合物（XII）を製造する。還元反応は、例えばエ
ーテル類とアルコール類との混合溶媒中、ホウ素系還元
剤を用いて行われる。エーテル類としては、例えばジエ
チルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサン，
テトラヒドロフラン，ジメトキシメタン，ジメトキシエ
タンなどが挙げられ、なかでもテトラヒドロフランが好
ましい。アルコール類としては、例えばメチルアルコー
ル，エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプロ
ピルアルコールなどが挙げられ、なかでもメチルアルコ
ールが好ましい。上記したエーテル類とアルコール類
は、任意の割合で混合して用いることができる。また、
エーテル類とアルコール類との混合溶媒中の化合物（XI
II）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5
〜20（ｗ／ｗ）％である。ホウ素系還元剤としては、例
えば水素化ホウ素ナトリウム，水素化ホウ素リチウム，
トリメトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、
なかでも水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。ホウ素系
還元剤の使用量は、例えば化合物（XIII）に対し、1〜1
0当量である。反応温度は、例えば-10〜100℃、好まし
くは30〜80℃である。反応時間は、例えば30分〜10時間
である。
し、化合物（XII）を製造する。還元反応は、例えばエ
ーテル類とアルコール類との混合溶媒中、ホウ素系還元
剤を用いて行われる。エーテル類としては、例えばジエ
チルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサン，
テトラヒドロフラン，ジメトキシメタン，ジメトキシエ
タンなどが挙げられ、なかでもテトラヒドロフランが好
ましい。アルコール類としては、例えばメチルアルコー
ル，エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプロ
ピルアルコールなどが挙げられ、なかでもメチルアルコ
ールが好ましい。上記したエーテル類とアルコール類
は、任意の割合で混合して用いることができる。また、
エーテル類とアルコール類との混合溶媒中の化合物（XI
II）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5
〜20（ｗ／ｗ）％である。ホウ素系還元剤としては、例
えば水素化ホウ素ナトリウム，水素化ホウ素リチウム，
トリメトキシ水素化ホウ素ナトリウムなどが挙げられ、
なかでも水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。ホウ素系
還元剤の使用量は、例えば化合物（XIII）に対し、1〜1
0当量である。反応温度は、例えば-10〜100℃、好まし
くは30〜80℃である。反応時間は、例えば30分〜10時間
である。
【００４０】本還元反応は、ルイス酸の存在下に行うこ
とが好ましく、該ルイス酸を用いることにより、化合物
（XII）の収率が向上する。ルイス酸としては、例えば
塩化アルミニウム，塩化コバルト，塩化亜鉛，塩化チタ
ン，三フッ化ホウ素-エーテル錯体などが挙げられ、な
かでも塩化コバルトが好ましい。ルイス酸の使用量は、
例えば化合物（XIII）に対し、0.01〜5当量である。ル
イス酸を用いる場合、還元反応を２段階で行ってもよ
い。すなわち、化合物（XIII）を、エーテル類とアルコ
ール類との混合溶媒中、ホウ素系還元剤を用いて還元し
た後、得られる反応液を濃縮し、濃縮物をエーテル類と
アルコール類との混合溶媒中、ルイス酸存在下にホウ素
系還元剤を用いて還元してもよい。
とが好ましく、該ルイス酸を用いることにより、化合物
（XII）の収率が向上する。ルイス酸としては、例えば
塩化アルミニウム，塩化コバルト，塩化亜鉛，塩化チタ
ン，三フッ化ホウ素-エーテル錯体などが挙げられ、な
かでも塩化コバルトが好ましい。ルイス酸の使用量は、
例えば化合物（XIII）に対し、0.01〜5当量である。ル
イス酸を用いる場合、還元反応を２段階で行ってもよ
い。すなわち、化合物（XIII）を、エーテル類とアルコ
ール類との混合溶媒中、ホウ素系還元剤を用いて還元し
た後、得られる反応液を濃縮し、濃縮物をエーテル類と
アルコール類との混合溶媒中、ルイス酸存在下にホウ素
系還元剤を用いて還元してもよい。
【００４１】ついで、得られる化合物（XII）を有機溶
媒中、塩基の存在下に、スルホニル化剤あるいはハロゲ
ン化剤と反応させ、化合物（XI）を製造する。有機溶媒
としては、反応を阻害しないものであればよく、具体的
にはジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオ
キサン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエ
チルケトンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメ
タン，1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，
キシレンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミ
ン類；ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)などのアミド類；
アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。こ
れらの溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用
いてもよい。有機溶媒は、特に好ましくはテトラヒドロ
フラン，酢酸エチルまたはジクロロメタンである。有機
溶媒中の化合物（XII）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／
ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。塩基と
しては、化合物（II）またはその塩から化合物（Ｉ）ま
たはその塩を製造する際に用いた塩基と同様のものが挙
げられる。塩基の使用量は、例えば化合物（XII）に対
し、1〜5当量である。スルホニル化剤としては、例えば
メタンスルホニルクロライド，ｐ-トルエンスルホニル
クロライドなどが挙げられ、なかでもメタンスルホニル
クロライドが好ましい。該スルホニル化剤の使用量は、
例えば化合物（XII）に対し、1〜10当量である。ハロゲ
ン化剤としては、例えば塩化チオニル，塩化スルフリ
ル，オキシ塩化リン，トリフェニルフォスフィン塩素錯
体などが挙げられ、なかでも塩化チオニルが好ましい。
該ハロゲン化剤の使用量は、例えば化合物（XII）に対
し、1〜10当量である。反応温度は、例えば-10〜100
℃、好ましくは０〜80℃である。反応時間は、例えば10
分〜10時間である。
媒中、塩基の存在下に、スルホニル化剤あるいはハロゲ
ン化剤と反応させ、化合物（XI）を製造する。有機溶媒
としては、反応を阻害しないものであればよく、具体的
にはジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオ
キサン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエ
チルケトンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメ
タン，1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，
キシレンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミ
ン類；ジメチルホルムアミド(ＤＭＦ)などのアミド類；
アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。こ
れらの溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合して用
いてもよい。有機溶媒は、特に好ましくはテトラヒドロ
フラン，酢酸エチルまたはジクロロメタンである。有機
溶媒中の化合物（XII）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／
ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。塩基と
しては、化合物（II）またはその塩から化合物（Ｉ）ま
たはその塩を製造する際に用いた塩基と同様のものが挙
げられる。塩基の使用量は、例えば化合物（XII）に対
し、1〜5当量である。スルホニル化剤としては、例えば
メタンスルホニルクロライド，ｐ-トルエンスルホニル
クロライドなどが挙げられ、なかでもメタンスルホニル
クロライドが好ましい。該スルホニル化剤の使用量は、
例えば化合物（XII）に対し、1〜10当量である。ハロゲ
ン化剤としては、例えば塩化チオニル，塩化スルフリ
ル，オキシ塩化リン，トリフェニルフォスフィン塩素錯
体などが挙げられ、なかでも塩化チオニルが好ましい。
該ハロゲン化剤の使用量は、例えば化合物（XII）に対
し、1〜10当量である。反応温度は、例えば-10〜100
℃、好ましくは０〜80℃である。反応時間は、例えば10
分〜10時間である。
【００４２】化合物（XI）は、ジメチルホルムアミドな
どのアミド類中、シアン化物と反応させて、化合物
（Ｘ）を製造する。アミド類中の化合物（XI）の濃度
は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜30（ｗ／
ｗ）％である。シアン化物としては、例えばシアン化ナ
トリウム，シアン化カリウムなどのアルカリ金属シアン
化物；およびシアン化銅などのアルカリ土類金属シアン
化物が挙げられる。シアン化物は、好ましくはアルカリ
金属シアン化物であり、とりわけシアン化ナトリウムが
好ましい。シアン化物の使用量は、例えば化合物（XI）
に対し、1〜5当量である。また、シアン化物は、粉末状
のものを用いることが好ましい。反応温度は、例えば0
〜200℃、好ましくは30〜100℃である。反応時間は、例
えば30分〜10時間である。
どのアミド類中、シアン化物と反応させて、化合物
（Ｘ）を製造する。アミド類中の化合物（XI）の濃度
は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜30（ｗ／
ｗ）％である。シアン化物としては、例えばシアン化ナ
トリウム，シアン化カリウムなどのアルカリ金属シアン
化物；およびシアン化銅などのアルカリ土類金属シアン
化物が挙げられる。シアン化物は、好ましくはアルカリ
金属シアン化物であり、とりわけシアン化ナトリウムが
好ましい。シアン化物の使用量は、例えば化合物（XI）
に対し、1〜5当量である。また、シアン化物は、粉末状
のものを用いることが好ましい。反応温度は、例えば0
〜200℃、好ましくは30〜100℃である。反応時間は、例
えば30分〜10時間である。
【００４３】このようにして得られる化合物（Ｘ）を、
アルコール類中、酸と接触させることにより、化合物
（IX）が製造される。アルコール類としては、化合物
（XIII）から化合物（XII）を製造する際に用いたアル
コール類と同様のものが挙げられ、なかでもエチルアル
コールが好ましい。該アルコール類中の化合物（Ｘ）の
濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜30
（ｗ／ｗ）％である。酸としては、例えば塩酸，硫酸な
どの無機酸が挙げられ、なかでも塩酸が好ましく、とり
わけ塩酸ガスが好ましい。酸の使用量は、例えば化合物
（Ｘ）に対し、1〜20当量である。反応温度は、例えば-
10〜100℃、好ましくは10〜100℃である。反応時間は、
例えば30分〜10時間である。化合物（Ｘ）中のＲ7がベ
ンジルであり、酸として塩酸を用いる場合、副生物とし
てベンジルクロライドが生成する。このベンジルクロラ
イドは、還元反応によりトルエンとし、さらに反応液を
濃縮することにより除去することができる。該還元反応
は、例えば後述の化合物（XIV）の還元反応と同様にし
て行うことができる。
アルコール類中、酸と接触させることにより、化合物
（IX）が製造される。アルコール類としては、化合物
（XIII）から化合物（XII）を製造する際に用いたアル
コール類と同様のものが挙げられ、なかでもエチルアル
コールが好ましい。該アルコール類中の化合物（Ｘ）の
濃度は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜30
（ｗ／ｗ）％である。酸としては、例えば塩酸，硫酸な
どの無機酸が挙げられ、なかでも塩酸が好ましく、とり
わけ塩酸ガスが好ましい。酸の使用量は、例えば化合物
（Ｘ）に対し、1〜20当量である。反応温度は、例えば-
10〜100℃、好ましくは10〜100℃である。反応時間は、
例えば30分〜10時間である。化合物（Ｘ）中のＲ7がベ
ンジルであり、酸として塩酸を用いる場合、副生物とし
てベンジルクロライドが生成する。このベンジルクロラ
イドは、還元反応によりトルエンとし、さらに反応液を
濃縮することにより除去することができる。該還元反応
は、例えば後述の化合物（XIV）の還元反応と同様にし
て行うことができる。
【００４４】Ａが-(CH)2-である化合物（VII）は、例え
ば以下の方法によっても製造することができる。
ば以下の方法によっても製造することができる。
【化１３】 〔式中、Ｒ9はＣ1-4アルキル基を、Ｒ10はＣ1-4アルキ
ル基またはＣ6-12アリール基を、Ｑはハロゲン原子を、
その他の記号は前記と同意義を示す〕 Ｒ9またはＲ10で表されるＣ1-4アルキル基は、前記した
Ｒ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基と同意義
を示す。Ｒ10で表されるＣ6-12アリール基としては、例
えばフェニル，ナフチルなどが挙げられる。Ｑで表され
るハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素お
よびヨウ素が挙げられ、なかでも塩素が好ましい。
ル基またはＣ6-12アリール基を、Ｑはハロゲン原子を、
その他の記号は前記と同意義を示す〕 Ｒ9またはＲ10で表されるＣ1-4アルキル基は、前記した
Ｒ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基と同意義
を示す。Ｒ10で表されるＣ6-12アリール基としては、例
えばフェニル，ナフチルなどが挙げられる。Ｑで表され
るハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素お
よびヨウ素が挙げられ、なかでも塩素が好ましい。
【００４５】まず、化合物（XVII）と化合物（XV）また
は化合物（XVI）とを有機溶媒中、塩基の存在下に反応
させて、化合物（XIV）を製造する。有機溶媒として
は、反応を阻害しないものであればよく、具体的には、
ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサ
ン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル類；酢
酸エチルなどのエステル類；ベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン
類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド類；
アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。こ
れらの有機溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合し
て用いてもよい。有機溶媒は、特に好ましくはTHFまた
はＤＭＦである。有機溶媒中の化合物（XVII）の濃度
は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／
ｗ）％である。化合物（XV）の好適な例としては、ジエ
チルホスホノ酢酸エチルなどが挙げられる。化合物（X
V）の使用量は、例えば化合物（XVII）に対し、1〜10当
量である。化合物（XVI）の好適な例としては、エトキ
シカルボニルメチルトリフェニルホスホニウムクロライ
ド，エトキシカルボニルメチルトリ-ｎ-ブチルホスホニ
ウムブロマイドなどが挙げられ、とりわけエトキシカル
ボニルメチルトリフェニルホスホニウムクロライドが好
ましい。化合物（XVI）の使用量は、例えば化合物（XVI
I）に対し、1〜10当量である。塩基としては、例えば水
素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属；ナトリウム
メトキシド，ナトリウムt-ブトキシド，カリウムt-ブト
キシドなどのアルカリ金属Ｃ1-4アルコキシドなどが挙
げられ、なかでもカリウムt-ブトキシドが好ましい。塩
基の使用量は、例えば化合物（XVII）に対し、1〜10当
量である。反応温度は、例えば-50〜100℃、好ましくは
0〜80℃である。反応時間は、例えば10分〜10時間であ
る。
は化合物（XVI）とを有機溶媒中、塩基の存在下に反応
させて、化合物（XIV）を製造する。有機溶媒として
は、反応を阻害しないものであればよく、具体的には、
ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサ
ン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル類；酢
酸エチルなどのエステル類；ベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン
類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド類；
アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。こ
れらの有機溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合し
て用いてもよい。有機溶媒は、特に好ましくはTHFまた
はＤＭＦである。有機溶媒中の化合物（XVII）の濃度
は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／
ｗ）％である。化合物（XV）の好適な例としては、ジエ
チルホスホノ酢酸エチルなどが挙げられる。化合物（X
V）の使用量は、例えば化合物（XVII）に対し、1〜10当
量である。化合物（XVI）の好適な例としては、エトキ
シカルボニルメチルトリフェニルホスホニウムクロライ
ド，エトキシカルボニルメチルトリ-ｎ-ブチルホスホニ
ウムブロマイドなどが挙げられ、とりわけエトキシカル
ボニルメチルトリフェニルホスホニウムクロライドが好
ましい。化合物（XVI）の使用量は、例えば化合物（XVI
I）に対し、1〜10当量である。塩基としては、例えば水
素化ナトリウムなどの水素化アルカリ金属；ナトリウム
メトキシド，ナトリウムt-ブトキシド，カリウムt-ブト
キシドなどのアルカリ金属Ｃ1-4アルコキシドなどが挙
げられ、なかでもカリウムt-ブトキシドが好ましい。塩
基の使用量は、例えば化合物（XVII）に対し、1〜10当
量である。反応温度は、例えば-50〜100℃、好ましくは
0〜80℃である。反応時間は、例えば10分〜10時間であ
る。
【００４６】このようにして得られた化合物（XIV）を
還元反応に付し、化合物（VII）を製造する。還元反応
は、例えば有機溶媒中、パラジウム炭素触媒の存在下で
水素添加することにより行われる。有機溶媒は、反応を
阻害しないものであればよく、具体的にはメチルアルコ
ール，エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプ
ロピルアルコールなどのアルコール類；ジエチルエーテ
ル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒド
ロフラン（THF）などのエーテル類；酢酸エチルなどの
エステル類；ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香
族炭化水素類；ピリジンなどのアミン類；ジメチルホル
ムアミドなどのアミド類；アセトニトリルなどのニトリ
ル類などが挙げられる。これらの有機溶媒は、その２種
以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。有機溶媒
は、特に好ましくはエチルアルコール，THFまたは酢酸
エチルである。有機溶媒中の化合物（XIV）の濃度は、
例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）
％である。パラジウム炭素触媒の使用量は、例えば化合
物（XIV）に対して、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好まし
くは5〜20（ｗ／ｗ）％である。反応温度は、例えば-10
〜100℃、好ましくは30〜80℃である。反応時間は、例
えば30分〜10時間である。
還元反応に付し、化合物（VII）を製造する。還元反応
は、例えば有機溶媒中、パラジウム炭素触媒の存在下で
水素添加することにより行われる。有機溶媒は、反応を
阻害しないものであればよく、具体的にはメチルアルコ
ール，エチルアルコール，プロピルアルコール，イソプ
ロピルアルコールなどのアルコール類；ジエチルエーテ
ル，ジイソプロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒド
ロフラン（THF）などのエーテル類；酢酸エチルなどの
エステル類；ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香
族炭化水素類；ピリジンなどのアミン類；ジメチルホル
ムアミドなどのアミド類；アセトニトリルなどのニトリ
ル類などが挙げられる。これらの有機溶媒は、その２種
以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。有機溶媒
は、特に好ましくはエチルアルコール，THFまたは酢酸
エチルである。有機溶媒中の化合物（XIV）の濃度は、
例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）
％である。パラジウム炭素触媒の使用量は、例えば化合
物（XIV）に対して、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好まし
くは5〜20（ｗ／ｗ）％である。反応温度は、例えば-10
〜100℃、好ましくは30〜80℃である。反応時間は、例
えば30分〜10時間である。
【００４７】化合物（XVII）は、例えば次のようにして
製造することができる。
製造することができる。
【化１４】 〔式中、Ｒ11はＣ1-4アルキル基またはＣ6-12アリール
基を、Ｒ12およびＲ13はＣ1-4アルキル基を、その他の
記号は前記と同意義を示す〕 Ｒ11、Ｒ12およびＲ13で表されるＣ1-4アルキル基は、
前記したＲ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基
と同意義を示す。Ｒ11で表されるＣ6-12アリール基は、
上記Ｒ10で表されるＣ6-12アリール基と同意義を示す。
基を、Ｒ12およびＲ13はＣ1-4アルキル基を、その他の
記号は前記と同意義を示す〕 Ｒ11、Ｒ12およびＲ13で表されるＣ1-4アルキル基は、
前記したＲ1，Ｒ4またはＲ5で示されるＣ1-4アルキル基
と同意義を示す。Ｒ11で表されるＣ6-12アリール基は、
上記Ｒ10で表されるＣ6-12アリール基と同意義を示す。
【００４８】まず、化合物（XXII）と化合物（XIX）と
を有機溶媒中、塩基の存在下に反応させ、化合物（XVII
I）を製造する。有機溶媒としては、反応を阻害しない
ものであればよく、具体的には、ジエチルエーテル，ジ
イソプロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラ
ン（THF）などのエーテル類；酢酸エチルなどのエステ
ル類；ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化
水素類；ピリジンなどのアミン類；ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）などのアミド類；アセトニトリルなどのニ
トリル類などが挙げられる。これらの有機溶媒は、その
２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。有機溶
媒は、特に好ましくはTHFまたはＤＭＦである。有機溶
媒中の化合物（XXII）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／
ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。化合物
（XIX）の好適な例としては、メトキシメチルトリフェ
ニルホスホニウムクロライド，メトキシメチルトリ-ｎ-
ブチルホスホニウムクロライドなどが挙げられ、とりわ
けメトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライド
が好ましい。化合物（XIX）の使用量は、例えば化合物
（XXII）に対し、1〜5当量である。塩基としては、例え
ば水素化ナトリウム，ナトリウムメトキシド，ナトリウ
ムt-ブトキシド，カリウムt-ブトキシドなどが挙げら
れ、なかでもカリウムt-ブトキシドが好ましい。塩基の
使用量は、例えば化合物（XXII）に対し、1〜10当量で
ある。反応温度は、例えば-50〜100℃、好ましくは20〜
80℃である。反応時間は、例えば30分〜10時間である。
を有機溶媒中、塩基の存在下に反応させ、化合物（XVII
I）を製造する。有機溶媒としては、反応を阻害しない
ものであればよく、具体的には、ジエチルエーテル，ジ
イソプロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラ
ン（THF）などのエーテル類；酢酸エチルなどのエステ
ル類；ベンゼン，トルエン，キシレンなどの芳香族炭化
水素類；ピリジンなどのアミン類；ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）などのアミド類；アセトニトリルなどのニ
トリル類などが挙げられる。これらの有機溶媒は、その
２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。有機溶
媒は、特に好ましくはTHFまたはＤＭＦである。有機溶
媒中の化合物（XXII）の濃度は、例えば1〜50（ｗ／
ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％である。化合物
（XIX）の好適な例としては、メトキシメチルトリフェ
ニルホスホニウムクロライド，メトキシメチルトリ-ｎ-
ブチルホスホニウムクロライドなどが挙げられ、とりわ
けメトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライド
が好ましい。化合物（XIX）の使用量は、例えば化合物
（XXII）に対し、1〜5当量である。塩基としては、例え
ば水素化ナトリウム，ナトリウムメトキシド，ナトリウ
ムt-ブトキシド，カリウムt-ブトキシドなどが挙げら
れ、なかでもカリウムt-ブトキシドが好ましい。塩基の
使用量は、例えば化合物（XXII）に対し、1〜10当量で
ある。反応温度は、例えば-50〜100℃、好ましくは20〜
80℃である。反応時間は、例えば30分〜10時間である。
【００４９】ついで、化合物（XVIII）を、反応を阻害
しない溶媒中、酸と接触させることにより、化合物（XV
II）を製造する。反応を阻害しない溶媒としては、例え
ば水；メチルアルコール，エチルアルコール，プロピル
アルコール，イソプロピルアルコールなどのアルコール
類；ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオ
キサン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエ
チルケトンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメ
タン，1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，
キシレンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミ
ン類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド
類；アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられ
る。これらの溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合
して用いてもよい。溶媒は、特に好ましくは水，イソプ
ロピルアルコール，THF，酢酸エチルまたはジクロロメ
タンである。溶媒中の化合物（XVIII）の濃度は、例え
ば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％で
ある。酸としては、例えばメタンスルホン酸，ｐ-トル
エンスルホン酸，塩酸，硫酸などが挙げられ、なかでも
ｐ-トルエンスルホン酸，塩酸が好ましい。酸の使用量
は、例えば化合物（XVIII）に対し、0.1〜10当量であ
る。反応温度は、例えば-10〜100℃、好ましくは30〜10
0℃である。反応時間は、例えば10分〜10時間である。
しない溶媒中、酸と接触させることにより、化合物（XV
II）を製造する。反応を阻害しない溶媒としては、例え
ば水；メチルアルコール，エチルアルコール，プロピル
アルコール，イソプロピルアルコールなどのアルコール
類；ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ジオ
キサン，テトラヒドロフラン（THF）などのエーテル
類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトン，メチルエ
チルケトンなどのケトン類；クロロホルム，ジクロロメ
タン，1,2-ジクロロエタン，1,1,2,2-テトラクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン，トルエン，
キシレンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミ
ン類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド
類；アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられ
る。これらの溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合
して用いてもよい。溶媒は、特に好ましくは水，イソプ
ロピルアルコール，THF，酢酸エチルまたはジクロロメ
タンである。溶媒中の化合物（XVIII）の濃度は、例え
ば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／ｗ）％で
ある。酸としては、例えばメタンスルホン酸，ｐ-トル
エンスルホン酸，塩酸，硫酸などが挙げられ、なかでも
ｐ-トルエンスルホン酸，塩酸が好ましい。酸の使用量
は、例えば化合物（XVIII）に対し、0.1〜10当量であ
る。反応温度は、例えば-10〜100℃、好ましくは30〜10
0℃である。反応時間は、例えば10分〜10時間である。
【００５０】また、化合物（XXII）と化合物（XXI）と
を有機溶媒中、塩基の存在下に反応させ、化合物（XX）
を製造する。有機溶媒としては、反応を阻害しないもの
であればよく、具体的には、ジエチルエーテル，ジイソ
プロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン
（THF）などのエーテル類；ベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン
類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド類；
アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。こ
れらの有機溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合し
て用いてもよい。有機溶媒は、特に好ましくはTHFまた
はＤＭＦである。有機溶媒中の化合物（XXII）の濃度
は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／
ｗ）％である。塩基としては、例えば水素化ナトリウム
などの水素化アルカリ金属；ナトリウムメトキシド，ナ
トリウムt-ブトキシド，カリウムt-ブトキシドなどのア
ルカリ金属Ｃ1-4アルコキシドなどが挙げられ、なかで
もナトリウムメトキシドが好ましい。塩基の使用量は、
例えば化合物（XXII）に対し、1〜10当量である。化合
物（XXI）の使用量は、例えば化合物（XXII）に対し、1
〜5当量である。反応温度は、例えば-10〜100℃、好ま
しくは30〜80℃である。反応時間は、例えば30分〜10時
間である。
を有機溶媒中、塩基の存在下に反応させ、化合物（XX）
を製造する。有機溶媒としては、反応を阻害しないもの
であればよく、具体的には、ジエチルエーテル，ジイソ
プロピルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン
（THF）などのエーテル類；ベンゼン，トルエン，キシ
レンなどの芳香族炭化水素類；ピリジンなどのアミン
類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド類；
アセトニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。こ
れらの有機溶媒は、その２種以上を適宜の割合で混合し
て用いてもよい。有機溶媒は、特に好ましくはTHFまた
はＤＭＦである。有機溶媒中の化合物（XXII）の濃度
は、例えば1〜50（ｗ／ｗ）％、好ましくは5〜20（ｗ／
ｗ）％である。塩基としては、例えば水素化ナトリウム
などの水素化アルカリ金属；ナトリウムメトキシド，ナ
トリウムt-ブトキシド，カリウムt-ブトキシドなどのア
ルカリ金属Ｃ1-4アルコキシドなどが挙げられ、なかで
もナトリウムメトキシドが好ましい。塩基の使用量は、
例えば化合物（XXII）に対し、1〜10当量である。化合
物（XXI）の使用量は、例えば化合物（XXII）に対し、1
〜5当量である。反応温度は、例えば-10〜100℃、好ま
しくは30〜80℃である。反応時間は、例えば30分〜10時
間である。
【００５１】ついで、得られる化合物（XX）を、加水分
解反応および脱炭酸反応に付すことにより、化合物（XV
II）を製造する。ここで、加水分解反応は、化合物（II
I）またはその塩の加水分解と同様にして行われる。ま
た、脱炭酸反応は、前記した化合物（VI）の脱炭酸反応
と同様にして行われる。
解反応および脱炭酸反応に付すことにより、化合物（XV
II）を製造する。ここで、加水分解反応は、化合物（II
I）またはその塩の加水分解と同様にして行われる。ま
た、脱炭酸反応は、前記した化合物（VI）の脱炭酸反応
と同様にして行われる。
【００５２】化合物（Ｉ）またはその塩は、毒性が低く
安全で、血糖および血中脂質低下作用およびインスリン
感受性増強作用を有し、糖尿病治療剤として有用であ
る。化合物（Ｉ）またはその塩は、例えばEP-A 71065
9，EP-A 612743等に記載の方法〔薬効、投与対象、対象
疾患、投与量、投与経路、投与形態（剤形）〕により、
医薬として用いられる。
安全で、血糖および血中脂質低下作用およびインスリン
感受性増強作用を有し、糖尿病治療剤として有用であ
る。化合物（Ｉ）またはその塩は、例えばEP-A 71065
9，EP-A 612743等に記載の方法〔薬効、投与対象、対象
疾患、投与量、投与経路、投与形態（剤形）〕により、
医薬として用いられる。
【００５３】
【発明の実施の形態】以下に参考例および実施例を挙げ
て本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない．また、％は特記しない限り
重量％を、混合溶媒における（）内の比率は容積比を示
す。光学活性体の光学純度は、鏡像体過剰率（％e.e.）
で評価した。該鏡像体過剰率は、以下に示す条件下での
高速液体クロマトグラフィーを用い、次式により求め
た。 鏡像体過剰率（％e.e.）＝１００×［（Ｒ）−（Ｓ）］
／［（Ｒ）＋（Ｓ）］ ［式中、（Ｒ）および（Ｓ）は、鏡像体の絶対配置、お
よび各鏡像体の高速液体クロマトグラフィーにおける面
積を示す］ （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AD(ダイセル化学工業株式会社製)
（粒径：10μm； カラム径：4.6mm； カラム長：250m
m） 移動層：n-ヘキサン／2-プロパノール＝80／20（v／v） 流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ 温度：３５℃ 検出：UV254nm
て本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない．また、％は特記しない限り
重量％を、混合溶媒における（）内の比率は容積比を示
す。光学活性体の光学純度は、鏡像体過剰率（％e.e.）
で評価した。該鏡像体過剰率は、以下に示す条件下での
高速液体クロマトグラフィーを用い、次式により求め
た。 鏡像体過剰率（％e.e.）＝１００×［（Ｒ）−（Ｓ）］
／［（Ｒ）＋（Ｓ）］ ［式中、（Ｒ）および（Ｓ）は、鏡像体の絶対配置、お
よび各鏡像体の高速液体クロマトグラフィーにおける面
積を示す］ （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AD(ダイセル化学工業株式会社製)
（粒径：10μm； カラム径：4.6mm； カラム長：250m
m） 移動層：n-ヘキサン／2-プロパノール＝80／20（v／v） 流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ 温度：３５℃ 検出：UV254nm
【００５４】
参考例１ 4-ヒドロキシ-3-メトキシベンズアルデヒド 313.7g(2.0
6モル)，ベンジルクロライド 312.9g(2.47モル)，炭酸
カリウム 370g(2.68モル)をエチルアルコール(以下、Et
OHと略記する) 3.5Ｌに加え、加熱還流下に4時間反応さ
せた。反応終了後、反応液を減圧下に約半量まで濃縮
し、氷水 2.5Ｌを加え、酢酸エチル(2Ｌ×2)で抽出し
た。抽出液を水洗(1Ｌ×2)後、濃縮乾固した。残渣にジ
イソプロピルエーテル(以下、IPEと略記する)／n-ヘキ
サン（１：１）混合溶媒 1Ｌを加え、0〜5℃で2時間撹
拌した。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE 500mlで
洗浄後、40℃で5時間真空乾燥し、4-ベンジルオキシ-3-
メトキシベンズアルデヒド 398.9g(収率79.9％)を得
た。（融点62〜63℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：9.84(1H, s, CHO), 7.5-7.3(6H,
m, benzenes'H), 6.99(1H, d, benzenes'H, J=8.10H
z), 5.25(2H, s, φ-CH2O-φ), 3.95(3H, s, φ-OCH3).
6モル)，ベンジルクロライド 312.9g(2.47モル)，炭酸
カリウム 370g(2.68モル)をエチルアルコール(以下、Et
OHと略記する) 3.5Ｌに加え、加熱還流下に4時間反応さ
せた。反応終了後、反応液を減圧下に約半量まで濃縮
し、氷水 2.5Ｌを加え、酢酸エチル(2Ｌ×2)で抽出し
た。抽出液を水洗(1Ｌ×2)後、濃縮乾固した。残渣にジ
イソプロピルエーテル(以下、IPEと略記する)／n-ヘキ
サン（１：１）混合溶媒 1Ｌを加え、0〜5℃で2時間撹
拌した。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE 500mlで
洗浄後、40℃で5時間真空乾燥し、4-ベンジルオキシ-3-
メトキシベンズアルデヒド 398.9g(収率79.9％)を得
た。（融点62〜63℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：9.84(1H, s, CHO), 7.5-7.3(6H,
m, benzenes'H), 6.99(1H, d, benzenes'H, J=8.10H
z), 5.25(2H, s, φ-CH2O-φ), 3.95(3H, s, φ-OCH3).
【００５５】参考例２ 参考例１で得られた4-ベンジルオキシ-3-メトキシベン
ズアルデヒド 420g(1.73モル)，トリエチルホスホノ酢
酸 428.2 g(1.91モル)をジメチルホルムアミド(以下、D
MFと略記する) 1.7Ｌに加えた。得られる混合物に、10
℃以下でカリウムt-ブトキシド（以下、t-BuOKと略記す
る）232.9g(2.08モル)を加え、室温（20〜30℃）で30分
反応させた。反応混合物に氷水 3.4Ｌを加え、酢酸エチ
ル(2Ｌ×2)で抽出した。抽出液を水洗(1Ｌ×2)後、減圧
下に約800mlまで濃縮した。得られる濃縮物にIPE／n-ヘ
キサン（１：３）混合溶媒 1Ｌを加え、0〜10℃で2時間
撹拌した。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE／n-ヘ
キサン（１：３）混合溶媒(500ml)で洗浄後、40℃で5時
間真空乾燥し、4-ベンジルオキシ-3-メトキシケイヒ酸
エチル 455g(収率84.0％)を得た。（融点67℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：9.84(1H, d, φ-CH=CH-, J=16H
z), 7.5-7.3(5H, m, benzenes'H), 7.1-7.0(2H, m, ben
zenes'H), 6.9-6.8(1H, m, benzenes'H), 6.30(1H, d,
φ-CH=CH-, J=16Hz), 5.19(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.26
(2H, q, -CH2-CH3,J=7.2Hz), 3.91(3H, s, φ-OCH3),
1.33(3H, t, -CH2-CH3, J=7.2Hz).
ズアルデヒド 420g(1.73モル)，トリエチルホスホノ酢
酸 428.2 g(1.91モル)をジメチルホルムアミド(以下、D
MFと略記する) 1.7Ｌに加えた。得られる混合物に、10
℃以下でカリウムt-ブトキシド（以下、t-BuOKと略記す
る）232.9g(2.08モル)を加え、室温（20〜30℃）で30分
反応させた。反応混合物に氷水 3.4Ｌを加え、酢酸エチ
ル(2Ｌ×2)で抽出した。抽出液を水洗(1Ｌ×2)後、減圧
下に約800mlまで濃縮した。得られる濃縮物にIPE／n-ヘ
キサン（１：３）混合溶媒 1Ｌを加え、0〜10℃で2時間
撹拌した。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE／n-ヘ
キサン（１：３）混合溶媒(500ml)で洗浄後、40℃で5時
間真空乾燥し、4-ベンジルオキシ-3-メトキシケイヒ酸
エチル 455g(収率84.0％)を得た。（融点67℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：9.84(1H, d, φ-CH=CH-, J=16H
z), 7.5-7.3(5H, m, benzenes'H), 7.1-7.0(2H, m, ben
zenes'H), 6.9-6.8(1H, m, benzenes'H), 6.30(1H, d,
φ-CH=CH-, J=16Hz), 5.19(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.26
(2H, q, -CH2-CH3,J=7.2Hz), 3.91(3H, s, φ-OCH3),
1.33(3H, t, -CH2-CH3, J=7.2Hz).
【００５６】参考例３ 4-ヒドロキシ-3-メトキシケイヒ酸 50.0g(0.257モル)，
炭酸カリウム 88.8g(0.643モル，粉末状)をEtOH 380ml
に加え、加熱還流下に30分間撹拌した。得られる混合物
を穏やかに還流しながらベンジルクロライド 81.3g(0.6
43モル)を約1.5時間で滴下し、加熱還流下に3時間反応
させた。反応終了後、反応液を減圧下に約半量まで濃縮
し、水１Ｌを加えた後、酢酸エチル(500ml×2)で抽出し
た。抽出液を水洗(200ml×2) 後、減圧下に約120mlまで
濃縮した。得られる濃縮物にIPE／n-ヘキサン（１：
３）混合溶媒 150mlを加え、0〜10℃で2時間撹拌した。
析出した結晶をろ取し、これを冷IPE／n-ヘキサン
（１：３）混合溶媒 70mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾
燥し、4-ベンジルオキシ-3-メトキシケイヒ酸エチル 6
7.7g(収率84.3％)を得た。（融点67℃）
炭酸カリウム 88.8g(0.643モル，粉末状)をEtOH 380ml
に加え、加熱還流下に30分間撹拌した。得られる混合物
を穏やかに還流しながらベンジルクロライド 81.3g(0.6
43モル)を約1.5時間で滴下し、加熱還流下に3時間反応
させた。反応終了後、反応液を減圧下に約半量まで濃縮
し、水１Ｌを加えた後、酢酸エチル(500ml×2)で抽出し
た。抽出液を水洗(200ml×2) 後、減圧下に約120mlまで
濃縮した。得られる濃縮物にIPE／n-ヘキサン（１：
３）混合溶媒 150mlを加え、0〜10℃で2時間撹拌した。
析出した結晶をろ取し、これを冷IPE／n-ヘキサン
（１：３）混合溶媒 70mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾
燥し、4-ベンジルオキシ-3-メトキシケイヒ酸エチル 6
7.7g(収率84.3％)を得た。（融点67℃）
【００５７】参考例４ 参考例３で得られた4-ベンジルオキシ-3-メトキシケイ
ヒ酸エチル 187.4g(0.60モル) 及び水素化ホウ素ナトリ
ウム 126.1g(90％, 3.0モル)をテトラヒドロフラン(以
下、THFと略記する) 1.7Ｌに加えた。混合物を窒素気流
下穏やかに加熱還流しながら、メチルアルコール（以
下、MeOHと略記する）650mlを約1.5時間で滴下し、加熱
還流下で4時間反応させた。反応終了後、反応液を減圧
下に約半量まで濃縮し、水 2Ｌを加えた後、酢酸エチル
(600ml×2)で抽出した。抽出液を水洗(300ml×3)後、約
400mlまで濃縮した。得られる濃縮物にIPE 400mlを加
え、0〜10℃で2時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、
これを冷IPE 200mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾燥した
(第一結晶)。また、ろ液を約100mlまで濃縮し、得られ
る濃縮物にIPE 100mlを加え、0〜10℃で2時間撹拌し
た。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE 50mlで洗浄
後、40℃で5時間真空乾燥した(第二結晶)。第一結晶お
よび第二結晶をあわせて、3-(4-ベンジルオキシ-3-メト
キシフェニル)プロピルアルコール 133.2g(収率81.5％)
を得た。（融点76℃）
ヒ酸エチル 187.4g(0.60モル) 及び水素化ホウ素ナトリ
ウム 126.1g(90％, 3.0モル)をテトラヒドロフラン(以
下、THFと略記する) 1.7Ｌに加えた。混合物を窒素気流
下穏やかに加熱還流しながら、メチルアルコール（以
下、MeOHと略記する）650mlを約1.5時間で滴下し、加熱
還流下で4時間反応させた。反応終了後、反応液を減圧
下に約半量まで濃縮し、水 2Ｌを加えた後、酢酸エチル
(600ml×2)で抽出した。抽出液を水洗(300ml×3)後、約
400mlまで濃縮した。得られる濃縮物にIPE 400mlを加
え、0〜10℃で2時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、
これを冷IPE 200mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾燥した
(第一結晶)。また、ろ液を約100mlまで濃縮し、得られ
る濃縮物にIPE 100mlを加え、0〜10℃で2時間撹拌し
た。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE 50mlで洗浄
後、40℃で5時間真空乾燥した(第二結晶)。第一結晶お
よび第二結晶をあわせて、3-(4-ベンジルオキシ-3-メト
キシフェニル)プロピルアルコール 133.2g(収率81.5％)
を得た。（融点76℃）
【００５８】参考例５ 参考例３で得られた4-ベンジルオキシ-3-メトキシケイ
ヒ酸エチル 25.0g(0.08モル) 及び 水素化ホウ素ナトリ
ウム 16.8g(90％，0.44モル)をTHF 95m1に加えた。混合
物を窒素気流下穏やかに加熱還流しながら、MeOH 87ml
を約2.5時間で滴下し、加熱還流下に1時間反応させた。
反応終了後、反応液を減圧下に約半量まで濃縮し、水 1
50mlを加えた後、酢酸エチル(100ml×2)で抽出した。抽
出液を水洗(300ml×3)後、濃縮乾固した。残留物をTHF
250mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム 3.75g(90％，
0.089モル)を加えた。ついで、塩化コバルト６水和物
1.25gをMeOH 125mlに溶解して得られる溶液を2〜5℃で
約20分で滴下し、1時間反応させた。反応終了後、反応
液を冷却し、6Ｎ塩酸 50mlと水 370mlを加え、酢酸エチ
ル(100ml×2)で抽出した。抽出液を水洗(300ml×3)後、
濃縮乾固し、3-(4-ベンジルオキシ-3-メトキシフェニ
ル)プロピルアルコール 22g（収率100％）を油状物とし
て得た。
ヒ酸エチル 25.0g(0.08モル) 及び 水素化ホウ素ナトリ
ウム 16.8g(90％，0.44モル)をTHF 95m1に加えた。混合
物を窒素気流下穏やかに加熱還流しながら、MeOH 87ml
を約2.5時間で滴下し、加熱還流下に1時間反応させた。
反応終了後、反応液を減圧下に約半量まで濃縮し、水 1
50mlを加えた後、酢酸エチル(100ml×2)で抽出した。抽
出液を水洗(300ml×3)後、濃縮乾固した。残留物をTHF
250mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム 3.75g(90％，
0.089モル)を加えた。ついで、塩化コバルト６水和物
1.25gをMeOH 125mlに溶解して得られる溶液を2〜5℃で
約20分で滴下し、1時間反応させた。反応終了後、反応
液を冷却し、6Ｎ塩酸 50mlと水 370mlを加え、酢酸エチ
ル(100ml×2)で抽出した。抽出液を水洗(300ml×3)後、
濃縮乾固し、3-(4-ベンジルオキシ-3-メトキシフェニ
ル)プロピルアルコール 22g（収率100％）を油状物とし
て得た。
【００５９】参考例６ 参考例５で得られた3-(4-ベンジルオキシ-3-メトキシフ
ェニル)プロピルアルコール 382.8g(1.41モル) とトリ
エチルアミン 202g(2.0モル)を酢酸エチル 2.0Ｌに加え
た。得られる混合物に、メタンスルホニルクロライド 1
95.0g(1.7モル)を10〜15℃で約1時間で滴下し、ついで
同温度で1時間反応させた。反応終了後、水 2.0Ｌを加
え、有機層を分液し、水層を酢酸エチル500mlで抽出し
た。抽出液を合わせ、1N-HCl 700ml，水 700ml，飽和食
塩水 700ml，水 700mlで順次洗浄した。洗浄した抽出液
を約400mlまで濃縮し、IPE 400mlを加えて、0〜10℃で2
時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE 10
0mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾燥して、1-(4-ベンジ
ルオキシ-3-メトキシフェニル)-3-メタンスルホニルプ
ロパン 348.2g(収率70.7％)を得た。（融点86〜87℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.5-7.3(5H, m, benzenes'H),
6.8-6.6(3H, m, benzenes'H), 5.13(2H, s, φ-CH2O-
φ), 4.22(2H, t, -CH2-OSO2-CH3, J=6.4Hz), 3.89(3H,
s, φOCH3), 2.99(3H, s, -CH2-OSO2-CH3), 2.69(2H,
t, φ-CH2-CH2-CH2-,J=7.8Hz), 2.05(2H, dd, φ-CH2-C
H2-CH2-, J=7.8Hz).
ェニル)プロピルアルコール 382.8g(1.41モル) とトリ
エチルアミン 202g(2.0モル)を酢酸エチル 2.0Ｌに加え
た。得られる混合物に、メタンスルホニルクロライド 1
95.0g(1.7モル)を10〜15℃で約1時間で滴下し、ついで
同温度で1時間反応させた。反応終了後、水 2.0Ｌを加
え、有機層を分液し、水層を酢酸エチル500mlで抽出し
た。抽出液を合わせ、1N-HCl 700ml，水 700ml，飽和食
塩水 700ml，水 700mlで順次洗浄した。洗浄した抽出液
を約400mlまで濃縮し、IPE 400mlを加えて、0〜10℃で2
時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、これを冷IPE 10
0mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾燥して、1-(4-ベンジ
ルオキシ-3-メトキシフェニル)-3-メタンスルホニルプ
ロパン 348.2g(収率70.7％)を得た。（融点86〜87℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.5-7.3(5H, m, benzenes'H),
6.8-6.6(3H, m, benzenes'H), 5.13(2H, s, φ-CH2O-
φ), 4.22(2H, t, -CH2-OSO2-CH3, J=6.4Hz), 3.89(3H,
s, φOCH3), 2.99(3H, s, -CH2-OSO2-CH3), 2.69(2H,
t, φ-CH2-CH2-CH2-,J=7.8Hz), 2.05(2H, dd, φ-CH2-C
H2-CH2-, J=7.8Hz).
【００６０】参考例７ 参考例６で得られた1-(4-ベンジルオキシ-3-メトキシフ
ェニル)-3-メタンスルホニルプロパン 175g(0.5モル)，
シアン化ナトリウム 29.5g(0.60モル，粉末)をDMF 900m
lに加え、80℃で2時間反応させた。反応混合物に水 2.0
Ｌを加え、酢酸エチル(800ml×2)で抽出した。抽出液を
水洗(500ml×2)後、約200mlまで濃縮した。得られる濃
縮物にIPE 200mlを加え、0〜10℃で2時間撹拌した。析
出した結晶をろ取し、これを冷IPE 50mlで洗浄後、40℃
で5時間真空乾燥した(第一結晶)。また、ろ液を乾固近
くまで濃縮し、得られる濃縮物にIPE 100mlを加え、0〜
10℃で2時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、これを
冷IPE 20mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾燥した(第二結
晶)。第一結晶および第二結晶をあわせて、1-(4-ベンジ
ルオキシ-3-メトキシフェニル)-3-シアノプロパン 131.
7g(収率93.7％)を得た。（融点78〜79℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.5-7.3(5H, m, benzenes'H),
6.8-6.6(3H, m, benzenes'H), 5.13(2H, s, φ-CH2O-
φ), 3.88(3H, s, φ-OCH3), 2.71(2H, t, φ-CH2-CH2-
CH2-, J=7.4Hz), 2.30(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.6
Hz), 2.05(2H, dd,φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.8Hz).
ェニル)-3-メタンスルホニルプロパン 175g(0.5モル)，
シアン化ナトリウム 29.5g(0.60モル，粉末)をDMF 900m
lに加え、80℃で2時間反応させた。反応混合物に水 2.0
Ｌを加え、酢酸エチル(800ml×2)で抽出した。抽出液を
水洗(500ml×2)後、約200mlまで濃縮した。得られる濃
縮物にIPE 200mlを加え、0〜10℃で2時間撹拌した。析
出した結晶をろ取し、これを冷IPE 50mlで洗浄後、40℃
で5時間真空乾燥した(第一結晶)。また、ろ液を乾固近
くまで濃縮し、得られる濃縮物にIPE 100mlを加え、0〜
10℃で2時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、これを
冷IPE 20mlで洗浄後、40℃で5時間真空乾燥した(第二結
晶)。第一結晶および第二結晶をあわせて、1-(4-ベンジ
ルオキシ-3-メトキシフェニル)-3-シアノプロパン 131.
7g(収率93.7％)を得た。（融点78〜79℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.5-7.3(5H, m, benzenes'H),
6.8-6.6(3H, m, benzenes'H), 5.13(2H, s, φ-CH2O-
φ), 3.88(3H, s, φ-OCH3), 2.71(2H, t, φ-CH2-CH2-
CH2-, J=7.4Hz), 2.30(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.6
Hz), 2.05(2H, dd,φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.8Hz).
【００６１】参考例８ 参考例７で得られた1-(4-ベンジルオキシ-3-メトキシフ
ェニル)-3-シアノプロパン 10.1 kg(37.0 モル)をEtOH
40Ｌに加え、15℃以下で HCl(ガス，222モル)を吹き込
んだ。その後、ゆっくり昇温し、加熱還流下に3時間反
応させた。反応終了後、反応液を減圧下に溶媒が約半量
になるまで濃縮し、残留物に酢酸エチル15Ｌを加え、10
℃以下で水 10Ｌを加えた。有機層を分液し、水層を酢
酸エチル15Ｌで抽出した。ついで、有機層と抽出液を合
わせ、飽和食塩水(15Ｌ×3)で洗浄後、18Ｌまで濃縮し
た。得られる濃縮液に５％ Pd-C(wet)（500g）を加え、
水素雰囲気下、40℃で４時間反応させた。反応液からPd
-Cをろ去し、ろ液を濃縮して、4-(4-ヒドロキシ-3-メト
キシフェニル)ブタン酸エチル 7.4kg（収量83.9％）を
油状物として得た。1 H-NMR(CDCl3),δppm：6.8-6.7(3H, m, benzenes'H),
5.52(1H, s, φ-OH), 4.13(2H, q, -COOCH2CH3, 7.1H
z), 3.88(3H, s, φ-OCH3), 2.58(2H, t, φ-CH2-CH2-C
H2-, J=7.5Hz), 2.31(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5H
z), 1.94(2H, dd, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.3Hz), 1.25(3
H, t, -COOCH2CH3, 7.1Hz).
ェニル)-3-シアノプロパン 10.1 kg(37.0 モル)をEtOH
40Ｌに加え、15℃以下で HCl(ガス，222モル)を吹き込
んだ。その後、ゆっくり昇温し、加熱還流下に3時間反
応させた。反応終了後、反応液を減圧下に溶媒が約半量
になるまで濃縮し、残留物に酢酸エチル15Ｌを加え、10
℃以下で水 10Ｌを加えた。有機層を分液し、水層を酢
酸エチル15Ｌで抽出した。ついで、有機層と抽出液を合
わせ、飽和食塩水(15Ｌ×3)で洗浄後、18Ｌまで濃縮し
た。得られる濃縮液に５％ Pd-C(wet)（500g）を加え、
水素雰囲気下、40℃で４時間反応させた。反応液からPd
-Cをろ去し、ろ液を濃縮して、4-(4-ヒドロキシ-3-メト
キシフェニル)ブタン酸エチル 7.4kg（収量83.9％）を
油状物として得た。1 H-NMR(CDCl3),δppm：6.8-6.7(3H, m, benzenes'H),
5.52(1H, s, φ-OH), 4.13(2H, q, -COOCH2CH3, 7.1H
z), 3.88(3H, s, φ-OCH3), 2.58(2H, t, φ-CH2-CH2-C
H2-, J=7.5Hz), 2.31(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5H
z), 1.94(2H, dd, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.3Hz), 1.25(3
H, t, -COOCH2CH3, 7.1Hz).
【００６２】参考例９ 参考例８で得られた4-(4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニ
ル)ブタン酸エチル ６．０kg（25.2モル）をEtOH 32Ｌ
に溶解し、ついで4-クロロメチル-2-(2-フリル)-5-メチ
ルオキサゾール 7.3Kg(32.5モル，純度換算)，炭酸カリ
ウム 3.83Kg(34.1モル)を加え、加熱還流下に3.5時間反
応させた。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に水30Ｌを
加え、酢酸エチル(15Ｌ×2)で抽出した。抽出液を飽和
食塩水(15Ｌ×2)で洗浄後、乾燥し、濃縮乾固した。得
られる残渣にIPE 44Ｌを加え、シリカゲルクロマトグラ
フィー(48Ｌ)処理した(溶出溶媒：IPE)。 有効画分〔展開溶媒として酢酸エチル／ｎ−ヘキサン
（１：２）混合溶媒を、シリカゲルとしてシリカゲル60
Ｆ254（メルク社製）を用いて薄層クロマトグラフィー
を行った場合のＲｆ値が0.47〕を約15Ｌまで濃縮し、n-
ヘキサン 30Ｌを加え、10℃以下で1.5時間撹拌した。析
出した結晶をろ取し、IPE／n-ヘキサン（１：２）混合
溶媒 6Ｌで洗浄した後、40℃で5時間真空乾燥し、4-[4-
[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-
メトキシフェニル]ブタン酸エチル 6.15Kgを得た。（融
点50〜51℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.54-7.53(1H, m, furans'H),
6.98-6.91(2H, m, furans'H), 6.7-6.5(3H, m, benzene
s'H), 5.02(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.13(2H, q, -COOCH2
CH3, 7.1Hz), 3.86(3H, s, φ-OCH3), 2.60(2H, t, φ-
CH2-CH2-CH2-, J=7.6Hz), 2.39(3H, s, oxazole-CH3),
2.31(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5Hz),1.95(2H, dd,
φ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−， Ｊ＝７．５，
７．４Ｈｚ）， １．２６（３Ｈ， ｔ， −ＣＯＯＣ
Ｈ２ＣＨ３， ７．１Ｈｚ）．
ル)ブタン酸エチル ６．０kg（25.2モル）をEtOH 32Ｌ
に溶解し、ついで4-クロロメチル-2-(2-フリル)-5-メチ
ルオキサゾール 7.3Kg(32.5モル，純度換算)，炭酸カリ
ウム 3.83Kg(34.1モル)を加え、加熱還流下に3.5時間反
応させた。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に水30Ｌを
加え、酢酸エチル(15Ｌ×2)で抽出した。抽出液を飽和
食塩水(15Ｌ×2)で洗浄後、乾燥し、濃縮乾固した。得
られる残渣にIPE 44Ｌを加え、シリカゲルクロマトグラ
フィー(48Ｌ)処理した(溶出溶媒：IPE)。 有効画分〔展開溶媒として酢酸エチル／ｎ−ヘキサン
（１：２）混合溶媒を、シリカゲルとしてシリカゲル60
Ｆ254（メルク社製）を用いて薄層クロマトグラフィー
を行った場合のＲｆ値が0.47〕を約15Ｌまで濃縮し、n-
ヘキサン 30Ｌを加え、10℃以下で1.5時間撹拌した。析
出した結晶をろ取し、IPE／n-ヘキサン（１：２）混合
溶媒 6Ｌで洗浄した後、40℃で5時間真空乾燥し、4-[4-
[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-
メトキシフェニル]ブタン酸エチル 6.15Kgを得た。（融
点50〜51℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.54-7.53(1H, m, furans'H),
6.98-6.91(2H, m, furans'H), 6.7-6.5(3H, m, benzene
s'H), 5.02(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.13(2H, q, -COOCH2
CH3, 7.1Hz), 3.86(3H, s, φ-OCH3), 2.60(2H, t, φ-
CH2-CH2-CH2-, J=7.6Hz), 2.39(3H, s, oxazole-CH3),
2.31(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5Hz),1.95(2H, dd,
φ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−， Ｊ＝７．５，
７．４Ｈｚ）， １．２６（３Ｈ， ｔ， −ＣＯＯＣ
Ｈ２ＣＨ３， ７．１Ｈｚ）．
【００６３】参考例１０ 参考例９で得られた４−［４−［２−（２−フリル)-5-
メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]
ブタン酸エチル 550g(1.38モル)，シュウ酸ジエチル 60
5.0g(4.14モル)をEtOH 820mlに溶解した。得られる溶液
に、室温でt-BuOK 309.7g(2.76モル)を加え、50℃で3時
間反応させた。反応液を冷却し、水 2.0Ｌを加えた後、
2N-HClでpHを6.0に調整した。得られる混合液を酢酸エ
チル(2Ｌ×2)で抽出し、水洗(2Ｌ×2)後、濃縮乾固し、
油状物を得た。この油状物をジメチルスホキシド/水
(4.2Ｌ/420ml)混合溶媒に加え、窒素気流下120℃で7時
間反応させた。反応終了後、反応液を冷却し、氷水 5.5
Ｌに注ぎ、トルエン(2.5Ｌ×2)で抽出し、飽和食塩水(2
Ｌ×2)で洗浄した。トルエン層をフロリジール（和光純
薬製、100〜200メッシュ） 1.2kgに通し、トルエンで洗
浄した。洗浄したトルエン層を、以下の条件で高速液体
クロマトグラフィーに付した。 〔カラム：Develosil ODS-UG-3（野村化学製） （カラム径：4.6mm；カラム長：75mm） 移動層：0.05Ｍリン酸二水素カリウム／アセトニトリル
（１：１）混合溶媒 流速：1.0ml/min 温度：35℃ 検出：UV288nm〕 ついで、高速液体クロマトグラフィーでの保持時間が8.
8分となる画分を集め、これを約800mlになるまで減圧下
濃縮した後、濃縮物にIPE 2.5ＬとEtOH 160mlを加え、
室温（20〜30℃）で結晶が析出するまで撹拌した。その
後、10℃以下で1時間撹拌し、結晶をろ取した。得られ
る粗結晶を酢酸エチル 400mlとIPE 1.7Ｌの混合溶媒に
加熱溶解し、徐冷した。得られる溶液に25℃でEtOH 80m
lを加え、ついで5℃以下で2時間撹拌した。析出した結
晶をろ取し、これをIPE 80mlで洗浄した後、40℃で5時
間真空乾燥し、5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサ
ゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-2-オキソペンタ
ン酸エチル 419g(収率71.2％)を得た。1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.53-7.52(1H, m, furans'H),
6.97-6.91(2H, m, furans'H), 6.7-6.5(3H, m, benzene
s'H), 5.02(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.30(2H, q, -COOCH2
CH3, J=7.1Hz), 3.85(3H, s, φ-OCH3), 2.84(2H, t,
φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.2Hz), 2.61(2H, t, φ-CH2-CH2-
CH2-, J=7.4Hz), 2.39(3H, s, oxazole-CH3), 1.95(2H,
dd, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5, 7.4Hz), 1.35(3H, t, -
COOCH2CH3, 7.1Hz).
メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]
ブタン酸エチル 550g(1.38モル)，シュウ酸ジエチル 60
5.0g(4.14モル)をEtOH 820mlに溶解した。得られる溶液
に、室温でt-BuOK 309.7g(2.76モル)を加え、50℃で3時
間反応させた。反応液を冷却し、水 2.0Ｌを加えた後、
2N-HClでpHを6.0に調整した。得られる混合液を酢酸エ
チル(2Ｌ×2)で抽出し、水洗(2Ｌ×2)後、濃縮乾固し、
油状物を得た。この油状物をジメチルスホキシド/水
(4.2Ｌ/420ml)混合溶媒に加え、窒素気流下120℃で7時
間反応させた。反応終了後、反応液を冷却し、氷水 5.5
Ｌに注ぎ、トルエン(2.5Ｌ×2)で抽出し、飽和食塩水(2
Ｌ×2)で洗浄した。トルエン層をフロリジール（和光純
薬製、100〜200メッシュ） 1.2kgに通し、トルエンで洗
浄した。洗浄したトルエン層を、以下の条件で高速液体
クロマトグラフィーに付した。 〔カラム：Develosil ODS-UG-3（野村化学製） （カラム径：4.6mm；カラム長：75mm） 移動層：0.05Ｍリン酸二水素カリウム／アセトニトリル
（１：１）混合溶媒 流速：1.0ml/min 温度：35℃ 検出：UV288nm〕 ついで、高速液体クロマトグラフィーでの保持時間が8.
8分となる画分を集め、これを約800mlになるまで減圧下
濃縮した後、濃縮物にIPE 2.5ＬとEtOH 160mlを加え、
室温（20〜30℃）で結晶が析出するまで撹拌した。その
後、10℃以下で1時間撹拌し、結晶をろ取した。得られ
る粗結晶を酢酸エチル 400mlとIPE 1.7Ｌの混合溶媒に
加熱溶解し、徐冷した。得られる溶液に25℃でEtOH 80m
lを加え、ついで5℃以下で2時間撹拌した。析出した結
晶をろ取し、これをIPE 80mlで洗浄した後、40℃で5時
間真空乾燥し、5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサ
ゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-2-オキソペンタ
ン酸エチル 419g(収率71.2％)を得た。1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.53-7.52(1H, m, furans'H),
6.97-6.91(2H, m, furans'H), 6.7-6.5(3H, m, benzene
s'H), 5.02(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.30(2H, q, -COOCH2
CH3, J=7.1Hz), 3.85(3H, s, φ-OCH3), 2.84(2H, t,
φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.2Hz), 2.61(2H, t, φ-CH2-CH2-
CH2-, J=7.4Hz), 2.39(3H, s, oxazole-CH3), 1.95(2H,
dd, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5, 7.4Hz), 1.35(3H, t, -
COOCH2CH3, 7.1Hz).
【００６４】参考例１１ 4-ヒドロキシ-3-メトキシベンズアルデヒド 269.0g(1.7
68モル)，4-クロロメチル-2-(2-フリル)-5-メチルオキ
サゾール 419.3g(2.122モル，純度 88.0％)，炭酸カリ
ウム 317.7g(2.298モル)をEtOH 2.0Ｌに加え、これを70
℃で1時間撹拌した。ついで、EtOH 1.0Ｌを加え、穏や
かな還流下、81℃でさらに2時間撹拌した。得られる反
応液を約半分になるまで濃縮した後、水約1.5Ｌを加
え、氷水浴中、1時間撹拌した。析出した茶色粉末をろ
取し、これを水／EtOH（0.60Ｌ／0.40Ｌ）混合溶媒で洗
浄後、水1.0Ｌ，0.50Ｌで2回洗浄した。洗浄物を、減圧
下、40℃で1日間乾燥させ、茶色粉末状の4-[2-(2-フリ
ル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシベ
ンズアルデヒド 463.6 g(収率83.6％)を得た。
68モル)，4-クロロメチル-2-(2-フリル)-5-メチルオキ
サゾール 419.3g(2.122モル，純度 88.0％)，炭酸カリ
ウム 317.7g(2.298モル)をEtOH 2.0Ｌに加え、これを70
℃で1時間撹拌した。ついで、EtOH 1.0Ｌを加え、穏や
かな還流下、81℃でさらに2時間撹拌した。得られる反
応液を約半分になるまで濃縮した後、水約1.5Ｌを加
え、氷水浴中、1時間撹拌した。析出した茶色粉末をろ
取し、これを水／EtOH（0.60Ｌ／0.40Ｌ）混合溶媒で洗
浄後、水1.0Ｌ，0.50Ｌで2回洗浄した。洗浄物を、減圧
下、40℃で1日間乾燥させ、茶色粉末状の4-[2-(2-フリ
ル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシベ
ンズアルデヒド 463.6 g(収率83.6％)を得た。
【００６５】参考例１２ 参考例１１で得られた4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オ
キサゾリルメトキシ]-3-メトキシベンズアルデヒド 18.
8g(60ミリモル)をDMF 200mlに加え、窒素気流下、26℃
で撹拌しながら、メトキシメチルトリフェニルホスホニ
ウムクロライド 24.7g(72ミリモル)を加えた。ついで、
t-BuOK 10.1g(90ミリモル)を少量ずつ加えた。得られる
反応溶液を水約600mlに加え、酢酸エチル(250 ml×4)で
抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、茶色油
状物の化合物 42.8gを得た。該化合物をシリカゲルクロ
マトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン-酢酸エチル(67：
33))で精製し、黄色粉末状の1-[2-(2-フリル)-5-メチル
-4-オキサゾリルメトキシ]-2-メトキシ-4-(2-メトキシ
ビニル)ベンゼン 14.5g(収率70.8％)を得た。（融点89.
7〜91.2℃）1 H-NMR (400 MHz, CDCl3)：d 2.39(3H, s, -CH3), 3.66
(3H, s, trans-OCH3), 3.76(3H, s, cis-OCH3), 3.86(3
H, s, fOCH3), 5.02(2H, s,-OCH2-), 5.14(1H, d, J=7.
0, cis-=CH(OCH3)), 5.76(1H, d, J=12.9, trans-=CH(O
CH3)), 6.06(1H,d, J=7.0, cis-fCH=), 6.94(1H, d, J=
12.8, trans-fCH=), 6.50-6.52(1H, q, furyl), 6.72-
6.97(4H, m, aryl, furyl), 7.52-7.53(1H, t, furyl).
キサゾリルメトキシ]-3-メトキシベンズアルデヒド 18.
8g(60ミリモル)をDMF 200mlに加え、窒素気流下、26℃
で撹拌しながら、メトキシメチルトリフェニルホスホニ
ウムクロライド 24.7g(72ミリモル)を加えた。ついで、
t-BuOK 10.1g(90ミリモル)を少量ずつ加えた。得られる
反応溶液を水約600mlに加え、酢酸エチル(250 ml×4)で
抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、茶色油
状物の化合物 42.8gを得た。該化合物をシリカゲルクロ
マトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン-酢酸エチル(67：
33))で精製し、黄色粉末状の1-[2-(2-フリル)-5-メチル
-4-オキサゾリルメトキシ]-2-メトキシ-4-(2-メトキシ
ビニル)ベンゼン 14.5g(収率70.8％)を得た。（融点89.
7〜91.2℃）1 H-NMR (400 MHz, CDCl3)：d 2.39(3H, s, -CH3), 3.66
(3H, s, trans-OCH3), 3.76(3H, s, cis-OCH3), 3.86(3
H, s, fOCH3), 5.02(2H, s,-OCH2-), 5.14(1H, d, J=7.
0, cis-=CH(OCH3)), 5.76(1H, d, J=12.9, trans-=CH(O
CH3)), 6.06(1H,d, J=7.0, cis-fCH=), 6.94(1H, d, J=
12.8, trans-fCH=), 6.50-6.52(1H, q, furyl), 6.72-
6.97(4H, m, aryl, furyl), 7.52-7.53(1H, t, furyl).
【００６６】参考例１３ 参考例１２で得られた1-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オ
キサゾリルメトキシ]-2-メトキシ-4-(2-メトキシビニ
ル)ベンゼン 37.6g(0.110モル)、ｐ−トルエンスルホン
酸 3.04g(0.0160モル)をイソプロピルアルコール（以
下、IPAと略記する）／水（250ml／250ml）混合溶媒に
加え、アルゴン気流下、85℃で還流させながら、5時間
撹拌した。反応溶液を約30℃まで冷却した後、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加えてpHを6.9に調整し、つい
で酢酸エチル 300ml，200mlで抽出した。酢酸エチル層
を合わせ、これを食塩水 550mlで洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮し、橙色油状物の化合物 51.7gを
得た。この化合物にIPE 60mlを加え、室温で1.5時間撹
拌した後、一晩静置した。析出した粉末をろ取し、これ
をIPEで洗浄し、褐色粉末状の4-[2-(2-フリル)-5-メチ
ル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニルアセ
トアルデヒド 28.8g(収率80.1％)を得た。（融点97.2〜
98.2℃）1 H-NMR (400 MHz, CDCl3)：d 2.40(3H, s, -CH3), 3.62
(2H, d, J=2.4, -CH2CHO), 3.86(3H, s, -OCH3), 5.04
(2H, s, -CH2O), 6.51-6.52(1H, m, furyl), 6.72-6.76
(3H, m, aryl, furyl), 6.96-7.03(1H, m, aryl), 7.52
-7.53(1H, m, furyl), 9.72(1H, t, J=2.4, -CHO)
キサゾリルメトキシ]-2-メトキシ-4-(2-メトキシビニ
ル)ベンゼン 37.6g(0.110モル)、ｐ−トルエンスルホン
酸 3.04g(0.0160モル)をイソプロピルアルコール（以
下、IPAと略記する）／水（250ml／250ml）混合溶媒に
加え、アルゴン気流下、85℃で還流させながら、5時間
撹拌した。反応溶液を約30℃まで冷却した後、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液を加えてpHを6.9に調整し、つい
で酢酸エチル 300ml，200mlで抽出した。酢酸エチル層
を合わせ、これを食塩水 550mlで洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥、濃縮し、橙色油状物の化合物 51.7gを
得た。この化合物にIPE 60mlを加え、室温で1.5時間撹
拌した後、一晩静置した。析出した粉末をろ取し、これ
をIPEで洗浄し、褐色粉末状の4-[2-(2-フリル)-5-メチ
ル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニルアセ
トアルデヒド 28.8g(収率80.1％)を得た。（融点97.2〜
98.2℃）1 H-NMR (400 MHz, CDCl3)：d 2.40(3H, s, -CH3), 3.62
(2H, d, J=2.4, -CH2CHO), 3.86(3H, s, -OCH3), 5.04
(2H, s, -CH2O), 6.51-6.52(1H, m, furyl), 6.72-6.76
(3H, m, aryl, furyl), 6.96-7.03(1H, m, aryl), 7.52
-7.53(1H, m, furyl), 9.72(1H, t, J=2.4, -CHO)
【００６７】参考例１４ 参考例１３で得られた4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オ
キサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニルアセトアルデ
ヒド 7.09g(0.0216モル)，ジエチルホスホノ酢酸エチル
5.34g(0.0238モル)をDMF 50mlに加え、窒素気流下、氷
水浴中、5℃で撹拌した。得られる混合液に、t-BuOK 2.
92g(0.026ミリモル)を少量ずつ5-10℃で10分で加え、1
時間撹拌した。反応液を氷水約150 mlに加え、酢酸エチ
ル 150ml，100mlで2回抽出した。酢酸エチル層を合わ
せ、これを食塩水 100mlで2回洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮し、茶色油状の化合物 8.84gを得
た。この化合物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出
溶媒：ヘキサン-酢酸エチル(67：33)）で精製し、薄黄
色粉末状の4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリル
メトキシ]-3-メトキシフェニル]-1-ブテン酸エチル 5.0
2g(収率58.4％)を得た。（融点81.2〜82.4℃）1 H-NMR (400 MHz, CDCl3)：d 1.28(3H, t, J=7.2), 2.4
0(3H, s, -CH3), 3.24(d, J=7.0, -CH2-), 3.88(3H, s,
-OCH3), 4.18(2H, q, J=7.2), 5.05(2H, s, -CH2O-),
6.17(1H, dt, J=15.8, 7.0, -CH=CH-), 6.45(1H, d, J=
15.8, CH=CH-), 6.52(1H, m, aryl), 6.83-6.98(4H, m,
aryl), 7.53(1H, m, aryl)
キサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニルアセトアルデ
ヒド 7.09g(0.0216モル)，ジエチルホスホノ酢酸エチル
5.34g(0.0238モル)をDMF 50mlに加え、窒素気流下、氷
水浴中、5℃で撹拌した。得られる混合液に、t-BuOK 2.
92g(0.026ミリモル)を少量ずつ5-10℃で10分で加え、1
時間撹拌した。反応液を氷水約150 mlに加え、酢酸エチ
ル 150ml，100mlで2回抽出した。酢酸エチル層を合わ
せ、これを食塩水 100mlで2回洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、濃縮し、茶色油状の化合物 8.84gを得
た。この化合物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出
溶媒：ヘキサン-酢酸エチル(67：33)）で精製し、薄黄
色粉末状の4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリル
メトキシ]-3-メトキシフェニル]-1-ブテン酸エチル 5.0
2g(収率58.4％)を得た。（融点81.2〜82.4℃）1 H-NMR (400 MHz, CDCl3)：d 1.28(3H, t, J=7.2), 2.4
0(3H, s, -CH3), 3.24(d, J=7.0, -CH2-), 3.88(3H, s,
-OCH3), 4.18(2H, q, J=7.2), 5.05(2H, s, -CH2O-),
6.17(1H, dt, J=15.8, 7.0, -CH=CH-), 6.45(1H, d, J=
15.8, CH=CH-), 6.52(1H, m, aryl), 6.83-6.98(4H, m,
aryl), 7.53(1H, m, aryl)
【００６８】参考例１５ 参考例１４で得られた4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オ
キサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-1-ブテン酸
エチル 31.7g(0.0798モル)にEtOH 170mlおよび10％ Pd-
C(wet) 17.0gを順次加え、水素雰囲気下3.5時間反応さ
せた。反応液からPd-Cをろ去し、濃縮後、シリカゲルク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン-酢酸エチル(6
7：33)）で精製して、白色粉末の 4-[2-(2-フリル)-5-
メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]
ブタン酸エチル 23.0g（72.3％）を得た。（融点50-51
℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.54-7.53(1H, m, furans'H),
6.98-6.91(2H, m, furans'H), 6.7-6.5(3H, m, benzene
s'H), 5.02(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.13(2H, q, -COOCH2
CH3, 7.1Hz), 3.86(3H, s, φ-OCH3), 2.60(2H, t, φ-
CH2-CH2-CH2-, J=7.6Hz), 2.39(3H, s, oxazole-CH3),
2.31(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5Hz),1.95(2H, dd,
φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5, 7.4Hz), 1.26(3H, t, -COOC
H2CH3, 7.1Hz).
キサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-1-ブテン酸
エチル 31.7g(0.0798モル)にEtOH 170mlおよび10％ Pd-
C(wet) 17.0gを順次加え、水素雰囲気下3.5時間反応さ
せた。反応液からPd-Cをろ去し、濃縮後、シリカゲルク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン-酢酸エチル(6
7：33)）で精製して、白色粉末の 4-[2-(2-フリル)-5-
メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]
ブタン酸エチル 23.0g（72.3％）を得た。（融点50-51
℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.54-7.53(1H, m, furans'H),
6.98-6.91(2H, m, furans'H), 6.7-6.5(3H, m, benzene
s'H), 5.02(2H, s, φ-CH2O-φ), 4.13(2H, q, -COOCH2
CH3, 7.1Hz), 3.86(3H, s, φ-OCH3), 2.60(2H, t, φ-
CH2-CH2-CH2-, J=7.6Hz), 2.39(3H, s, oxazole-CH3),
2.31(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5Hz),1.95(2H, dd,
φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.5, 7.4Hz), 1.26(3H, t, -COOC
H2CH3, 7.1Hz).
【００６９】参考例１６ ジルテニウムテトラクロロ ビス[(R)-2,2'-ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)-1,1'-ビナフチル]トリエチルアミン
（Ru2Cl4((R)-BINAP)2NEt3） 0.567g（0.3ミリモル）を
80mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を行ってか
ら、塩化メチレン20mlおよび四塩化チタン 0.114g（0.6
ミリモル）を加え、室温で３時間かき混ぜた。反応終了
後、減圧下で塩化メチレンを留去し、乾固して、ビス
[ルテニウム[2,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1'-ビ
ナフチル]ヘキサクロロチタニウム]トリエチルアミン
（[Ru((R)-BINAP)TiCl6]2NEt3）を濃緑色の固体（0.68
g）として得た。100mlオートクレーブに、上記した濃緑
色の固体 0.072g（0.035ミリモル）および5-[4-[2-(2-
フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキ
シフェニル]-2-オキソペンタン酸エチル 3.0g（7.03ミ
リモル）を入れ、充分窒素置換を行ってから、脱気した
エタノール 15mlを入れ、水素圧45kg／cm2で10時間接触
還元を行った。得られる反応液に、エタノール 11mlを
加え、０〜５℃で３時間撹拌晶析して、(R)-(＋)-5-[4-
[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-
メトキシフェニル]-2-ヒドロキシペンタン酸エチル 2.6
g（収率86.7％、鏡像体過剰率96.0％e.e.）を得た。
ニルホスフィノ)-1,1'-ビナフチル]トリエチルアミン
（Ru2Cl4((R)-BINAP)2NEt3） 0.567g（0.3ミリモル）を
80mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を行ってか
ら、塩化メチレン20mlおよび四塩化チタン 0.114g（0.6
ミリモル）を加え、室温で３時間かき混ぜた。反応終了
後、減圧下で塩化メチレンを留去し、乾固して、ビス
[ルテニウム[2,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1'-ビ
ナフチル]ヘキサクロロチタニウム]トリエチルアミン
（[Ru((R)-BINAP)TiCl6]2NEt3）を濃緑色の固体（0.68
g）として得た。100mlオートクレーブに、上記した濃緑
色の固体 0.072g（0.035ミリモル）および5-[4-[2-(2-
フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキ
シフェニル]-2-オキソペンタン酸エチル 3.0g（7.03ミ
リモル）を入れ、充分窒素置換を行ってから、脱気した
エタノール 15mlを入れ、水素圧45kg／cm2で10時間接触
還元を行った。得られる反応液に、エタノール 11mlを
加え、０〜５℃で３時間撹拌晶析して、(R)-(＋)-5-[4-
[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-
メトキシフェニル]-2-ヒドロキシペンタン酸エチル 2.6
g（収率86.7％、鏡像体過剰率96.0％e.e.）を得た。
【００７０】実施例１ (R)-(＋)-5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリ
ルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-2-ヒドロキシペンタ
ン酸エチル 421.2g (0.867モル)をEtOH 2.0Ｌに溶解
し、2N-NaOH 920ml(1.84モル)を加えて、10〜15℃で2時
間撹拌した。得られる混合液に水2.0Ｌおよび2N-HCl 97
0mlを加えてpHを2に調整し、室温（20〜30℃）で1時
間、5℃で1時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、これ
を40℃で8時間真空乾燥して、(R)-(＋)-5-[4-[2-(2-フ
リル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシ
フェニル]-2-ヒドロキシペンタン酸 317.8g（収率91.3
％）を得た。（融点133〜134℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.52-7.51(1H, m, furans'H),
7.00-6.99(2H, m, furans'H), 6.9-6.5(3H, m, benzene
s'H), 6.4-5.4(2H, br, COOH and OH), 4.95(2H,s, φ-
CH2O-φ), 4.25(1H, m, -CH2CH(OH)COOH), 3.81(3H, s,
φ-OCH3), 2.57(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.9Hz),
2.38(3H, s, oxazole-CH3), 1.9-1.6(4H,m, φ-CH2-CH2
-CH2-).
ルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-2-ヒドロキシペンタ
ン酸エチル 421.2g (0.867モル)をEtOH 2.0Ｌに溶解
し、2N-NaOH 920ml(1.84モル)を加えて、10〜15℃で2時
間撹拌した。得られる混合液に水2.0Ｌおよび2N-HCl 97
0mlを加えてpHを2に調整し、室温（20〜30℃）で1時
間、5℃で1時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、これ
を40℃で8時間真空乾燥して、(R)-(＋)-5-[4-[2-(2-フ
リル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキシ
フェニル]-2-ヒドロキシペンタン酸 317.8g（収率91.3
％）を得た。（融点133〜134℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.52-7.51(1H, m, furans'H),
7.00-6.99(2H, m, furans'H), 6.9-6.5(3H, m, benzene
s'H), 6.4-5.4(2H, br, COOH and OH), 4.95(2H,s, φ-
CH2O-φ), 4.25(1H, m, -CH2CH(OH)COOH), 3.81(3H, s,
φ-OCH3), 2.57(2H, t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.9Hz),
2.38(3H, s, oxazole-CH3), 1.9-1.6(4H,m, φ-CH2-CH2
-CH2-).
【００７１】実施例２ クロロ炭酸エチル 1076ml(11.307モル)をTHF 8Ｌに溶解
した溶液に、実施例１で得られた(R)-(＋)-5-[4-[2-(2-
フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキ
シフェニル]-2-ヒドロキシペンタン酸 1513g及びトリエ
チルアミン 800g(7.91モル)をTHF 15Ｌに溶解した液を-
10℃で滴下し、-5〜-10℃で2.5時間反応させた。反応液
に25％アンモニア水溶液 3.0Ｌを加え、0℃で1.5時間撹
拌後、THF 18Ｌが留去されるまで濃縮した。得られる濃
縮液に水 20Ｌおよび酢酸エチル40Ｌを加えて30分撹拌
し、分液した。酢酸エチル層を水 20Ｌ、1.2N-HCl 10Ｌ
および水 20Ｌで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濃縮乾固した。得られる乾固物に酢酸エチ
ル-IPA（１：7.5）混合溶媒 18Ｌを加え、15℃で１時間
撹拌した。析出した結晶をろ取し、50℃で10時間真空乾
燥して、(R)-(＋)-2-エトキシカルボニルオキシ-5-[4-
[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-
メトキシフェニル]ペンタン酸アミド 1680 g（収率94.3
％）を得た。（融点117〜118℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.53(1H, m, furans'H), 7.97-
6.90(2H, m, furans'H),6.35(2H, m, benzenes'H), 6.5
1(1H, m, benzenes'H), 5.70 and 6.10(2H, bs,NH2),
5.01(2H, s, oxazole-CH2O-φ), 5.11-5.07(1H, m, CH2
-CH(O)CO-), 4.23(2H, q, -CH2-, J=7.1Hz), 3.85(3H,
s, φ-OCH3), 3.58(2H, m, φ-CH2-CH2-CH2-), 2.39(3
H, s, oxazole-CH3), 1.96-1.90(4H, m, φ-CH2-CH2-CH
2-), 1.32(3H, t, -CH2-CH3, J=7.1Hz),
した溶液に、実施例１で得られた(R)-(＋)-5-[4-[2-(2-
フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-メトキ
シフェニル]-2-ヒドロキシペンタン酸 1513g及びトリエ
チルアミン 800g(7.91モル)をTHF 15Ｌに溶解した液を-
10℃で滴下し、-5〜-10℃で2.5時間反応させた。反応液
に25％アンモニア水溶液 3.0Ｌを加え、0℃で1.5時間撹
拌後、THF 18Ｌが留去されるまで濃縮した。得られる濃
縮液に水 20Ｌおよび酢酸エチル40Ｌを加えて30分撹拌
し、分液した。酢酸エチル層を水 20Ｌ、1.2N-HCl 10Ｌ
および水 20Ｌで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濃縮乾固した。得られる乾固物に酢酸エチ
ル-IPA（１：7.5）混合溶媒 18Ｌを加え、15℃で１時間
撹拌した。析出した結晶をろ取し、50℃で10時間真空乾
燥して、(R)-(＋)-2-エトキシカルボニルオキシ-5-[4-
[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメトキシ]-3-
メトキシフェニル]ペンタン酸アミド 1680 g（収率94.3
％）を得た。（融点117〜118℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：7.53(1H, m, furans'H), 7.97-
6.90(2H, m, furans'H),6.35(2H, m, benzenes'H), 6.5
1(1H, m, benzenes'H), 5.70 and 6.10(2H, bs,NH2),
5.01(2H, s, oxazole-CH2O-φ), 5.11-5.07(1H, m, CH2
-CH(O)CO-), 4.23(2H, q, -CH2-, J=7.1Hz), 3.85(3H,
s, φ-OCH3), 3.58(2H, m, φ-CH2-CH2-CH2-), 2.39(3
H, s, oxazole-CH3), 1.96-1.90(4H, m, φ-CH2-CH2-CH
2-), 1.32(3H, t, -CH2-CH3, J=7.1Hz),
【００７２】実施例３ 実施例２で得られた(R)-(＋)-2-エトキシカルボニルオ
キシ-5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメ
トキシ]-3-メトキシフェニル]ペンタン酸アミド613gをE
tOH 7.0Ｌに加え、5℃でよく撹拌しながら、1,8-ジアザ
ビシクロ[5.4.0]ウンデセー7-エン（DBU）452gを滴下
し、20〜25℃で2.5時間反応させた。反応液に水 6.0Ｌ
を加えた後、2N-HClでpHを6に調整し、12時間放置後、1
0℃以下で1時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、50％
EtOH 1.0Ｌで洗浄した。洗浄物を50℃で13時間真空乾燥
して、(R)-(＋)-5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキ
サゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-2,4-オキサゾ
リジンジオン 523.5g（収率99.3％，鏡像体過剰率99.7
％ee）を得た。（融点122〜123℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：9.25(1H, s, -CONHCO-), 7.52-
7.51(1H, m, furans'H),7.00-6.99(2H, m, furans'H),
6.7-6.5(2H, m, benzenes'H), 6.51-6.5(1H, m,benzene
s'H), 5.03(2H, s, oxazole-CH2O-φ), 4.80-4.76(1H,
m, CH2-CH(O)CO-), 3.84(3H, s, φ-OCH3), 2.61(2H,
t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.1Hz), 2.39(3H,s, oxazole-C
H3), 2.1-1.7(4H, m, φ-CH2-CH2-CH2-).
キシ-5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキサゾリルメ
トキシ]-3-メトキシフェニル]ペンタン酸アミド613gをE
tOH 7.0Ｌに加え、5℃でよく撹拌しながら、1,8-ジアザ
ビシクロ[5.4.0]ウンデセー7-エン（DBU）452gを滴下
し、20〜25℃で2.5時間反応させた。反応液に水 6.0Ｌ
を加えた後、2N-HClでpHを6に調整し、12時間放置後、1
0℃以下で1時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、50％
EtOH 1.0Ｌで洗浄した。洗浄物を50℃で13時間真空乾燥
して、(R)-(＋)-5-[4-[2-(2-フリル)-5-メチル-4-オキ
サゾリルメトキシ]-3-メトキシフェニル]-2,4-オキサゾ
リジンジオン 523.5g（収率99.3％，鏡像体過剰率99.7
％ee）を得た。（融点122〜123℃）1 H-NMR(CDCl3),δppm：9.25(1H, s, -CONHCO-), 7.52-
7.51(1H, m, furans'H),7.00-6.99(2H, m, furans'H),
6.7-6.5(2H, m, benzenes'H), 6.51-6.5(1H, m,benzene
s'H), 5.03(2H, s, oxazole-CH2O-φ), 4.80-4.76(1H,
m, CH2-CH(O)CO-), 3.84(3H, s, φ-OCH3), 2.61(2H,
t, φ-CH2-CH2-CH2-, J=7.1Hz), 2.39(3H,s, oxazole-C
H3), 2.1-1.7(4H, m, φ-CH2-CH2-CH2-).
【００７３】
【発明の効果】本発明によれば、血糖および血中脂質低
下作用を有し、糖尿病治療剤として有用な2,4-オキサゾ
リジンジオン化合物が高収率で簡便に得られる。また、
本発明の化合物またはその塩は、上記2,4-オキサゾリジ
ンジオン化合物の原料化合物として有用である。
下作用を有し、糖尿病治療剤として有用な2,4-オキサゾ
リジンジオン化合物が高収率で簡便に得られる。また、
本発明の化合物またはその塩は、上記2,4-オキサゾリジ
ンジオン化合物の原料化合物として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ａ６１Ｐ 3/06 Ａ６１Ｐ 3/06 3/10 3/10 5/50 5/50 Ｃ０７Ｄ 303/48 Ｃ０７Ｄ 303/48 Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (56)参考文献 特開 平７−101945（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−323982（ＪＰ，Ａ) 欧州特許出願公開710659（ＥＰ，Ａ １) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 263/00 - 263/62 C07D 303/00 - 303/48 C07D 413/00 - 413/14 C07C 235/00 - 235/88 A61K 31/00 - 31/80 A61P 1/00 - 43/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)
Claims (28)
- 【請求項１】一般式（II） 【化１】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素ま
たは複素環基を；Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−また
は−ＮＲ3−（Ｒ3は置換されていてもよいＣ1-4アルキ
ル基を示す）で示される基を；ｍは０または１を；ｎは
０，１または２を；Ｒ1およびＲ4は同一又は異なって水
素原子またはＣ1-4アルキル基を；Ａは２価のＣ1-7脂肪
族炭化水素基を；環Ｅはさらに１ないし２個の置換基を
有していてもよいベンゼン環を示す。〕で表される化合
物またはその塩を閉環反応に付すことを特徴とする一般
式（Ｉ） 【化２】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物またはその塩の製造法。 - 【請求項２】Ｒが置換されていてもよい複素環基である
請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】置換されていてもよい複素環基が、フェニ
ル，ナフチル，フリル，チエニルおよびＣ1-3アルキル
から選ばれる１ないし２個の置換基で置換されていても
よいオキサゾリル基である請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】Ｒがフェニル，ナフチル，フリル，チエニ
ルおよびＣ 1-3 アルキル基から選ばれる１〜３個の置換
基を有していてもよいオキサゾリル，チアゾリルまたは
トリアゾリル基である請求項１記載の製造法。 - 【請求項５】環Ｅがベンゼン環である請求項１記載の製
造法。 - 【請求項６】部分構造式 【化３】 〔式中、Ｒ2は置換されていてもよい水酸基、ハロゲン
原子、置換されていてもいアシル基、ニトロ基または置
換されていてもよいアミノ基を示す。〕である請求項１
記載の製造法。 - 【請求項７】Ｒ2が置換されていてもよい水酸基である
請求項６記載の製造法。 - 【請求項８】置換されていてもよい水酸基がＣ1-4アル
コキシ基である請求項７記載の製造法。 - 【請求項９】ｍが０である請求項１記載の製造法。
- 【請求項１０】ｎが０である請求項１記載の製造法。
- 【請求項１１】Ｒ1が水素原子である請求項１記載の製
造法。 - 【請求項１２】Ａが-(CH2)2-である請求項１記載の製造
法。 - 【請求項１３】一般式（Ｉ）で表される化合物が（Ｒ）
−（＋）−５−［３−［４−［２−（２−フリル）−５
−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシ
フェニル］プロピル］−２，４−オキサゾリジンジオン
である請求項１記載の製造法。 - 【請求項１４】一般式（II）で表される化合物またはそ
の塩を、一般式（III） 【化４】 〔式中、R5は水素原子またはＣ1-4アルキル基を、その
他の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合物ま
たはその塩を、所望により加水分解した後、一般式（I
V）：XCOOR4〔式中、Xはハロゲン原子を、R4は前記と同
意義を示す。〕で表される化合物およびアンモニアと反
応させて得る請求項１記載の製造法。 - 【請求項１５】一般式（II） 【化５】 〔式中、Ｒはそれぞれ置換されていてもよい炭化水素ま
たは複素環基を；Ｙは−ＣＯ−，−ＣＨ（ＯＨ）−また
は−ＮＲ3−（Ｒ3は置換されていてもよいＣ1-4アルキ
ル基を示す）で示される基を；ｍは０または１を；ｎは
０，１または２を；Ｒ1およびＲ4は同一又は異なって水
素原子またはＣ1-4アルキル基を；Ａは２価のＣ1-7脂肪
族炭化水素基を；環Ｅはさらに１ないし２個の置換基を
有していてもよいベンゼン環を示す。〕で表される化合
物またはその塩。 - 【請求項１６】Ｒが置換されていてもよい複素環基であ
る請求項１５記載の化合物。 - 【請求項１７】Ｒがフェニル，ナフチル，フリル，チエ
ニルおよびＣ 1-3 アルキル基から選ばれる１〜３個の置
換基を有していてもよいオキサゾリル，チアゾリルまた
はトリアゾリル基である請求項１５記載の化合物。 - 【請求項１８】環Ｅがベンゼン環である請求項１５記載
の化合物。 - 【請求項１９】部分構造式 【化６】 〔式中、Ｒ 2 は置換されていてもよい水酸基、ハロゲン
原子、置換されていてもいアシル基、ニトロ基または置
換されていてもよいアミノ基を示す。〕である請求項１
５記載の化合物。 - 【請求項２０】Ｒ 2 が置換されていてもよい水酸基であ
る請求項１９記載の化合物。 - 【請求項２１】置換されていてもよい水酸基がＣ 1-4 ア
ルコキシ基である請求項２０記載の化合物。 - 【請求項２２】ｍが０である請求項１５記載の化合物。
- 【請求項２３】ｎが０である請求項１５記載の化合物。
- 【請求項２４】Ｒ 1 が水素原子である請求項１５記載の
化合物。 - 【請求項２５】Ａが-(CH 2 ) 2 -である請求項１５記載の化
合物。 - 【請求項２６】（Ｒ）−（＋）−２−エトキシカルボニ
ルオキシ−５−［４−［２−（２−フリル）−５−メチ
ル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシフェニ
ル］ペンタン酸アミドである請求項１５記載の化合物。 - 【請求項２７】５−［４−［２−（２−フリル）−５−
メチル−４−オキサゾリルメトキシ］−３−メトキシフ
ェニル］−２−ヒドロキシペンタン酸またはその塩。 - 【請求項２８】（Ｒ）−（＋）−５−［４−［２−（２
−フリル）−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ］
−３−メトキシフェニル］−２−ヒドロキシペンタン酸
またはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34829396A JP3258921B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | ２，４−オキサゾリジンジオン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34829396A JP3258921B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | ２，４−オキサゾリジンジオン化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10182623A JPH10182623A (ja) | 1998-07-07 |
| JP3258921B2 true JP3258921B2 (ja) | 2002-02-18 |
Family
ID=18396068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34829396A Expired - Fee Related JP3258921B2 (ja) | 1996-12-26 | 1996-12-26 | ２，４−オキサゾリジンジオン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3258921B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001019777A1 (fr) * | 1999-09-16 | 2001-03-22 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | $G(a)-CETO ESTERS ET LEURS PROCEDES DE PREPARATION |
-
1996
- 1996-12-26 JP JP34829396A patent/JP3258921B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10182623A (ja) | 1998-07-07 |
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