JP3251232B2 - 回転式湿式処理方法および回転式湿式処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、回転式湿式処理
方法および回転式湿式処理装置に関し、特に、基板を回
転させるとともに、基板に薬液を吐出して行う湿式処理
に適用して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶ディスプレイをはじめプラズ
マディスプレイなど、いわゆるフラットパネルディスプ
レイはブラウン管方式に一部取って代わりつつあり、パ
ーソナルコンピューター用モニターとして、あるいは壁
掛けのテレビジョン受像機として、実用化が図られつつ
ある。これに伴い、パネルサイズは大型化する傾向にあ
る。このことを生産の観点から見ると、大きなサイズの
パネルをより安く供給するためには、１枚の基板からと
れるパネル数（理論収率）を上げることが最も効果的で
ある。したがって、基板のサイズは大型化する一方であ
る。

【０００３】さて、パネルの製造工程においては、配線
や電極などを形成する際、いずれの場合においても、基
板上にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを介して
紫外光を照射しパターンを転写し、現像、エッチングお
よびレジスト剥離を行う、いわゆるフォトリソグラフィ
ーの技術が用いられる。また、シリコン（Ｓｉ）を用い
たアクティブマトリクス方式の液晶ディスプレイの製造
工程においては、金属膜とＳｉ膜と間の良好な電気的接
触を確保すべく、希フッ酸（ＨＦ）を用いた自然酸化膜
の除去（ライトエッチング）が行われる。

【０００４】上述のような現像、湿式エッチング、レジ
スト剥離およびライトエッチングなどの湿式処理は、基
板サイズの拡大の変遷の中で、基板をロット単位で薬液
に浸漬するバッチ式から、基板を一定のタクトで槽から
槽へ１枚ずつ搬送して、薬液に浸漬する処理や薬液をシ
ャワー状に吐出する処理などを行う、枚葉式へと移り変
わってきた。

【０００５】ここで、この枚葉式の湿式処理装置の一例
とその湿式処理装置を用いた基板の湿式処理の一例とに
ついて説明する。

【０００６】すなわち、従来の枚葉式の湿式処理装置
は、図４に示すように、基板１０１の湿式処理を行う第
１の処理槽１０２と第２の処理槽１０３とを有する。

【０００７】この湿式処理装置の第１の処理槽１０２に
おいては、循環タンク１０４の内部の薬液を、薬液ライ
ン１０５に設けられたポンプ１０６によって、薬液ライ
ン１０５を通じて薬液ノズル１０７に供給し、そこから
吐出するとともに、循環タンク１０４の内部の薬液を、
薬液ライン１０８に設けられたポンプ１０９によって、
薬液ライン１０８を通じてアップフローさせ、第１の処
理槽１０２の内部に供給する。これにより、基板１０１
の湿式処理を行う。なお、第１の処理槽１０２の内部の
薬液は、基板１０１が浸漬する程度に保たれている。一
方、第１の処理槽１０２の内部において基板１０１の湿
式処理に用いられる薬液は、回収ライン１１０を通じて
循環タンク１０４に戻される。第１の処理槽１０２にお
ける湿式処理が終了した後、搬送機構１１１により基板
１０１は第１の処理槽１０２から搬出され、続いて第２
の処理槽１０３に搬入される。

【０００８】第２の処理槽１０３においては、第１の処
理槽１０２における基板１０１の湿式処理と同様にし
て、循環タンク１１２の内部の薬液を、薬液ライン１１
３に設けられたポンプ１１４によって、薬液ライン１１
３を通じて薬液ノズル１１５に供給し、そこから吐出す
るとともに、循環タンク１１２の内部の薬液を、薬液ラ
イン１１６に設けられたポンプ１１７によって、薬液ラ
イン１１６を通じて第２の処理槽１０３の内部にアップ
フローさせ、第２の処理槽１０３の内部に供給すること
により、基板１０１の湿式処理を行う。なお、第２の処
理槽１０３の内部の薬液は、基板１０１が浸漬する程度
に保たれている。一方、第２の処理槽１０３の内部にお
いて基板１０１の湿式処理に用いられる薬液は、回収ラ
イン１１８を通じて、循環タンク１１２に戻される。第
２の処理槽１０３における湿式処理が終了した後、搬送
機構１１１により基板１０１は第２の処理槽１０３から
搬出される。

【０００９】以上のようにして枚葉式の湿式処理装置に
よる基板１０１の湿式処理が行われる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の湿式処理方法および湿式処理装置においては、次
のような問題があった。

【００１１】すなわち、枚葉式の湿式処理装置を用い
て、基板の湿式処理を行う場合、１枚の基板を処理する
のに必要な薬液の量はその基板の面積に比例する。さら
に、所定のタクトで次々に湿式処理を行うためには、基
板の１枚あたりの湿式処理に必要な時間を、タクト時間
で割った値だけの処理槽が必要となる。いまや、基板の
大きさはメートル角級に迫りつつあり、上述の、基板１
０１を１枚ずつ第１の処理槽１０２から第２の処理槽１
０３に順次搬送するなどといった、いわゆる平流し式の
湿式処理装置では、薬液の使用量が指数的に増大してし
まい、コストや廃液処理の面で破綻をきたすことにな
る。また、湿式処理装置の占有面積は処理槽の数が増加
するに伴って大きくなるため、この占有面積の増加によ
って湿式処理装置が配置されるクリーンルームの維持費
などのコストが増加してしまう。

【００１２】そのため、湿式処理においては、薬液の使
用量を必要最小限に抑えつつ、湿式処理装置の占有面積
を最小限に抑える技術が強く望まれていた。

【００１３】したがって、この発明の目的は、湿式処理
に用いられる薬液の使用量を低減し、その使用量を必要
最小限に抑えることができる回転式湿式処理方法を提供
することにある。

【００１４】また、この発明の他の目的は、薬液の使用
量を必要最小限に抑えることができるとともに、占有面
積を最小限に抑えることができ、クリーンルームなどに
かかるコストを低減することができる回転式湿式処理装
置を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】目的を達成するために、
この発明の第１の発明は、基板に薬液を吐出する薬液吐
出手段と、 基板を回転させる基板回転手段と、 基板から
除去された薬液を廃棄する廃棄手段と、 基板から除去さ
れた薬液を循環タンクに回収する薬液回収手段とを用
い、 基板回転手段により基板を回転させるとともに、基
板に薬液を吐出して湿式処理を行うようにした回転式湿
式処理方法であって、少なくとも最初に、薬液吐出手段
により、循環タンクから供給され、湿式処理に少なくと
も一度用いられた薬液を基板に吐出して湿式処理を行
い、次いで、少なくとも一度用いられた薬液を、基板回
転手段によって基板を回転させることにより基板から除
去した後、廃棄手段により、少なくとも一度用いられた
薬液を廃棄するようにした第１の工程と、薬液吐出手段
により、循環タンクから供給され、少なくとも一度用い
られた薬液を基板に吐出して湿式処理を行い、少なくと
も一度用いられた薬液を、基板回転手段によって基板を
回転させることにより基板から除去した後、薬液回収手
段により、少なくとも一度用いられた薬液を循環タンク
に回収するようにした第２の工程と、少なくとも最後
に、薬液吐出手段により、湿式処理に一度も用いられて
いない薬液を、基板に吐出して湿式処理を行い、次い
で、一度も用いられていない薬液を、基板回転手段によ
って基板を回転させることにより基板から除去した後、
薬液回収手段により、一度も用いられていない薬液を循
環タンクに回収するようにした第３の工程とを有するこ
とを特徴とするものである。

【００１６】この第１の発明において、好適には、一度
も用いられていない薬液を回収した後、基板の洗浄を行
うために、基板に純水を吐出する。なお、洗浄を行った
後の基板に付着した純水の廃棄は、好適には、少なくと
も一度用いられた薬液の廃棄と同様の方法により行う。

【００１７】

【００１８】この第１の発明において、基板の回転は、
好適には、その基板の面に対して法線方向を軸とした回
転であり、より好適には、基板の面に対する法線方向の
うち、基板の中心を通るものを軸とした回転である。

【００１９】

【００２０】この第１の発明において、好適には、第１
の薬液および／または第２の薬液を基板に吐出して湿式
処理を行った後、これらの湿式処理に用いられた薬液を
濾過して清浄化し、第１の薬液として基板の湿式処理に
用いる。

【００２１】この第１の発明において、典型的には、湿
式処理は枚葉式に行われる。

【００２２】この発明の第２の発明は、基板に薬液を吐
出する薬液吐出手段と、 基板を回転可能に構成された基
板回転手段とを有し、基板回転手段により基板を回転さ
せるとともに、薬液吐出手段により基板に薬液を吐出し
て湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であっ
て、 基板から除去された薬液を、廃棄する廃棄手段と、
基板から除去された薬液を、循環タンクに回収する薬液
回収手段とを有し、少なくとも最初に、薬液吐出手段に
より、循環タンクから供給され、湿式処理に少なくとも
一度用いられた薬液を吐出して湿式処理を行い、基板回
転手段によって基板を回転させることにより少なくとも
一度用いられた薬液を基板から除去した後、廃棄手段に
より少なくとも一度用いられた薬液を廃棄し、薬液吐出
手段により、循環タンクから供給され、少なくとも一度
用いられた薬液を基板に吐出して湿式処理を行い、基板
回転手段によって基板を回転させることにより基板から
少なくとも一度用いられた薬液を除去した後、薬液回収
手段により少なくとも一度用いられた薬液を循環タンク
に回収し、少なくとも最後に、薬液吐出手段により、湿
式処理に一度も用いられていない薬液を基板に吐出して
湿式処理を行い、基板回転手段によって基板を回転させ
ることにより一度も用いられていない薬液を基板から除
去した後、薬液回収手段により一度も用いられていない
薬液を循環タンクに回収するように構成されていること
を特徴とするものである。

【００２３】この第２の発明において、湿式処理装置
は、典型的には、基板を回転させる基板回転手段を有
し、基板回転手段により基板を回転させるとともに、薬
液吐出手段により基板に薬液を吐出するように構成され
ている。

【００２４】この第２の発明において、好適には、除去
手段は、基板を回転させることにより、基板から薬液を
除去するように構成されている。

【００２５】

【００２６】この第２の発明において、典型的には、薬
液吐出手段により基板に吐出された第１の薬液のうち、
少なくとも最初に基板に吐出された第１の薬液を、基板
から除去した後、廃棄手段により廃棄するように構成さ
れている。なお、廃棄手段は、純水などの液体を廃棄す
ることも可能である。

【００２７】

【００２８】この第２の発明において、湿式処理装置
は、典型的には、薬液吐出手段により基板に吐出された
薬液を基板から除去する除去手段と、除去手段により基
板から除去された薬液を所定の経路で薬液吐出手段にま
で循環させる薬液循環手段とを有する。

【００２９】この第２の発明において、好適には、基板
の純水リンスを行うために、基板に純水を吐出するよう
にした純水吐出手段を有する。なお、基板に吐出され付
着した純水は、基板を回転させることにより、基板から
除去するようにする。

【００３０】この第２の発明において、より好適には、
基板の湿式処理に用いられた第１の薬液および／または
第２の薬液を濾過し、清浄化するようにした薬液清浄化
手段を有する。

【００３１】この第２の発明において、典型的には、湿
式処理装置は枚葉式であるが、必要に応じて、例外的
に、湿式処理装置として、バッチ式の湿式処理装置を用
いてもよい。

【００３２】上述のように構成されたこの発明の第１お
よび第２の発明によれば、少なくとも最初に、薬液吐出
手段により、循環タンクから供給され、湿式処理に少な
くとも一度用いられた薬液を基板に吐出して湿式処理を
行い、次いで、少なくとも一度用いられた薬液を、基板
回転手段によって基板を回転させることにより基板から
除去した後、この少なくとも一度用いられた薬液を廃棄
する第１の工程と、薬液吐出手段により、循環タンクか
ら供給され、少なくとも一度用いられた薬液を基板に吐
出して湿式処理を行い、この少なくとも一度用いられた
薬液を、基板回転手段によって基板を回転させることに
より基板から除去した後、薬液回収手段により、この少
なくとも一度用いられた薬液を循環タンクに回収する第
２の工程と、少なくとも最後に、薬液吐出手段により、
湿式処理に一度も用いられていない薬液を、基板に吐出
して湿式処理を行い、次いで、一度も用いられていない
薬液を、基板回転手段によって基板を回転させることに
より基板から除去した後、薬液回収手段により、この一
度も用いられていない薬液を循環タンクに回収する第３
の工程とを有していることにより、循環タンクに貯蔵さ
れている薬液を長時間、高品質に維持することができ、
基板の湿式処理の最後に清浄な薬液を用いた処理を行う
ことができるとともに、薬液の使用量の低減を図ること
ができる。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態
の全図においては、同一または対応する部分には同一の
符号を付す。

【００３４】まず、この発明の第１の実施形態による湿
式処理装置について説明する。図１はこの第１の実施形
態による湿式処理装置を示す。

【００３５】この第１の実施形態による湿式処理装置に
おいては、図１に示すように、新液タンク１、循環タン
ク２および湿式処理部３から構成されている。新液タン
ク１は、基板４の湿式処理に一度も用いられていない薬
液、いわゆる未使用薬液を貯蔵するためのものであり、
その容量は例えば４０ｌである。循環タンク２は、湿式
処理装置内の後述する所定の経路を循環し、基板４の湿
式処理に少なくとも一度用いられた薬液、いわゆる循環
薬液を貯蔵するためのものであり、その容量は例えば６
０ｌである。湿式処理部３は、基板４に対して、例えば
レジストパターンの剥離の処理などの湿式処理を行うた
めのものである。

【００３６】新液タンク１には薬液ライン５が接続され
ており、薬液ライン５にはポンプ６が設けられている。
また、薬液ライン５は途中で薬液ライン５ａおよび薬液
ライン５ｂに分岐されている。新液タンク１は、薬液ラ
イン５および薬液ライン５ａを通じて湿式処理部３にお
ける薬液吐出部７に接続されているとともに、薬液ライ
ン５および薬液ライン５ｂを通じて、後述する薬液ライ
ン８ｂに接続されこれを通じてテーブル中央ノズル１０
に接続されている。ポンプ６は、新液タンク１の内部に
貯蔵されている未使用薬液を、薬液ライン５ａを通じて
薬液吐出部７に供給するためのものであるとともに、薬
液ライン５ｂおよび後述する薬液ライン８ｂを通じてテ
ーブル中央ノズル１０に供給するためのものである。

【００３７】また、循環タンク２には薬液ライン８が接
続されている。この薬液ライン８には、ポンプ９が設け
られている。また、薬液ライン８は途中で分岐されてお
り、一方の薬液ライン８ａが薬液ライン５ａの途中に接
続されているとともに、他方の薬液ライン８ｂが後述す
るカップ内回転テーブルの中心軸の内部を通じて、テー
ブル中央ノズル１０に接続されている。ポンプ９は、循
環タンク２内の循環薬液を、薬液ライン８ａおよび薬液
ライン５ａを通じて薬液吐出部７に供給するためのもの
であるとともに、薬液ライン８ｂを通じて、テーブル中
央ノズル１０に供給するためのものである。

【００３８】また、湿式処理部３は、カップ１１、カッ
プ内回転テーブル１２、薬液吐出部７および廃液部１３
から構成されている。

【００３９】カップ１１は、基板４に吐出され基板４か
ら除去された薬液を回収または廃棄するためのものであ
り、その底面は中央部が高く周辺部が中央部と比較して
低い形状、いわゆる山状に形成されているとともに、そ
の側壁面は円筒状の部分とその上方の内側に向けてつば
状にせり出した部分とから構成されている。また、カッ
プ１１の底面の周辺部には回収ライン１４が接続されて
おり、この回収ライン１４によってカップ１１と循環タ
ンク２とが接続されている。回収ライン１４は、基板４
から除去された薬液をカップ１１内から循環タンク２に
戻すためのものである。

【００４０】カップ１１の内部には、円筒状の側壁１１
ａがさらに設けられており、この円筒状の側壁１１ａと
カップ１１の側壁面とにより、廃液部１３が構成されて
いる。また、廃液部１３においては、カップ１１の側壁
面のつば状にせり出した部分の上端と円筒状の側壁１１
ａの上端とにより、分離孔１３ａが構成されている。廃
液部１３の底面には廃液ライン１５が接続されており、
分離孔１３ａを通じて廃液部１３の内部に入った薬液
を、廃液ライン１５を通じて廃棄可能に構成され、これ
らの廃液部１３と廃液ライン１５とにより薬液の廃棄手
段が構成されている。また、分離孔１３ａを覆うように
して上下に移動可能な分離シャッター１６が設けられて
いる。分離シャッター１６は分離孔１３ａの開閉を行う
ためのものであり、分離シャッター１６を上方に移動す
ることにより分離孔１３ａを開けることができるように
なっている。なお、点線は、分離シャッター１６を上方
に移動させ、分離孔１３ａを開けたときの分離シャッタ
ー１６の位置を示す。

【００４１】カップ内回転テーブル１２は、その中心軸
がカップ１１の中央部に位置して設けられている。ま
た、カップ内回転テーブル１２の上部は例えばガラス基
板や半導体ウェーハなどの基板４を保持することができ
るようになっている。また、カップ内回転テーブル１２
は、基板４をその面の中心の法線方向を軸として回転さ
せることができるようになっている。

【００４２】薬液吐出部７は、カップ内回転テーブル１
２の上方に設けられている。この薬液吐出部７は、カッ
プ内回転テーブル１２上に基板４を載置したときに、そ
の上面から例えば１５ｃｍの高さの位置に設けられてい
る。また、薬液吐出部７は薬液ノズル７ａ、７ｂを有す
る。薬液ノズル７ａは基板４のほぼ中心の上方、すなわ
ちカップ内回転テーブル１２のほぼ中心の上方に設けら
れている。また、薬液ノズル７ｂは薬液ノズル７ａと同
じ高さで、かつ、薬液ノズル７ａから例えば２７ｃｍ程
度離れた位置に設けられている。

【００４３】次に、上述のように構成された湿式処理装
置を用いた基板上のレジストパターンの剥離の工程につ
いて説明する。

【００４４】まず、縦横の寸法が例えば５５０ｍｍ×６
５０ｍｍ、厚さが例えば０．７ｍｍの角型のガラス基板
からなる基板４上に露光テスト用のレジストパターン
（図示せず）を形成した後、例えば１１０℃の温度でポ
ストベーキング処理を行う。このレジストパターンの膜
厚は例えば１．６μｍである。次に、図１に示すよう
に、この基板４をカップ内回転テーブル１２上に載置す
るとともに、分離シャッター１６を上方に移動させるこ
とにより、分離孔１３ａが開けられた状態にする。

【００４５】次に、カップ内回転テーブル１２をその中
心軸のまわりに例えば６０ｒｐｍの回転数で回転させる
ことにより、基板４を同様の回転数で回転させる。カッ
プ内回転テーブル１２および基板４の回転が安定した
後、ポンプ９を作動させることにより、循環タンク２に
貯蔵されている、レジストパターンの剥離の工程に少な
くとも一度用いられたシンナー（以下、循環シンナー）
を、薬液ライン８ａ、８ｂを通じてそれぞれ薬液吐出部
７およびテーブル中央ノズル１０に供給し、それぞれ薬
液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から
基板４に吐出する。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂおよ
びテーブル中央ノズル１０から吐出される循環シンナー
の量は合計で例えば１００ｃｃである。

【００４６】基板４に吐出された循環シンナーには基板
４の回転による遠心力が作用する。これによって、循環
シンナーは基板４に対して放射状に広がる。そして、こ
の広がった循環シンナーと基板４上のレジストとが反応
し、レジストパターンが除去される。その後、基板４上
のレジストとの反応が終了した循環シンナーは、基板４
から放射状に除去され、分離孔１３ａを通じて廃液部１
３に回収される。ここで、基板４に吐出された循環シン
ナーのうち、その９５％以上は分離孔１３ａを通じて廃
液部１３に回収され、廃液ライン１５を通じて廃棄され
る。その後、分離シャッター１６を下方に移動させるこ
とにより分離孔１３ａを閉じる。

【００４７】続いて、ポンプ９を再び作動させることに
より、循環タンク２内の循環シンナーを、薬液ノズル７
ａ、７ｂおよびテーブル中央ノズル１０から基板４に吐
出する。基板４に吐出された循環シンナーは、上述と同
様にして、基板４に対して放射状に広がり、基板４上の
レジストと反応する。その後、レジストとの反応が終了
した循環シンナーは基板４から放射状に除去され、カッ
プ１１の底面に流れ落ちる。カップ１１の底面に流れ落
ちた循環シンナーは回収ライン１４を通じて循環タンク
２に回収される。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂおよび
テーブル中央ノズル１０から吐出される循環シンナーの
量は合計で例えば２ｌ（２０００ｃｃ）である。

【００４８】薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央
ノズル１０からの循環シンナーの吐出が終了した後、カ
ップ内回転テーブル１２および基板４の回転数を６０ｒ
ｐｍに保ったままの状態でポンプ６を作動させる。これ
により、新液タンク１内に貯蔵された、レジストパター
ンの剥離の工程に一度も用いられていないシンナー（以
下、未使用シンナー）を、薬液ライン５および薬液ライ
ン５ａを通じて薬液吐出部７に供給し薬液ノズル７ａ、
７ｂから吐出するとともに、薬液ライン５および薬液ラ
イン５ｂを通じてテーブル中央ノズル１０から吐出す
る。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂおよびテーブル中央
ノズル１０から吐出される未使用シンナーの量は、廃棄
された循環シンナーの量とほぼ同量とし、合計で例えば
１００ｃｃとする。

【００４９】未使用シンナーの吐出が終了した後、カッ
プ内回転テーブル１２の回転数を例えば８００ｒｐｍに
上昇させることにより、基板４を同様の回転数で回転さ
せ、この状態を例えば約２０秒間保持する。このとき、
基板４に付着した未使用シンナーには遠心力が作用し、
未使用シンナーは基板４から除去される。これによっ
て、基板４の乾燥が行われる。また、基板４から除去さ
れた未使用シンナーは、カップ１１の底面に流れ落ちた
後、回収ライン１４を通じて循環タンク２に回収され
る。なお、この回収された未使用シンナーは、後に行わ
れる別の基板上のレジストパターンの剥離の工程におい
て循環シンナーとして用いられる。

【００５０】その後、所定の搬出装置（図示せず）によ
り基板４を湿式処理装置の外部に搬出し、基板４上のレ
ジストパターンの剥離の工程を終了する。

【００５１】上述した基板４上のレジストパターンの剥
離の工程においては、基板４の１枚あたりの処理時間は
約９０秒間であり、未使用シンナーの使用量は１００ｃ
ｃ程度である。これに対し、例えば、薬液に基板を浸漬
する槽や基板にシャワー状に薬液を吐出する槽といっ
た、２つの槽を有する標準的な構成の従来の平流し式の
湿式処理装置を用いて、基板上のレジストパターンの剥
離を行う場合、２つの槽におけるシンナーが貯蔵されて
いるタンクの容量は合計で２００ｌである。ここで、こ
の従来の平流し式の湿式処理装置において、レジストパ
ターンの剥離が行われた後、基板に付着したシンナーが
完全に除去されて別の処理槽に搬送されると仮定して
も、すなわち、２つの槽の２番目の槽から別の処理を行
う槽へのシンナーの持ち出しが０ｃｃであると仮定して
も、タンクに貯蔵されたシンナーを、２０００枚の基板
にわたってレジストパターンの剥離を行うごとに交換す
るといった交換頻度にしない限り、基板１枚あたりのシ
ンナーの使用量はこの第１の実施形態によるシンナーの
使用量（１００ｃｃ）より多くなってしまう。ところ
が、このように、シンナーの交換を２０００枚の基板を
処理したごとに行おうとすると、２０００枚もの基板に
わたってそれらの基板上のレジストパターンの剥離に用
いられたシンナーは、レジストの固形分などを多量に含
んでいるため、レジストパターンの剥離を行った基板に
しみや残渣などが残ってしまい、その基板の品質が損な
われてしまう。そのため、従来の平流し式の湿式処理装
置において、シンナーの交換は、２０００枚の基板を処
理するごとに行われることはなく、実際には、より少な
い枚数で行われる。したがって、従来の平流し式の湿式
処理装置における基板１枚あたりのシンナーの使用量に
対して、この第１の実施形態による湿式処理装置におけ
る基板１枚あたりのシンナーの使用量は少なくなる。ま
た、従来の平流し式の湿式処理装置のタンクの容量が２
００ｌであるのに対し、この第１の実施形態による湿式
処理装置の新液タンク１の容量が４０ｌ、循環タンク２
の容量が６０ｌであり、これらを合わせてもタンクの容
量を格段に少なくすることができる。

【００５２】以上説明したように、この第１の実施形態
によれば、基板４に循環シンナーを吐出して基板４上の
レジストパターンの剥離を行い、この最初のレジストパ
ターンの剥離に用いられた循環シンナーを廃棄し、最後
に、この廃棄された循環シンナーとほぼ同量の未使用シ
ンナーを吐出して、レジストパターンの剥離の仕上げの
処理を行っていることにより、シンナーの使用量を、基
板に吐出される未使用シンナーの量、すなわち、廃棄さ
れた循環シンナーの量のみとすることができる。そのた
め、レジストパターンの剥離に用いられるシンナーの量
を低減することができるので、貯蔵するシンナーの量を
低減することができる。また、レジストパターンの剥離
の工程において、レジストの含有率が最も大きいシンナ
ーが廃棄され、レジストの含有率が最も小さいシンナー
が回収、循環されて再度用いられるため、循環タンク２
内のシンナーの品質の劣化を最小限に抑えることがで
き、シンナーを高品質の状態で長時間維持することがで
きるので、従来と比較して貯蔵されているシンナーの交
換頻度を格段に少なくすることができる。また、基板４
を高い回転数で回転させていることにより、基板４に付
着したシンナーをほぼ完全に除去することができるの
で、純水による置換を行う槽を別に設ける必要がなく、
湿式処理装置の占有面積を最小限に抑えることができ
る。

【００５３】次に、この発明の第２の実施形態による湿
式処理装置について説明する。図２はこの第２の実施形
態による湿式処理装置を示す。

【００５４】図２に示すように、この第２の実施形態に
よる湿式処理装置においては、第１の実施形態と同様
に、新液タンク１、循環タンク２および基板処理部３を
有する。ここで、新液タンク１および循環タンク２につ
いては第１の実施形態と同様であるので、説明は省略す
る。

【００５５】この第２の実施形態による湿式処理装置の
基板処理部３は、基板４に対して湿式処理を行うための
ものであり、カップ１１、カップ内回転テーブル１２、
薬液吐出部７および純水吐出部２１からなる。

【００５６】カップ１１は、基板４に吐出され基板４か
ら除去された薬液を回収または廃棄するためのものであ
り、その底面は中央部が高く周辺部が中央部と比較して
低い形状、いわゆる山状に形成されているとともに、そ
の側壁面は円筒状の部分とその上部に内側に向けてつば
状にせり出した部分とから構成されている。また、カッ
プ１１の内部にはさらに円筒状の側壁１１ａが設けられ
ており、この円筒状の側壁１１ａとカップ１１の側壁面
とにより、薬液回収部２２が構成されている。薬液回収
部２２はその底面で回収ライン２３に接続されており、
薬液回収部２２はこの回収ライン２３を通じて循環タン
ク２に接続されている。また、カップ１１の側壁面にお
ける内側にせり出した部分の上端と、側壁１１ａの上端
とにより分離孔２２ａが構成されている。また、カップ
１１は、壁面１１ａの内側における底面の周辺部におい
て廃液ライン２４に接続されている。また、このカップ
１１は全体が上下に移動可能に構成されており、点線は
カップ１１を下降させたときのカップ１１の位置を示
す。

【００５７】カップ内回転テーブル１２は、その中心軸
がカップ１１の中央部に位置して設けられている。ま
た、カップ内回転テーブル１２の上部は基板を保持する
ことができるようになっている。また、カップ内回転テ
ーブル１２は、基板４をその面の中心の法線方向を軸と
して回転させることができるようになっている。

【００５８】カップ内回転テーブル１２の中心軸の内部
には純水ライン２５ａが接続されており、その中心軸の
上部の純水ライン２５ａの一端にはテーブル中央純水ノ
ズル２６が設けられている。なお、純水ライン２５ａは
後述する純水ライン２５の分岐された一方のラインであ
る。また、カップ内回転テーブル１２の上方には、カッ
プ内回転テーブル１２上に基板４を載置したときに基板
４の上面から例えば１５ｃｍの高さの位置に薬液吐出部
７が設けられている。薬液吐出部７は、例えば５°〜１
０°の範囲内で回転可能に構成された薬液供給バー２７
に設けられている。薬液吐出部７における薬液ノズル７
ａは薬液供給バー２７の一端の近傍に設けられており、
薬液供給バー２７を必要な角度だけ回転させることによ
り、薬液ノズル７ａがほぼカップ内回転テーブル１２の
中心軸の上方、すなわち基板４のほぼ中心の上方に位置
することができるようになっている。また、薬液ノズル
７ｂ、７ｃは薬液ノズル７ａから薬液供給バー２７に沿
ってそれぞれ例えば１２ｃｍ、２７ｃｍの位置に設けら
れている。

【００５９】また、薬液供給バー２７は薬液ライン５、
８に接続されている。すなわち、薬液供給バー２７は、
薬液ライン５を通じて新液タンク１に接続されていると
ともに、薬液ライン５に接続された薬液ライン８を通じ
て循環タンク２に接続されている。ここで、薬液ライン
５、８にはそれぞれ第１の実施形態におけると同様のポ
ンプ６、９が設けられている。

【００６０】また、カップ内回転テーブル１２の上方に
はさらに純水吐出部２１が設けられている。この純水吐
出部２１は基板４にリンス用の純水を吐出するためのも
のであり、純水ライン２５ｂに接続されている。なお、
純水ライン２５ｂは純水ライン２５の分岐した一方のラ
インであり、他方のラインは上述した純水ライン２５ａ
であり、これらの純水ライン２５ａ、２５ｂは純水ライ
ン２５を通じて例えば純水供給装置（図示せず）などに
接続されている。

【００６１】また、純水ノズル２１ａは純水ライン２５
ｂの一端の近傍に設けられており、純水ノズル２１ｂ、
２１ｃはそれぞれ純水ノズル２１ａから純水供給ライン
２５ｂに沿って例えば１２ｃｍ、２７ｃｍの位置に設け
られている。

【００６２】次に、上述のように構成された第２の実施
形態による湿式処理装置を用いた基板上のレジストパタ
ーンの剥離の工程について説明する。

【００６３】まず、第１の実施形態と同様にして基板４
上にレジストパターンを形成した後、この基板４をカッ
プ内回転テーブル１２上に載置する。このとき、カップ
１１は上方に移動されており、薬液回収部２２の分離孔
２２ａの下端の高さが基板４の面の高さより高くなる状
態とする。次に、カップ内回転テーブル１２をその中心
軸のまわりに回転させることにより基板４を回転させ
る。ここで、カップ内回転テーブル１２および基板４の
回転数は例えば６０ｒｐｍである。これらのカップ内回
転テーブル１２および基板４の回転が安定した後、ポン
プ９を作動させることにより、循環タンク２から、レジ
ストパターンの剥離の工程に少なくとも一度用いられた
有機アルカリ系剥離液などの剥離液（以下、循環剥離
液）を、薬液ライン８および薬液供給バー２７を通じて
薬液吐出部７に供給し、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃか
ら吐出する。ここで、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから
吐出される循環剥離液の量は合計で例えば２００ｃｃで
ある。基板４に吐出された循環剥離液には基板４の回転
による遠心力が作用し、循環剥離液は基板４上で放射状
に広がる。そして、この放射状に広がった循環剥離液
と、基板４上のレジストとが反応する。その後、レジス
トを含んだ循環剥離液は基板４から放射状に除去され、
側壁１１ａの内壁面に沿って流れ落ち、廃液ライン２４
を通じて廃棄される。このとき、基板４上のレジストパ
ターンはほとんど剥離されている。

【００６４】次に、カップ１１を下降させ、分離孔２２
ａの中央の高さと基板４の上面の高さとをほぼ同じ高さ
にする。その後、ポンプ９を再び作動させることによ
り、循環剥離液を循環タンク２から薬液ライン８および
薬液供給バー２７を通じて薬液吐出部７に供給し、薬液
ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出させる。この薬液ノズ
ル７ａ、７ｂ、７ｃからの循環剥離液の吐出は例えば９
０秒間行う。このとき、基板４上の循環剥離液には基板
４の回転による遠心力が作用し、循環剥離液は基板４か
ら放射状に除去される。この除去された循環剥離液のう
ち、その９５％以上は分離孔２２ａを通じて薬液回収部
２２に回収され、その底面に流れ落ち、回収ライン２３
を通じて、循環タンク２に戻される。

【００６５】循環剥離液の吐出が終了した後、続いて、
ポンプ６を作動させることにより、レジストパターンの
剥離の工程に一度も用いられていない剥離液（以下、未
使用剥離液）を、新液タンク１から薬液ライン５および
薬液供給バー２７を通じて薬液吐出部７に供給し、薬液
ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出する。ここで、薬液ノ
ズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出される未使用剥離液の量
は、廃棄された循環剥離液の量とほぼ同量とし、合計で
例えば２００ｃｃである。基板４に吐出された未使用剥
離液には基板４の回転による遠心力が作用し、未使用剥
離液は基板４上を放射状に広がる。この未使用剥離液に
よって、基板４上において、レジストパターンの剥離の
仕上げの処理が行われる。その後、未使用剥離液は基板
４上から放射状に除去され、分離孔２２ａを通じて薬液
回収部２２に入り、回収ライン２３を通じて循環タンク
２に供給され、回収される。なお、この回収された未使
用剥離液は、他の基板上のレジストパターンの剥離にお
いて、循環剥離液として再利用される。

【００６６】次に、カップ内回転テーブル１２の回転数
を例えば５００ｒｐｍに上昇させることにより、基板４
を同様の回転数で回転させる。これにより、基板４に残
留した未使用剥離液はほぼ完全に除去される。これとと
もに、カップ１１を所定の高さ分上昇させ、最初の状態
（図２において実線で示す状態）とする。

【００６７】次に、カップ内回転テーブル１２の回転数
を例えば６０ｒｐｍに戻し、基板４も同様の回転数とし
た後、純水ノズル２１ａ、２１ｂ、２１ｃおよびテーブ
ル中央純水ノズル２６から基板４の両面に純水を吐出す
ることにより、基板４の純水リンスを行う。この純水ノ
ズル２１ａ、２１ｂ、２１ｃおよびテーブル中央純水ノ
ズル２６からの純水の吐出は例えば約９０秒間行う。

【００６８】次に、カップ内回転テーブル１２の回転数
を例えば１０００ｒｐｍに上昇させることにより基板４
を同様の回転数で回転させ、この状態を約２０秒間保持
する。これにより、基板４の乾燥処理が行われる。その
後、カップ内回転テーブル１２を停止させ、基板４を停
止させる。

【００６９】その後、所定の搬出装置（図示せず）によ
り基板４を湿式処理装置の外部に搬出し、基板４上のレ
ジストパターンの剥離の工程を終了する。

【００７０】この第２の実施形態による湿式処理装置を
用いた基板４上のレジストパターンの剥離における未使
用剥離液の使用量は、廃棄された循環剥離液の量とほぼ
同量であり、基板４の１枚あたり約２００ｃｃである。
これに対し、レジストパターンの剥離の処理を行う２つ
の槽を有する標準的な構成の従来の平流し式の湿式処理
装置においては、剥離液が貯蔵されるタンクの容量が合
計３００ｌであり、さらにレジストパターンの剥離の処
理を行う２つ目の槽から別の処理を行う槽への剥離液の
持ち出しが約２００ｃｃ程度であるため、２０００枚の
基板上のレジストパターンの剥離を行うごとにタンク内
の剥離液を交換すると仮定しても、剥離液の使用量は基
板１枚当たり３５０ｃｃとなり、この第２の実施形態に
よる湿式処理装置における基板４の１枚あたりの剥離液
の使用量（２００ｃｃ）より多い。すなわち、第２の実
施形態による湿式処理装置を用いて基板４上のレジスト
パターンの剥離を行う場合は、従来の平流し式の湿式処
理装置を用いて基板上のレジストパターンの剥離を行う
場合より、その剥離液の使用量を低減することができ
る。

【００７１】以上説明したように、この第２の実施形態
によれば、基板４上に最初に吐出される循環剥離液を、
基板４上から除去した後に廃棄し、最後に未使用剥離液
を基板４に吐出して基板４上のレジストパターンの剥離
を行っていることにより、第１の実施形態と同様の効果
を得ることができる。また、この第２の実施形態による
湿式処理装置が、基板４のレジストパターンの剥離およ
び純水リンスを同一のカップ１１内で行うことができる
ように構成されていることにより、純水リンスを行う槽
を別に設ける必要がないため、湿式処理装置の占有面積
を減少させることができ、クリーンルームにかかるコス
トの低減を図ることができる。

【００７２】次に、この発明の第３の実施形態による湿
式処理装置について説明する。図３はこの第３の実施形
態による湿式処理装置を示す。

【００７３】図３に示すように、この第３の実施形態に
よる湿式処理装置においては、第１の実施形態と同様に
新液タンク１、循環タンク２および基板処理部３を有す
る。ここで、新液タンク１および循環タンク２について
は第１の実施形態と同様であるので、説明は省略する。

【００７４】この第３の実施形態による湿式処理装置の
基板処理部３は、基板４に対して湿式処理を行うための
ものであり、カップ１１、カップ内回転テーブル１２、
薬液吐出部７および純水吐出部２１からなる。

【００７５】カップ１１は、基板４に吐出され基板４か
ら除去された薬液を回収または廃棄するためのものであ
り、その底面は中央部が高く周辺部が中央部に対して低
い形状、いわゆる山状に形成されているとともに、その
側壁面は円筒状の部分とその上部に内側に向けてつば状
にせり出した部分とから構成されている。また、カップ
１１の底面における周辺部には、廃液／回収ライン３１
が接続されている。廃液／回収ライン３１はその途中で
分岐されている。この分岐された廃液／回収ライン３１
のうち、一方の回収ライン３２は循環タンク２に接続さ
れ、他方の廃液ライン３３は分離バルブ３４を介して、
所定の廃液処理装置（図示せず）に接続されている。こ
の第３の実施形態における湿式処理装置のその他の構成
は第２の実施形態と同様であるので、説明は省略する。

【００７６】次に、上述のように構成されたこの第３の
実施形態による湿式処理装置を用いた自然酸化膜の除去
の工程について説明する。

【００７７】まず、第１の実施形態と同様の基板４上
に、例えばプラズマ化学気相成長法により酸化シリコン
（ＳｉＯ₂ ）膜および非晶質シリコン（アモルファスＳ
ｉ、ａ−Ｓｉ）膜（いずれも図示せず）を順次形成す
る。これらのＳｉＯ₂ 膜およびａ−Ｓｉ膜の膜厚はそれ
ぞれ例えば５００ｎｍおよび４０ｎｍである。その後、
この基板４を大気中に１日間放置する。これによって、
ａ−Ｓｉ膜表面に自然酸化膜が形成される。

【００７８】次に、図３に示すように、この基板４を、
湿式処理装置のカップ内回転テーブル１２上に載置す
る。次に、カップ内回転テーブル１２をその中心軸のま
わりに例えば６０ｒｐｍの回転数で回転させることによ
り、基板４を同様の回転数で回転させるとともに、廃液
ライン３３に設けられた分離バルブ３４を開ける。カッ
プ内回転テーブル１２および基板４の回転が安定した
後、薬液ライン８のポンプ９を作動させる。これによ
り、循環タンク２内の自然酸化膜の除去の工程に少なく
とも一度用いられた例えば５％濃度の希フッ酸（ＨＦ）
液（以下、循環ＨＦ液）を、薬液ライン８および薬液供
給バー２７を順次通じて薬液吐出部７に供給し、薬液ノ
ズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出する。この循環ＨＦ液の
吐出は例えば約５秒間行われる。この基板４に吐出され
た循環ＨＦ液には基板４の回転による遠心力が作用し、
循環ＨＦ液は基板４上を放射状に広がる。これによっ
て、基板４の上方のａ−Ｓｉ膜表面に形成された自然酸
化膜が除去される。また、自然酸化膜を除去した循環Ｈ
Ｆ液は基板４上から放射状に除去される。その後、この
循環ＨＦ液はカップ１１の周辺部の底面に接続された回
収／廃液ライン３１に入り、廃液ライン３３を通じて廃
棄される。この循環ＨＦ液の廃棄が終了した後、廃液ラ
イン３３の分離バルブ３４を閉じる。

【００７９】次に、ポンプ９を作動させることにより、
上述と同様にして、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから循
環ＨＦ液を基板４上に吐出する。この循環ＨＦ液の吐出
は約１５秒間行われる。基板４上の循環ＨＦ液には基板
４の回転による遠心力が作用して基板４上を放射状に広
がり、ａ−Ｓｉ膜表面に残留していた自然酸化膜を除去
する。また、循環ＨＦ液は基板４から放射状に除去さ
れ、カップ１１の側壁面に沿って底面に流れ落ち、回収
／廃液ライン３１および回収ライン３２を通じて循環タ
ンク２に戻される。

【００８０】次に、薬液ライン５のポンプ６を作動させ
ることにより、新液タンク１内の、自然酸化膜の除去の
工程に一度も用いられていないＨＦ液（以下、未使用Ｈ
Ｆ液）を薬液ライン５および薬液供給バー２７を通じ
て、薬液ノズル７ａ、７ｂ、７ｃから基板４に吐出す
る。この未使用ＨＦ液の吐出は約５秒間行われ、薬液ノ
ズル７ａ、７ｂ、７ｃから吐出される未使用ＨＦ液の量
は合計で例えば約１５０ｃｃである。基板４上に吐出さ
れた未使用ＨＦ液には基板４の回転による遠心力が作用
し、未使用ＨＦ液は基板４上で放射状に広がる。これに
よって、自然酸化膜の除去の工程における仕上げの処理
が行われる。また、未使用ＨＦ液は基板４上から放射状
に除去され、カップ１１の底面に流れ落ち、回収／廃液
ライン３１および回収ライン３２を通じて、循環タンク
２に供給され、回収される。なお、この回収された未使
用ＨＦ液は、他の基板における自然酸化膜の除去の工程
において循環ＨＦ液として再利用される。

【００８１】次に、廃液ライン３３に設けられた分離バ
ルブ３４を開けた後、第２の実施形態と同様にして、純
水を、純水ライン２５ｂを通じて純水吐出部２１に供給
し、純水ノズル２１ａ、２１ｂ、２１ｃから吐出させる
とともに、純水ライン２５ａを通じてテーブル中央純水
ノズル２６から吐出させる。これによって、基板４の両
面の純水リンスが行われる。この純水リンスは約６０秒
間行われる。また、基板４の両面に吐出された純水には
基板４の回転による遠心力が作用し、基板４に対して放
射状に広がり除去される。基板４から除去された純水は
カップ１１の底面に流れ落ち、回収／廃液ライン３１お
よび廃液ライン３３を通じて廃棄される。

【００８２】次に、カップ内回転テーブル１２の回転数
を例えば１０００ｒｐｍに上昇させることにより、基板
４を同様の回転数で回転させ、この状態を約２０秒間保
持する。その後、カップ内回転テーブル１２および基板
４を停止させる。これにより、基板４の乾燥処理が行わ
れる。

【００８３】その後、所定の搬出装置（図示せず）によ
り基板４を湿式処理装置の外部に搬出し、ａ−Ｓｉ膜表
面の自然酸化膜の除去の工程を終了する。

【００８４】以上説明したように、この第３の実施形態
によれば、最初に吐出した循環ＨＦ液を基板４から除去
した後、廃棄し、最後に基板４に未使用ＨＦ液を吐出し
て自然酸化膜の除去の工程における仕上げの処理を行
い、その未使用ＨＦ液を回収し、循環させ、循環ＨＦ液
として再び使用するようにしていることにより、また、
カップ１１内において基板４上のａ−Ｓｉ膜に形成され
た自然酸化膜を除去した後、さらに、同一のカップ１１
内においてａ−Ｓｉ膜表面の自然酸化膜の除去と基板４
の純水リンスとを行うようにしていることにより、第２
の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、ａ
−Ｓｉ膜表面に最後に吐出されるＨＦ液が、自然酸化膜
除去に一度も用いられていないものであることにより、
ａ−Ｓｉ膜の表面を不純物のない清浄な表面にすること
ができる。

【００８５】以上、この発明の実施形態について具体的
に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定され
るものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の
変形が可能である。

【００８６】例えば、上述の実施形態において挙げた数
値、材料、循環された薬液と廃棄される薬液とを分離す
る手段はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異
なる数値、材料、手段を用いてもよい。

【００８７】また、例えば、上述の第３の実施形態にお
いては、ＨＦを用いて基板４の上方のａ−Ｓｉ膜表面の
自然酸化膜の除去を行っているが、例えば塩酸溶液によ
ってＩＴＯ膜をエッチングするようにしてもよく、例え
ばリン酸、酢酸および硝酸の混合溶液によってアルミニ
ウムをエッチングするようにしてもよい。

【００８８】また、例えば、上述の第３の実施形態にお
いては、分離バルブ３４が廃液ライン３３の途中に設け
られているが、分離バルブ３４を回収ライン３２の途中
に設けるようにしてもよく、また、分離バルブを廃液ラ
イン３３および回収ライン３２のそれぞれに設けるよう
にしてもよい。そして、分離バルブが回収ライン３２お
よび／または廃液ライン３３に設けられた場合には、分
離バルブは、薬液の排出や回収に応じて、適時開閉可能
に構成される。

【００８９】また、例えば、上述の第１〜第３の実施形
態においては、基板４としてガラス基板を用いている
が、例えば液晶基板やプリント基板などであってもよ
い。

【００９０】

【発明の効果】以上説明したように、この発明の第１の
発明による回転式湿式処理方法によれば、少なくとも最
初に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、
湿式処理に少なくとも一度用いられた薬液を基板に吐出
して湿式処理を行い、次いで、この少なくとも一度用い
られた薬液を、基板回転手段によって基板を回転させる
ことにより基板から除去した後、この少なくとも一度用
いられた薬液を廃棄する第１の工程と、薬液吐出手段に
より、循環タンクから供給され、少なくとも一度用いら
れた薬液を基板に吐出して湿式処理を行い、この少なく
とも一度用いられた薬液を、基板回転手段によって基板
を回転させることにより基板から除去した後、薬液回収
手段により、この少なくとも一度用いられた薬液を循環
タンクに回収する第２の工程と、少なくとも最後に、薬
液吐出手段により、一度も湿式処理に用いられていない
薬液を基板に吐出して湿式処理を行い、次いで、この一
度も用いられていない薬液を、基板回転手段によって基
板を回転させることにより基板から除去した後、薬液回
収手段により、この一度も用いられていない薬液を循環
タンクに回収するようにした第３の工程とを有している
ことにより、湿式処理における薬液の使用量を低減し、
必要最小限に抑えることができる。

【００９１】この発明の第２の発明による回転式湿式処
理装置によれば、基板に薬液を吐出する薬液吐出手段
と、この基板を回転可能に構成された基板回転手段とを
有し、基板回転手段により基板を回転させるとともに、
薬液吐出手段により基板に薬液を吐出して湿式処理を行
う装置であり、基板から除去された薬液を、廃棄する廃
棄手段と、基板から除去された薬液を、循環タンクに回
収する薬液回収手段とをさらに有し、少なくとも最初
に、薬液吐出手段により、循環タンクから供給され、湿
式処理に少なくとも一度用いられた薬液を吐出して湿式
処理を行い、基板回転手段によって基板を回転させるこ
とにより少なくとも一度用いられた薬液を基板から除去
した後、廃棄手段によりこの少なくとも一度用いられた
薬液を廃棄し、さらに、薬液吐出手段により、循環タン
クから供給され、少なくとも一度用いられた薬液を基板
に吐出して湿式処理を行い、基板回転手段によって基板
を回転させることにより基板からこの少なくとも一度用
いられた薬液を除去した後、薬液回収手段によりこの少
なくとも一度用いられた薬液を循環タンクに回収し、少
なくとも最後に、薬液吐出手段により、湿式処理に一度
も用いられていない薬液を基板に吐出して湿式処理を行
い、基板回転手段によって基板を回転させることにより
この一度も用いられていない薬液を基板から除去した
後、薬液回収手段によりこの一度も用いられていない薬
液を循環タンクに回収するように構成されていることに
より、薬液の使用量を必要最小限に抑えることができる
とともに、占有面積を最小限に抑えることができ、クリ
ーンルームなどにかかるコストを低減することができる
回転式湿式処理装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態による湿式処理装置
を示す断面図である。

【図２】この発明の第２の実施形態による湿式処理装置
を示す断面図である。

【図３】この発明の第３の実施形態による湿式処理装置
を示す断面図である。

【図４】従来技術による平流し式の湿式処理装置を示す
断面図である。

【符号の説明】

１・・・新液タンク、２・・・循環液タンク、３・・・
湿式処理部、４・・・基板、７・・・薬液吐出部、７
ａ、７ｂ、７ｃ・・・薬液ノズル、１１・・・カップ、
１１ａ・・・側壁、１２・・・カップ内回転テーブル、
１６・・・分離シャッター

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ (56)参考文献 特開 平７−24396（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−78263（ＪＰ，Ａ)

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、 上記基板を回転させる基板回転手段と、 上記基板から除去された上記薬液を廃棄する廃棄手段
   と、 上記基板から除去された上記薬液を循環タンクに回収す
   る薬液回収手段とを用い、 上記基板回転手段により上記基板を回転させるととも
   に、上記 基板に上記薬液を吐出して湿式処理を行うよう
   にした回転式湿式処理方法であって、 少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環
   タンクから供給され、上記湿式処理に少なくとも一度用
   いられた薬液を上記基板に吐出して湿式処理を行い、次
   いで、上記少なくとも一度用いられた薬液を、上記基板
   回転手段によって上記基板を回転させることにより上記
   基板から除去した後、上記廃棄手段により、上記少なく
   とも一度用いられた薬液を廃棄するようにした第１の工
   程と、上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給さ
   れ、 上記少なくとも一度用いられた薬液を上記基板に吐
   出して湿式処理を行い、上記少なくとも一度用いられた
   薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転させ
   ることにより上記基板から除去した後、上記薬液回収手
   段により、上記少なくとも一度用いられた薬液を上記循
   環タンクに回収するようにした第２の工程と、 少なくとも最後に、上記薬液吐出手段により、上記湿式
   処理に一度も用いられていない薬液を、上記基板に吐出
   して湿式処理を行い、次いで、上記一度も用いられてい
   ない薬液を、上記基板回転手段によって上記基板を回転
   させることにより上記基板から除去した後、上記薬液回
   収手段により、上記一度も用いられていない薬液を上記
   循環タンクに回収するようにした第３の工程とを有する
   ことを特徴とする回転式湿式処理方法。
2. 【請求項２】 上記一度も用いられていない薬液を回収
   した後、上記基板に純水を吐出するようにしたことを特
   徴とする請求項１記載の回転式湿式処理方法。
3. 【請求項３】 上記湿式処理が枚葉式に行われることを
   特徴とする請求項１記載の回転式湿式処理方法。
4. 【請求項４】 基板に薬液を吐出する薬液吐出手段と、 上記基板を回転可能に構成された基板回転手段とを有
   し、 上記基板回転手段により上記基板を回転させるととも
   に、上記薬液吐出手段により上記基板に上記薬液を吐出
   して湿式処理を行うようにした回転式湿式処理装置であ
   って、 上記基板から除去された上記薬液を、廃棄する廃棄手段
   と、 上記基板から除去された上記薬液を、循環タンクに回収
   する薬液回収手段と を有し、少なくとも最初に、上記薬液吐出手段により、上記循環
   タンクから供給され、上記湿式処理に少なくとも一度用
   いられた薬液を吐出して上記湿式処理を行い、上記基板
   回転手段によって上記基板を回転させることにより上記
   少なくとも一度用いられた薬液を上記基板から除去した
   後、上記廃棄手段により上記少なくとも一度用いられた
   薬液を廃棄し、 上記薬液吐出手段により、上記循環タンクから供給さ
   れ、上記少なくとも一度用いられた薬液を上記基板に吐
   出して湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記
   基板を回転させることにより上記基板から上記少なくと
   も一度用いられた薬液を除去した後、上記薬液回収手段
   により上記少なくとも一度用いられた薬液を上記循環タ
   ンクに回収し、 少なくとも最後に、上記薬液吐出手段により、上記湿式
   処理に一度も用いられていない薬液を上記基板に吐出し
   て上記湿式処理を行い、上記基板回転手段によって上記
   基板を回転させることにより上記一度も用いられていな
   い薬液を上記基板から除去した後、上記薬液回収手段に
   より上記一度も用いられていない薬液を上記循環タンク
   に回収するように構成されている ことを特徴とする回転
   式湿式処理装置。
5. 【請求項５】 上記基板から除去された上記薬液を所定
   の経路で上記薬液吐出手段にまで循環させる薬液循環手
   段を有することを特徴とする請求項４記載の回転式湿式
   処理装置。
6. 【請求項６】 上記基板に純水を吐出する純水吐出手段
   を有することを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処
   理装置。
7. 【請求項７】 上記回転式湿式処理装置が枚葉式である
   ことを特徴とする請求項４記載の回転式湿式処理装置。