JP3246474B2 - グラファイトフィルムの製造方法 - Google Patents
グラファイトフィルムの製造方法Info
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Description
構造体、ガスケット、耐熱シール材等として使用される
柔軟性かつ弾力性を持ったグラファイトフィルムの製造
方法に関し、特に、無機質フイラーや有機質フイラーを
含有する特珠な高分子材料を原料とし、これを特定の温
度および必妥に応じ圧力下で熱処理することからなるグ
ラファイトフィルムの製造方法に関する。
性、高電気伝導性、等のため工業材料として重要な地位
を占め、電極、発熱体、構造材、ガスケット、耐熱シー
ル材、等として広く僚用されている。
産するものを使用するのが一つの方法であるが、良質の
グラファイトは生産量が非常に限られており、しかも、
取り扱いにくい粉末状またはブロック状の形態を有する
ため、人工的にグラファイトを製造することが行われて
いる。
には存在しないため、専ら人工的に作成されている。
法の代表例が、エキスバンド法と呼ばれる方法である。
これは、主にグラファイトを濃硫酸と濃硝酸の混合液に
浸漬し、その後加熱によってグラファイト層間を広げる
と言う方法である。このようにして製造されたグラファ
イトは、洗浄によって酸を取り除いたのち、高圧プレス
加工することによってフィルム状に加工される。
グラファイトフィルムのいろいろな特性は、天然の単結
晶グラファイトには遠く及ばず、例えば、電気伝導度は
通常1.5×103S/cmであり(単結晶では2.0×104S
/cm)、フィルム強度も粉末から製造されるため弱い
ものであった。
SOXやNOXガス発生の問題もあった。さらに、製造工
程で使用した酸が完全には取り除けないため、フィルム
を使用する際にはその残留酸の浸出による金属の腐食、
など多くの問題があった。
ンド法によらない高品質フィルム状グラファイトの製造
方法の開発が望まれていた。
め、我々は、特殊な高分子フィルムを熱処埋してグラフ
ァイト化することにより直接グラファイトフィルムを得
る方法を開発した。この方法は、エキスバンド法に比べ
遥かに簡単、容易な方法であり、単結晶に近い優れた物
性値のグラファイトが得られるはかりでなく、残留酸の
問題等もない、非常に優れた方法である。
ファイト法に比べ比較的薄いグラファイトしか得られな
いと言う欠点があった。
5um以内の場合には通常の熱処理法により15um以内
の厚さのグラファイトフィルムが得られるが、原料フィ
ルムの厚さ25um以上になると、一般に、フィルム内部
から発生するガスのためフィルムがボロボロになり、優
れたフィルム状グラファイトが得られないと言う欠点で
ある。
ルム状グラファイトを得る方法では、普通、15um以上
の厚さのグラファイトフィルムを得ることが困難であっ
た。そこで、この発明は、上記高分子フィルムの直接グ
ラファイト化による人造グラファイトフィルムの製造法
における問題点を解決して、単結晶グラファイトに近い
特性を有し、良質で柔軟性と強靭性に富み、しかも15
um以上の厚さを有するグラファイトフィルムを得させ
る方法を提供することを目的とする。
を達成するべく、種々検討の結果、原料フィルムに無機
質フィラーまたは有機質フイラーを添加して高温熱処理
を施すことにより均一発泡状態を作り出し、必要に応
じ、得られたグラファイトフィルムに圧延処埋を施すこ
ととすれば、柔軟性かつ弾性を有し、しかも十分な厚さ
を有するグラファイトフィルムが得られることを見出し
て、この発明に到達した。
いないため、従来のエキスバンドグラファイトのような
問題点がなく、しかも、前述のように、従来のグラファ
イトフィルムに比べ遥かにすぐれた柔軟性と弾力性を持
ったグラファイトフィルムを得ることが出来る。
子構造を有し、かつ無機質または有機質のフイラーを含
む高分子フィルムを用いること、(2)特定の範囲内の
厚みを有する高分子フィルムを用いること、(3)特定
の条件で熱処理すること、そして必要に応じ、熱処理後
に圧延処理を施すこと、の3点に要約することが出釆
る。
は、各種ポリフェニレンオキサジアゾール(POD)、
ポリペンゾチアゾール(PBT)、ポリペンゾピスチア
ゾール(PBBT)、ポリペンゾオキサゾール(PB
O)、ポリペンゾビスオキサゾール(PBBO)、各種
ポリ(ピロメリットイミド)(PI)、ポリ(フェニレ
ンイソフタルアミド)(PPA)、ポリ(フェニレンペ
ンゾイミタゾール)(PBI)、ポリ(フェニレンペン
ゾビスイミタゾール)(PPBI)、ポリチアゾール
(PT)、ポリ(バラフェニレンビニレン)(PPV)のう
ちから選ばれた少なくとも1種類の高分子フィルムであ
る。ここで、各種ポリオキサジアゾールとは、ポリバラ
フェニレンー1.3.4はオキサジアゾールとその異性体
を言う。
は、下記一般式で表されるポリイミドである。この発明
では、上記高分子フィルムに無機質や有機質のフイラー
が添加される。この目的に使用されるフイラーとして
は、リン酸エステル系、リン酸カルシウム系、ポリエス
テル系、エポキシ系、ステアリン酸系、トリメリット酸
系、酸化金属系、有機錫糸、鉛糸、アゾ系、ニトロン系
およびスルホニルヒドラジド系の各化合物を挙げること
が出来る。
として、リン酸トリクレジル、リン酸(トリスイソプロ
ピルフェニル)、トリプチルホスフェート、トリエチル
ホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、
トリスプトキシエチルフォスフェート、等を、リン酸カ
ルシウム系化合物として、リン酸二水素カルシウム、リ
ン水素カルシウム、リン酸三カルシウム、等をあげるこ
とができる。また、ポリエステル系化合物としては、ア
ジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フタル酸などと
グリコール、グリセリン類とのポリマー、等をあげるこ
とが出来る。
バシン酸ジオクチル、セバシン酸ジプチル、クエン酸ア
セチルトリプチル、等、酸化金属系化合物としては、酸
化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉛、等、トリメ
リット酸系化合物としては、ジプチルフマレート、ジエ
チルフタレート、等、鉛系化合物としては、ステアリン
酸鉛、ケイ酸鉛、等、アゾ系化合物としては、アゾジカ
ルポンアミド、アゾピスイソプチロニトリル、等、ニト
ロン系化合物としては、ニトロンペンタメチレソテトラ
ミン、等、スルホニルヒドラジド系合物としては、P−
トルエンスルホニルヒドラジド、等を挙げることが出来
る。
囲が適当で、より好ましくは1〜10重量%の範囲であ
る。その最適添加量は、高分子の厚さによって異なり、
高分子の厚さが薄い場合には添加量が多い方がよく、厚
い場合には添加量は少なくてよい。
一発泡の状態にすることにある。すなわち、添加された
フイラーは、加熱中にガスを発生し、このガスの発生し
た後の空洞が通り道となってフィルム内部からの分解ガ
スの穏やかな通過を助ける。フィラーはこうして均一発
泡状態を作少出すのに役立つ。
0um以下の厚さを有するフィルムが用いられる。20
0umを越える厚さを有する原料を用いた場合には、こ
の発明の方法によっても良質のグラファイトを得ること
は難しく、ボロボロのグラファイトしか得られない。
最も高温の処理温度は2400℃以上であることが必要であ
る。この処理温度が2400℃未満であると、得られた
フィルムは、硬く脆いものであり、圧延処理を施すこと
が出来ない。
なくとも、2000℃以上の温度領域での熱処理は不活性ガ
ス中で行うことが必要である。これは、常圧下で行うこ
とが出来る。フイラーを含まない高分子フィルムを原料
とするときは加圧焼成が不可欠となるが、この発明のよ
うに、フイラーを含む高分子フィルムを原料とする場合
には加圧焼成は必ずしも必要ではない。
によって発生するガスのため、加圧焼成を行わないで
も、均一な発泡状態にあるグラファイトフィルムを得る
ことが出来るからである。
ある圧延工程について述べる。上記のような方法で作成
された均一な発泡状態にあるフィルムは、多くの場合、
脆く割れ易いものであるが、圧延処理によって強靭で柔
軟性に富むグラファイトフィルムに転化することが出来
る。この圧延処理は、通常、2本の金属またはセラミッ
ク製のロールの間を通過させることによって行われる
が、原理的に同様の効果を有する手法であれば、その手
段の如何によらず優れた性質のグラファイトフィルムを
得ることが出来る。
を圧延処理した場合のフィルムの状態を図1(c)に示
す(図1(b)は従来のボロボロな状態のグラファイト
フィルムを示す)。図1(a)の状態のグラファイト
は、発泡状態にあるが、グラファイト結晶子が連続して
おりそのサイズが大きい。
一方向にそろった優れた物性を有するフィルムに転化で
きる。この圧延処理によって優れた物性を有するグラフ
ァイトフィルムに転化出来るのは、上記均一発泡の状態
にあるグラファイトフィルムのみであって、図1(b)
の状態のフィルムは、圧延処理によってもその性賀は改
善青されない。
3重量%のステアリン酸カルシウムを含む、2種類の厚
さ100umのポリバラフェニレンー1.3.4−オキ
サジアゾールフィルム(POD)を産協電炉(株)製LT
F−8型電気炉を用いて窒素ガス中10℃/minの速度
で1000℃まで昇温し、1000℃で1時間保ち予備
熱処理をした。
び縮み出来るようグラファイト製の円筒の内部にセット
し、進成電炉(株)製超高温炉46−5型を用いてグラフ
ァイト筒と共に20℃/minの速度で3000℃まで加
熱した。加熱はアルゴン雰囲気中常圧で行った。
イト化フィルムは均一な発泡状態にあったが、フイラー
を含まない原料から得られたフィルムはボロボロの状態
にあった。
さらにステンレス製の2本のローラー(熊谷理機工業
(株)製、ローラー)の間を通すことにより圧延処理を施
した。均一発泡の状態にある試料は圧延処理により柔軟
で強靭なフィルムとなった。得られたフィルムの引っ張
り強度を測定した結果を(表1)に示す。
含む高分子フィルムの処理によって得られるグラファイ
トフィルムの引っ張り強度は大きく、圧延処理を施すこ
とによりその強度はさらに大きくなる。
まないPODフィルムより作製したグラファイトフィル
ムの面方向の電気伝導度は1.5×103S/cmであ
ったが、フイラーを含むフィルムの場合は、面方向の電
気伝導度が1.6〜2.0×104S/cmであり、単
結晶並の優れた電気伝導度を示した。
ウムを含む厚さ25um、50um、75um、125
umのポリピロメリットイミド(デュボン(Dupont)
社製、カプトンHフィルム)をそれぞれ実施例1の方法
に従って2800℃で熱処理し、試料によっては得られ
たフィルムをさらに圧延処理した。得られたフィルムの
引っ張り強度試験を行った結果を(表2)に示す。
を原料とした場合、常圧処理によってはボロボロの状態
のフィルムとなり、良好な均一フィルムは得られなかっ
た。しかし、200um以下の厚さの原料フィルムで
は、均一発泡状態となり、圧延処理でより柔軟なフィル
ムと成った。
2.0×104S/cmであり、単結晶並の優れた電気
伝導度を示した。また、元素分析による測定では、フィ
ルムの純度は100%炭素であり、その他の元素は検出さ
れなかった。すなわち、この手法により機械的強度に優
れ、かつ高品質なフィルムが得られることが分かった。
ムを含む、厚さ50umのPBT、PBBT、PBO、PBBO、PP
A、PBI、PPBI、PT、PPV各フィルムを常圧下で3000℃
の温度で熱処理し、試料によってはさらに圧延処理を施
して、その引っ張り強度を測定した。その結果を(表
3)に示す。
に示したそれぞれの高分子から、いずれも、この発明の
手法により優れた物理的性質を有するグラファイトフィ
ルムを得ることが出来ることが分かる。各フィルムの電
気伝導度は1.2〜2.0×104S/cmであり、単
結晶並の優れた電気伝導度を示した。
トの製造方法は、以上のように構成されているため、こ
れによれば、柔軟性に富み、強靭なグラファイトフィル
ムを容易に得ることが出来る。
グラファイト粉末から得られるグラファイトフィルムに
比べ、より強靭でかつ不純物の少ない高品賀のグラファ
イトであって、ガスケットやパッキン等に広く使用する
ことが出来る。
処埋によるグラファイトフィルムへの直接転化法に比べ
て、遥かに厚さの厚いグラファイトを作成することが出
来る利点を有する。
かも全体的に均一状態にあるグラファイトフィルムの模
型図 (b)発生するガスのためボロボロな状態にあるグラフ
ァイトフィルムの模型図 (c)(a)の状態にあるグラファイトフィルムを圧延
処理した場合のグラファイトフィルムの模型図
Claims (2)
- 【請求項1】 リン酸エステル系、リン酸カルシウム
系、ポリエステル系、エポキシ系、ステアリン酸系、ト
リメリット酸系、酸化金属系、有機錫系、鉛系、アゾ系
化合物、ニトロン系およびスルホニルヒドラジド系の各
化合物のうちから選択された少なくとも1種類のフィラ
ーを含有し、加熱の際のフィルムからのガスの発生によ
っても、グラファイトフィルムを得られる厚みを有する
高分子フィルムを2400℃以上で熱処理し、その後圧
延処理するグラファイトフィルムの製造方法。 - 【請求項2】 高分子フィルムは、ポリオキサジアゾー
ル、ポリベンゾチアゾール、ポリベンゾビスチアゾー
ル、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾビスオキサゾ
ール、ポリ(ピロメリットイミド)、ポリ(フェニレン
イソフタルアミド)、ポリ(フェニレンベンゾイミタゾ
ール)、ポリ(フェニレンベンゾビスイミタゾール)、
ポリチアゾール、ポリパラフェニレンビニレンのうちか
ら選ばれた少なくとも1種類であることを特徴とする請
求項1記載のグラファイトフィルムの製造方法。
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