JP3234587U - Pscタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。 - Google Patents
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Abstract
【課題】ペロブスカイト半導体薄膜光電変換層の光劣化および大気劣化の防止や長寿命化を図る、CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を用いる2層構造ヘテロ接合によるPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置を提供する。
【解決手段】リンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜層3およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜層4接合のnp型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合部に、i型真性CVDダイヤモンド半導体薄膜5を挟み、n型電子輸送層6、ペロブスカイト結晶層7、p型正孔輸送層8接合のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層を設けた2層構造ヘテロ接合の半導体薄膜光電変換層の入射面に、透明導電膜2と蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子1−1がドープされた透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板1を設け、裏面に裏面電極9と保護材を設けた。
【選択図】図2
【解決手段】リンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜層3およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜層4接合のnp型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合部に、i型真性CVDダイヤモンド半導体薄膜5を挟み、n型電子輸送層6、ペロブスカイト結晶層7、p型正孔輸送層8接合のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層を設けた2層構造ヘテロ接合の半導体薄膜光電変換層の入射面に、透明導電膜2と蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子1−1がドープされた透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板1を設け、裏面に裏面電極9と保護材を設けた。
【選択図】図2
Description
本考案は、CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層およびペロブスカイト半導体薄膜光電変換層をヘテロ接合により、構成されたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置に関する。
日本政府は、2050年までに温暖化ガスの排出量を実質ゼロにする目標を発表した。環境対応は世界的な潮流のため、環境を「成長の柱」と位置づけ、再生可能エネルギーなどの技術革新や投資を促し、次世代産業の育成を支援する方針とされる。化石燃料を減らし、脱炭素の圧力はかってない高まりにより、太陽電池などの再生可能エネルギーを増やすとされ、太陽電池の変換効率の向上が期待される。
実願2021−001119号
実願2021−001273号
実用新案登録第3223095号
監修 藤森直治,鹿田真一、ダイヤモンドエレクトロニクスの最前線《普及版》 第4章 ナノ結晶ダイヤモンド薄膜 p36〜44、第6章 半導体特性 p63〜71、第7章 p型ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の半導体特性 p75〜84、第8章 n型ドーピングと半導体特性 p86〜98、2014年版、株式会社 シーエムシー出版。
著作 ▲C▼堀越佳治、「太陽光発電」基礎から電力系への導入まで、第8章 太陽電池に用いられる材料と構造、8.3.6ペロブスカイト太陽電池 p145〜148、2020年版、株式会社 内田老鶴圃
監修 荒川泰彦、超高効率太陽電池・関連材料の最前線《普及版》 第2章 4・グラフェンを用いた太陽電池用透明導電膜の開発 グラフェンの成膜技術 p44〜45、CVD法によるグラフェンの成膜 p50〜55、5・薄膜太陽電池用ZnO系透明導電膜 p56、5.4 ZnO透明導電膜の電気特性・光学特性の両立 p65〜72、5.3.1 薄膜Si太陽電池用透明導電膜SnO2 p60〜61、2017年版、株式会社 シーエムシー出版。
太陽電池モジュールの生産は日本やドイツのメーカーがリードした時期もあった。しかし、現在では世界シェア首位のジンコソーラーなど中国産が7割を占める。日本政府は、2050年までに温暖化ガスの排出量を実質ゼロの目標に向け、温暖化ガスの削減につながる太陽電池などの再生可能エネルギー技術の投資を促し、次世代産業の育成を支援するとされる。政府が改定する地球温暖化対策計画の構成案は、再生可能エネルギーの「最大限の導入」を掲げる。新たな温対計画は再生可能エネルギーなどの活用で温暖化ガスの排出量を減らしながら経済を回復させるグリーン復興に軸足を置くとされる。エイチ・アイ・エス(HIS)は、2020年にも次世代太陽電池のペロブスカイト太陽電池の工場を長崎県に新設すると発表した。東芝やパナソニックも2025年までに同タイプの実用化に動き、中国勢も独自の開発を進めているとされる。すでに次世代太陽電池として注目されるペロブスカイト太陽電池は、中国・杭州繊納光電科技は2021年5月、面積20平方センチメートルのペロブスカイト太陽電池で、世界最高となるエネルギー変換効率20.2%を達成したと発表した。本考案での低コスト高効率のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層は、光劣化および大気劣化の防止や長寿命化が課題であるとされる。したがって、CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層およびペロブスカイト結晶半導体薄膜光電変換層を用いた2層構造のヘテロ接合により構成される。CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層の透光性および放熱性により、ペロブスカイト薄膜光電変換層の光劣化および大気劣化を防ぎ、寿命を持続化させる高効率のタンデム型薄膜太陽電池装置を開発するものである。
本考案のタンデム型薄膜太陽電池の内部は、トップセル層として透光性、熱伝導率に優れた特性を有するリンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜層3およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜層4接合のnp型、またはi型真性CVDダイヤモンド半導体薄膜層を用いたnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を設け、ボトムセル層としてn型電子輸送層(TiO2,ZnO/SnO2)6、光吸収層のペロブスカイト結晶層(CH3NH3PbI3)7、p型正孔輸送層(Spiro−OMeTAD/CuSCN)8を用いたペロブスカイト半導体薄膜光電変換層を設けた2層構造ヘテロ接合部に、真性CVDダイヤモンド半導体薄膜層5を挟むことで、再結合を抑えたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
トップセル層の入射面に、透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板1を設けたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
トップセル層の入射面に、蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子1−1がドープされた透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板1を設けて、夜間の発光を光電変換するPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
トップセル層としてnp型3〜5またはnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合により、ボトムセル層のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層6〜8の光劣化および大気劣化を防ぎ、寿命を持続化させるPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
トップセル層の入射面に、蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子1−1ドープの透明CVDダイヤモンド薄膜層1または透明CVDダイヤモンド薄膜層1を設けたnp型3〜5またはnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層の入射熱および光電変換熱を放熱し、CVDダイヤモンドの透光性により、ボトムセル層のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層6〜8の変換効率を低下させないPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
本考案に係る薄膜太陽電池は、トップセル層にCVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を、ボトムセル層にペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合により構成されたことにより、ペロブスカイト半導体薄膜光電変換層の光劣化および大気劣化を防ぎ、寿命を持続化させる。蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子がドープされたCVDダイヤモンド薄膜層による日射および夜間の発光を光電変換し、入射熱および光電変換熱を放熱する。CVDダイヤモンド層の透光性により、ペロブスカイトの光電変換効率を低下させない多用途利用のPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置である。
CVDダイヤモンド半導体はシリコン(Si)と同じ14族元素に属している。n型CVDダイヤモンド半導体のドープは、第15族元素の窒素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)などをドープすることができる。p型CVDダイヤモンド半導体のドープは、第13族元素のホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(In)などをドープすることができる。本考案では、リンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜接合のnp型、または真性CVDダイヤモンド半導体薄膜i型を用いたnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合部に真性CVDダイヤモンド半導体薄膜i型を挟み、ペロブスカイト(PSC)薄膜光電変換層を接合した2層構造のPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
CVDダイヤモンドは、高出力型マイクロ波プラズマCVD法またはマイクロ波プラズマCVD法、表面波プラズマCVD法による透明ナノ結晶ダイヤモンド薄膜が用いられる。
CVDダイヤモンドはバンドギャップ5.48eVの半導体としての特性を有し、熱伝導率22(W/cm・K)を示し、シリコン1.56(W/cm・K)と比較すると約15倍の熱伝導率または放熱を有しているCVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層である。
ペロブスカイト薄膜光電変換層は、光吸収層としてCH3NH3PbI3のペロブスカイト結晶を、n型電子輸送層としてTiO2,ZnO/SnO2を用い、p型正孔輸送層としてSpiro−OMeTAD/CuSCNを固体化にしたペロブスカイト半導体薄膜光電変換層が開発され、20%を超える太陽電池が製作される。
CVDダイヤモンド半導体薄膜のバンドギャップは5.48eVである。ペロブスカイト結晶のバンドギャップは1.6eVで、対応してVocも1.1〜1.2eVと高い効率とされるペロブスカイト半導体薄膜光電変換層である。
CVDダイヤモンドはバンドギャップ5.48eVの半導体としての特性を有し、熱伝導率22(W/cm・K)を示し、シリコン1.56(W/cm・K)と比較すると約15倍の熱伝導率または放熱を有しているCVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層である。
ペロブスカイト薄膜光電変換層は、光吸収層としてCH3NH3PbI3のペロブスカイト結晶を、n型電子輸送層としてTiO2,ZnO/SnO2を用い、p型正孔輸送層としてSpiro−OMeTAD/CuSCNを固体化にしたペロブスカイト半導体薄膜光電変換層が開発され、20%を超える太陽電池が製作される。
CVDダイヤモンド半導体薄膜のバンドギャップは5.48eVである。ペロブスカイト結晶のバンドギャップは1.6eVで、対応してVocも1.1〜1.2eVと高い効率とされるペロブスカイト半導体薄膜光電変換層である。
透明電極はIOTやSnO2、ZnOなどのワイドギャップ半導体で対応可能であった。40%以上の変換効率の太陽電池には、約2μm程度の赤外光まで発電に寄与させることが不可欠になる。IOTやSnO2では長波長光まで光を透過させることは難しい。CVD法によるグラフェンは赤外光までの透過率80%以上に維持する。最近では2層グラフェンまたは数層グラフェンなどがあり、適した透明導電膜をCVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層に用いることができる。
薄膜太陽電池の内部は、トップセルとして透光性および熱伝導率に優れた特性を有するnp型またはnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を、ボトムセルとしてペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層を用いた2層構造のヘテロ接合部に、真性CVDダイヤモンド半導体薄膜を挟むことで、再結合を抑えたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
図1の参考断面図に示す。リンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜層3およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜層4接合のnp型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合部に、i型真性CVDダイヤモンド半導体薄膜5を挟み、n型電子輸送層(TiO2,ZnO/SnO2)6、ペロブスカイト結晶層(CH3NH3PbI3)7、p型正孔輸送層(Spiro−OMeTAD/CuSCN)8接合のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層を設けた2層構造ヘテロ接合の半導体薄膜光電変換層の入射面に、透明導電膜2と透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板1を設け、裏面に裏面電極9と保護材10を設けたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
図2の参考断面図に示す。リンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜層3およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜層4接合のnp型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合部に、i型真性CVDダイヤモンド半導体薄膜5を挟み、n型電子輸送層(TiO2,ZnO/SnO2)6、ペロブスカイト結晶層(CH3NH3PbI3)7、p型正孔輸送層(Spiro−OMeTAD/CuSCN)8接合のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層を設けた2層構造ヘテロ接合の半導体薄膜光電変換層の入射面に、透明導電膜2と蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子1−1がドープされた透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板1を設け、裏面に裏面電極9と保護材を設けたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子1−1ドープの透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板は、太陽光などの200nm〜522nm程度の波長を吸収し、夜間400nm〜700nm未満の波長で発光する。CVDダイヤモンドは広帯域の光学的透過性を有し、束縛エネルギーが80meVもあるCVDダイヤモンドである。
蓄光性蛍光粒子ドープのCVD透明ナノ結晶ダイヤモンド薄膜層を入射面に設けたpn型またはpin型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を設けた車両の薄膜太陽電池装置は、特願2020−185428号に記載されている。また、蓄光性蛍光粒子ドープ透明CVDダイヤモンド薄膜層を入射面に設けたpn型またはpin型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を設けた携帯用端末機は、実願2021−001119号に記載されている。しかし、単層のCVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層であり、変換効率向上には、2層構造以上のタンデム型の半導体薄膜光電変換層が必要とされる。蓄光性蛍光粒子ドープ透明CVDダイヤモンド薄膜層を入射面に設けたpn型またはpin型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層に、ヘテロ接合pn型またはpin型a−Si半導体薄膜光電変換層を設けた多接合薄膜太陽電池装置は、実願2021−001273号に記載されている。蓄光性蛍光粒子が分散された透明基板は、実用新案登録第3223095号に記載されている。
PSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置の用途としては、携帯用端末機(実願2021−001119号)、自動車車両や鉄道車両(特願2020−185428号)または船舶、航空機のボディーに設けて蓄電池を充電する。または多用途に設けて蓄電池を充電するPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置である。
トップセル層としてCVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層にヘテロ接合されるボトムセル層には、シリコン系薄膜結晶のa−Si,μc−Si、化合物系薄膜のCIGS,CdTe−CdS,カルコパイライト、有機系のペロブスカイト,有機半導体薄膜などが選択され用いることができるPSCタンデム型ダイヤモンド半導体薄膜太陽電池装置。
1 透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板
1−1 蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子
2 透明導電膜
3 n型CVDダイヤモンド半導体薄膜層
4 p型CVDダイヤモンド半導体薄膜層
5 真性i型CVDダイヤモンド半導体薄膜層
6 n型電子輸送層(TiO2,ZnO/SnO2)
7 ペロブスカイト結晶層(CH3NH3PbI3)
8 p型正孔輸送層(Spiro−OMeTAD/CuSCN)
9 裏面電極
10 保護材
1−1 蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子
2 透明導電膜
3 n型CVDダイヤモンド半導体薄膜層
4 p型CVDダイヤモンド半導体薄膜層
5 真性i型CVDダイヤモンド半導体薄膜層
6 n型電子輸送層(TiO2,ZnO/SnO2)
7 ペロブスカイト結晶層(CH3NH3PbI3)
8 p型正孔輸送層(Spiro−OMeTAD/CuSCN)
9 裏面電極
10 保護材
Claims (5)
- タンデム型薄膜太陽電池の内部は、トップセル層として透光性、熱伝導率に優れた特性を有するリンドープn型CVDダイヤモンド半導体薄膜層およびホウ素ドープp型CVDダイヤモンド半導体薄膜層接合のnp型、またはi型真性CVDダイヤモンド半導体薄膜層を用いたnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層を設け、ボトムセル層としてn型電子輸送層、光吸収層のペロブスカイト結晶層、p型正孔輸送層接合のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層を設けた2層構造ヘテロ接合部に、真性CVDダイヤモンド半導体薄膜層を挟むことで、再結合を抑えたPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
- トップセル層の入射面に、透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板を設けた請求項1に記載のPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
- トップセル層の入射面に、蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子がドープされた透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明基板を設けて、夜間の発光を光電変換する請求項1に記載のPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
- トップセル層としてnp型またはnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層のヘテロ接合により、ボトムセル層のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層の光劣化および大気劣化を防ぎ、寿命を持続化させる請求項1に記載のPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
- トップセル層の入射面に、蓄光性蛍光粒子または蓄光性蛍光微粒子ドープの透明CVDダイヤモンド薄膜層または透明CVDダイヤモンド薄膜層を設けたnp型またはnip型CVDダイヤモンド半導体薄膜光電変換層による入射熱および光電変換熱を放熱し、CVDダイヤモンド層の透光性により、ボトムセル層のペロブスカイト(PSC)半導体薄膜光電変換層の変換効率を低下させない請求項1から請求項4に記載のPSCタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021002927U JP3234587U (ja) | 2021-06-17 | 2021-06-17 | Pscタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2021002927U JP3234587U (ja) | 2021-06-17 | 2021-06-17 | Pscタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP3234587U true JP3234587U (ja) | 2021-10-21 |
Family
ID=78150687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2021002927U Active JP3234587U (ja) | 2021-06-17 | 2021-06-17 | Pscタンデム型ダイヤモンド薄膜太陽電池装置。 |
Country Status (1)
Country | Link |
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2021
- 2021-06-17 JP JP2021002927U patent/JP3234587U/ja active Active
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