JP3233967B2 - 1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化方法 - Google Patents
1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化方法Info
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Description
めの、1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化方法に関す
る。
るものであって、ClまたはBrであり、X2 およびX
4 は、同一であるか、または異なるものであって、Fま
たはHである)のハロゲン化1,3−ジオキソランを、
隣接する2個のハロゲンX1 およびX3を除去すること
により脱ハロゲン化し、式 (式中、X2 およびX4 は上記の意味を有する)のジオ
キソールを得る方法に関する。
して使用するためのフルオロジオキソールの需要は増大
しているので、対応するジオキソランの脱ハロゲン化方
法の確立が重要になってきている。事実、先行技術から
明らかな様に、1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化反
応は、再現性および収率の両方に関わる問題点を有す
る。
3,978,030号は、マグネシウムの存在下、有機
溶剤中で、フッ素化ジオキソランを脱ハロゲン化する方
法を開示している。しかし、この反応の収率は低く、再
現性がない。さらに、ペルフルオロ−2,2−ジメチル
−1,3−ジオキソールを臭素で処理して調製したペル
フルオロ−2,2−ジメチル−4,5−ジブロモ−1,
3−ジオキソランを金属亜鉛で脱臭素化する反応を記載
している。この方法により原料のジオキソールが低収率
で得られる。
ネシウム、水銀塩または金属水銀、ヨウ素およびテトラ
ヒドロフランによる、改良された脱塩素化方法を記載し
ており、この方法によって収率の再現性は改善されてい
る。しかし、この方法の欠点は、金属同士のモル比が僅
かに変わってもジオキソールの収率が著しく低下するの
で、そのモル比を正確に規定しなければならない点であ
る。この種のマグネシウム系試薬を使用して、米国特許
第4,485,250号および4,499,264号で
は、対応する4,5−ジクロロジオキソランからペルフ
ルオロ−1,3−ジオキソールが製造されている。
属亜鉛および塩化亜鉛、またはマグネシウム、塩化水
銀、ヨウ素およびテトラヒドロフランにより、2,2−
ビス(トリフルオロメチル)−4,4,5−トリクロロ
−5−フルオロ−1,3−ジオキソランを脱塩素化して
いる。ジオキソールの収率は、マグネシウム系試薬を使
用する場合にはるかに高くなる。
では、亜鉛の存在下で2−トリフルオロメチル−2−シ
アノジフルオロメチル−4,4,5−トリクロロ−5−
フルオロ−1,3−ジオキソランを脱塩素化し、低収率
でジオキソールを得ている。4位置のClがFにより置
換されている対応するジオキソランをマグネシウム系試
薬で脱塩素化することにより、非常に少量の望ましいジ
オキソールが得られている。
では、テトラヒドロフラン中、LiAlH4 およびTi
Cl3 またはTiCl4 が特別なモル比で、極めて複雑
な方法により使用されている。先行技術を検討すると、
2,2−ジフルオロ−1,3−ジオキソランを脱塩素化
するには、複雑な方法により、複雑で容易に使用できな
い試薬の存在下でする必要があるが、高い、一定の収率
が常に得られるわけではないことが明らかである。
き、簡単な試薬を使用し、高く、一定した収率が得られ
る、2,2−ジフルオロ−1,3−ジオキソランの脱ハ
ロゲン化方法を提供することである。
るものであって、ClまたはBrであり、X2 およびX
4 は、同一であるか、または異なるものであって、Fま
たはHである)の1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化
方法であって、式(I)のジオキソランを少なくとも化
学量論的な量の金属亜鉛と接触させること、および反応
終了後に、式 (式中、X2 およびX4 は上記の意味を有する)のジオ
キソールを分離することを特徴とする方法により達成さ
れる。
ましくは+50℃〜+100℃の範囲である。
えば米国特許第3,865,845号および4,48
5,250号、および本出願人による伊国特許出願20
578/A90に記載される方法により製造可能であ
る。使用するジオキソランの中で、X2 およびX4 がF
であるジオキソランが好ましい。特に好ましいのは4,
5−ジクロロ−テトラフルオロ−1,3−ジオキソラン
および4,5−ジブロモ−テトラフルオロ−1,3−ジ
オキソランである。これらの試薬から出発することによ
り、脱ハロゲン化反応によりペルフルオロ−1,3−ジ
オキソールが得られる。
い範囲内で変えることができるが、一般的には1より高
く、好ましくは1.5〜3.0の範囲内である。
キソランを、金属亜鉛、並びに所望により使用する溶
剤、および好ましくは少量のヨウ化ナトリウムまたはヨ
ウ化カリウム、および炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウ
ムを含む反応温度に維持した反応容器に供給する。
沸点より低い温度に維持したトラップ中に採集する。こ
の操作を行い易くするために、好ましくは窒素気流を反
応容器に供給する。
下で不活性でなければならず、好ましくは、アミド(ジ
メチルホルムアミドの様な)、エーテル(ジオキサンの
様な)およびスルホキシド(ジメチルスルホキシドの様
な)から選択する。
かし、減圧および1気圧より高い圧力を使用することも
可能である。反応時間は重要なパラメータではなく、通
常、反応は数分で終了する。
ロッパ特許出願第80,187号および米国特許第4,
535,175号および3,978,030号に記載さ
れている様に、共重合体および単独重合体の製造にモノ
マーとして使用できる。上記の重合体は、例えば耐腐食
性塗装材料または光ファイバー用のシースとして使用で
きる。以下に実施例により本発明をさらに詳細に説明す
るが、無論、それによって本発明の範囲を制限するもの
ではない。
ランの脱ハロゲン化 窒素雰囲気中で、温度計、滴下漏斗、蒸留カラムおよび
磁気攪拌機を備えた50mlフラスコ中に、Zn(4.4
g)、KI(180 mg)、K2 CO3 (300mg)およ
びジメチルホルムアミド(DMF)(7 ml)を導入し
た。次いで、この混合物を60℃にした後、2.5mlの
DMFに溶解した2.75gの4,5−ジクロロ−テト
ラフルオロ−1,3−ジオキソラン(伊国出願第205
78/A90に記載される方法により合成)を該混合物
中に非常にゆっくり、1時間で滴下した。滴下の間に、
混合物を100℃に加熱し、生成するペルフルオロ−
1,3−ジオキソールを蒸留により除去した。採集フラ
スコ中に、1.76gの蒸留物が凝縮したが、これはガ
スクロマトグラフィー(カラムsp1000、50℃〜
180℃、10℃/min.)分析により、ペルフルオロ−
1,3−ジオキソール(82.2%)、4−クロロ−
2,2,4,5−テトラフルオロ−1,3−ジオキソラ
ン(3%)および4,5−ジクロロ−2,2,4,5−
テトラフルオロ−1,3−ジオキソラン(15%)から
なることが分かった。次いで、この混合物を通常の真空
ライン中で、それぞれ−80℃、−130℃、−150
℃および−196℃に冷却したトラップを通して蒸留し
た。1.370gのペルフルオロ−1,3−ジオキソー
ルが−150℃に冷却したトラップに採集された。分離
されたペルフルオロ−1,3−ジオキソールの収率は、
変換されたジオキソランに対して82%であった。
ランの脱ハロゲン化 還流冷却器、窒素気流を少量通すための入り口、および
ゴム栓を備えた三つ口フラスコ中に2mlの予め無水化し
たジメチルホルムアミド、0.53gの予め活性化した
亜鉛粉末、0.05gのKI、0.07gのK2 CO3
を装填した。亜鉛粉末は前もって希塩酸で、次いで水お
よびメタノールで洗浄し、最後に真空中で乾燥させてあ
った。還流冷却器の上部に−78℃に維持した最終トラ
ップを接続し、その還流冷却器を0℃に冷却し、反応フ
ラスコを+60℃に維持した。次いで、反応混合物を攪
拌しながら、ゴム栓を通して0.53g(1.71mmo
l)の、ペルフルオロ−1,3−ジオキソールに臭素を
添加して合成した4,5−ジブロモ−テトラフルオロ−
1,3−ジオキソランを注入した。反応は数分で終了
し、−78℃のトラップに1.48mmolの液体テトラフ
ルオロ−1,3−ジオキソールが採集され、その19F−
NMRおよびIRスペクトルは既知の試料のそれと一致
していた。この反応の収率は86%であった。
1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化 実施例2と同様の操作を行い、ペルフルオロ−2,2−
ジメチル−1,3−ジオキソールに臭素を添加して合成
したペルフルオロ−2,2−ジメチル−4,5−ジブロ
モ−1,4−ジオキソラン0.69g(1.7mmol)を
反応容器に装填した。0.25mmolのペルフルオロ−
2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールが採集され
た。反応収率は15%であった。
Claims (5)
- 【請求項1】式 (式中、X1 およびX3 は、同一であるか、または異な
るものであって、ClまたはBrである) の1,3−ジオキソランの脱ハロゲン化方法であって、
式(I)の化合物を、+30℃〜+130℃の温度で少
なくとも化学量論的な量の金属亜鉛と接触させること、
および反応終了後に、式 のジオキソールを分離することを特徴とする方法。 - 【請求項2】反応が+50℃〜+100℃の範囲の温度
で行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】反応が、ヨウ化ナトリウムまたはヨウ化カ
リウム、および炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムの存
在下で行われることを特徴とする、請求項1または2に
記載の方法。 - 【請求項4】反応が、その反応条件下で不活性な溶剤の
存在下で行われることを特徴とする、請求項1〜3のい
ずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】溶剤が、アミド、エーテルおよびスルホキ
シドから選択されることを特徴とする、請求項4に記載
の方法。
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