JP3201454U - フォトマスクボックス - Google Patents
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Abstract
Description
ウエハは、サイズに応じて、数十から数百もの半導体を製造することができる。
フォトマスクは、半導体チップを製造する犀の金型である。
半導体チップの製造時には、先ず半導体チップのIC回路設計構造に基づきフォトマスクを製造し、フォトマスクとは異なるウエハ上に沈積する材料の薄膜を利用し、半導体チップの製造を完成する。
フォトマスクのリソグラフィー製造工程技術能力は、通常、製造工程能力において、重要な役割を演じる。
フォトマスク製造であろうと、フォトマスク使用の能力であろうと、この技術領域における成熟度を表している。
なぜなら、同一面積において、より多くのチップを製造できる製造工程は非常に優位であるからだ。
よって、フォトマスクをいかにしてうまく使用し、メンテナンスするかは、リソグラフィー工程技術におけるキーポイントである。
フォトマスクボックスとは、その名の通り、フォトマスクを保管するボックスで、これによりフォトマスクは外界の微粒子や化学汚染を避けることができる。
この分野の従来の技術では、フォトマスクボックスは、ボックス体内部に固定の圧迫棒を設置し、これによりフォトマスクをフォトマスクボックス内部の位置に固定している。
しかし、異なるサイズのフォトマスクに対応し、フォトマスクを確実にフォトマスクボックス内部に固定するため、フォトマスクボックス内部の固定圧迫棒も交換しなければならない。
従来の技術を例とすると、多くは、コの字型の圧迫棒を使用しフォトマスクを固定している。
しかし、コの字型圧迫棒の開口幅は一定であるため、フォトマスクのサイズが変われば、コの字型の圧迫棒は使用できなくなる。
よって、他のサイズのコの字型の圧迫棒に交換しなければならず、異なるフォトマスクのサイズに基づき、異なるサイズの圧迫棒を製造しなければならない。
これでは、使用において不便で、また全体的なコストも高騰してしまう。
該ボックス体の内部には、収容空間を有し、フォトマスクを収容する。
該各圧迫ホールド部材は、該ボックス体内に設置され、該フォトマスクのサイズに基づき、その該ボックス体に設置する位置を調整され、且つ該フォトマスクの側辺をそれぞれ圧迫ホールドする。
該各連接部材は、相互に対応する該各圧迫ホールド部材にそれぞれ通して設置し、これにより該各圧迫ホールド部材を該ボックス体内に固定する。
該上蓋体、該下蓋体は、それぞれ内表面、外表面を有し、該上蓋体と該下蓋体とが合わさった後には、収容空間が形成される。
該上蓋体の外表面には、第一定位構造を有し、該下蓋体の外表面には、第二定位構造を有する。
該上蓋体の外表面を、該下蓋体の外表面にスタッキングする時、該第一定位構造と該第二定位構造とは、嵌合される。
特に、各圧迫ホールド部材は、各種サイズのフォトマスクに適用できるため、フォトマスクに適したサイズの圧迫ホールド部材に交換する必要がない。
また、フォトマスクボックスの上蓋体の外表面の定位構造には、下蓋体の外表面に相互に対応する定位構造を有し、これにより多数のフォトマスクボックスは、相互に堅固にスタッキングされ、各フォトマスクボックスを保管する空間を節減することができる。
よって、組み立て方式により製造される従来のフォトマスクボックスに比べ、本考案のフォトマスクボックスの上下蓋体は、一体成型を採用し、並びに抗静電剤を含む或いは/及び透明材質材料を使用し製造され、及び把持部の設計などにより、気密性を向上させ、静電気発生の可能性を低下させ、フォトマスクボックス内部のフォトマスクの保存状態を直接目で見ることができ、外部の顆粒及び水蒸気汚染の可能性を回避し、及び運搬の利便性を高めることができる。
図に示す通り、本実施形態によるフォトマスクボックス1は、ボックス体10、複数の圧迫ホールド部材20、複数の連接部材30を有する。
ボックス体10の内部には、収容空間110を有し、収容空間110内にはフォトマスク2を収容することができる。
各圧迫ホールド部材20は、ボックス体10内に設置され、各圧迫ホールド部材20は、フォトマスク2のサイズに基づき、そのボックス体10に設置する位置を調整され、フォトマスク2の側辺22をそれぞれ圧迫ホールドする。
各連接部材30は、相互に対応する各圧迫ホールド部材20にそれぞれ通して設置し、これにより各圧迫ホールド部材20をボックス体10内に固定する。
上蓋体120は、内表面121、外表面122を有し、下蓋体も、内表面131、外表面132を有する。
上蓋体120と下蓋体130を合わせた後、上蓋体120の内表面121と下蓋体130の内表面131との間には、収容空間110を形成する。
こうして、フォトマスク2は、上蓋体120と下蓋体130との間の収容空間110内に、収容される。
本実施形態の下蓋体130の内表面131の中央には、少なくとも1個の強化構造140をさらに設置し、下蓋体130の強度と構造を強化する。
本実施形態の上蓋体120と下蓋体130は、それぞれ一体成型で、且つ射出成型を利用して製作され、従来の組み立て方式により製造されるフォトマスクボックスに比べ、以下の長所を有する。
すなわち、ボックス体10の機密性を効果的に高められるため、ボックス体10は、軽量化しつつ、外部の汚染顆粒や水蒸気の侵入を防ぐことができ、ボックス体10内の汚染顆粒と水蒸気を効果的に低下させることができる。
各圧迫ホールド部材20は、圧迫ホールド部210、固定部220を有する。
固定部220は、圧迫ホールド部210の相対する側に設置される。
圧迫ホールド部210は、L型を呈し、第一端部2101、第二端部2102を有する。
フォトマスク2をボックス体10の収容空間110内に置くと、圧迫ホールド部210の第一端部2102は、フォトマスク2の頂点面を圧迫ホールドする。
圧迫ホールド部210の第二端部2102は、フォトマスク2の側辺22を圧迫ホールドし、且つ各圧迫ホールド部材20の第二端部2102を利用し、フォトマスク2を圧迫ホールドし、フォトマスク2を、下蓋体130の強化構造140上方において、オーバーハングするように維持する。
本実施形態の固定部220は、長方形の板体で、少なくとも1個の定位穿孔221を有する。
定位穿孔221は、長方形の穴である。
圧迫ホールド部材20が下蓋体130に設置されると、連接部材30は、圧迫ホールド部材20の定位穿孔221内に通して設置され、連接部材30を、定位穿孔221に対応する下蓋体130の固定穴133に固定する。
こうして、連接部材30は、定位穿孔221に固定され、圧迫ホールド部材20は、下蓋体130に固定される。
これにより、圧迫ホールド部材20の固定部220の設置される下蓋体130の位置を確認することができる。
すなわち、フォトマスク2のサイズの差異に従い、圧迫ホールド部材20の圧迫ホールド部210は、フォトマスク2のサイズに基づき、フォトマスク2へ移動し調整され、圧迫ホールド部210がフォトマスク2の側辺22を圧迫ホールドした後は、連接部材30を利用し、圧迫ホールド部材20の固定部220を下蓋体130の適当な位置に固定することができる。
本実施形態の各圧迫ホールド部材20は、下蓋体130に設置されるが、これに限定されず、各圧迫ホールド部材20は、上蓋体120に設置することもできる。
各圧迫ホールド部材20を、上蓋体120に固定する方式は、各圧迫ホールド部材20を下蓋体130に固定する方式と同様であるため、ここでは説明を省く。
よって、フォトマスク2の厚みは、圧迫ホールド部210の制限を受けることはない。
フォトマスク2を下蓋体130に置く時、フォトマスク2の厚みが異なれば。フォトマスク2の下蓋体130を突出する高さも異なる。
同時に、圧迫ホールド部材20の固定部220と下蓋体130との間の距離も異なる。
よって、圧迫ホールド部材20の固定部220と下蓋体130との間の距離に従い、連接部材30を下蓋体130の螺合固定孔133に固定する深さを調整し、これにより圧迫ホールド部材20を下蓋体130に固定する。
こうして、フォトマスク2を収容空間110内に固定する。
反対に、フォトマスク2の厚みが厚いなら、圧迫ホールド部材20の固定部220と下蓋体130との間の距離が大きければ大きいほど、連接部材30が螺合固定孔133に固定される深さは浅くなることを示している。
上記により明らかなように、本実施形態の各圧迫ホールド部材20は、各種サイズのフォトマスクに適用でき、他のサイズの圧迫ホールド部材20に交換する必要はない。
よって、連接部材30と圧迫ホールド部材20の固定部220との間、或いは固定部220と下蓋体130との間には、少なくとも1個の螺合固定部材310をさらに設置する(図1F参照)。
連接部材30が、圧迫ホールド部材20の固定部220を固定しようとする時には、先ず螺合固定部材310を、固定部220上に設置し、定位穿孔221に対応させ、連接部材30が螺合固定部材310に通して設置された後、定位穿孔221に通して設置され、下蓋体130の螺合固定孔133に固定される。
こうして、圧迫ホールド部材20の連接部材30に対する移動の発生を回避することができる。
緩衝部材212は、フォトマスク2の側辺22に接触することで、フォトマスク2と圧迫ホールド部材20とが衝突し汚染顆粒が生じることを回避でき、且つ緩衝部材212とフォトマスク2との間の摩擦力は比較的大きいため、フォトマスク2をボックス体10内に固定し、フォトマスク2のボックス体10内での移動を回避できる。
本実施形態の緩衝部材212は、圧迫ホールド部210に嵌めて設置され、圧迫ホールド部210は、凹槽211に設置される。
緩衝部材212は、緩衝部213、嵌合部214を有する。
嵌合部214は、緩衝部213と相対する一側に設置される。
嵌合部214は、凹槽211内に設置され、緩衝部213は、フォトマスク2の側辺22に接触する。
凸部2140は、嵌合部214が凹槽211に接触する少なくとも片側に設置され、凸部214と凹槽211との間に生じる比較的大きな摩擦力を利用し、緩衝部材212は、凹槽211内に固定される。
フォトマスク2が、下蓋体130に置かれると、フォトマスク2の相対する辺角は、各補助サポート部90位置に位置される。
各補助サポート部90により、フォトマスク2を補助サポートすることができる。
本実施形態の補助サポート部90は、設置槽で、補助サポート部90内には、補助緩衝部材910をさらに設置する。
補助緩衝部材910と、圧迫ホールド部210に設置される緩衝部材212の作用は相同で、フォトマスク2の辺角を押さえ、これによりフォトマスク2と下蓋体130との衝突を回避することができる。
本実施形態の補助緩衝部材910の設置方式は、圧迫ホールド部210に設置される緩衝部材212と相同で、補助サポート部99上には、設置凹槽920を設置し、補助緩衝部材910は、設置凹槽920内に設置される。
補助緩衝部材910は、ゴム、シリコン、或いは軟性で且つ摩擦係数が大きい材料により製造される。
補助サポート部90は、上蓋体120に設置されるが、ここでは説明を省く。
図に示す通り、本実施形態のフォトマスクボックス1の、上記した実施形態のフォトマスクボックス1との相違点は以下の通りである。
上蓋体120の外表面122と下蓋体130の外表面132には、第一定位構造140、及び第二定位構造420をそれぞれ設置する。
第一定位構造410は、少なくとも1個の定位凸ブロック411を有し、下蓋体130の外表面132には、第二定位構造420を有する。
第二定位構造420は、少なくとも1個の定位凹槽421を有する。
フォトマスクボックス1をもう一つのフォトマスクボックス1にスタッキングする時には、フォトマスクボックス1の上蓋体120の外表面122を、もう一つのフォトマスクボックス1の下蓋体130の外表面132にスタッキングし、定位凸ブロック411と定位凹槽421とは対応して嵌合する。
こうして、各フォトマスクボックス1は、堅固に相互にスタッキングされ、各フォトマスクボックス1を補完する空間を圧縮することができる。
さらに、上蓋体120の外表面122、及び下蓋体130の外表面132には、少なくとも1個の把持部50をそれぞれ設置する。
使用者がフォトマスクボックス1を運ぶ時には、使用者の手は、各把持部50を把持し、これによりフォトマスクボックス1を便利に押したり運んだりすることができる。
この他、フォトマスクボックス10の一側には、複数の輸送パーツ80を設置する。
本実施形態では、各輸送パーツ80は、キャスターである。
これにより、使用者は、フォトマスクボックス1を便利に押して動かすことができる。
上蓋体120と下蓋体130が合わさると、少なくとも1個の第一係合構造710は、少なくとも1個の第二係合構造720に係合する。
本考案は、第一係合構造710と第二係合構造720の型式に制限を加えるものではなく、上蓋体120と下蓋体130を固定可能な係合構造であれば、すべて本考案の技術特徴に含まれる。
本考案の上蓋体120と下蓋体130の合わさった位置には、少なくとも1個の気密棒60を設置する。
これにより、上蓋体120は、下蓋体130に緊密に接合され、ボックス体10の気密性をさらに高めることができる。
2 フォトマスク
21 頂点面
22 側辺
23 底面
10 ボックス体
110 収容空間
120 上蓋体
121 内表面
122 外表面
130 下蓋体
131 内表面
132 外表面
133 螺合固定孔
140 強化構造
20 圧迫ホールド部材
210 圧迫ホールド部
2101 第一端部
2102 第二端部
211 凹槽
212 緩衝部材
213 緩衝部
214 嵌合部
2140 凸部
220 固定部
221 定位穿孔
30 連接部材
310 螺合固定部材
410 第一定位構造
411 第一定位凸ブロック
420 第二定位構造
421 第二定位凹槽
50 把持部
60 気密棒
710 第一係合構造
720 第二係合構造
80 輸送パーツ
90 補助サポート部
910 補助緩衝部材
920 設置凹槽
Claims (19)
- フォトマスクボックスであって、ボックス体、複数の圧迫ホールド部材、複数の連接部材を有し、
前記ボックス体の内部には、収容空間を有し、フォトマスクを収容し、
前記複数の圧迫ホールド部材は、前記ボックス体内に設置され、前記各圧迫ホールド部材は、前記フォトマスクのサイズに基づき、その前記ボックス体に設置する位置を調整され、前記フォトマスクの側辺をそれぞれ圧迫ホールドし、
前記複数の連接部材は、相互に対応する前記各圧迫ホールド部材にそれぞれ通して設置し、これにより前記各圧迫ホールド部材を前記ボックス体内に固定することを特徴とするフォトマスクボックス。 - 前記各圧迫ホールド部材は、圧迫ホールド部、固定部を有し、
前記固定部は、前記圧迫ホールド部の相対する側に設置され、
前記圧迫ホールド部は、前記フォトマスクの側辺を圧迫ホールドし、
前記固定部は、前記ボックス体内に固定されることを特徴とする請求項1に記載のフォトマスクボックス。 - 前記圧迫ホールド部は、L型であることを特徴とする請求項2に記載のフォトマスクボックス。
- 前記圧迫ホールド部は、緩衝部材を有し、
前記緩衝部材は、前記フォトマスクの側辺に接触することを特徴とする請求項2に記載のフォトマスクボックス。 - 前記圧迫ホールド部は、凹槽を有し、
前記緩衝部材は、前記凹槽に設置されることを特徴とする請求項4に記載のフォトマスクボックス。 - 前記固定部は、少なくとも1個の定位穿孔を有し、
前記各連接部材は、相互に対応する定位穿孔に固定されることを特徴とする請求項2に記載のフォトマスクボックス。 - 前記各定位穿孔の長さは、前記連接部材の直径より大きく、
これにより、前記圧迫ホールド部材の前記ボックス体に設置する位置を調整することを特徴とする請求項6に記載のフォトマスクボックス。 - 前記フォトマスクボックスは、少なくとも1個の螺合固定部材をさらに有し、
前記各螺合固定部材を、前記連接部材と前記固定部との間、或いは/及び前記固定部と前記ボックス体との間に設置することを特徴とする請求項7に記載のフォトマスクボックス。 - 前記ボックス体は、上蓋体と下蓋体を有し、
前記上蓋体、前記下蓋体は、それぞれ内表面、外表面を有し、
前記上蓋体と前記下蓋体とが合わさった後には、収容空間が形成されることを特徴とする請求項1に記載のフォトマスクボックス。 - 前記各連接部材は、前記各圧迫ホールド部材を、前記上蓋体の内表面上、或いは前記下蓋体の内表面上に固定することを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。
- 前記上蓋体の外表面には、第一定位構造を有し、
前記下蓋体の外表面には、第二定位構造を有し、
前記上蓋体の外表面を、前記下蓋体の外表面にスタッキングする時、前記第一定位構造と前記第二定位構造とは、嵌合されることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。 - 前記第一定位構造は、少なくとも1個の定位凸ブロックを有し、
前記第二定位構造は、少なくとも1個の定位凹槽を有し、
前記定位構造と前記第二定位構造とが嵌合される時、前記少なくとも1個の定位凸ブロックと前記少なくとも1個の定位凹槽は対応して嵌合されることを特徴とする請求項11に記載のフォトマスクボックス。 - 前記上蓋体と前記下蓋体とは、それぞれ一体成型により製造されることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。
- 前記上蓋体の外表面或いは/及び前記下蓋体の外表面には、少なくとも1個の把持部をさらに有することを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。
- 前記上蓋体或いは/及び前記下蓋体は、透明材質、或いは抗静電剤を含む材料により製造されることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。
- 前記フォトマスクボックスは、少なくとも1個の気密棒をさらに有し、
前記少なくとも1個の気密棒は、前記上蓋体と前記下蓋体とが合わさる位置に設置されることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。 - 前記上蓋体の一側には、少なくとも1個の第一係合構造を有し、
前記下蓋体の一側には、少なくとも1個の第二係合構造を有し、
前記上蓋体と前記下蓋体とが合わさると、前記少なくとも1個の第一係合構造は、前記少なくとも1個の第二係合構造に係合されることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。 - 前記上蓋体或いは前記下蓋体内の相対する2個の角には、補助サポート部をそれぞれ設置し、
前記フォトマスクの相対する二辺角は、前記補助サポート部に設置されることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスクボックス。 - 前記補助サポート部には、補助緩衝部材をさらに設置し、
前記補助緩衝部材は、前記フォトマスクの辺角に接続することを特徴とする請求項18に記載のフォトマスクボックス。
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