JP3194107U - 表示パネル - Google Patents

Abstract

【課題】過度のエッチングによる断線が発生しにくく、導電層の重なる位置での寄生容量が大きすぎることを防止し、電気的な特性を向上できる表示パネルを提供する。【解決手段】表示パネルは、第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に位置する表示層とを含む。第１基板は、第１基板上に設けられ、第１方向Ｄ１に沿って延伸する第１導電層１１１を含み、導電層は、第１方向に沿って、第１高さＨ１を有する第１平面Ｐ１と、傾斜面Ｓと、第２高さＨ２を有する第２平面Ｐ２とを含み、第１高さが第２高さより高い。第２導電層１１３は、第２方向Ｄ２に沿って、第１平面の傾斜面に近い位置に第１線幅Ｗ１を有し、傾斜面に第２線幅Ｗ２を有し、第２方向が第１方向に垂直であり、第１線幅が第２線幅より小さい。【選択図】図２

Description

本考案は、表示パネルに関し、特に、線幅変化を有する導電層を含む表示パネルに関する。

現代人にとって、仕事、学習や娯楽に必要不可欠な表示パネルを備える電子製品は、スマートフォン（ＳｍａｒｔＰｈｏｎｅ）、タブレットＰＣ（Ｐａｄ）、ノートパソコン（Ｎｏｔｅｂｏｏｋ）、モニター（Ｍｏｎｉｔｏｒ）、テレビ（ＴＶ）など、多くの関連製品を含む。表示パネルの中で、液晶表示パネルが最も普及している。大多数の応用に用いられる液晶表示パネルは、コンパクト、軽量、携帯性、安価、高信頼性及び目に優しいという性能があるので、陰極線管（ＣＲＴ）モニターの代わりに、最も広く使用されているディスプレイとなるとともに、サイズ、形状、解像度、など幅広い選択が提供される。

表示パネルの製造においては、例えば、導電層のパターン化工程（リソグラフィーやエッチング）を行う際、断線しないように製造工程に細心の注意を払い、正確に製造する必要がある。また、製造された表示パネルは、安定かつ優れた電気特性を得るように、製品の要件、例えば抵抗、容量などの各規格を満たさなければならない。表示パネルの設計不良は、表示パネルの歩留まり率及び信頼性の低下の原因となる。

本考案は、導電層は、その下方の構成要素に対応する位置及び対応しない位置の異なる高さの位置に異なる線幅を有する表示パネルに関する。特殊な線幅変化により、導電層は、パターン化工程が行われて良好な幅を有することができ、過度のエッチングによる断線が発生しにくいとともに、導電層の重なる位置での寄生容量が大きすぎることを防止し、更に製品の歩留まり率及び電気的な特性を向上することができる。

本考案の表示パネルは、第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に位置する表示層とを含む。第１基板は、基材上に設けられ、第１方向に沿って延伸する導電層を含み、導電層は、第１方向に沿って、第１高さを有する第１平面と、傾斜面と、第２高さを有する第２平面とを含み、第１高さが第２高さより高い。導電層は、第２方向に沿って、第１平面の傾斜面に近い位置に第１線幅を有し、傾斜面に第２線幅を有し、第２方向が第１方向に垂直であり、第１線幅が第２線幅より小さい。

また、本考案の表示パネルは、第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に位置する表示層とを含む。第１基板は、基材と、第１導電層と、第２導電層とを含む。第１導電層は、基材の上方に設けられ、第２方向に沿って延伸し、第２方向に第１エッジを有する。第２導電層は、第１導電層の上方に位置し、第１方向に沿って延伸する。第２導電層は、第１導電層に重なる第１部分と、第１導電層と重ならない第２部分と、第１部分と第２部分とを接続する境界とを有する。第１部分は、境界において、第２方向に沿う第１幅を有し、第２部分は、境界において、第２方向に沿う第２幅を有し、第１幅が第２幅より小さい。

本考案についての上記及びその他の目的が一層明確に理解されるよう、以下に実施形態を例示し、図面を参照にしながら、詳細に説明する。

表示パネルを概略的に示す側面図である。 第１実施形態に係る表示パネルの導電層を示す部分側面図である。 第１実施形態に係る表示パネルの第１の導電層の形態を示す平面図である。 第１実施形態に係る表示パネルの第２の導電層の形態を示す平面図である。 第２の実施形態に係る表示パネルの導電層を示す部分側面図である。 第２の実施形態に係る表示パネルの第１の導電層の形態を示す平面図である。 第２の実施形態に係る表示パネルの第２の導電層の形態を示す平面図である。 第３の実施形態に係る表示パネルの導電層を示す部分平面図である。

本実施形態において、導電層は、その下方の構成要素に対応する位置及び対応しない位置の異なる高さの位置に対し、例えば、第２導電層の下方の第１導電層に重なる位置及び重ならない位置の線幅が異なるように設計する。特殊な線幅変化により、導電層は、パターン化工程が行われて良好な幅を有することができ、過度のエッチングによる断線が発生しにくいとともに、上下２つの導電層の重なる位置での寄生容量が大きすぎることを防止し、更に製品の歩留まり率及び電気的な特性を向上することができる。

以下、具体的な実施形態を例示し、添付図面を参照して詳しく説明する。実施形態における各構成要素及び内容は説明するために用いられ、本考案の権利範囲は、下記実施形態に制限されるものではない。また、実施形態において、同一又は類似した要素には同一又は類似した符号を付する。本考案は、あらゆる実施形態を示すものではない。本考案の趣旨を逸脱しない限り適宜変更が可能である。そのため、他の実施形態を、当業者であれば、本考案の範囲及び領域から逸脱することなく考案し得る。また、以下に示す図面においては、理解の容易のため、各部材の縮尺が実際とは異なる場合がある。なお、明細書及び図面の記載は、実施形態を例示するためのものであり、限定の意味に捉えられるものではない。

図１は、表示パネルを概略的に示す側面図である。以下、図１に示す関連構造を一実施形態として説明するが、本考案の請求の範囲を制限するものではない。表示パネルは、第１基板１１と、第２基板１２と、第１基板１１と第２基板との間に位置する表示層１３とを含む。第１基板１１及び第２基板１２のそれぞれは、例えば薄膜トランジスタ基板（ＴＦＴ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）及びカラーフィルタ基板（ＣＦ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）である。

図１に示すように、一実施形態において、第１基板１１は、例えば、第１基材１１０と、第１導電層１１１と、第２導電層１１３と、第１導電層と第２導電層との間に位置する絶縁層１１２と、第１透明導電層１１５とを含む。第１透明導電層１１５は、例えば画素電極として用いられるＩＴＯ層であり、導電層は複数のパターン化した配線を有する。第１基板１１は、第１基材１１０上に形成された複数のＴＦＴユニット（図示せず）をさらに含む。第１中間層１１４は、第１基材１１０と第１透明導電層１１５との間に位置するとともに、パターン化した配線を覆う。第１配向フィルム（図示せず）は、例えばポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ，ＰＩ）であり、第１透明導電層１１５上に位置する。第１基板１１の層構造は、当業者にとって周知の技術であり、説明は省略する。

図１に示すように、一実施形態において、第２基板１２は、第２基材１２０と、第２基材１２０に形成されたカラーフォトレジスト層１２３と、カラーフォトレジスト層１２３に形成された第２透明導電層１２５とを含む。第２基板１２は、例えば、第２透明導電層１２５に位置する第２配向フィルム（図示せず）と、第２基材１２０上に形成された遮光パターン層（図示せず、すなわち、通常ブラックマトリックス（ＢＭ）と称する）とをさらに含み。第２透明導電層１２５は、例えばＩＴＯ層である。

一実施形態において、表示パネルは、複数のスペーサ（ｓｐａｃｅｒｓ）をさらに含み、第２基板１２と第１基板１１との間には、これらのスペーサの設置により、実質上に等距離の間隔を維持することによって、液晶分子が充填されて表示層１３を形成する。その他の実施形態において、表示層１３は、有機発光層であってもよい。また、第１偏光板１４ａ及び第２偏光板１４ｂのそれぞれは、第１基材１１０及び第２基材１２０の外側に形成される。

実施形態において、同一な導電層、例えば、ＴＦＴ基板（第１基板１１）に位置する第２導電層１１３（例えばデータ信号線）が異なる高さの位置に異なる線幅を有するように設計する。例えば、一実施形態において、第２導電層１１３は、第１導電層１１１の頂面及び底面に対応する位置に異なる線幅を有する。第２導電層１１３は、第１導電層１１１の傾斜面に対応する位置に変化する線幅も有する。以下、導電層の線幅変化の異なる様態を例示して説明する。

＜第１実施形態＞
図２は、第１実施形態に係る表示パネルの導電層を示す部分側面図である。実施形態において、第２導電層の線幅変化を例示したが、本考案は、これに限らず、他の導電層を、本実施形態の精神を逸脱しない範囲で選択して実施できることは、言うまでもない。なお、添付図面においては、本考案の実施形態を容易に理解するため、当業者が本考案の技術上の意義を十分に理解できるよう、関連する要素を簡略に示す。

一実施形態において、基板における導電層、例えば第１基板１１の第２導電層１１３（Ｍ２）は、第１方向Ｄ１に沿って延伸する。第２導電層１１３は、第１方向Ｄ１に沿って、第１高さＨ１を有する第１平面Ｐ１と、傾斜面Ｓと、第２高さＨ２を有する第２平面Ｐ２とを含み、第１高さＨ１が第２高さＨ２より高い。また、第２導電層１１３は、第１平面Ｐ１の傾斜面Ｓに近い位置に、第２方向Ｄ２に沿う第１線幅Ｗ１を有し、第２導電層１１３は、傾斜面Ｓに、第２方向Ｄ２に沿う第２線幅Ｗ２を有し、第１線幅Ｗ１が第２線幅Ｗ２より小さい。第１実施形態において、第２導電層１１３の第２線幅Ｗ２は、傾斜面Ｓと第２平面Ｐ２との境界に位置し（に近い）、例えば、第２平面Ｐ２における線幅の最大値である。

図２に示すように、第１導電層１１１は、第２方向Ｄ２に沿って延伸し、第２方向Ｄ２が第１方向Ｄ１に垂直である。第２導電層１１３は、第１導電層１１１（Ｍ１）の上方を通過し、第２導電層１１３の第１平面Ｐ１が第１導電層１１１の頂面に対応し、第２導電層１１３の第２平面Ｐ２が第１導電層１１１と重ならなく、第２導電層１１３の傾斜面Ｓも第１導電層１１１の頂面と底面とを接続する傾斜面に対応する。

図１及び図２を同時に参照する。第１導電層１１１は、傾斜面と、上部の頂面及び下部の底面とが２つの辺が形成され、すなわち、第１辺Ｌ１及び第２辺Ｌ２である。第１導電層１１１の第１辺Ｌ１は、第２導電層１１３の第１平面Ｐ１と傾斜面Ｓとの境界に対応し（しかし、揃えず）、第１導電層１１１の第２辺Ｌ２は、第２導電層１１３の傾斜面Ｓと第２平面Ｐ２との境界に対応する（しかし、揃えず）。

一実施形態において、第２導電層１１３の第２線幅Ｗ２は、傾斜面Ｓと第２平面Ｐ２との境界に近い。また、一実施形態おいて、第２導電層１１３は、傾斜面Ｓには、変化する線幅分布を有し、かつ当該変化する線幅分布は、第１平面Ｐ１から第２平面Ｐ２に向かって徐々に増加する。図２に示すように、第２導電層１１３の傾斜面Ｓと第２平面Ｐ２との境界に最大線幅を有する。実施形態では、線幅変化を説明するために、第２導電層１１３の傾斜面Ｓにおける２つの側辺の例として、２つの円弧状曲線を例示したが、本考案は、これに限らない。線幅が徐々に増加するように、傾斜面Ｓに第２導電層１１３の２つの側辺は線形（直線）的に変化してもよい。

また、図２に示すように、第２導電層１１３は、第１導電層１１１に重なる第１部分Ｏ１（すなわち、第１平面Ｐ１に対応する部分）と、第１導電層１１１と重ならない第２部分Ｏ２（すなわち、第２平面Ｐ２に対応する部分）と、第１部分Ｏ１と第２部分Ｏ２とを接続する境界とを有する。第１部分Ｏ１は、境界において、第２方向Ｄ２に沿う第１幅（例えば、第１線幅Ｗ１）を有し、第２部分Ｏ２は、境界において、第２方向Ｄ２に沿う第２幅（例えば、第２線幅Ｗ２）を有し、第１幅が第２幅より小さい。

図３Ａは、第１実施形態に係る表示パネルの第１の導電層の形態を示す平面図である。図３Ｂは、第１実施形態に係る表示パネルの第２の導電層の形態を示す平面図である。図１及び図２を同時に参照する。図３Ａと図３Ｂとの違いは、第１導電層１１１の傾斜面の傾斜の程度である。

図３Ａの平面図に示すように、第１導電層１１１の傾斜面が比較的緩やかである場合、第２方向Ｄ２において、第１導電層１１１の第１エッジＥ１及び第２導電層１１３の境界Ｅ２は、平面図によって示すことが可能である。また、第２導電層１１３の境界Ｅ２（すなわち、第２導電層１１３において、第１導電層１１１に重なる第１部分Ｏ１と、第１導電層１１１と重ならない第２部分Ｏ２とを接続する境界）は、第１導電層１１１の第１エッジＥ１の外側に位置する。

図３Ｂの平面図に示すように、第１導電層１１１の傾斜面が比較的急峻である場合、第２方向Ｄ２に対応して、第１導電層１１１が有する第１エッジＥ１及び第２導電層１１３が有する境界Ｅ２は、同一線になるようにほぼ重ね合わされた状態となる。このとき、平面図に示すように、第２導電層１１３の境界Ｅ２が第１エッジＥ１にほぼ揃った状態となる。

本実施形態に係る導電層を製作する場合、マスクに線幅変化に対応する開口を形成させ、このマスクによってパターン化工程を行った後、線幅変化を有する導電層が形成されることが可能である。

本実施形態において、頂面の線幅が底面の線幅より小さくなるように、導電層の異なる高さの位置（例えば、第２導電層とその下方の第１導電層との重なる位置及び重ならない位置）で異なる線幅を設計する。実施形態に示すように、第２導電層１１３は、坂の頂部（第１導電層１１１の第１辺Ｌ１に対応する）に位置する線幅（例えば、第１線幅Ｗ１）が坂の底部（第１導電層１１１の第２辺Ｌ２に対応する）に位置する線幅より小さい。高度差を有する導電層は、特殊な線幅変化により、パターン化工程が行われて良好な幅を有することができ、パターン化工程においてエッチング液が高さの低い底面の位置に蓄積することに起因する過度のエッチングによる断線が発生しにくいとともに、重なる面積が大きすぎることで寄生容量が高すぎることを防止するように、上下２つの導電層の重なる位置での寄生容量を制御することができる。これによって、製品の歩留まり率及び電気的な特性を向上することができる。

＜第２実施形態＞
図４は、第２の実施形態に係る表示パネルの導電層を示す部分側面図である。第２実施例においても第１実施形態のように、第１導電層１１１’の上方に通過する第２導電層１１３’の線幅変化を例示して説明するが、本考案は、これに限らない。

図１を同時に参照する。第１実施形態のように、第２実施形態において、基板における導電層、例えば第１基板１１の第２導電層１１３’（Ｍ２）は、第１方向Ｄ１に沿って延伸し、第１導電層１１１’は、第２方向Ｄ２に沿って延伸し、第２方向Ｄ２が第１方向Ｄ１に垂直である。第２導電層１１３’の第１平面Ｐ１が第１導電層１１１’の頂面に対応し、第２導電層１１３’の第２平面Ｐ２が第１導電層１１１’と重ならなく、第２導電層１１３’の傾斜面Ｓも第１導電層１１１’の頂面と底面とを接続する傾斜面に対応する。

第２導電層１１３’は、第１方向Ｄ１に沿って、第１高さＨ１を有する第１平面Ｐ１と、傾斜面Ｓと、第２高さＨ２を有する第２平面Ｐ２とを含み、第１高さＨ１が第２高さＨ２より高い。また、第２導電層１１３’は、第１平面Ｐ１の傾斜面Ｓに近い位置に、第２方向Ｄ２に沿う第１線幅Ｗ１を有し、第２導電層１１３’は、傾斜面Ｓに、第２方向Ｄ２に沿う第２線幅Ｗ２を有し、第１線幅Ｗ１が第２線幅Ｗ２よりも小さい。また、第２導電層１１３’の傾斜面Ｓには、変化する線幅分布を有し、かつ変化する線幅分布は、第１平面Ｐ１から第２平面Ｐ２に向かって徐々に増加する。図４に示すように、第２導電層１１３’の傾斜面Ｓと第２平面Ｐ２との境界に最大線幅を有する。

第２実施形態において、第２導電層１１３’は、第１平面Ｐ１の傾斜面Ｓに近い位置に第１線幅変化領域（ａ ｆｉｒｓｔ ｒｅｇｉｏｎ ｃｏｍｐｏｓｅｄ ｏｆ ｖａｒｙｉｎｇ ｌｉｎｅ ｗｉｄｔｈｓ）Ａ１を有する。図４に示すように、第２導電層１１３’は、第１線幅変化領域Ａ１において、前記傾斜面Ｓの方向に向かって徐々に増加する線幅分布を有する。また、第１線幅変化領域Ａ１において、第１線幅Ｗ１を含む。なお、第２導電層１１３’は、第２方向Ｄ２に沿って、第１平面Ｐ１の傾斜面Ｓから離れた位置に第３線幅Ｗ３を有する。第３線幅Ｗ３は、第１線幅Ｗ１より小さく、第２線幅Ｗ２よりも小さい。

一実施形態において、第２導電層１１３’は、第１平面Ｐ１の第１線幅変化領域Ａ１における最大線幅が、斜面Ｓにおけるいずれの線幅以下である。他の実施形態において、第１線幅変化領域Ａ１における最大線幅が第２平面Ｐ２におけるいずれの線幅よりも小さい。

第２実施形態において、第２導電層１１３’は、第２平面Ｐ２の傾斜面Ｓに近い位置に第２線幅変化領域Ａ２をさらに含む。図４に示すように、第２導電層１１３’は、第２線幅変化領域Ａ２において、傾斜面Ｓから離れて徐々に減少する線幅分布を有する。また、第２導電層１１３’は、第２平面Ｐ２の傾斜面Ｓから離れた位置に第４線幅Ｗ４を有する。第３線幅Ｗ３は、第４線幅Ｗ４より小さい。第４線幅Ｗ４は、第２線幅Ｗ２より小さく、第１線幅Ｗ１より大きい。

一実施例において、第２導電層１１３’は、第２平面Ｐ２の第２線幅変化領域Ａ２における最小線幅が、第１平面Ｐ１におけるいずれの線幅よりも大きい。

図５Ａは、第２の実施形態に係る表示パネルの第１の導電層の形態を示す平面図である。図５Ｂは、第２の実施形態に係る表示パネルの第２の導電層の形態を示す平面図である。図１及び図４を同時に参照する。図３Ａ及び図３Ｂのように、図５Ａと図５Ｂとの違いは、第１導電層１１１’の傾斜面の傾斜の程度である。

図５Ａの平面図に示すように、第１導電層１１１’の傾斜面の勾配が比較的緩やかである場合、第２方向Ｄ２において、第１導電層１１１’の第１エッジＥ１及び第２導電層１１３’の境界Ｅ２は、平面図によって示される。また、第２導電層１１３’において、第１導電層１１１’に重なる第１部分Ｏ１と、第１導電層１１１’と重ならない第２部分Ｏ２とを接続する境界Ｅ２は、第１導電層１１１’の第１エッジＥ１の外側に位置する。第２導電層１１３’の第１部分Ｏ１は、第１平面Ｐ１と傾斜面Ｓとを有する。図５Ｂに示すように、第１導電層１１１’の傾斜面の勾配が比較的急峻である場合、第１導電層１１１’の第１エッジＥ１及び第２導電層１１３’の境界Ｅ２は、同一線になるようにほぼ重ね合わされた状態となる。平面図に示すように、第２導電層１１３’において、第１導電層１１１’に重なる第１部分Ｏ１と、第１導電層１１１’と重ならない第２部分Ｏ２とを接続する境界Ｅ２は、第１導電層１１１’の第１エッジＥ１にほぼ揃った状態となる。

また、図５Ａ及び図５Ｂは、第２導電層１１３’の第２平面Ｐ２の第２線幅変化領域Ａ２、第１平面Ｐ１の第１線幅変化領域Ａ１、及び第１線幅Ｗ１〜第４線幅Ｗ４の位置を示す。図５Ａ及び図５Ｂに示すように、第１線幅Ｗ１より小さい第３線幅Ｗ３は、例えば、第２導電層１１３’の第１部分Ｏ１の中間点において第２方向Ｄ２に沿う線幅であり、第２線幅Ｗ２より小さい第４線幅Ｗ４は、例えば、第２導電層１１３’の第２部分Ｏ２の中間点において第２方向Ｄ２に沿う線幅である。なお、第１線幅Ｗ１〜第４線幅Ｗ４間の幅関係は、以上に詳細に記載される。

また、実施形態では、第２導電層１１３／１１３’の第１線幅変化領域Ａ１及び第２線幅変化領域Ａ２における２つの側辺の例として、２つの円弧状曲線を例示したが、本考案は、これに限らない。線幅が徐々に増加するように、第１線幅変化領域Ａ１及び第２線幅変化領域Ａ２における２つの側辺は、直線であってもよい。

＜第３実施形態＞
図６は、第３の実施形態に係る表示パネルの導電層を示す部分平面図である。第３実施形態において、第２導電層Ｍ２がゲートラインＧａｔｅ（ｇａｔｅ ｌｉｎｅ）及びコモンラインＣｏｍ（ｃｏｍｍｏｎ ｌｉｎｅ）の上方を通過することを例示するが、本考案は、図６に示す態様に限らない。実際の応用の条件に応じて適宜に変更及び調整してもよい。

第３の実施形態において、仮にゲートラインＧａｔｅ及びコモンラインＣｏｍの傾斜面が比較的急峻である場合には、図５Ｂに示すように、傾斜面と、頂面及び底面とが形成された２つの辺は、同一線になるようにほぼ重ね合わされた状態となる。

第３の実施形態において、第２実施形態に示す線幅の設計を採用し、例えば、第２導電層Ｍ２は、高さが比較的高い位置（例えば、ゲートラインＧａｔｅ及びコモンラインＣｏｍに重なる領域）に第１線幅変化領域Ａ１を有し、高さが比較的低い位置（例えば、ゲートラインＧａｔｅ及びコモンラインＣｏｍに重ならない領域）に第２線幅変化領域Ａ２を有する。また、第３の実施形態において、第２導電層Ｍ２は、傾斜面（図示せず）に頂部から底部に向かって徐々に増加する線幅分布を有する（図４を参照）。

図６に示すように、第２導電層Ｍ２は、ゲートラインＧａｔｅ及びコモンラインＣｏｍの頂面に重なる部分が比較的小さい幅を有し、ゲートラインＧａｔｅ及びコモンラインＣｏｍに重ならない部分が比較的大きい幅を有する。図６にも、第１線幅Ｗ１〜第４線幅Ｗ４の位置が示される。その他の構成要素の詳細について、第２実施例を参照して、ここで説明は省略する。

上述したように、本実施形態において、導電層の異なる高さの位置で異なる線幅を設計する。例えば、第２導電層１１３／１１３’は、下方の第１導電層１１１／１１１’に重なる位置及び重ならない位置の線幅が異なるため、導電層の坂の頂部に位置する線幅が坂の底部に位置する線幅より小さい。一実施形態において、導電層の坂面に位置する線幅は、例えば、変化する線幅分布である。本考案によれば、高度差を有する導電層は、特殊な線幅変化により、パターン化工程が行われても良好な幅を有することができ、パターン化工程においてエッチング液が高さの低い底面の位置に蓄積することに起因する過度のエッチングによる断線が発生しにくい。特殊な線幅変化により、重なる面積が大きすぎることで寄生容量が高すぎることを防止するように、上下２つの導電層の重なる位置での寄生容量を制御することもできる。これによって、製品の歩留まり率及び電気的な特性を向上することができる。

要約すれば、本考案の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本考案を限定するものではない。当業者は、本考案の趣旨を逸脱しない限り適宜変更が可能である。本考案の権利範囲は、添付請求の範囲によって限定されるものである。

１１ 第１基板
１１０ 第１基材
１１１、１１１’、Ｍ１ 第１導電層
１１２ 絶縁層
１１３、１１３’、Ｍ２ 第２導電層
１１４ 第１中間層
１１５ 第１透明導電層
１２ 第２基板
１２０ 第２基材
１２３ カラーフォトレジスト層
１２５ 第２透明導電層
１３ 液晶層
１３１ 液晶分子
１４ａ 第１偏光板
１４ｂ 第２偏光板
Ｄ１ 第１方向
Ｄ２ 第２方向
Ｈ１ 第１高さ
Ｈ２ 第２高さ
Ｐ１ 第１平面
Ｐ２ 第２平面
Ｓ 傾斜面
Ｗ１ 第１線幅
Ｗ２ 第２線幅
Ｗ３ 第３線幅
Ｗ４ 第４線幅
Ｏ１ 第１部分
Ｏ２ 第２部分
Ｌ１ 第１辺
Ｌ２ 第２辺
Ｅ１ 第１エッジ
Ｅ２ 境界
Ａ１ 第１線幅変化領域
Ａ２ 第２線幅変化領域

Claims (19)

1. 表示パネルであって、
   第１基板と、第２基板と、表示層とを含み、
   前記第１基板は導電層を含み、前記導電層は、基材上に設けられ、第１方向に沿って延伸し、第１方向に沿って、第１高さを有する第１平面と、傾斜面と、第２高さを有する第２平面とを含み、前記第１高さが前記第２高さより高く、
   前記第２基板は、前記第１基板に対向して配置され、
   前記表示層は、前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、
   前記導電層は、第２方向に沿って、前記第１平面の前記傾斜面に近い位置に第１線幅を有し、前記傾斜面に第２線幅を有し、前記第２方向が前記第１方向に垂直であり、前記第１線幅が前記第２線幅より小さいことを特徴とする表示パネル。
2. 前記第２方向に沿って、前記第１平面の前記傾斜面から離れた位置に第３線幅を有し、前記第３線幅が前記第１線幅より小さいことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
3. 前記第２方向に沿って、前記第２平面の前記傾斜面から離れた位置に第４線幅を有し、前記第４線幅が前記第２線幅より小さいことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
4. 前記導電層の前記傾斜面には、変化する線幅分布を有し、かつ前記変化する線幅分布は、前記第１平面から前記第２平面に向かって徐々に増加することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
5. 前記導電層の前記第１平面の前記傾斜面に近い位置には、第１線幅変化領域を有し、前記第１線幅変化領域は、前記傾斜面に向かって徐々に増加する線幅分布を有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
6. 前記第１線幅変化領域は、前記第１線幅を含むことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
7. 前記第１線幅変化領域における最大線幅は、前記導電層の前記傾斜面におけるいずれの線幅以下であることを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
8. 前記第１線幅変化領域における最大線幅は、前記導電層の前記第２平面におけるいずれの線幅よりも小さいことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
9. 前記導電層の前記第２平面の前記傾斜面に近い位置には、第２線幅変化領域を有し、前記第２線幅変化領域は、前記傾斜面から離れて徐々に減少する線幅分布を有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
10. 前記第２線幅変化領域における最小線幅は、前記導電層の前記第１平面におけるいずれの線幅よりも大きいことを特徴とする請求項９に記載の表示パネル。
11. 表示パネルであって、
    第１基板と、第２基板と、表示層とを含み、
    前記第１基板は、基材と、第１導電層と、第２導電層とを含み、
    前記第１導電層は、前記基材の上方に設けられ、第２方向に沿って延伸し、
    前記第２導電層は、前記第１導電層の上方に位置し、第１方向に沿って延伸するとともに、前記第１導電層に重なる第１部分と、前記第１導電層と重ならない第２部分と、前記第１部分と前記第２部分とを接続する境界とを有し、
    前記第１部分は、前記境界において、前記第２方向に沿う第１幅を有し、前記第２部分は、前記境界において、前記第２方向に沿う第２幅を有し、前記第１幅が前記第２幅より小さく、
    前記第２基板は、前記第１基板に対向して配置され、
    前記表示層は、前記第１基板と前記第２基板との間に位置することを特徴とする表示パネル。
12. 前記第１導電層は、前記第２方向に第１エッジを有し、前記境界は、前記第１エッジの外側に位置することを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
13. 前記第２導電層は、前記第１部分の中間点において前記第２方向に沿う第３幅を有し、前記第３幅が前記第１幅より小さいことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
14. 前記第２導電層の前記第２部分の中間点において前記第２方向に沿う第４幅を有し、前記第４幅が前記第２幅より小さいことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
15. 前記第２導電層の前記第１部分の前記境界に近い位置には、第１幅変化領域を有し、前記第１幅変化領域は、前記第２部分に向かって徐々に増加する幅分布を有することを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
16. 前記第１幅変化領域は、前記第１幅を含むことを特徴とする請求項１５に記載の表示パネル。
17. 前記第１幅変化領域における最大幅は、前記第２導電層の前記第２部分におけるいずれの幅よりも小さいことを特徴とする請求項１５に記載の表示パネル。
18. 前記第２導電層の前記第２部分の前記境界に近い位置には、第２幅変化領域を有し、前記第２幅変化領域は、前記境界から離れて徐々に減少する幅分布を有することを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
19. 前記第２幅変化領域における最小幅は、前記第２導電層の前記第１部分におけるいずれの幅よりも大きいことを特徴とする請求項１８に記載の表示パネル。