JP3191164B2 - 複合縦振動メカニカル・フィルタの製造方法 - Google Patents
複合縦振動メカニカル・フィルタの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複合縦振動メカニカル・
フィルタに関し、一層詳細には縦振動体（以下、縦振動
音片という）、圧電部材、結合部材、支持部材、保持部
材等の構成体より成る複合縦振動メカニカル・フィルタ
において、複数の縦振動音片が結合部材にて結合され、
縦振動音片、結合部材の加工精度および相対位置精度を
向上し、特性を改善した複合縦振動メカニカル・フィル
タの製造方法に関する。
フィルタに関し、一層詳細には縦振動体（以下、縦振動
音片という）、圧電部材、結合部材、支持部材、保持部
材等の構成体より成る複合縦振動メカニカル・フィルタ
において、複数の縦振動音片が結合部材にて結合され、
縦振動音片、結合部材の加工精度および相対位置精度を
向上し、特性を改善した複合縦振動メカニカル・フィル
タの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近時、ＬＣフィルタ、水晶フィルタの特
性上の中間的な存在としてメカニカル・フィルタが通信
機器等に採用されている。これはメカニカル・フィルタ
がその良好なＱの値の特性のもとに選択特性が良好であ
り、さらに、温度変化に対する安定性に優れかつ小型化
が可能であるという理由に基づく。
性上の中間的な存在としてメカニカル・フィルタが通信
機器等に採用されている。これはメカニカル・フィルタ
がその良好なＱの値の特性のもとに選択特性が良好であ
り、さらに、温度変化に対する安定性に優れかつ小型化
が可能であるという理由に基づく。
【０００３】図４は、従来の複合縦振動メカニカル・フ
ィルタの一例を示し、複合縦振動メカニカル・フィルタ
１は入力側縦振動音片２と、当該入力側縦振動音片２と
同一形状の出力側縦振動音片４を有している。前記入力
側縦振動音片２および出力側縦振動音片４は同一面に配
置され、これらは、互いに細い恒弾性材からなる結合部
材６および８により結合されている。さらに、入力側縦
振動音片２と出力側縦振動音片４には、その中央部から
突出して支持部材１０および１２が設けられている。前
記入力側縦振動音片２には一対の入力側圧電セラミック
ス１４ａ，１４ｂが半田付け等により重合固着されてい
る。同様に出力側縦振動音片４にも出力側圧電セラミッ
クス１６ａ，１６ｂが重合固着されている。入力側圧電
セラミック１４ａ，１４ｂおよび出力側圧電セラミック
ス１６ａ，１６ｂの表面には、あらかじめメタライズ等
の図示しない電極が各々形成されている。また、前記支
持部材１０および１２の各々の端部が長方形の外枠部材
２０の内端面に取着されている。この場合、前記外枠部
材２０と入力側縦振動音片２と出力側縦振動音片４とは
同一面上にある。
ィルタの一例を示し、複合縦振動メカニカル・フィルタ
１は入力側縦振動音片２と、当該入力側縦振動音片２と
同一形状の出力側縦振動音片４を有している。前記入力
側縦振動音片２および出力側縦振動音片４は同一面に配
置され、これらは、互いに細い恒弾性材からなる結合部
材６および８により結合されている。さらに、入力側縦
振動音片２と出力側縦振動音片４には、その中央部から
突出して支持部材１０および１２が設けられている。前
記入力側縦振動音片２には一対の入力側圧電セラミック
ス１４ａ，１４ｂが半田付け等により重合固着されてい
る。同様に出力側縦振動音片４にも出力側圧電セラミッ
クス１６ａ，１６ｂが重合固着されている。入力側圧電
セラミック１４ａ，１４ｂおよび出力側圧電セラミック
ス１６ａ，１６ｂの表面には、あらかじめメタライズ等
の図示しない電極が各々形成されている。また、前記支
持部材１０および１２の各々の端部が長方形の外枠部材
２０の内端面に取着されている。この場合、前記外枠部
材２０と入力側縦振動音片２と出力側縦振動音片４とは
同一面上にある。
【０００４】さらに、入力側および出力側圧電セラミッ
クス１４ａ，１４ｂおよび１６ａ，１６ｂに対する高周
波信号の給電および導出のための給電線２２および導出
線２４が配線され、また、接地線２２ｅおよび２４ｅが
配線される。
クス１４ａ，１４ｂおよび１６ａ，１６ｂに対する高周
波信号の給電および導出のための給電線２２および導出
線２４が配線され、また、接地線２２ｅおよび２４ｅが
配線される。
【０００５】以下、図４に示す従来の複合縦振動メカニ
カル・フィルタのフォトリソグラフィ技術による製造方
法を図５及び図６により工程順に説明する。
カル・フィルタのフォトリソグラフィ技術による製造方
法を図５及び図６により工程順に説明する。
【０００６】図５（ａ）は第１の工程で、図４に示す入
力側及び出力側縦振動音片２および４、結合部材６，
８、支持部材１０，１２と外枠部材２０の全体を一面に
含み、所望の縦振動特性が得られるように設計された金
属平板８０の両面に、フォトレジスト層８４を塗布す
る。
力側及び出力側縦振動音片２および４、結合部材６，
８、支持部材１０，１２と外枠部材２０の全体を一面に
含み、所望の縦振動特性が得られるように設計された金
属平板８０の両面に、フォトレジスト層８４を塗布す
る。
【０００７】図５（ｂ）は第２の工程で、この金属平板
８０の両面に、入力側および出力側縦振動音片２および
４、結合部材６，８、支持部材１０，１２と外枠部材２
０と同一の形状を含んだマスクパターン８６を介して光
照射、例えば、紫外線Ｌｘを照射して、露光の処理を施
す。
８０の両面に、入力側および出力側縦振動音片２および
４、結合部材６，８、支持部材１０，１２と外枠部材２
０と同一の形状を含んだマスクパターン８６を介して光
照射、例えば、紫外線Ｌｘを照射して、露光の処理を施
す。
【０００８】図６（ａ）は第３の工程で、露光処理を施
した金属平板８０を溶媒に浸して現像処理を施し、この
後、光照射された部分のフォトレジスト層８７ａ，８７
ｂ，８７ｃの部分を除去する。
した金属平板８０を溶媒に浸して現像処理を施し、この
後、光照射された部分のフォトレジスト層８７ａ，８７
ｂ，８７ｃの部分を除去する。
【０００９】図６（ｂ）は第４の工程で、前記第３の工
程において除去された金属平板８０のフォトレジスト層
８７ａないし８７ｃの部分エッチング加工処理を施して
除去する。
程において除去された金属平板８０のフォトレジスト層
８７ａないし８７ｃの部分エッチング加工処理を施して
除去する。
【００１０】このようにして、入力側および出力側縦振
動音片２および４、結合部材６，８、支持部材１０，１
２、外枠部材２０が一体的に形成される。
動音片２および４、結合部材６，８、支持部材１０，１
２、外枠部材２０が一体的に形成される。
【００１１】次いで、前記第４工程で形成された入力側
および出力側縦振動音片２および４に、真空蒸着法ある
いはスパッタ法を用いて金材料あるいは銀材料等のメタ
ライズが形成された入力側および出力側圧電セラミック
ス１４ａ，１４ｂおよび１６ａ，１６ｂを半田付等によ
り重合固着する。
および出力側縦振動音片２および４に、真空蒸着法ある
いはスパッタ法を用いて金材料あるいは銀材料等のメタ
ライズが形成された入力側および出力側圧電セラミック
ス１４ａ，１４ｂおよび１６ａ，１６ｂを半田付等によ
り重合固着する。
【００１２】この後、入力側圧電セラミックス１４ａ，
１４ｂと外枠部材２０との間に給電線２２および接地線
２２ｅと、出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂと外
枠部材２０とに導出線２４、接地線２４ｅを半田付けを
もって接続する。
１４ｂと外枠部材２０との間に給電線２２および接地線
２２ｅと、出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂと外
枠部材２０とに導出線２４、接地線２４ｅを半田付けを
もって接続する。
【００１３】次いで、以上の構成における動作について
図４を用いて説明する。先ず、一対の入力側圧電セラミ
ックス１４ａ，１４ｂと入力側縦振動音片２との間に給
電線２２および接地線２２ｅを介して信号線Ｏｓｃより
高周波信号Ｓ1 、例えば、スーパーヘテロダイン式受信
機などの周波数変換部で生成される４５５ＫＨｚの中間
周波数信号が供給される。それにより、電気的にアース
された入力側縦振動音片２と入力側圧電セラミックス１
４ａ，１４ｂとの間に高周波信号Ｓ1 に相応した電界を
生起する。この電界により入力側圧電セラミックス１４
ａ，１４ｂは図中の矢印ｍｉおよびｍｏに示す方向に電
歪を生じ、入力側縦振動音片２が長さＬ1 を縦波の半波
長とする周波数Ｆ1 において共振する。入力側縦振動音
片２における縦波の平均伝搬速度をＶとすると、周波数
Ｆ1 は次式にて与えられる。
図４を用いて説明する。先ず、一対の入力側圧電セラミ
ックス１４ａ，１４ｂと入力側縦振動音片２との間に給
電線２２および接地線２２ｅを介して信号線Ｏｓｃより
高周波信号Ｓ1 、例えば、スーパーヘテロダイン式受信
機などの周波数変換部で生成される４５５ＫＨｚの中間
周波数信号が供給される。それにより、電気的にアース
された入力側縦振動音片２と入力側圧電セラミックス１
４ａ，１４ｂとの間に高周波信号Ｓ1 に相応した電界を
生起する。この電界により入力側圧電セラミックス１４
ａ，１４ｂは図中の矢印ｍｉおよびｍｏに示す方向に電
歪を生じ、入力側縦振動音片２が長さＬ1 を縦波の半波
長とする周波数Ｆ1 において共振する。入力側縦振動音
片２における縦波の平均伝搬速度をＶとすると、周波数
Ｆ1 は次式にて与えられる。
【００１４】Ｆ1 ＝Ｖ／（２Ｌ1 ） ・・・ （１） この縦振動は結合部材６，８を介して出力側縦振動音片
４に機械的に結合して伝搬し、出力側縦振動音片４が長
さＬ2 により周波数Ｆ2 の振動において応動する。すな
わち、縦振動で共振する。この周波数Ｆ2 は（１）式と
同様に出力側縦振動音片４の縦波の平均伝搬速度をＶと
するならば、 Ｆ2 ＝Ｖ／（２Ｌ2 ） ・・・ （２） となる。この出力側縦振動音片４の縦振動に電歪により
出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂの図示しない電
極に電圧を生起し、縦振動の伝搬等に起因して形成され
る所定の急峻な周波数特性、すなわち、狭帯域の周波数
特性に形成された、例えば、４５５ＫＨｚの中間周波数
信号が導出線２４、接地線２４ｅから出力信号Ｓ2とし
て導出される。
４に機械的に結合して伝搬し、出力側縦振動音片４が長
さＬ2 により周波数Ｆ2 の振動において応動する。すな
わち、縦振動で共振する。この周波数Ｆ2 は（１）式と
同様に出力側縦振動音片４の縦波の平均伝搬速度をＶと
するならば、 Ｆ2 ＝Ｖ／（２Ｌ2 ） ・・・ （２） となる。この出力側縦振動音片４の縦振動に電歪により
出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂの図示しない電
極に電圧を生起し、縦振動の伝搬等に起因して形成され
る所定の急峻な周波数特性、すなわち、狭帯域の周波数
特性に形成された、例えば、４５５ＫＨｚの中間周波数
信号が導出線２４、接地線２４ｅから出力信号Ｓ2とし
て導出される。
【００１５】ここで、従来の製造方法において１枚の金
属平板８０からエッチング加工する際、複合縦振動メカ
ニカル・フィルタの構成要素である入力側縦振動音片
２、出力側縦振動音片４、結合部材６，８の相対位置
は、フォトリソグラフィに使用するマスクパターン８６
の精度により決まり、この精度は超ＶＬＳＩ等半導体集
積回路の製造プロセスの進歩により充分高められ、４５
５ＫＨｚ程度のメカニカル・フィルタの製造方法を充分
満たすものとなっている。
属平板８０からエッチング加工する際、複合縦振動メカ
ニカル・フィルタの構成要素である入力側縦振動音片
２、出力側縦振動音片４、結合部材６，８の相対位置
は、フォトリソグラフィに使用するマスクパターン８６
の精度により決まり、この精度は超ＶＬＳＩ等半導体集
積回路の製造プロセスの進歩により充分高められ、４５
５ＫＨｚ程度のメカニカル・フィルタの製造方法を充分
満たすものとなっている。
【００１６】１例として４５５ＫＨｚメカニカル・フィ
ルタの例を上げるならば、４５５ＫＨｚの複合縦振動メ
カニカル・フィルタの半波長Ｌ1 もしくはＬ2 の値は約
５ｍｍ程度であり、通過帯域を考えた必要精度は１／５
０００の１μｍあればよい。この１μｍの精度は半導体
集積回路の製造プロセスで充分実現できている。
ルタの例を上げるならば、４５５ＫＨｚの複合縦振動メ
カニカル・フィルタの半波長Ｌ1 もしくはＬ2 の値は約
５ｍｍ程度であり、通過帯域を考えた必要精度は１／５
０００の１μｍあればよい。この１μｍの精度は半導体
集積回路の製造プロセスで充分実現できている。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、入力側縦振動
音片２および出力側縦振動音片４を形成する金属平板８
０の厚さは縦振動の波長と比較してあまり薄くすること
はできない。縦振動に対して境界条件である側面（平板
上下面）の影響が無視できなくなるからである。４５５
ＫＨｚの場合を例にとると１／１００波長以上が必要と
なる。この値は約０．１ｍｍであり、複合縦振動メカニ
カル・フィルタの構成要素の相対位置の精度１μｍと比
較して極めて大きくなる。この厚さの金属平板をエッチ
ングにより加工するには、図４に示した従来の工程にお
いて、厚い材料のエッチングに耐え得る強度をもったフ
ォトレジストが必要である。また感光性を持った材料に
おいて、その強度のみを上げることは難しく、現在は、
フォトレジストの厚さを増すことによりこれを実現して
いる。しかし、フォトレジストの厚さを増すことにより
フォトレジストの解像度が低下し、エッチング精度の低
下を招くという不都合を生じる。
音片２および出力側縦振動音片４を形成する金属平板８
０の厚さは縦振動の波長と比較してあまり薄くすること
はできない。縦振動に対して境界条件である側面（平板
上下面）の影響が無視できなくなるからである。４５５
ＫＨｚの場合を例にとると１／１００波長以上が必要と
なる。この値は約０．１ｍｍであり、複合縦振動メカニ
カル・フィルタの構成要素の相対位置の精度１μｍと比
較して極めて大きくなる。この厚さの金属平板をエッチ
ングにより加工するには、図４に示した従来の工程にお
いて、厚い材料のエッチングに耐え得る強度をもったフ
ォトレジストが必要である。また感光性を持った材料に
おいて、その強度のみを上げることは難しく、現在は、
フォトレジストの厚さを増すことによりこれを実現して
いる。しかし、フォトレジストの厚さを増すことにより
フォトレジストの解像度が低下し、エッチング精度の低
下を招くという不都合を生じる。
【００１８】このエッチング精度の低下は複合縦振動メ
カニカル・フィルタにおいて、縦振動音片の共振周波数
の精度と結合部材における結合量の精度の低下を招き、
充分実用となる精度を確保することが出来ないという問
題点があった。
カニカル・フィルタにおいて、縦振動音片の共振周波数
の精度と結合部材における結合量の精度の低下を招き、
充分実用となる精度を確保することが出来ないという問
題点があった。
【００１９】本発明は前記の不都合を克服するためにな
されたものであって、入力側縦振動音片、出力側縦振動
音片、結合部材等の加工精度を向上し、通過帯域内外の
特性のよい複合縦振動メカニカル・フィルタを供給する
ことを目的とする。
されたものであって、入力側縦振動音片、出力側縦振動
音片、結合部材等の加工精度を向上し、通過帯域内外の
特性のよい複合縦振動メカニカル・フィルタを供給する
ことを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、入力側及び出力側を含み、通過帯域に近接する領域
において縦振動する複数の振動体と、当該複数の振動体
の端部間に配設される複数の結合部材とが恒弾性材の両
面に表面部材を形成した一平板部より一体的に形成さ
れ、その形成方法が表面材料層をフォトリソグラフィ技
術でエッチングし、この表面材料層をマスクとし中心材
料をエッチングして作製できる材料とすることを特徴と
する。
に、入力側及び出力側を含み、通過帯域に近接する領域
において縦振動する複数の振動体と、当該複数の振動体
の端部間に配設される複数の結合部材とが恒弾性材の両
面に表面部材を形成した一平板部より一体的に形成さ
れ、その形成方法が表面材料層をフォトリソグラフィ技
術でエッチングし、この表面材料層をマスクとし中心材
料をエッチングして作製できる材料とすることを特徴と
する。
【００２１】
【実施例】次に、本発明による複合縦振動メカニカル・
フィルタの製造方法の実施例を図１から図３を用いて詳
細に説明する。
フィルタの製造方法の実施例を図１から図３を用いて詳
細に説明する。
【００２２】図１（ａ）に示す第１の工程において、入
力側および出力側縦振動音片２および４、結合部材６，
８、支持部材１０，１２と外枠部材２０のすべてを一面
に含み、所望の縦振動特性が得られるように設計された
恒弾性材８１の両面に金、ニッケル等表面部材８２を形
成した金属平板８０の両面に、さらにフォトレジスト層
８４を塗布する。図１（ｂ）にその部分拡大図を示す。
力側および出力側縦振動音片２および４、結合部材６，
８、支持部材１０，１２と外枠部材２０のすべてを一面
に含み、所望の縦振動特性が得られるように設計された
恒弾性材８１の両面に金、ニッケル等表面部材８２を形
成した金属平板８０の両面に、さらにフォトレジスト層
８４を塗布する。図１（ｂ）にその部分拡大図を示す。
【００２３】図２（ａ）に示す第２の工程において、金
属平板８０の両面に、入力側縦振動音片２および出力側
縦振動音片４、結合部材６，８、支持部材１０，１２と
外枠部材２０と同一形状のマスクパターン８６を介して
光照射、例えば、紫外線Ｌｘを照射して、露光処理を施
す。
属平板８０の両面に、入力側縦振動音片２および出力側
縦振動音片４、結合部材６，８、支持部材１０，１２と
外枠部材２０と同一形状のマスクパターン８６を介して
光照射、例えば、紫外線Ｌｘを照射して、露光処理を施
す。
【００２４】図２（ｂ）に示す第３の工程において、露
光した金属平板８０を現像液に浸して現像処理を施し、
この後、光照射された部分のフォトレジスト層８７ａ，
８７ｂ，８７ｃの部分を除去する。
光した金属平板８０を現像液に浸して現像処理を施し、
この後、光照射された部分のフォトレジスト層８７ａ，
８７ｂ，８７ｃの部分を除去する。
【００２５】図２（ｃ）に示す第４の工程において、前
記第３の工程において除去をされた金属平板８０のフォ
トレジスト層８７ａないし８７ｃに対応する部分の金、
ニッケル等表面部材８２の部分を第１のエッチング液す
なわち、表面部材８２のみエッチング可能なエッチング
液にてエッチング加工処理を施して除去する。
記第３の工程において除去をされた金属平板８０のフォ
トレジスト層８７ａないし８７ｃに対応する部分の金、
ニッケル等表面部材８２の部分を第１のエッチング液す
なわち、表面部材８２のみエッチング可能なエッチング
液にてエッチング加工処理を施して除去する。
【００２６】図２（ｄ）に示す第５の工程において、残
りのフォトレジスト層８４をフォトレジスト除去液にて
除去する。
りのフォトレジスト層８４をフォトレジスト除去液にて
除去する。
【００２７】図３に示す第６の工程において、第５の工
程までに残った恒弾性材８１の部分を、第２のエッチン
グ液にてエッチングする。
程までに残った恒弾性材８１の部分を、第２のエッチン
グ液にてエッチングする。
【００２８】このようにして、入力側縦振動音片２およ
び出力側縦振動音片４、結合部材６，８、支持部材１
０，１２、外枠部材２０が一体的に形成される。
び出力側縦振動音片４、結合部材６，８、支持部材１
０，１２、外枠部材２０が一体的に形成される。
【００２９】以後は、従来の方法により製造する。すな
わち、前記第６の工程で形成された入力側縦振動音片２
および出力側縦振動音片４に、真空蒸着法あるいはスパ
ッタ法を用いて金材料あるいは銀材料などのメタライズ
が形成された入力側圧電セラミックス１４ａ，１４ｂお
よび出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂを半田付け
をもって重合固着する。
わち、前記第６の工程で形成された入力側縦振動音片２
および出力側縦振動音片４に、真空蒸着法あるいはスパ
ッタ法を用いて金材料あるいは銀材料などのメタライズ
が形成された入力側圧電セラミックス１４ａ，１４ｂお
よび出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂを半田付け
をもって重合固着する。
【００３０】この後、入力側圧電セラミックス１４ａ，
１４ｂと外枠部材２０との間に給電線２２および接地線
２２ｅと、出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂと、
外枠部材２０とに導出線２４、接地線２４ｅが半田付け
をもって接続される。
１４ｂと外枠部材２０との間に給電線２２および接地線
２２ｅと、出力側圧電セラミックス１６ａ，１６ｂと、
外枠部材２０とに導出線２４、接地線２４ｅが半田付け
をもって接続される。
【００３１】この例に示される複合縦振動メカニカル・
フィルタの製造方法によれば、エッチング材料の加工精
度を決めるフォトレジストの厚さはニッケル、金等表面
部材８２の材料をエッチングするのに耐え得る材料およ
び厚さであればよく、極めて薄く形成することができ
る。従って、従来のようなフォトレジストの材料および
厚さを恒弾性材の板厚すべてをエッチングするに耐えう
るものにする必要がなく加工精度の低下を招くことがな
い。
フィルタの製造方法によれば、エッチング材料の加工精
度を決めるフォトレジストの厚さはニッケル、金等表面
部材８２の材料をエッチングするのに耐え得る材料およ
び厚さであればよく、極めて薄く形成することができ
る。従って、従来のようなフォトレジストの材料および
厚さを恒弾性材の板厚すべてをエッチングするに耐えう
るものにする必要がなく加工精度の低下を招くことがな
い。
【００３２】また、縦振動音片および結合部材を構成す
る多層構造の平板は、厚さが縦波の波長と比較して十分
薄い領域で使用するので、縦振動に対して、その弾性定
数は材料間の平均的な値とみなすことができ、単一材料
では実現できなかった温度特性などを実現でき、複合材
料としての選択性が広がる。
る多層構造の平板は、厚さが縦波の波長と比較して十分
薄い領域で使用するので、縦振動に対して、その弾性定
数は材料間の平均的な値とみなすことができ、単一材料
では実現できなかった温度特性などを実現でき、複合材
料としての選択性が広がる。
【００３３】なお、本発明の実施例は、入力側縦振動音
片および出力側縦振動音片の２音片よりなる場合を示し
たが、複数の振動音片がある場合についても同様に製造
できることは勿論である。
片および出力側縦振動音片の２音片よりなる場合を示し
たが、複数の振動音片がある場合についても同様に製造
できることは勿論である。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
にれば、メカニカル・フィルタの構成要素のエッチング
精度が向上することにより、中心周波数の精度および通
過帯域内外の特性を改善することができる。
にれば、メカニカル・フィルタの構成要素のエッチング
精度が向上することにより、中心周波数の精度および通
過帯域内外の特性を改善することができる。
【図１】本発明による複合縦振動メカニカル・フィルタ
の一製造工程を示す斜視図。
の一製造工程を示す斜視図。
【図２】本発明による複合縦振動メカニカル・フィルタ
の製造方法を示す工程図。
の製造方法を示す工程図。
【図３】本発明による複合縦振動メカニカル・フィルタ
の一製造工程を示す斜視図。
の一製造工程を示す斜視図。
【図４】従来の複合縦振動メカニカル・フィルタの斜視
図。
図。
【図５】従来の複合縦振動メカニカル・フィルタの製造
方法を示す工程図。
方法を示す工程図。
【図６】
従来の複合縦振動メカニカル・フィルタの製造
方法を示す工程図。
方法を示す工程図。
２ 入力側縦振動音片 ４ 出力側縦振動音片 ６，８ 結合部材 １０，１２ 支持部材 １４ａ，１４ｂ 入力側圧電セラミックス １６ａ，１６ｂ 出力側圧電セラミックス ２０ 外枠部材 ２２，２２ｅ 給電線および接地線 ２４，２４ｅ 導出線および接地線 ８０ 金属平板 ８１ 恒弾性材 ８２ 表面部材 ８４，８７ａ，８７ｂ，８７ｃ フォトレジスト層 ８６ マスクパターン
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−150106（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−109412（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−96415（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−121512（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−45233（ＪＰ，Ａ) 特公 昭44−24961（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H03H 3/00 - 3/013 H03H 9/46 - 9/52
Claims (1)
- 【請求項１】 圧電部材が重合された入力側および出力
側を含む複数の振動体が結合部材で連結され、入力側お
よび出力側縦振動体に突設される支持部材が保持部材に
取着されて、供給された高周波信号を所定の周波数帯域
に形成して導出する複合縦振動メカニカル・フィルタに
おいて、恒弾性材の両面に、表面部材を形成した金属平
板と、該金属平板の両面にフォトレジスト層を形成する
手段と、前記金属平板の両面に複合縦振動メカニカル・
フィルタの構成部材（入力側縦振動音片、出力側縦振動
音片、結合部材、支持部材、外枠部材等）と同一形状の
マスクパターンを介して露光する手段と、該露光した金
属平板の現像処理手段と、露光した部分の前記フォトレ
ジスト層部分を除去する手段と、該除去したフォトレジ
スト層に対応する表面部材をエッチング処理する手段
と、前記フォトレジスト層の露光されない部分を除去す
る手段と、前記エッチング処理部分に対応する前記恒弾
性材をエッチングする手段を有することを特徴とする複
合縦振動メカニカル・フィルタの製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09115191A JP3191164B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 複合縦振動メカニカル・フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09115191A JP3191164B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 複合縦振動メカニカル・フィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05251973A JPH05251973A (ja) | 1993-09-28 |
| JP3191164B2 true JP3191164B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=14018518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09115191A Expired - Fee Related JP3191164B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 複合縦振動メカニカル・フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3191164B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102614285B1 (ko) * | 2016-11-03 | 2023-12-18 | 한국단자공업 주식회사 | 고전압 퓨즈 제조 공정 및 이를 통해 제조된 고전압 퓨즈 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7442579B2 (en) * | 2004-11-22 | 2008-10-28 | International Business Machines Corporation | Methods to achieve precision alignment for wafer scale packages |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP09115191A patent/JP3191164B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR102614285B1 (ko) * | 2016-11-03 | 2023-12-18 | 한국단자공업 주식회사 | 고전압 퓨즈 제조 공정 및 이를 통해 제조된 고전압 퓨즈 |
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