JP3182946B2 - Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの製造方法 - Google Patents
Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、安定化されたＮ−（α
−アルコキシエチル）ホルムアミドの製造方法に関す
る。Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドは、Ｎ
−ビニルホルムアミドを合成するための中間原料として
有用な物質である。
−アルコキシエチル）ホルムアミドの製造方法に関す
る。Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドは、Ｎ
−ビニルホルムアミドを合成するための中間原料として
有用な物質である。
【０００２】
【従来の技術】Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムア
ミドの製造方法としては、ホルムアミドとアセトアルデ
ヒドを反応させてＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルム
アミドとし、これをアルコキシ化する方法が知られてい
る（特開昭６０−１９３９５３）。
ミドの製造方法としては、ホルムアミドとアセトアルデ
ヒドを反応させてＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルム
アミドとし、これをアルコキシ化する方法が知られてい
る（特開昭６０−１９３９５３）。
【０００３】また、上記のＮ−（α−ヒドロキシエチ
ル）ホルムアミドの合成において、原料のアセトアルデ
ヒドとして酢酸含有量が３００ｐｐｍ以下のものを液相
で反応させた方が高収率が得られることが提案されてい
る（特開昭６１−２８６３５６）。
ル）ホルムアミドの合成において、原料のアセトアルデ
ヒドとして酢酸含有量が３００ｐｐｍ以下のものを液相
で反応させた方が高収率が得られることが提案されてい
る（特開昭６１−２８６３５６）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】以上のＮ−（α−アル
コキシエチル）ホルムアミドの製造方法では、反応収率
自体は比較的定量的に進行するものである。しかしなが
ら、アルコキシ化反応の後、反応液中の過剰のアルコー
ルや生成した水分を分離後、蒸留精製を行うと実際に回
収されるＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの
回収率が充分でなかった。この主な原因として、Ｎ−
（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの熱安定性が充
分でなく、特に蒸留時の分解の問題があった。
コキシエチル）ホルムアミドの製造方法では、反応収率
自体は比較的定量的に進行するものである。しかしなが
ら、アルコキシ化反応の後、反応液中の過剰のアルコー
ルや生成した水分を分離後、蒸留精製を行うと実際に回
収されるＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの
回収率が充分でなかった。この主な原因として、Ｎ−
（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの熱安定性が充
分でなく、特に蒸留時の分解の問題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記実情
に鑑み、Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの
熱安定性、回収方法等につき種々検討した結果、原料ホ
ルムアミド中の特定の微量不純物であるジホルムアミド
が、反応を阻害するばかりでなく、意外なことに、生成
したＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの熱安
定性に対しても悪影響を及ぼすことを見い出し、本発明
を完成するに到った。
に鑑み、Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの
熱安定性、回収方法等につき種々検討した結果、原料ホ
ルムアミド中の特定の微量不純物であるジホルムアミド
が、反応を阻害するばかりでなく、意外なことに、生成
したＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの熱安
定性に対しても悪影響を及ぼすことを見い出し、本発明
を完成するに到った。
【０００６】即ち、本発明の要旨は、ホルムアミドとア
セトアルデヒドとを塩基性触媒の存在下に反応させてＮ
−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミドを得、これを
酸触媒の存在下に第１級または第２級アルコールと反応
させるＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの製
造方法において、ジホルムアミドの含有量が１０００重
量ｐｐｍ以下のホルムアミドを原料として用いることを
特徴とするＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミド
の製造方法に存する。
セトアルデヒドとを塩基性触媒の存在下に反応させてＮ
−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミドを得、これを
酸触媒の存在下に第１級または第２級アルコールと反応
させるＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドの製
造方法において、ジホルムアミドの含有量が１０００重
量ｐｐｍ以下のホルムアミドを原料として用いることを
特徴とするＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミド
の製造方法に存する。
【０００７】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明では、原料に用いるホルムアミド中の不純物である
ジホルムアミドが１０００重量ｐｐｍ以下、好ましくは
５００ｐｐｍ以下であることを必要とする。市販されて
いるホルムアミド中には、通常２０００〜１００００重
量ｐｐｍ程度のジホルムアミドが含有されているが、こ
れをそのまま使用すると、生成したＮ−（α−アルコキ
シエチル）ホルムアミドの熱安定性を損うので好ましく
ない。また、ホルムアミドとアセトアルデヒドの反応の
進行を阻害する傾向があり、反応に用いる触媒量を増や
す必要がある。
発明では、原料に用いるホルムアミド中の不純物である
ジホルムアミドが１０００重量ｐｐｍ以下、好ましくは
５００ｐｐｍ以下であることを必要とする。市販されて
いるホルムアミド中には、通常２０００〜１００００重
量ｐｐｍ程度のジホルムアミドが含有されているが、こ
れをそのまま使用すると、生成したＮ−（α−アルコキ
シエチル）ホルムアミドの熱安定性を損うので好ましく
ない。また、ホルムアミドとアセトアルデヒドの反応の
進行を阻害する傾向があり、反応に用いる触媒量を増や
す必要がある。
【０００８】ホルムアミド中のジホルムアミドの含有量
を低下させる方法としては、ホルムアミドの市販品を蒸
留、クロマト分離等の方法で精製するとよい。蒸留条件
としては、通常、塔頂温度が２００℃以下となる減圧下
で操作される。好ましくは塔頂圧力を３〜５０ｍｍＨ
ｇ、塔頂温度を８０〜１５０℃として、例えば理論段数
２〜３０の充填塔で減圧蒸留する方法があげられる。
を低下させる方法としては、ホルムアミドの市販品を蒸
留、クロマト分離等の方法で精製するとよい。蒸留条件
としては、通常、塔頂温度が２００℃以下となる減圧下
で操作される。好ましくは塔頂圧力を３〜５０ｍｍＨ
ｇ、塔頂温度を８０〜１５０℃として、例えば理論段数
２〜３０の充填塔で減圧蒸留する方法があげられる。
【０００９】一方、他の原料であるアセトアルデヒドに
ついては、アセトアルデヒド中の不純物のＮ−（α−ア
ルコキシエチル）ホルムアミドの熱安定性への影響は認
めがたいが、ホルムアミドとアセトアルデヒドの反応効
率の面から、酢酸含有量の少ないもの、好ましくは３０
０重量ｐｐｍ以下のものを用いるとよい。かかる酢酸含
有量の少ないアセトアルデヒドは、通常の市販品を蒸留
精製すれば容易に得ることができる。
ついては、アセトアルデヒド中の不純物のＮ−（α−ア
ルコキシエチル）ホルムアミドの熱安定性への影響は認
めがたいが、ホルムアミドとアセトアルデヒドの反応効
率の面から、酢酸含有量の少ないもの、好ましくは３０
０重量ｐｐｍ以下のものを用いるとよい。かかる酢酸含
有量の少ないアセトアルデヒドは、通常の市販品を蒸留
精製すれば容易に得ることができる。
【００１０】以上のホルムアミドとアセトアルデヒドの
反応によるＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミド
の合成法について以下に説明する。反応に用いられる触
媒としては、一般的な塩基性化合物のいずれをも使用す
ることができる。アルカリ金属、アルカリ土類金属、第
４級アンモニウムなどの水酸化物、第３級アミン、強塩
基性、及び弱塩基性に作用するイオン交換樹脂及び強塩
基と弱酸からなる弱塩基性塩などであるが、好ましい塩
基触媒は強塩基と弱酸からなる弱塩基性塩であり、強塩
基とＰＫａ値が４〜１５の弱酸から成る弱塩基性塩が特
に好ましい。ここでＰＫａ値は０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶
液濃度の２５℃における値を意味する。このような弱塩
基性塩としては各種の物質が挙げられるが、例えば、リ
チウム、ナトリウムまたはカリウムなどの水酸化物の強
塩基と有機酸、フェノール類、亜硫酸、亜リン酸、次亜
リン酸、ピロリン酸、リン酸、炭酸、ホウ酸、メタケイ
酸などの弱酸との塩が例示される。
反応によるＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミド
の合成法について以下に説明する。反応に用いられる触
媒としては、一般的な塩基性化合物のいずれをも使用す
ることができる。アルカリ金属、アルカリ土類金属、第
４級アンモニウムなどの水酸化物、第３級アミン、強塩
基性、及び弱塩基性に作用するイオン交換樹脂及び強塩
基と弱酸からなる弱塩基性塩などであるが、好ましい塩
基触媒は強塩基と弱酸からなる弱塩基性塩であり、強塩
基とＰＫａ値が４〜１５の弱酸から成る弱塩基性塩が特
に好ましい。ここでＰＫａ値は０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶
液濃度の２５℃における値を意味する。このような弱塩
基性塩としては各種の物質が挙げられるが、例えば、リ
チウム、ナトリウムまたはカリウムなどの水酸化物の強
塩基と有機酸、フェノール類、亜硫酸、亜リン酸、次亜
リン酸、ピロリン酸、リン酸、炭酸、ホウ酸、メタケイ
酸などの弱酸との塩が例示される。
【００１１】 触媒の使用量は、通常、ホルムアミドに
対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モ
ル％である。反応原料であるホルムアミドとアセトアル
デヒドとの使用割合は、通常、１：１．０〜５．０（モ
ル比）の範囲から選択され、好ましい使用割合は、１：
１．０〜１．５（モル比）の範囲である。反応温度は、
通常−１０〜１００℃、好ましくは０〜４０℃である。
対して０．０１〜１０モル％、好ましくは０．１〜５モ
ル％である。反応原料であるホルムアミドとアセトアル
デヒドとの使用割合は、通常、１：１．０〜５．０（モ
ル比）の範囲から選択され、好ましい使用割合は、１：
１．０〜１．５（モル比）の範囲である。反応温度は、
通常−１０〜１００℃、好ましくは０〜４０℃である。
【００１２】また、反応は溶媒の不存在下で実施するこ
とができるが、溶媒を用いた方が好ましく、特に、生成
物であるＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミドの
融点が５２．５〜５３．８℃であるので、反応をこの融
点以下の温度で実施する場合には溶媒を用いるのが好ま
しい。溶媒の種類としては、通常、生成物を実質的に溶
解しないものが用いられ、例えば、ヘキサン、ヘプタン
などの脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素が挙げられる。溶媒の使用量は生
成物の結晶を十分に分散させることのできる量であれば
よく、通常、ホルムアミドに対して０．２〜２重量倍で
ある。また、溶媒は必要に応じて、反応当初より加える
ことなく、反応途中で加えても差し支えない。
とができるが、溶媒を用いた方が好ましく、特に、生成
物であるＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミドの
融点が５２．５〜５３．８℃であるので、反応をこの融
点以下の温度で実施する場合には溶媒を用いるのが好ま
しい。溶媒の種類としては、通常、生成物を実質的に溶
解しないものが用いられ、例えば、ヘキサン、ヘプタン
などの脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素が挙げられる。溶媒の使用量は生
成物の結晶を十分に分散させることのできる量であれば
よく、通常、ホルムアミドに対して０．２〜２重量倍で
ある。また、溶媒は必要に応じて、反応当初より加える
ことなく、反応途中で加えても差し支えない。
【００１３】反応生成物のＮ−（α−ヒドロキシエチ
ル）ホルムアミドは、最終的には反応系から結晶として
析出するが、結晶析出の起こらない反応途中、具体的に
は、ホルムアミドの転換率が５０〜８０モル％、好まし
くは、６０〜８０モル％の範囲内において、冷却あるい
は結晶核の添加によって結晶を析出させると生成物の収
率が高められるので好ましい。冷却は、反応温度を−２
０〜３０℃、好ましくは０〜２０℃の範囲に温度を低下
させることによって行なわれる。結晶核の添加は、晶析
の技術分野の公知の方法に従って、Ｎ−（α−ヒドロキ
シエチル）ホルムアミドの少量を結晶核として反応系に
添加することによって行なわれる。
ル）ホルムアミドは、最終的には反応系から結晶として
析出するが、結晶析出の起こらない反応途中、具体的に
は、ホルムアミドの転換率が５０〜８０モル％、好まし
くは、６０〜８０モル％の範囲内において、冷却あるい
は結晶核の添加によって結晶を析出させると生成物の収
率が高められるので好ましい。冷却は、反応温度を−２
０〜３０℃、好ましくは０〜２０℃の範囲に温度を低下
させることによって行なわれる。結晶核の添加は、晶析
の技術分野の公知の方法に従って、Ｎ−（α−ヒドロキ
シエチル）ホルムアミドの少量を結晶核として反応系に
添加することによって行なわれる。
【００１４】Ｎ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミ
ドの結晶は、濾過などの手段により反応系より容易に回
収することができる。また、結晶を回収することなく、
あるいは結晶化していない場合には、反応液にアルコー
ルを加えて、次のアルコキシ化の反応に供することがで
きる。次に、以上のようにして得られたＮ−（α−ヒド
ロキシエチル）ホルムアミドをアルコールと反応させ
て、Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドを合成
する方法について以下に説明する。
ドの結晶は、濾過などの手段により反応系より容易に回
収することができる。また、結晶を回収することなく、
あるいは結晶化していない場合には、反応液にアルコー
ルを加えて、次のアルコキシ化の反応に供することがで
きる。次に、以上のようにして得られたＮ−（α−ヒド
ロキシエチル）ホルムアミドをアルコールと反応させ
て、Ｎ−（α−アルコキシエチル）ホルムアミドを合成
する方法について以下に説明する。
【００１５】この反応に用いられるアルコールとして
は、第１級または第２級のアルコールが用いられるが、
通常、炭素原子数１〜８、好ましくは１〜４のアルコー
ルが用いられる。具体的には、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブチルア
ルコールなどが例示される。Ｎ−（α−ヒドロキシエチ
ル）ホルムアミドに対するアルコールの使用量は任意に
定めることができるが、Ｎ−（α−ヒドロキシエチル）
ホルムアミドが熱的に不安定な化合物であり反応後の回
収が困難なためアルコールを等モルまたは過剰に用いる
ことが好ましく、通常１．０〜３０倍モルのアルコール
が使用される。Ｎ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムア
ミドは結晶性の化合物であるので反応に供するアルコー
ルを溶媒として用いるのが良く、この場合のアルコール
の使用量は２．０〜２０倍モルが好ましい。また、アル
コールの使用量を最小限にするためには適宜反応に不活
性な溶媒を使用することもできる。溶媒を使用する場
合、アルコールの使用量はＮ−（α−ヒドロキシエチ
ル）ホルムアミドに対し１．０〜５倍モルが好ましい。
は、第１級または第２級のアルコールが用いられるが、
通常、炭素原子数１〜８、好ましくは１〜４のアルコー
ルが用いられる。具体的には、メタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブチルア
ルコールなどが例示される。Ｎ−（α−ヒドロキシエチ
ル）ホルムアミドに対するアルコールの使用量は任意に
定めることができるが、Ｎ−（α−ヒドロキシエチル）
ホルムアミドが熱的に不安定な化合物であり反応後の回
収が困難なためアルコールを等モルまたは過剰に用いる
ことが好ましく、通常１．０〜３０倍モルのアルコール
が使用される。Ｎ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムア
ミドは結晶性の化合物であるので反応に供するアルコー
ルを溶媒として用いるのが良く、この場合のアルコール
の使用量は２．０〜２０倍モルが好ましい。また、アル
コールの使用量を最小限にするためには適宜反応に不活
性な溶媒を使用することもできる。溶媒を使用する場
合、アルコールの使用量はＮ−（α−ヒドロキシエチ
ル）ホルムアミドに対し１．０〜５倍モルが好ましい。
【００１６】反応に用いられる触媒としては、一般的な
酸触媒のいずれもが使用することができる。鉱酸、有機
酸、弱酸及び強酸性を示すイオン交換樹脂、固体酸触媒
などであるが、好ましくは強酸性の物質が用いられる。
好ましい酸触媒の例としては硫酸、塩酸、硝酸、臭化水
素酸、スルファミン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、架橋ポリスチレンス
ルホン酸などが挙げられる。酸触媒の使用量はＮ−（α
−ヒドロキシエチル）ホルムアミドに対し０．００１〜
１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％の範囲であ
る。
酸触媒のいずれもが使用することができる。鉱酸、有機
酸、弱酸及び強酸性を示すイオン交換樹脂、固体酸触媒
などであるが、好ましくは強酸性の物質が用いられる。
好ましい酸触媒の例としては硫酸、塩酸、硝酸、臭化水
素酸、スルファミン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、架橋ポリスチレンス
ルホン酸などが挙げられる。酸触媒の使用量はＮ−（α
−ヒドロキシエチル）ホルムアミドに対し０．００１〜
１０モル％、好ましくは０．１〜５モル％の範囲であ
る。
【００１７】Ｎ−（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミ
ドとアルコールとの反応は、両者の混合物に酸触媒を添
加するか、接触させることにより容易に達成される。ま
た、酸触媒のアルコール溶液と、Ｎ−（α−ヒドロキシ
エチル）ホルムアミドを添加混合する方法でもよい。反
応温度は反応性とＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルム
アミドの安定性の面から、通常−１０〜６０℃、好まし
くは０〜４０℃である。
ドとアルコールとの反応は、両者の混合物に酸触媒を添
加するか、接触させることにより容易に達成される。ま
た、酸触媒のアルコール溶液と、Ｎ−（α−ヒドロキシ
エチル）ホルムアミドを添加混合する方法でもよい。反
応温度は反応性とＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホルム
アミドの安定性の面から、通常−１０〜６０℃、好まし
くは０〜４０℃である。
【００１８】反応終了後は、通常、酸触媒を苛性ソー
ダ、苛性カリ、アンモニア水などで中和するか、分離し
た後、アルコール、水等の軽沸分を濃縮除去し、蒸留に
より目的とするＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムア
ミドを単離精製すればよい。蒸留条件としては、通常、
塔頂圧力を２〜３０ｍｍＨｇ、塔頂温度を７０〜１００
℃として、例えば理論段数２〜３０の充填塔で減圧蒸留
する方法が好ましい。
ダ、苛性カリ、アンモニア水などで中和するか、分離し
た後、アルコール、水等の軽沸分を濃縮除去し、蒸留に
より目的とするＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムア
ミドを単離精製すればよい。蒸留条件としては、通常、
塔頂圧力を２〜３０ｍｍＨｇ、塔頂温度を７０〜１００
℃として、例えば理論段数２〜３０の充填塔で減圧蒸留
する方法が好ましい。
【００１９】
【実施例】以下本発明を実施例によって更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。なお、実施例における分
析は、液体クロマトグラフィーにより行なった。また、
原料ホルムアミドについては、市販品または市販品の蒸
留品を使用した。
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。なお、実施例における分
析は、液体クロマトグラフィーにより行なった。また、
原料ホルムアミドについては、市販品または市販品の蒸
留品を使用した。
【００２０】実施例１〜５及び比較例１〜６ 撹拌機及び温度調節器を有する２リットルガラス製反応
器に、トルエン６００ｇを仕込み、窒素ガスで脱気した
後、酢酸含有量が５０重量ｐｐｍであるアセトアルデヒ
ド２３５ｇを加え、撹拌下１０℃の温度に保持し、表−
１に示す量の炭酸カリウムを溶かし込んだ表−１に示す
ジホルムアミド含有量のホルムアミド２００ｇを６時間
かけて加えた。ホルムアミドの添加開始後、２時間経過
した時、種晶としてＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホル
ムアミド結晶１ｇを加えた。ホルムアミド添加終了後、
更に１時間反応を続けた。この後、生成物の結晶を濾過
により分離した。表−１に、ホルムアミド基準等のＮ−
（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミドの収率を示す。
器に、トルエン６００ｇを仕込み、窒素ガスで脱気した
後、酢酸含有量が５０重量ｐｐｍであるアセトアルデヒ
ド２３５ｇを加え、撹拌下１０℃の温度に保持し、表−
１に示す量の炭酸カリウムを溶かし込んだ表−１に示す
ジホルムアミド含有量のホルムアミド２００ｇを６時間
かけて加えた。ホルムアミドの添加開始後、２時間経過
した時、種晶としてＮ−（α−ヒドロキシエチル）ホル
ムアミド結晶１ｇを加えた。ホルムアミド添加終了後、
更に１時間反応を続けた。この後、生成物の結晶を濾過
により分離した。表−１に、ホルムアミド基準等のＮ−
（α−ヒドロキシエチル）ホルムアミドの収率を示す。
【００２１】次に、得られた結晶にメタノール４２７
ｇ、実施例１〜３、比較例１〜３では硫酸３．１ｇを、
実施例４〜５、比較例４〜６では硫酸４．３９ｇを加え
撹拌下、１５℃の温度で１時間反応を行なった。次い
で、２５％苛性ソーダを１．７８ｇを添加して、触媒を
中和した。中和により生じる塩を濾過して、更にこの液
を圧力５０ｍｍＨｇ、温度６０℃でメタノールを主とす
る軽沸分を除いてＮ−（α−メトキシエチル）ホルムア
ミドを得た。得られたＮ−（α−メトキシエチル）ホル
ムアミドを比較例３を除き、１２０℃で１時間窒素雰囲
気下で加熱して分解率を求め、表−１に示す結果を得
た。なお、Ｎ−（α−メトキシエチル）ホルムアミドの
収率は、いずれの実施例、比較例も、Ｎ−（α−ヒドロ
キシエチル）ホルムアミド基準で約９５〜９７％の収率
であった。
ｇ、実施例１〜３、比較例１〜３では硫酸３．１ｇを、
実施例４〜５、比較例４〜６では硫酸４．３９ｇを加え
撹拌下、１５℃の温度で１時間反応を行なった。次い
で、２５％苛性ソーダを１．７８ｇを添加して、触媒を
中和した。中和により生じる塩を濾過して、更にこの液
を圧力５０ｍｍＨｇ、温度６０℃でメタノールを主とす
る軽沸分を除いてＮ−（α−メトキシエチル）ホルムア
ミドを得た。得られたＮ−（α−メトキシエチル）ホル
ムアミドを比較例３を除き、１２０℃で１時間窒素雰囲
気下で加熱して分解率を求め、表−１に示す結果を得
た。なお、Ｎ−（α−メトキシエチル）ホルムアミドの
収率は、いずれの実施例、比較例も、Ｎ−（α−ヒドロ
キシエチル）ホルムアミド基準で約９５〜９７％の収率
であった。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、ホルムアミド、アセト
アルデヒド及びアルコールから、少ない触媒量で効率よ
く、熱安定性のよいＮ−（α−アルコキシエチル）ホル
ムアミドを製造することができ、Ｎ−ビニルホルムアミ
ドの製造分野に寄与するところが大である。
アルデヒド及びアルコールから、少ない触媒量で効率よ
く、熱安定性のよいＮ−（α−アルコキシエチル）ホル
ムアミドを製造することができ、Ｎ−ビニルホルムアミ
ドの製造分野に寄与するところが大である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 31/02 １０２ Ｂ０１Ｊ 31/02 １０２Ｘ １０３ １０３Ｘ 31/04 31/04 Ｘ 31/08 31/08 Ｘ Ｃ０７Ｃ 233/18 Ｃ０７Ｃ 233/18 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (56)参考文献 特開 昭61−286356（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−289549（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】 ホルムアミドとアセトアルデヒドとを塩
基性触媒の存在下に反応させてＮ−（α−ヒドロキシエ
チル）ホルムアミドを得、これを酸触媒の存在下に第１
級または第２級アルコールと反応させるＮ−（α−アル
コキシエチル）ホルムアミドの製造方法において、ジホ
ルムアミドの含有量が１０００重量ｐｐｍ以下のホルム
アミドを原料として用いることを特徴とするＮ−（α−
アルコキシエチル）ホルムアミドの製造方法。 - 【請求項２】 酢酸含量が３００重量ｐｐｍ以下のアセ
トアルデヒドを原料として用いることを特徴とする請求
項１の製造方法。 - 【請求項３】 塔を用いて減圧蒸留することにより精製
されたホルムアミドを原料として用いることを特徴とす
る請求項１の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１で製造されたＮ−（α−アルコ
キシエチル）ホルムアミドを塔を用いて減圧蒸留するこ
とを特徴とするＮ−（α−アルコキシエチル）ホルムア
ミドの精製方法。
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-
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