JP3164684U - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】入射光学系で発生した迷光が感光体に到達することを十分に抑制する光走査装置を提供する。【解決手段】感光ドラム上にレーザ光を走査させて静電潜像を形成する光走査装置５であって、レーザ光を出射するレーザ光源３１Ａ〜３１Ｄと、当該レーザ光源から出射されたレーザ光を集光させるシリンドリカルレンズ３３とを含む入射光学系３０と、シリンドリカルレンズ３３を通過したレーザ光を反射して主走査方向に偏向および走査させるポリゴンミラー４１と、当該ポリゴンミラー４１により偏向および走査されたレーザ光を感光ドラム上に結像させる走査レンズ４２とを含む走査光学系４０とを備え、入射光学系３０と走査光学系４０は、遮光壁２１によって仕切られている。【選択図】図２

Description

本考案は、感光体上に光ビームを走査させて静電潜像を形成する光走査装置に関する。

一般に、レーザプリンタなどに使用される光走査装置は、入射光学系に半導体レーザやカップリングレンズ、折り返しミラー、シリンドリカルレンズなどを、走査光学系に偏向ミラーや走査レンズ、折り返しミラーなど、多様な光学素子を有している。このような光学素子のうち、レンズは入射面や出射面で光ビームを反射することで迷光を発生し、この迷光が感光体に到達してゴーストを発生させ、画像品質を低下させることがある。特に、入射光学系で発生して感光体に到達する迷光は、光ビームの光路が変化しないので、感光体上の同じ位置に照射され続けることになり微弱であっても問題となる。

そこで、例えば、特許文献１では、迷光を多く射出するレーザ光源（半導体レーザ）の光路上に制限手段、具体的には、光フィルターやハーフミラーを備える画像露光装置が開示されている。このような画像露光装置では、レーザ光源からのレーザ光を、露光に必要な光量となるように制限手段によって制限することで、迷光を多く射出するレーザ光源の迷光を抑制することができる。
特開２００３−１９５２０９号公報（図３）

しかしながら、前記した従来の画像露光装置は、レーザ光源からのレーザ光が、制限手段の周囲を通過して折り返しミラーや、隣り合う光路上に配置されたシリンドリカルレンズなどへ入射可能な構成なので、入射光学系で発生した迷光が感光体に到達することを抑制するには不十分であった。また、他のレーザ光源からのレーザ光によって発生する迷光の抑制についてはさらに不十分であった。

そこで、本考案は、入射光学系で発生した迷光が感光体に到達することを十分に抑制する光走査装置を提供することを目的とする。

前記した目的を達成するため、本考案の光走査装置は、感光体上に光ビームを走査させて静電潜像を形成する光走査装置であって、光ビームを出射する光ビーム出射手段と、当該光ビーム出射手段から出射された光ビームを集光させるシリンドリカルレンズとを含む入射光学系と、前記シリンドリカルレンズを通過した光ビームを反射して主走査方向に偏向および走査させる光偏向手段と、当該光偏向手段により偏向および走査された光ビームを前記感光体上に結像させる走査レンズとを含む走査光学系とを備え、前記入射光学系と前記走査光学系は、遮光壁によって仕切られていることを特徴とする。

このように構成された光走査装置によれば、光ビーム出射手段とシリンドリカルレンズとを含む入射光学系と、光偏向手段と走査レンズとを含む走査光学系が、遮光壁によって仕切られているので、光ビームの進行方向において走査光学系の下流側に配置される感光体と、入射光学系とを仕切ることができる。

なお、遮光壁は、少なくとも入射光学系で出射される光ビームの光軸よりも高いことが望ましく、入射光学系と走査光学系とを完全に仕切る高さ、例えば、入射光学系と走査光学系が収容される筐体の天井までの高さとすることが特に望ましい。また、遮光壁と筐体との間に隙間がある場合には、隙間をスポンジなどで埋めるとさらに望ましい。

本考案の光走査装置によれば、遮光壁により、光ビームの進行方向において走査光学系の下流側に配置される感光体と入射光学系とを仕切ることができるので、入射光学系で発生した迷光が感光体に到達することを十分に抑制することができる。

本考案の実施形態に係る画像形成装置としてのカラーレーザプリンタの全体構成を示す断面図である。 本考案の実施形態に係る光走査装置の構成を示す平面図である。 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。 本考案の実施形態に係る光走査装置のレーザ光源の構成を示す斜視図である。 本考案の実施形態に係る光走査装置の光路を示す斜視図である。

＜レーザプリンタの構成＞
次に、本考案の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。参照する図面において、図１は画像形成装置としてのカラーレーザプリンタの全体構成を示す断面図である。

ここで、以下の説明において、方向は、カラーレーザプリンタ使用時のユーザを基準にした方向で説明する。すなわち、図１に示すカラーレーザプリンタの左側を「手前側」、右側を「奥側」とし、紙面奥側を「左側」、紙面手前側を「右側」とする。なお、上下方向については、図示方向とカラーレーザプリンタ使用時のユーザの方向とが一致するので、そのまま「上下方向」とする。

図１に示すように、カラーレーザプリンタ１は、本体２内に、手前・奥側方向（以下、前後方向という）に平行に配置された複数の感光体の一例としての４つの感光ドラム３Ａ〜３Ｄを備えている。感光ドラム３Ａ〜３Ｄは、その表面がスコロトロン型帯電器４Ａ〜４Ｄにより一様に帯電された後、光走査装置５からレーザ光（光ビーム）が走査されて画像データに基づく静電潜像が形成される。各静電潜像は、現像ローラ６Ａ〜６Ｄに担持されるトナー（現像剤）が供給されて可視像化され、感光ドラム３Ａ〜３Ｄ上にトナー像が形成される。

用紙Ｐは、本体２内の給紙カセット７に収容されており、給紙部８に設けられた各種ローラにより、手前側から奥側に方向を変えて搬送ベルト９に搬送される。搬送ベルト９は、感光ドラム３Ａ〜３Ｄに対向配置されている。感光ドラム３Ａ〜３Ｄ上の各色のトナー像は、転写バイアスが印加された転写ローラ１０Ａ〜１０Ｄの作用により、搬送ベルト９に搬送された用紙Ｐ上に順次重ね合わせて転写される。４色のトナー像が転写された用紙Ｐは、定着装置１１に搬送される。用紙Ｐ上に転写されたトナー像が定着装置１１で熱定着された後、用紙Ｐは各種ローラにより、奥側から手前側に方向を変えて排出トレイ１２に排出される。

プロセスカートリッジ１３Ａ〜１３Ｄは、本体２内の給紙カセット７と光走査装置５との間に設けられ、前後方向に４つ並んで配置されている。プロセスカートリッジ１３Ａ〜１３Ｄは、本体２に対して着脱自在に装着されるフレーム１４に着脱可能に収納された上で、本体２内に配置されている。

プロセスカートリッジ１３Ａ〜１３Ｄは、外枠を構成する筐体１５Ａ〜１５Ｄ、感光ドラム３Ａ〜３Ｄ、スコロトロン型帯電器４Ａ〜４Ｄおよび筐体１５Ａ〜１５Ｄに着脱自在に装着される現像カートリッジ１６Ａ〜１６Ｄを主に備えている。さらに、現像カートリッジ１６Ａ〜１６Ｄは、現像ローラ６Ａ〜６Ｄ、供給ローラ１７Ａ〜１７Ｄおよびトナーホッパ１８Ａ〜１８Ｄを主に備えている。なお、各プロセスカートリッジ１３Ａ〜１３Ｄは、現像カートリッジ１６Ａ〜１６Ｄのトナーホッパ１８Ａ〜１８Ｄに収容されるトナーの色が相違するのみであり、構成については同一である。

＜光走査装置の全体構成＞
次に、光走査装置５の詳細な構成について説明する。参照する図面において、図２は光走査装置の構成を示す平面図であり、図３は図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。また、図４はレーザ光源の構成を示す斜視図であり、図５は光走査装置の光路を示す斜視図である。

図２に示すように、光走査装置５は、中空の筐体２０内に設けられた入射光学系３０と走査光学系４０とから主に構成されている。入射光学系３０と走査光学系４０は、筐体２０内で、筐体２０と一体に成形された遮光壁２１によって仕切られている。より具体的には、遮光壁２１は、筐体２０の底壁、側壁（図２の左側側壁）および天井（上壁。図示せず）と一体に成形されており、筐体２０内の空間を２つに完全に仕切っている。そして、入射光学系３０は遮光壁２１によって仕切られた一方の空間内に設けられ、走査光学系４０は遮光壁２１によって仕切られた他方の空間内に設けられている。

遮光壁２１には、入射光学系３０から出射されたレーザ光（光ビーム）を通過させるための２つの開口部２２が形成されている。補足すれば、本考案の遮光壁２１には、開口はレーザ光を通過させるための開口部２２しか形成されていない。すなわち、入射光学系３０は、開口部２２を除けば、筐体２０内において走査光学系４０とは完全に隔離されている。この開口部２２の出射側端部には後述するスリット部材３４が取り付けられている。

一体に形成された筐体２０と遮光壁２１（少なくとも遮光壁２１）は、半導体レーザ３５（図４参照）から出射される固有の波長を有するレーザ光を透過しない樹脂、例えば、透過率が１０％以下の樹脂によって形成されている。例えば、７８０ｎｍ付近の波長に対して低い透過率を有する樹脂で成形することで、遮光壁２１は近赤外光の透過を抑制することが可能となる。

また、図３に示すように、筐体２０の下部には、入射光学系３０から出射されて走査光学系４０で走査、偏向などされたレーザ光（光ビーム）を、外部へ出射して感光ドラム３Ａ〜３Ｄを走査するための４つ（複数）の開口部２３（２３Ａ〜２３Ｄ）が形成されている。以下、入射光学系３０および走査光学系４０の詳細な構成について説明する。

＜入射光学系の構成＞
図２に示すように、入射光学系３０は、複数の光ビーム出射手段の一例としての４つのレーザ光源３１（３１Ａ〜３１Ｄ）、２つの反射ミラー３２、２つのシリンドリカルレンズ３３および２つのスリット部材３４を主に備えている。

なお、以下の説明において、レーザ光源３１から出射されるレーザ光の進行方向の上流側を単に「上流側」といい、レーザ光の進行方向の下流側を単に「下流側」ということがある。

図４に示すように、レーザ光源３１は、発光素子の一例としての半導体レーザ３５、カップリングレンズ３６およびホルダ３７を備えている。なお、各レーザ光源３１Ａ〜３１Ｄの構成は同一である。

カップリングレンズ３６は、例えば、樹脂やガラスなどから形成された凸レンズであり、半導体レーザ３５から出射されたレーザ光を集光させて平行光束に変換する。

ホルダ３７は、例えば、アルミニウム合金からなる板材を板金加工してなる部材である。このホルダ３７は、レーザ保持壁３７Ａと、レーザ保持壁３７Ａの下端から下流側に延びた底壁３７Ｂと、底壁３７Ｂの下流側端部から上方に延びた接続部（符号省略）と、接続部の上端から下流側に延びたレンズ保持部３７Ｃとから構成されている。

レーザ保持壁３７Ａには、貫通孔（符号省略）が形成され、この貫通孔に半導体レーザ３５が圧入などにより固定されている。また、レーザ保持壁３７Ａおよび底壁３７Ｂには、それぞれ取付孔３７Ｄが形成され、筐体２０または筐体２０内に設けられた固定部分にネジ止めにより固定可能されている（図２参照）。

レンズ保持部３７Ｃには、レーザ光の進行方向に沿って溝３７Ｅが形成され、この溝３７Ｅにカップリングレンズ３６が、半導体レーザ３５と適宜な間隔を保って接着などにより固定されている。本実施形態では、半導体レーザ３５とカップリングレンズ３６との間は鏡筒などが設けられることなく開放されている。

図２に示すように、レーザ光源３１Ａとレーザ光源３１Ｂとは、出射するレーザ光の光路が互いに直交するように配置されている。より具体的には、レーザ光源３１Ａは、後述するポリゴンミラー４１と向かい合うように配置されており、レーザ光源３１Ｂは、出射するレーザ光の光路がレーザ光源３１Ａとポリゴンミラー４１とを結んだ直線に対して略直交するように配置されている。レーザ光源３１Ｃとレーザ光源３１Ｄとは、レーザ光源３１Ａ，３１Ｂと対称に配置されている。

反射ミラー３２は、レーザ光源３１Ａ（または３１Ｃ）の下流側に配置されており、レーザ光源３１Ａ，３１Ｂ（または３１Ｃ，３１Ｄ）から出射されるレーザ光の各光路に対して略４５度に傾斜するように設けられている。この反射ミラー３２では、図５に示すように、レーザ光源３１Ｂからのレーザ光を略９０度反射して略直角に屈折させて光路をレーザ光源３１Ａからのレーザ光の光路と略一致させる。なお、レーザ光源３１Ａからのレーザ光は反射ミラー３２の上方を通過する。

シリンドリカルレンズ３３は、反射ミラー３２の下流側において遮光壁２１に形成された開口部２２の入射側端部に配置されており、ポリゴンミラー４１の面倒れを補正するため、各レーザ光源３１Ａ，３１Ｂ（または３１Ｃ，３１Ｄ）からのレーザ光を副走査方向Ｙ（図５参照）に絞ってポリゴンミラー４１に入射させる。このシリンドリカルレンズ３３は、例えば、樹脂やガラスなどから形成され、入射面側が凸曲面を有し、出射面側が平面となっている。このシリンドリカルレンズ３３では、レーザ光源３１Ａ，３１Ｂ（または３１Ｃ，３１Ｄ）からのレーザ光を、副走査方向Ｙに収束するように屈折させてポリゴンミラー４１上に集光させる。

スリット部材３４は、略矩形状の板材（板金）からなり、シリンドリカルレンズ３３の下流側に配置され、遮光壁２１に形成された開口部２２の出射側端部に取り付けられている。図５に示すように、スリット部材３４には、絞り開口部の一例としての開口部３４Ａ，３４Ｂが各レーザ光源３１Ａ，３１Ｂ（または３１Ｃ，３１Ｄ）に対応した間隔で副走査方向Ｙに並んで形成されている。各開口部３４Ａ，３４Ｂは、主走査方向Ｘを長手方向とする長孔形状の開口である。このスリット部材３４では、シリンドリカルレンズ３３から出射されたレーザ光が開口部３４Ａまたは３４Ｂを通過することで副走査方向Ｙの幅が規制される。

このようなスリット部材３４が遮光壁２１の開口部２２に取り付けられることで、遮光壁２１のレーザ光を通過させる部分は開口部３４Ａ，３４Ｂのみとなるため、その遮光性がより高くなる。

＜走査光学系の構成＞
図２および図３に示すように、走査光学系４０は、光偏向手段の一例としてのポリゴンミラー４１、ポリゴンミラー４１を挟んで両側に設けられた２つの走査レンズ４２、複数の反射ミラー４３〜４６および４つのトロイダルレンズ４７を主に備えている。

ポリゴンミラー４１は、入射光学系３０（スリット部材３４）の下流側であって、走査光学系４０（筐体２０）のほぼ中央に配置され、六角形の各辺（六角柱の各側面）の部分に反射ミラーが形成されたものである。このポリゴンミラー４１は、図５に示すように、自身が高速回転することで、スリット部材３４の開口部３４Ａ，３４Ｂを通過したレーザ光を反射ミラーで反射して主走査方向Ｘに偏向および走査する。入射光学系３０から照射される各レーザ光は、ポリゴンミラー４１の反射ミラーに対して異なる角度で入射されるので、反射ミラーからは副走査方向Ｙに互いに異なる角度で反射される。

走査レンズ４２は、ポリゴンミラー４１の下流側に配置され、ポリゴンミラー４１により等角速度で走査された各レーザ光を、等速度で走査するように変換するものである。図３に示すように、一方（図３の左側）の走査レンズ４２を通過した２つのレーザ光のうち、下のレーザ光は、反射ミラー４３Ａ，４３Ｂで反射されて進行方向を変え、トロイダルレンズ４７を通過して開口部２３Ａから感光ドラム３Ａ上で結像され、走査される。また、上のレーザ光は、反射ミラー４４Ａ，４４Ｂ，４４Ｃで反射されて進行方向を変え、トロイダルレンズ４７を通過して開口部２３Ｂから感光ドラム３Ｂ上で結像され、走査される。

同様に、他方（図３の右側）の走査レンズ４２を通過した２つのレーザ光のうち、下のレーザ光は、反射ミラー４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃで反射されて進行方向を変え、トロイダルレンズ４７を通過して開口部２３Ｃから感光ドラム３Ｃ上で結像され、走査される。また、上のレーザ光は、反射ミラー４６Ａ，４６Ｂで反射されて進行方向を変え、トロイダルレンズ４７を通過して開口部２３Ｄから感光ドラム３Ｄ上で結像され、走査される。

以上のように構成された光走査装置５の作用効果について説明する。

図５に示すように、半導体レーザ３５から出射されたレーザ光は、一部がカップリングレンズ３６やシリンドリカルレンズ３３の入射面や出射面で反射されて迷光となる。特に本実施形態のように、複数のレーザ光源３１を有する場合には、半導体レーザ３５、カップリングレンズ３６およびシリンドリカルレンズ３３の数が多くなるので、無数の迷光が発生する。

また、半導体レーザ３５から出射されたレーザ光は、発光点から徐々に広がっていくので、特に本実施形態のように、半導体レーザ３５とカップリングレンズ３６との間が開放されている場合には、半導体レーザ３５から出射されたレーザ光は、一部がカップリングレンズ３６に入らずに迷光となる。

このようにして発生した無数の迷光は、遮光壁２１によって遮られるので、走査光学系４０にはほとんど入り込まない。特に本実施形態では、入射光学系３０から走査光学系４０へレーザ光が通過する部分が、遮光壁２１の開口部２２に取り付けられたスリット部材３４の開口部３４Ａ，３４Ｂなので、遮光壁２１の開口部分が最小限となっており、迷光の通過を最小限に抑えられる。また、本実施形態では、筐体２０と遮光壁２１とが一体に成形されているため、筐体２０と遮光壁２１との間に隙間が生じないので、迷光が隙間を通過して走査光学系４０に漏れ出すことを抑制できる。

遮光壁２１で遮られた迷光は、遮光壁２１や筐体２０の壁面で反射しながら徐々に吸収されて消えていく。本実施形態では、筐体２０および遮光壁２１が、半導体レーザ３５から出射される固有の波長を有するレーザ光を透過しない樹脂で形成されているので、迷光が遮光壁２１を透過して走査光学系４０に漏れ出すこともない。

このようにして本実施形態の光走査装置５では、入射光学系３０で発生した迷光は、感光ドラム３Ａ〜３Ｄにはほとんど到達しない。補足すると、本実施形態のような、いわゆるタンデムカラーレーザスキャナでは、複雑に配置された反射ミラー４３〜４６を複数有するとともに、出射口である開口部２３が複数形成されているので、入射光学系３０で発生した迷光が感光ドラム３Ａ〜３Ｄに到達する可能性が高い。

本実施形態では、入射光学系３０を構成する全ての部材が、遮光壁２１によって仕切られた一方側に配置されているので、入射光学系３０で発生する迷光を遮光壁２１で確実に遮ることができ、感光ドラム３Ａ〜３Ｄに到達することを抑制できる。これによれば、感光ドラム３Ａ〜３Ｄの同じ位置に迷光が照射され続けることで発生するゴーストを抑制することができるので、画像品質を向上させることが可能となる。

また、複数のレーザ光源３１が、遮光壁２１によってまとめて仕切られているので、筐体２０の構造を簡略化することができ、低コスト化、小型化を図ることができる。また、半導体レーザ３５とカップリングレンズ３６との間が開放されているので、レーザ光源３１の低コスト化、小型化を図ることができるとともに、半導体レーザ３５とカップリングレンズ３６の間隔の調整自由度を向上させることができる。さらに、筐体２０と遮光壁２１とが一体に成形されているので、遮光壁２１が補強部材となって筐体２０の強度を向上させることができる。

以上、本考案の実施形態について説明したが、本考案は前記した実施形態に限定されるものではない。具体的な構成については、本考案の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。

前記した実施形態では、筐体２０内の空間が遮光壁２１によって完全に仕切られた構成を示したが、これに限定されるものではない。すなわち、遮光壁（例えば、遮光壁の上端など）と筐体との間に隙間があったとしても、入射光学系３０で発生した迷光が走査光学系４０に入り込まない構成であればよい。

前記した実施形態では、シリンドリカルレンズ３３を、遮光壁２１の開口部２２の入射側端部に配置した構成を示したが、これに限定されず、例えば、反射ミラー３２と遮光壁２１との間に配置してもよい。

前記した実施形態では、絞り開口部の一例として、遮光壁２１の開口部２２の出射側端部に取り付けたスリット部材３４の開口部３４Ａ，３４Ｂを採用した例を示したが、これに限定されず、例えば、絞り開口部を遮光壁に直接形成してもよい。

前記した実施形態では、光ビーム出射手段の一例としてのレーザ光源３１は、半導体レーザ３５とカップリングレンズ３６との間が開放されているが、これに限定されず、例えば、半導体レーザとカップリングレンズとの間に鏡筒を備えてもよい。

前記した実施形態では、筐体２０と遮光壁２１とを一体に成形した例を示したが、これに限定されず、例えば、筐体と遮光壁とを別個に成形して組み立てる構成としてもよい。

前記した実施形態では、遮光壁２１を樹脂によって形成した例を示したが、これに限定されず、例えば、金属から形成してもよい。これによれば、迷光の透過を効果的に抑制することができる。特に、光ビームとして近赤外光を使用した場合でも、その透過率をほぼ０とすることができる。なお、金属製の遮光壁を使用する場合には、その表面を、例えば、黒色などで着色することが望ましい。これによれば、光ビームの反射を抑制することができる。

前記した実施形態では、光偏向手段の一例としてポリゴンミラー４１、発光素子の一例として半導体レーザ３５を採用した例を示したが、これに限定されず、本考案の趣旨を逸脱しない範囲で材料や構造などは適宜変更が可能である。例えば、光偏向手段としてガルバノミラー（振動ミラー）を使用することができる。

５ 光走査装置
２０ 筐体
２１ 遮光壁
２３ 開口部
３０ 入射光学系
３１ レーザ光源
３３ シリンドリカルレンズ
３４Ａ，３４Ｂ 開口部
３５ 半導体レーザ
３６ カップリングレンズ
４０ 走査光学系
４１ ポリゴンミラー
４２ 走査レンズ
Ｘ 主走査方向

Claims (9)

1. 感光体上に光ビームを走査させて静電潜像を形成する光走査装置であって、
   光ビームを出射する光ビーム出射手段と、当該光ビーム出射手段から出射された光ビームを集光させるシリンドリカルレンズとを含む入射光学系と、
   前記シリンドリカルレンズを通過した光ビームを反射して主走査方向に偏向および走査させる光偏向手段と、当該光偏向手段により偏向および走査された光ビームを前記感光体上に結像させる走査レンズとを含む走査光学系とを備え、
   前記入射光学系と前記走査光学系は、遮光壁によって仕切られていることを特徴とする光走査装置。
2. 前記入射光学系は、複数の前記光ビーム出射手段を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記入射光学系および前記走査光学系が収容される筐体を備え、
   前記筐体は、前記入射光学系から前記走査光学系へ出射された複数の光ビームを外部へ出射してそれぞれ異なる感光体上に走査させるための複数の開口部を有することを特徴とする請求項２に記載の光走査装置。
4. 前記遮光壁は、前記入射光学系から前記走査光学系へ光ビームが通過する部分が、光ビームの幅を規定する絞り開口部となっていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
5. 前記光ビーム出射手段は、レーザ光を出射する発光素子と、当該発光素子からのレーザ光を光束に変換するカップリングレンズとを含み、
   前記発光素子と前記カップリングレンズとの間は、開放されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光走査装置。
6. 前記遮光壁は、金属から形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。
7. 前記遮光壁は、光ビームの反射を抑制する着色がなされていることを特徴とする請求項６に記載の光走査装置。
8. 前記遮光壁は、前記光ビーム出射手段から出射される光ビームを透過しない樹脂から形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光走査装置。
9. 前記遮光壁は、前記入射光学系および前記走査光学系が収容される筐体と一体に成形されていることを特徴とする請求項８に記載の光走査装置。

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