JP6810569B2 - 光走査装置 - Google Patents

Description

本発明は、光走査装置に関する。

従来の光走査装置では、偏向器によって偏向された光束を被走査面に導光する結像光学系において、光束の一部が結像レンズの出射面と入射面との間で内面反射した後出射面から出射することで、ゴースト光束となってしまうことが知られている。このようなゴースト光束が被走査面に入射してしまうと、形成された画像にスジや濃度ムラなどが生じてしまう。

特許文献１には、被走査面に最も近い結像レンズを、そのレンズ面の曲率中心が光軸に対して偏芯するように配置することで、ゴースト光束が被走査面に到達することを抑制することができる光走査装置が開示されている。

特開２０００−１８０７６０号公報

しかしながら、結像レンズを光軸に対して偏芯させると、収差の悪化によるスポット径の肥大や回転が発生し、良好な結像性能が得られない問題が発生する。
また、そのような光走査装置をタンデム型のカラー画像形成装置に用いた場合、ある被走査面に対応するゴースト光束が他の被走査面に入射してしまう可能性が生じる。
そこで、本発明は、良好な結像性能を実現しつつ、ゴースト光束による画像形成への影響を低減できる光走査装置を提供することを目的とする。

本発明に係る光走査装置は、第１及び第２の光束を偏向して第１及び第２の被走査面のそれぞれを主走査方向に走査する偏向器と、偏向器によって偏向された第１及び第２の光束を第１及び第２の被走査面のそれぞれに導光する共通の結像光学素子と、偏向器と第１及び第２の被走査面のそれぞれとの間の光路上に配置される第１及び第２の反射光学系とを備え、第１及び第２の反射光学系は、それぞれの光路上で結像光学素子に最も近い位置に配置される第１及び第２の反射光学素子を有し、第１及び第２の反射光学素子のそれぞれにおける第１及び第２の光束の第１及び第２の反射点は、偏向器を含み偏向器の回転軸に垂直な平面に対して互いに反対側に位置しており、結像光学素子の光軸を含む副走査断面内において、第１の光束のうち、結像光学素子の出射面及び入射面で順に反射されて出射面から出射した直後のゴースト光束の主光線の延長線は、光軸方向における第１及び第２の反射点の間で前記平面と交差することを特徴とする。

本発明によれば、良好な結像性能を実現しつつ、ゴースト光束による画像形成への影響を低減できる光走査装置を提供することができる。

第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。 第一実施形態に係る光走査装置の一部拡大副走査断面図。 第一実施形態に係る光走査装置における各光束の光路を示した図。 比較例１に係る光走査装置における各光束の光路を示した図。 比較例２に係る光走査装置における各光束の光路を示した図。 第二実施形態に係る光走査装置における各光束の光路を示した図。 第三実施形態に係る光走査装置における各光束の光路を示した図。 第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置の要部副走査断面図。

以下、本実施形態に係る光走査装置について図面に基づいて説明する。なお、以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。

なお、以下の説明において、主走査方向（Ｙ方向）は、偏向器の回転軸及び光学系の光軸（Ｘ方向）に垂直な方向に対応し、副走査方向（Ｚ方向）は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、副走査方向に垂直な断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。

［第一実施形態］
図１は、第一実施形態に係る光走査装置１００の主走査断面図を示している。また、図２は、第一実施形態に係る光走査装置１００の一部拡大副走査断面図を示している。
ただし、図１においては、反射ミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ’１、Ｍ’２、Ｍ’３による光路の折り返しを展開しており、各反射ミラーを省略していることに注意されたい。

第一実施形態に係る光走査装置１００は、光源１Ａ、１Ｂ、１Ｃ及び１Ｄ、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ及び２Ｄ、シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂ、３Ｃ及び３Ｄ、副走査絞り４１、主走査絞り４２を備えている。また、光走査装置１００は、偏向器５、第１の結像レンズ（共通の結像光学素子）６１及び６２、第２の結像レンズ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ及び７Ｄ、反射ミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ’１、Ｍ’２及びＭ’３を備えている。さらに、光走査装置１００は、防塵ガラス９Ａ、９Ｂ、９Ｃ及び９Ｄ、及び不図示のハウジングを備えている。
カップリングレンズ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ及び２Ｄ、シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂ、３Ｃ及び３Ｄ、副走査絞り４１、及び主走査絞り４２によって、本実施形態に係る光走査装置１００の入射光学系７５が構成される。
また、第１の結像レンズ６１及び６２、及び第２の結像レンズ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ及び７Ｄによって、本実施形態に係る光走査装置１００の結像光学系８５が構成される。
また、反射ミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ’１、Ｍ’２及びＭ’３によって、本実施形態に係る光走査装置１００の反射光学系９５が構成される。
より具体的には、反射ミラーＭ１によって、第１の反射光学系が構成され、反射ミラーＭ２及びＭ３によって、第２の反射光学系が構成される。また、反射ミラーＭ’２及びＭ’３によって、第３の反射光学系が構成され、反射ミラーＭ’１によって、第４の反射光学系が構成される。そして、偏向器５と被走査面８Ａ、８Ｂ、８Ｃ及び８Ｄのそれぞれとの間の光路上に、第１、第２、第３及び第４の反射光学系が配置される。

光源１Ａ、１Ｂ、１Ｃ及び１Ｄとしては、発光点を有する半導体レーザーなどが用いられる。
カップリングレンズ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ及び２Ｄはそれぞれ、光源１Ａ、１Ｂ、１Ｃ及び１Ｄより出射した光束ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤを略平行光束に変換する。なおここで、略平行光束とは、弱発散光束、弱収束光束及び平行光束を含むものとする。
シリンドリカルレンズ３Ａ、３Ｂ、３Ｃ及び３Ｄはそれぞれ、副走査断面内に有限のパワー（屈折力）を有している。シリンドリカルレンズ３Ａ及び３Ｂはそれぞれ、カップリングレンズ２Ａ及び２Ｂを通過した光束ＲＡ及びＲＢを偏向器５の偏向面５１の近傍で副走査方向に集光する。また、シリンドリカルレンズ３Ｃ及び３Ｄはそれぞれ、カップリングレンズ２Ｃ及び２Ｄを通過した光束ＲＣ及びＲＤを偏向器５の偏向面５２の近傍で副走査方向に集光する。

副走査絞り４１には、４つの開口が設けられており、光源１Ａ、１Ｂ、１Ｃ及び１Ｄそれぞれより射出された光束ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤがそれぞれを通過することによって、各光束の副走査方向の光束幅が制限される。
主走査絞り４２には、２つの開口が設けられており、光源１Ａ及び１Ｂそれぞれより射出された光束ＲＡ及びＲＢは一方の開口を通過し、また、光源１Ｃ及び１Ｄそれぞれより射出された光束ＲＣ及びＲＤは他方の開口を通過する。それによって、各光束の主走査方向の光束幅が制限される。
副走査絞り４１及び主走査絞り４２は、不図示のハウジングと一体成形されている。もちろん、副走査絞り４１及び主走査絞り４２は、ハウジングとは別体に２つ以上設けられていても構わない。
このようにして、光源１Ａ及び１Ｂから出射した光束ＲＡ及びＲＢは、偏向器５の偏向面５１の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として導光される。また、光源１Ｃ及び１Ｄから出射した光束ＲＣ及びＲＤは、偏向器５の偏向面５２の近傍において副走査方向にのみ集光され、主走査方向に長い線像として導光される。

なお、本実施形態に係る光走査装置１００では、光源１Ａ及び１Ｄから出射した光束ＲＡ及びＲＤはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して−２．７°の角度を有して偏向器５の偏向面５１及び５２に斜入射している。また、光源１Ｂ及び１Ｃから出射した光束ＲＢ及びＲＣはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して＋２．７°の角度を有して偏向器５の偏向面５１及び５２に斜入射している。
また、光源１Ａ及び１Ｂから出射した光束ＲＡ及びＲＢが偏向器５の偏向面５１に入射する主走査断面内の角度は同一であり、また、光源１Ｃ及び１Ｄから出射した光束ＲＣ及びＲＤが偏向器５の偏向面５２に入射する主走査断面内の角度は同一である。
すなわち、本実施形態に係る光走査装置１００の入射光学系７５は、副走査斜入射光学系である。
なお、偏向器５の偏向面５１及び５２への光束ＲＡ乃至ＲＤの副走査斜入射角度βは、適宜変更することができる。

また、カップリングレンズ２Ａ乃至２Ｄ及びシリンドリカルレンズ３Ａ乃至３Ｄの代わりに、主走査断面内及び副走査断面内で異なるパワーを有するアナモフィックレンズを設けても構わない。

偏向器５は、不図示のモーター等の駆動手段により図中矢印Ａ方向に回転することにより、光源１Ａ、１Ｂ、１Ｃ及び１Ｄから出射した光束ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤをそれぞれ、偏向面５１及び５２によって、被走査面８Ａ、８Ｂ、８Ｃ及び８Ｄに向けて偏向する。例えば、偏向器５は、ポリゴンミラーなどで構成される。
第１の結像レンズ６１及び６２、第２の結像レンズ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄは、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有するアナモフィックレンズであり、偏向器５によって偏向された各光束を被走査面８Ａ、８Ｂ、８Ｃ及び８Ｄ上に集光（導光）する。
反射ミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ’１、Ｍ’２及びＭ’３は、光束を偏向する手段であり、蒸着ミラーなどが用いられる。
防塵ガラス９Ａ、９Ｂ、９Ｃ及び９Ｄは、光走査装置１００の内部へのゴミ等の侵入を防ぐために設けられた平行平板などで構成される。

光源１Ａ及び１Ｂから出射した光束ＲＡ（第１の光束）及びＲＢ（第２の光束）はそれぞれ、カップリングレンズ２Ａ及び２Ｂによって略平行光束に変換される。変換された光束ＲＡ及びＲＢはそれぞれ、シリンドリカルレンズ３Ａ及び３Ｂによって偏向器５の偏向面５１近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＲＡ及びＲＢはそれぞれ、副走査絞り４１の対応する開口を通過し、主走査絞り４２の対応する開口を通過し、偏向器５の偏向面５１に入射する。
また、光源１Ｃ及び１Ｄから出射した光束ＲＣ及びＲＤはそれぞれ、カップリングレンズ２Ｃ及び２Ｄによって略平行光束に変換され、シリンドリカルレンズ３Ｃ及び３Ｄによって偏向器５の偏向面５２の近傍で副走査方向に集光される。そして、光束ＲＣ及びＲＤはそれぞれ、副走査絞り４１の対応する開口を通過し、主走査絞り４２の対応する開口を通過し、偏向器５の偏向面５２に入射する。

光源１Ａから出射し、偏向器５に入射した光束ＲＡは、偏向器５の偏向面５１により偏向走査された後、第１の結像レンズ６１、第２の結像レンズ７Ａ、反射ミラーＭ１（第１の反射光学素子）によって被走査面（第１の被走査面）８Ａ上に導光される。光束ＲＡは、被走査面８Ａを矢印７ａ方向に等速度で走査する。
また、光源１Ｂから出射し、偏向器５に入射した光束ＲＢは、偏向器５の偏向面５１により偏向走査された後、第１の結像レンズ６１、第２の結像レンズ７Ｂ、反射ミラーＭ２（第２の反射光学素子）及びＭ３によって被走査面（第２の被走査面）８Ｂ上に導光される。光束ＲＢは、被走査面８Ｂを矢印７ａ方向に等速度で走査する。
また、光源１Ｃから出射し、偏向器５に入射した光束ＲＣは、偏向器５の偏向面５２により偏向走査された後、第１の結像レンズ６２、第２の結像レンズ７Ｃ、反射ミラーＭ’２及びＭ’３によって被走査面８Ｃ上に導光される。光束ＲＣは、被走査面８Ｃを矢印７ｂ方向に等速度で走査する。
また、光源１Ｄから出射し、偏向器５に入射した光束ＲＤは、偏向器５の偏向面５２により偏向走査された後、第１の結像レンズ６１、第２の結像レンズ７Ｄ、反射ミラーＭ’１によって被走査面８Ｄ上に導光される。光束ＲＤは、被走査面８Ｄを矢印７ｂ方向に等速度で走査する。
なお、本実施形態では、被走査面８Ａ乃至８Ｄとして、感光ドラムを用いている。
感光ドラム８Ａ乃至８Ｄ上における副走査方向の露光分布の作成は、感光ドラム８Ａ乃至８Ｄを副走査方向に回転させることによって達成している。

なお、第１の結像レンズ６１と６２とは、互いに偏向器５を挟んで対称に配置されている。また、第１の結像レンズ６１と６２とは同一形状であり、且つ、互いに対して主走査方向に沿った軸に関して回転された関係で配置されている。
また、第２の結像レンズ７Ａと第２の結像レンズ７Ｂとは同一形状であり、且つ、互いに対して主走査方向に沿った軸に関して回転された関係で配置されている。
同様に、第２の結像レンズ７Ｃと第２の結像レンズ７Ｄとは同一形状であり、且つ、互いに対して主走査方向に沿った軸に関して回転された関係で配置されている。
また、本実施形態に係る光走査装置１００では、第１の結像レンズ６１及び６２、第２の結像レンズ７Ａ乃至７Ｄは、全てプラスチックモールドレンズである。

次に、本実施形態に係る光走査装置１００が備える各光学系の諸特性を、以下の表１に示す。

なお、表１において、「Ｅ±ｘ」は、「１０^±ｘ」を意味している。また、特に表記していない係数については、全て０である。

第１の結像レンズ６１及び６２、第２の結像レンズ７Ａ乃至７Ｄの各光学面において、母線形状（主走査断面内の形状）は、以下の式（１）で表される。

なお、式（１）では、各光学面と光軸との交点を原点とし、光軸方向をＸ軸、主走査断面内において光軸と直交する軸をＹ軸、副走査断面内において光軸と直交する軸をＺ軸としている。
また、Ｒは曲率半径、Ｋは離心率、Ｂ_１乃至Ｂ_１６は非球面係数である。

また、第１の結像レンズ６１及び６２、第２の結像レンズ７Ａ乃至７Ｄの各光学面において、子線形状（副走査断面内の形状）は、以下の式（２）で表される。

ここで、子線曲率半径ｒ´は、光軸上（Ｙ＝０）における子線の曲率半径ｒに対して主走査方向の位置Ｙに応じて変化しており、Ｄ_１乃至Ｄ_１６は子線曲率半径ｒ´の変化係数である。

式（２）において、ΣＧ_ｍｎＹ^ｍは、子線のｎ次の非球面係数である。従って、子線の非球面係数は、ｍ≠０の項を含む場合は、主走査方向の位置Ｙに応じて変化することとなる。
本実施形態においては、第２の結像レンズ７Ａ乃至７Ｄの入射面及び出射面は、Ｚの１次の非球面項を有している。すなわち、第２の結像レンズ７Ａ乃至７Ｄの入射面及び出射面は、副走査斜入射光学系であるために生じる波面収差及び走査線の曲がりを補正するために、主走査方向の位置Ｙに応じて副走査方向のチルト量が変化するチルト変化面となっている。

また、本実施形態においては、第２の結像レンズ７Ａ乃至７Ｄは、入射光束が形状定義の原点近傍を通過するように副走査方向に４．６４ｍｍ偏芯して配置されている。

図３は、第一実施形態に係る光走査装置１００における、偏向器５によって偏向された光束ＲＡ及びＲＢ、及び第１の結像レンズ６１によって生成されたゴースト光束ＲＧの光路を示している。
なお、図３で示されているゴースト光束ＲＧの光路は、第１の結像レンズ６１より被走査面側に配置されている各光学部材によって遮光、反射や屈折されたものを除いた光路である。

本実施形態では、ゴースト光束ＲＧとしては、光束ＲＡのうち第１の結像レンズ６１の出射面及び入射面でそれぞれ１回ずつ（すなわち、順に）反射し、第１の結像レンズ６１の出射面から出射する内面反射ゴースト光束を検討する。
光束ＲＡのうち第１の結像レンズ６１の出射面及び入射面でそれぞれ複数回反射して生成されたゴースト光束も存在する。しかしながら、反射防止膜がコートされていないプラスチックモールドレンズのレンズ面での反射率は４％程度であり、そのような複数回反射した内面反射ゴースト光束は光量が十分小さくなるため、問題とはならない。
従って、以降においては、ゴースト光束とは、光束ＲＡのうち第１の結像レンズ６１の出射面及び入射面でそれぞれ１回ずつ反射し、第１の結像レンズ６１の出射面から出射する内面反射ゴースト光束を指すこととする。

本実施形態に係る光走査装置１００では、ゴースト光束ＲＧは、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間で、副走査方向に集光されるように構成されている。より具体的には、ゴースト光束ＲＧは、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１の光束ＲＡの反射点（第１の反射点）と反射ミラーＭ２の光束ＲＢの反射点（第２の反射点）との間で、副走査方向に集光される。そして、第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐは、その集光位置又はその近傍において、第１の結像レンズ６１の光軸（基準軸）を含む主走査断面である基準面（偏向器を含み偏向器の回転軸に垂直な平面）１０１と交差する。
これは、上記のように、光源１Ａ及び１Ｂから出射した光束ＲＡ及びＲＢが、偏向器５の偏向面５１の近傍において、基準面１０１と交差し、且つ、副走査方向に集光されるように構成されているためである。
また、光束ＲＣ及びＲＤについても、反射ミラーＭ’１と反射ミラーＭ’２に対して、上記と同様に構成する。
なお、ここで、「集光位置の近傍」及び「偏向面の近傍」とは、その位置から１ｍｍ程度の範囲のことを指す。

本実施形態に係る光走査装置１００は、上記のように構成することで、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ乃至８Ｄへ入射することを抑制し、画像の形成への影響を低減することができる。

次に、比較例として、ゴースト光束ＲＧが上記のように構成されていない場合を考える。

図４は、比較例１に係る光走査装置における、偏向器５によって偏向された光束ＲＡ及びＲＢ、及び第１の結像レンズ６１によって生成されたゴースト光束ＲＧの光路を示している。

図４に示されているように、比較例１では、第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐは、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１より偏向器５の反対側で、基準面１０１と交差する。
この場合、ゴースト光束ＲＧは、反射ミラーＭ１の位置において、基準面１０１よりも副走査方向上側を通過することになる。
従って、上記第一実施形態と比較して、比較例１では、ゴースト光束ＲＧは、反射ミラーＭ１の位置において、光束ＲＡにより近接した位置を通過することになる。
そのため、比較例１では、上記第一実施形態と比較して、ゴースト光束ＲＧが、被走査面８Ａに入射する可能性が高くなり、好ましくないことがわかる。

図５は、比較例２に係る光走査装置における、偏向器５によって偏向された光束ＲＡ及びＲＢ、及び第１の結像レンズ６１によって生成されたゴースト光束ＲＧの光路を示している。

図５に示されているように、比較例２では、第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐは、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ２より偏向器５側で、基準面１０１と交差している。
この場合、ゴースト光束ＲＧは、反射ミラーＭ２の位置において、基準面１０１よりも副走査方向下側を通過することになる。
従って、上記第一実施形態と比較して、比較例２では、ゴースト光束ＲＧは、反射ミラーＭ２の位置において、光束ＲＢにより近接した位置を通過することになる。
そのため、比較例２では、上記第一実施形態と比較して、ゴースト光束ＲＧが、被走査面８Ｂに入射する可能性が高くなり、好ましくないことがわかる。

以上のことから、本実施形態に係る光走査装置１００では、第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐを、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間で、基準面１０１と交差させている。
それにより、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ又は８Ｂへ入射することを抑制し、画像の形成への影響を低減することができる。

また、光源１Ａ及び１Ｂから出射した光束ＲＡ及びＲＢが、偏向器５の偏向面５１の近傍において、基準面１０１と交差し、且つ、副走査方向に集光されるように構成されている場合、延長線ＲＧｐは、ゴースト光束ＲＧの集光位置又はその近傍において、基準面１０１と交差する。
そのため、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間で、ゴースト光束ＲＧが副走査方向に集光される（第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧのマージナル光線の延長線が延長線ＲＧｐと交差する）ように構成すれば良い。

第１の結像レンズ６１の出射面からゴースト光束ＲＧの集光位置までの光軸に沿った（光軸方向での）距離Ｘ_Ｃは、偏向面５１から第１の結像レンズ６１までの光軸に沿った距離をＬ、第１の結像レンズ６１の光軸に沿った肉厚をｄ、第１の結像レンズ６１の屈折率をｎ、光軸上における第１の結像レンズ６１の入射面及び出射面それぞれの副走査断面内パワーをφ₁及びφ_２としたとき、以下の式（３）で表すことができる。

従って、本実施形態に係る光走査装置１００では、上記のことを満たすように、第１の結像レンズ６１の出射面から反射ミラーＭ１（光束ＲＡの反射点）までの光軸に沿った距離Ｘ_１及び第１の結像レンズ６１の出射面から反射ミラーＭ２（光束ＲＢの反射点）までの光軸に沿った距離Ｘ_２に対して、以下の式（４）を満たしていればよい。

本実施形態に係る光走査装置１００では、Ｘ_１＝１０４．２７１ｍｍ、Ｘ_２＝４３．４５６ｍｍ、Ｘ_Ｃ＝７１．８２４ｍｍであるため、式（４）は満足されている。

本実施形態に係る光走査装置１００では、距離Ｘ_１が距離Ｘ_２の２倍以上になるように、第１の結像レンズ６１、反射ミラーＭ１及び反射ミラーＭ２を配置している。
このようにすることで、反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間隔を十分に広げることができるため、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ又は８Ｂへ入射することをさらに抑制しやすくすることが可能となる。

以上のことから、本実施形態に係る光走査装置１００では、反射ミラーＭ１及びＭ２はそれぞれ、反射光学系９５において第１の結像レンズ６１に最も近い位置に配置されており、反射ミラーＭ１及びＭ２のそれぞれにおける光束ＲＡ及びＲＢの反射点は、第１の結像レンズ６１の光軸を含み偏向器５の回転軸に垂直な第１の面１０１に対して、互いに反対側に位置しており、光束ＬＡのうち、第１の結像レンズ６１の出射面及び入射面で反射されて該出射面から出射した直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐは、光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１及びＭ２の光束ＲＡ及びＲＢの反射点の間で、第１の面１０１と交差する。
なお、ここで、「第１の結像レンズ６１に最も近い位置」とは、光学的に最も近い、すなわち、光束ＲＡ及びＲＢの第１の結像レンズ６１から第１及び第２の被走査面８Ａ及び８Ｂのそれぞれまでの光路において最も近い位置のことを意味する。
また、換言すると、本実施形態に係る光走査装置１００では、光束ＲＡ及びＲＢはそれぞれ、反射ミラーＭ１及びＭ２へ入射する際に、副走査方向において、第１の結像レンズ６１の光軸を含む主走査断面である第１の面１０１を挟んで、互いに反対側を進行している。
また、ここで、「光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１及びＭ２の光束ＲＡ及びＲＢの反射点の間」とは、光軸方向及び副走査方向の両方における反射ミラーＭ１及びＭ２の光束ＲＡ及びＲＢの反射点の間のことを意味する。

なお、上記においては、光束ＲＡのうち第１の結像レンズ６１の出射面及び入射面でそれぞれ１回ずつ反射し、第１の結像レンズ６１の出射面から出射する内面反射ゴースト光束ＲＧを考慮していた。
それに加えて、光束ＲＢのうち第１の結像レンズ６１の出射面及び入射面でそれぞれ１回ずつ反射し、第１の結像レンズ６１の出射面から出射する内面反射ゴースト光束も存在する。
光束ＲＢの内面反射ゴースト光束の光路は、光束ＲＡの内面反射ゴースト光束ＲＧの光路と基準面１０１に関して対称になる。
従って、光束ＲＢのゴースト光束は、ゴースト光束ＲＧと同じ位置で副走査方向に集光し、且つ、基準面１０１と交差する。

そのため、光束ＲＢのゴースト光束は、反射ミラーＭ２に入射し、被走査面８Ｂに到達することにより、画像形成に悪影響を及ぼしてしまう。
しかしながら、第１の結像レンズ６１の出射面から出射した後の光束ＲＢは、基準面１０１から離れる方向に進行するのに対して、光束ＲＢのゴースト光束は、基準面１０１へ近づく方向に進行するため、反射ミラーＭ２の位置において、両者は離間することになる。
そこで、本実施形態に係る光走査装置１００では、反射ミラーＭ２を、反射ミラーＭ２の反射面と平行、且つ基準面１０１から離れる方向に、光束ＲＢに対して１．３ｍｍ偏芯するように、配置させている。
なお、この反射ミラーＭ２の偏芯量は、偏芯させる前後において、光束ＲＢの光路が反射ミラーＭ２の反射面からはみ出さないように設定されている。

上記のように反射ミラーＭ２を偏芯させることで、光束ＲＢのゴースト光束が被走査面８Ｂへ入射することを抑制し、画像の形成への影響を低減することができる。
また同様に、反射ミラーＭ１も、反射ミラーＭ１の反射面と平行、且つ基準面１０１から離れる方向に、光束ＲＡに対して偏芯するように、配置させてもよい。これにより、ゴースト光束ＲＧが反射ミラーＭ１に入射し、被走査面８Ａに到達することにより、画像の形成へ悪影響を及ぼすことをより低減することができる。
以上、第一実施形態について説明したが、これに限らず、種々の変更が可能である。

［第二実施形態］
第二実施形態に係る光走査装置２００は、第一実施形態に係る光走査装置１００と同一の構成を有しており、同一の構成要素には、同一の符番を付して、説明を省略する。

図６は、第二実施形態に係る光走査装置２００における、偏向器５によって偏向された光束ＲＡ及びＲＢ、及び第１の結像レンズ６１によって生成されたゴースト光束ＲＧの光路を示している。
なお、図６で示されているゴースト光束ＲＧの光路は、第１の結像レンズ６１より被走査面側に配置されている各光学部材によって遮光、反射や屈折されたものを除いた光路である。

第二実施形態に係る光走査装置２００では、第一実施形態に係る光走査装置１００とは異なり、光源１Ａ乃至１Ｄそれぞれから出射した光束ＲＡ乃至ＲＤは、副走査断面内において、主走査断面に対して平行に偏向器５の偏向面５１及び５２に入射している。すなわち、第二実施形態に係る光走査装置２００は、副走査斜入射光学系を採用していない。
そのため、図６に示されているように、偏向器５は副走査方向において十分に厚肉化されている。それにより、光源１Ａ及び１Ｂそれぞれから出射した光束ＲＡ及びＲＢの、被走査面８Ａ及び８Ｂ上のそれぞれの互いに同一の走査位置への偏向器５の偏向面５１上の偏向点は、全ての走査位置に対して、互いに副走査方向に離間している。
同様に、光源１Ｃ及び１Ｄそれぞれから出射した光束ＲＣ及びＲＤの、被走査面８Ｃ及び８Ｄ上のそれぞれの互いに同一の走査位置への偏向器５の偏向面５２上の偏向点も、全ての走査位置に対して、互いに副走査方向に離間している。

具体的には、被走査面８Ａ及び８Ｂそれぞれの軸上像高への偏向器５の偏向面５１上の光束ＲＡ及びＲＢそれぞれの偏向点は、基準面１０１に対して副走査方向に＋３．５ｍｍ及び−３．５ｍｍだけ離間している。
同様に、被走査面８Ｃ及び８Ｄそれぞれの軸上像高への偏向器５の偏向面５２上の光束ＲＣ及びＲＤそれぞれの偏向点は、基準面１０１に対して副走査方向に−３．５ｍｍ及び＋３．５ｍｍだけ離間している。
また、それに対応するように、第２の結像レンズ７Ａ及び７Ｂはそれぞれ、光路の折り返しを展開したときに、基準面１０１に対して副走査方向に＋３．５ｍｍ及び−３．５ｍｍの位置にくるように、配置されている。
同様に、第２の結像レンズ７Ｃ及び７Ｄはそれぞれ、光路の折り返しを展開したときに、基準面１０１に対して副走査方向に−３．５ｍｍ及び＋３．５ｍｍの位置にくるように、配置されている。

次に、本実施形態に係る光走査装置２００が備える各光学系の諸特性を、以下の表２に示す。

なお、表２において、「Ｅ±ｘ」は、「１０^±ｘ」を意味している。また、特に表記していない係数については、全て０である。

本実施形態に係る光走査装置２００では、第一実施形態に係る光走査装置１００と同様に、第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐを、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間で、基準面１０１と交差させている。
それにより、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ及び８Ｂへ入射することを抑制し、画像の形成への影響を低減することができる。

しかしながら、本実施形態に係る光走査装置２００では、第一実施形態に係る光走査装置１００とは異なり、光源１Ａ及び１Ｂそれぞれから出射した光束ＲＡ及びＲＢは、偏向器５の偏向面５１の近傍の副走査方向に集光される位置において基準面１０１と交差しない。
そのため、ゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐの基準面１０１との交差位置及びその近傍では、ゴースト光束ＲＧは、副走査方向に集光されず、該交差位置は、第１の結像レンズ６１のゴースト光束ＲＧに対する後側焦点位置と一致する。

従って、本実施形態に係る光走査装置２００のように、光束ＲＡ及びＲＢが、偏向器５の偏向面５１の近傍の副走査方向に集光される位置において、基準面１０１と交差しない構成の場合には、第１の結像レンズ６１のゴースト光束ＲＧに対する後側焦点位置が、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間にあればよい。
そして、ゴースト光束ＲＧは、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１より偏向器５の反対側（反射ミラーＭ１に対して（反射ミラーＭ１を基準として）偏向器５とは反対の側）で、副走査方向に集光されていてもよい。また、第１の結像レンズ６１の配置とパワーの関係によっては、ゴースト光束ＲＧが副走査方向に集光されない場合もある。
もし、ゴースト光束ＲＧが副走査方向に集光される場合には、第一実施形態と同様に、被走査面８Ｂへ到達することによる画像への影響を低減するために、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ２より偏向器５の反対側（反射ミラーＭ２に対して（反射ミラーＭ２を基準として）偏向器５とは反対の側）で、集光させることが好ましい。

第１の結像レンズ６１の出射面から第１の結像レンズ６１のゴースト光束ＲＧに対する後側焦点位置までの光軸に沿った（光軸方向での）距離Ｘ_Ｆは、第１の結像レンズ６１の光軸に沿った肉厚をｄ、第１の結像レンズ６１の屈折率をｎ、光軸上における第１の結像レンズ６１の入射面及び出射面それぞれの副走査断面内パワーをφ₁及びφ_２としたとき、以下の式（５）で表すことができる。

従って、本実施形態に係る光走査装置２００では、上記のことを満たすように、第１の結像レンズ６１の出射面から反射ミラーＭ１（光束ＲＡの反射点）までの光軸に沿った距離Ｘ_１及び第１の結像レンズ６１の出射面から反射ミラーＭ２（光束ＲＢの反射点）までの光軸に沿った距離Ｘ_２に対して、以下の式（６）を満たしていればよい。

本実施形態に係る光走査装置２００では、Ｘ_１＝１０４．２７１ｍｍ、Ｘ_２＝４３．２ｍｍ、Ｘ_Ｆ＝５３．２５８ｍｍであるため、式（６）は満足されている。

第一実施形態に係る光走査装置１００と同様に、本実施形態に係る光走査装置２００でも、距離Ｘ_１が距離Ｘ_２の２倍以上になるように、第１の結像レンズ６１、反射ミラーＭ１及び反射ミラーＭ２を配置している。
このようにすることで、反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間隔を十分に広げることができるため、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ又は８Ｂへ入射することをさらに抑制しやすくすることが可能となる。

以上、第二実施形態について説明したが、これに限らず、種々の変更が可能である。
例えば、第二実施形態に係る光走査装置２００のように、偏向器が副走査方向において十分に厚肉化した場合、偏向器の重量が大きく増えることで、偏向器の回転を安定させるまでに多くの時間が必要となり、すなわち、光走査装置の立ち上がりが遅くなるといった弊害がある。
そこで、偏向器の不要な部分をくり貫く等により軽量化させることが考えられる。

［第三実施形態］
第三実施形態に係る光走査装置３００は、第一実施形態に係る光走査装置１００と同一の構成を有しており、同一の構成要素には、同一の符番を付して、説明を省略する。

図７は、第三実施形態に係る光走査装置３００における、偏向器５によって偏向された光束ＲＡ及びＲＢ、及び第１の結像レンズ６１によって生成されたゴースト光束ＲＧの光路を示している。
なお、図７で示されているゴースト光束ＲＧの光路は、第１の結像レンズ６１より被走査面側に配置されている各光学部材によって遮光、反射や屈折されたものを除いた光路である。

第三実施形態に係る光走査装置３００では、第二実施形態に係る光走査装置２００とは異なり、偏向器５を副走査方向において厚肉化させる代わりに、２つの偏向部５Ａ及び５Ｂを同一の偏向軸で副走査方向に離間させて配置した、多段偏向器５を採用している。
そして、光源１Ａ及び１Ｄから出射した光束ＲＡ及びＲＤはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して−１°の角度を有して偏向器５の偏向部（第１の偏向部）５Ａの偏向面５１Ａ及び５２Ａに斜入射している。
また、光源１Ｂ及び１Ｃから出射した光束ＲＢ及びＲＣはそれぞれ、副走査断面内において、主走査断面に対して＋１°の角度を有して偏向器５の偏向部（第２の偏向部）５Ｂの偏向面５１Ｂ及び５２Ｂに斜入射している。
なお、偏向器５の偏向面５１Ａ、５１Ｂ、５２Ａ及び５２Ｂへの光束ＲＡ乃至ＲＤの副走査斜入射角度βは、適宜変更することができる。

これにより、光束ＲＡ乃至ＲＤの偏向面への斜入射角を低減すると共に、偏向器の厚肉化も抑えることができる。

また、被走査面８Ａ及び８Ｂそれぞれの軸上像高への偏向器５の偏向部５Ａの偏向面５１Ａ上の光束ＲＡ及び偏向部５Ｂの偏向面５１Ｂ上の光束ＲＢそれぞれの偏向点は、基準面１０１に対して副走査方向に＋２．５ｍｍ及び−２．５ｍｍだけ離間している。
同様に、被走査面８Ｃ及び８Ｄそれぞれの軸上像高への偏向器５の偏向部５Ｂの偏向面５２Ｂ上の光束ＲＣ及び偏向部５Ａの偏向面５２Ａ上の光束ＲＤそれぞれの偏向点は、基準面１０１に対して副走査方向に−２．５ｍｍ及び＋２．５ｍｍだけ離間している。

次に、本実施形態に係る光走査装置３００が備える各光学系の諸特性を、以下の表３に示す。

なお、表３において、「Ｅ±ｘ」は、「１０^±ｘ」を意味している。また、特に表記していない係数については、全て０である。

本実施形態に係る光走査装置３００では、第一及び第二実施形態と同様に、第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐを、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間で、基準面１０１と交差させている。
それにより、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ及び８Ｂへ入射することを抑制し、画像の形成への影響を低減することができる。

本実施形態に係る光走査装置３００では、第二実施形態に係る光走査装置２００と同様に、光源１Ａ及び１Ｂそれぞれから出射した光束ＲＡ及びＲＢは、偏向器５の偏向面５１の近傍の副走査方向に集光される位置において、基準面１０１と交差しない。
そのため、ゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐの基準面１０１との交差位置及びその近傍では、ゴースト光束ＲＧは、副走査方向に集光されない。
さらに、本実施形態に係る光走査装置３００は、副走査斜入射光学系を採用しているため、第二実施形態に係る光走査装置２００とは異なり、ゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐの基準面１０１との交差位置は、第１の結像レンズ６１のゴースト光束ＲＧに対する後側焦点位置と一致しない。

そして、本実施形態に係る光走査装置３００では、第二実施形態と同様に、ゴースト光束ＲＧは、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内における反射ミラーＭ１より偏向器５の反対側で、副走査方向に集光されていてもよい。また、第１の結像レンズ６１の配置とパワーの関係によっては、ゴースト光束ＲＧが副走査方向に集光されない場合もある。
もし、ゴースト光束ＲＧが副走査方向に集光される場合には、第一及び第二実施形態と同様に、被走査面８Ｂへ到達することによる画像への影響を低減するために、第１の結像レンズ６１の光軸を含む副走査断面内において、反射ミラーＭ２より偏向器５の反対側で、集光させることが好ましい。

第１の結像レンズ６１の出射面から出射直後のゴースト光束ＲＧの主光線の延長線ＲＧｐの基準面１０１との交差位置までの光軸に沿った距離Ｘ_Ｇは、式（３）のＸ_ＣをＸ_Ｃｎ／Ｘ_Ｃｄ、式（５）のＸ_ＦをＸ_Ｆｎ／Ｘ_Ｆｄ、被走査面８Ａの軸上像高への光束ＲＡの主光線の偏向器５の偏向部５Ａの偏向面５１Ａ上の偏向点の基準面１０１に対する副走査方向離間量をＤ、光束ＲＡの主光線の偏向面５１Ａへの副走査斜入射角度をβとしたとき、以下の式（７）で表すことができる。

なお、式（７）は、副走査方向離間量Ｄ＝０のとき、第一実施形態の式（３）に帰着し、一方で、副走査斜入射角度β＝０のとき、第二実施形態の式（５）に帰着する。

従って、本実施形態に係る光走査装置３００では、上記のことを満たすように、第１の結像レンズ６１の出射面から反射ミラーＭ１（光束ＲＡの反射点）までの光軸に沿った距離Ｘ_１及び第１の結像レンズ６１の出射面から反射ミラーＭ２（光束ＲＢの反射点）までの光軸に沿った距離Ｘ_２に対して、以下の式（８）を満たしていればよい。

本実施形態に係る光走査装置３００では、Ｘ_１＝１０４．２７１ｍｍ、Ｘ_２＝４３．４５２ｍｍ、Ｘ_Ｇ＝５４．６３２ｍｍであるため、式（８）は満足されている。

また、第一及び第二実施形態と同様に、本実施形態に係る光走査装置３００でも、距離Ｘ_１が距離Ｘ_２の２倍以上になるように、第１の結像レンズ６１、反射ミラーＭ１及び反射ミラーＭ２を配置している。
このようにすることで、反射ミラーＭ１と反射ミラーＭ２との間隔を十分に広げることができるため、ゴースト光束ＲＧが被走査面８Ａ又は８Ｂへ入射することをさらに抑制しやすくすることが可能となる。

これまで、種々の好ましい実施形態について説明したが、これらに限らず、種々の変更が可能である。
例えば、上記の構成は、少なくとも二つの光束が通過する結像レンズを備えており、２つ又は３つの被走査面を走査する光走査装置にも適用することができる。
また、上記の構成は、偏向器の一つの偏向面で４つの被走査面を走査する、いわゆる片側走査系の光走査装置にも適用することができる。その場合は、４つの被走査面それぞれに導光される４つの光束のうち、基準面を挟んで互いに反対側を進行し、且つ、該基準面に最も近い２つの光束について考慮すれば良い。

また、上記の構成は、第１の結像レンズ及び第２の結像レンズの総枚数が６枚未満、すなわち２枚又は４枚である光走査装置にも適用することができる。
また、上記の構成は、第２の結像レンズが副走査方向上下で異なる光学面を有するように、副走査方向に一体的に連結した多段レンズである、光走査装置にも適用することができる。

［画像形成装置］
図８は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置１１が搭載されたカラー画像形成装置９０の要部副走査断面図である。

画像形成装置９０は、光走査装置１１を用いて、像担持体である各感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置９０は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係る光走査装置１１、像担持体としての感光ドラム２３、２４、２５、２６及び現像器３５、３６、３７、３８を備えている。また、画像形成装置９０は、搬送ベルト９１、プリンタコントローラ９３及び定着器９４を備えている。

画像形成装置９０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器９２から出力されたＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号（コードデータ）が入力される。入力された色信号は、画像形成装置９０内のプリンタコントローラ９３によって、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。変換された各画像データはそれぞれ、光走査装置１１に入力される。そして、光走査装置１１からは、各画像データに応じて変調された光ビーム６９、７０、７１、７２が射出され、これらの光ビームによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面が露光される。

感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ（不図示）が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラによって帯電された感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に、光走査装置１１によって光ビーム６９、７０、７１、７２が照射されるようになっている。

上で述べたように、光ビーム６９、７０、７１、７２は各色の画像データに基づいて変調されており、光ビーム６９、７０、７１、７２を照射することによって感光ドラム２３、２４、２５、２６の表面に静電潜像が形成される。形成された静電潜像は、感光ドラム２３、２４、２５、２６に当接するように配設された現像器３５、３６、３７、３８によってトナー像として現像される。

現像器３５乃至３８によって現像されたトナー像は、感光ドラム２３乃至２６に対向するように配設された不図示の転写ローラ（転写器）によって、搬送ベルト９１上を搬送される不図示の用紙（被転写材）上に多重転写され、１枚のフルカラー画像が形成される。

以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙は、さらに感光ドラム２３、２４、２５、２６後方（図８において左側）の定着器９４へと搬送される。定着器９４は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラとこの定着ローラに圧接するように配設された加圧ローラとで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙は、定着ローラと加圧ローラの圧接部にて加圧しながら加熱されることにより、用紙上の未定着トナー像が定着される。さらに定着ローラの後方には不図示の排紙ローラが配設されており、排紙ローラは定着された用紙を画像形成装置９０の外に排出せしめる。

カラー画像形成装置９０は、光走査装置１１を用いて、各々がＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋの各色に対応し、各々並行して感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
外部機器９２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置９０とで、カラーデジタル複写機が構成される。

本実施形態に係る画像形成装置９０の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、１２００ｄｐｉ以上の画像形成装置において、本実施形態の効果はより発揮される。

５ 偏向器
６１ 第１の結像レンズ（結像光学素子）
８Ａ、８Ｂ 被走査面（第１、第２の被走査面）
９５ 反射光学系
１００ 光走査装置
１０１ 基準面（第１の面）
Ｍ１、Ｍ２ 反射ミラー（第１、第２の反射光学素子）
ＲＡ、ＲＢ 光束（第１、第２の光束）
ＲＧ ゴースト光束

Claims (11)

1. 第１及び第２の光束を偏向して第１及び第２の被走査面のそれぞれを主走査方向に走査する偏向器と、
   前記偏向器によって偏向された前記第１及び第２の光束を前記第１及び第２の被走査面のそれぞれに導光する共通の結像光学素子と、
   前記偏向器と前記第１及び第２の被走査面のそれぞれとの間の光路上に配置される第１及び第２の反射光学系と、
   を備え、
   前記第１及び第２の反射光学系は、それぞれの光路上で前記結像光学素子に最も近い位置に配置される第１及び第２の反射光学素子を有し、
   前記第１及び第２の反射光学素子のそれぞれにおける前記第１及び第２の光束の第１及び第２の反射点は、前記偏向器を含み該偏向器の回転軸に垂直な平面に対して互いに反対側に位置しており、
   前記結像光学素子の光軸を含む副走査断面内において、前記第１の光束のうち、前記結像光学素子の出射面及び入射面で順に反射されて該出射面から出射した直後のゴースト光束の主光線の延長線は、光軸方向における前記第１及び第２の反射点の間で前記平面と交差することを特徴とする光走査装置。
2. 前記第１の光束は、前記偏向器の近傍において、前記平面と交差することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記副走査断面内において、前記ゴースト光束のマージナル光線の延長線は、光軸方向における前記第１及び第２の反射点の間で、前記主光線の延長線と交差することを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
4. 前記第１の光束は、前記偏向器の近傍において、前記平面と交差しないことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
5. 前記副走査断面内において、前記ゴースト光束のマージナル光線の延長線は、前記第１及び第２の反射点に対して前記偏向器とは反対の側で、前記主光線の延長線と交差することを特徴とする請求項４に記載の光走査装置。
6. 前記副走査断面内において、前記ゴースト光束のマージナル光線の延長線は、前記主光線の延長線と交差しないことを特徴とする請求項４に記載の光走査装置。
7. 前記副走査断面内において、前記第２の反射光学素子は、光軸方向における前記結像光学素子と前記第１の反射光学素子との間に配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光走査装置。
8. 前記副走査断面内において、前記結像光学素子と前記第１の反射光学素子との光軸方向での距離は、前記結像光学素子と前記第２の反射光学素子との光軸方向での距離の２倍以上であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光走査装置。
9. 前記偏向器は、前記第１及び第２の光束それぞれを互いに異なる偏向面で偏向することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光走査装置。
10. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置と、該光走査装置によって被走査面に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器とを備えることを特徴とする画像形成装置。
11. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラとを備えることを特徴とする画像形成装置。

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