JP3147300B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP3147300B2
JP3147300B2 JP25899398A JP25899398A JP3147300B2 JP 3147300 B2 JP3147300 B2 JP 3147300B2 JP 25899398 A JP25899398 A JP 25899398A JP 25899398 A JP25899398 A JP 25899398A JP 3147300 B2 JP3147300 B2 JP 3147300B2
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に、入出力、電源等のリードとして定義されてい
ないノンコネクトリードに接続された第1保護回路と、
コネクトリードに接続された第2保護回路とを有し、静
電破壊を防止する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、リードオンチップ(LOC)タ
イプ又はチップオンリード(COL)タイプの半導体に
おいては、内部回路としての入力回路、出力回路、及び
電源回路に接続されたコネクトリードの外に、これらの
回路には確定的には接続されていないノンコネクトリー
ドを備えていることが多い。特に、使用者の要求により
半導体チップ内の配線を自由に変えることができるよう
にしたゲートアレイ等においては、このようなノンコネ
クトリードは、不可避的に存在している。
【0003】また、LOC又はCOLタイプの半導体装
置には、ノンコネクトリード及びコネクトリードを取り
付けたリードフレームが使用されており、半導体チップ
をリードフレームに取り付けたノンコネクトリード及び
コネクトリードで支えた状態で、金属細線のボンディン
グが行われている。したがって、ノンコネクトリード及
びコネクトリードは、通常、リードフレーム内部に半導
体チップを支える位置まで長く延在している。
【0004】上記したように、リードフレームを使用し
て組み立てられた半導体装置では、コネクトリードとノ
ンコネクトリードとが互いに隣接して配置されている。
この場合、ノンコネクトリード自身は、内部回路とは電
気的に接続されていないリードに電気的に接続され、こ
のリードは、絶縁膜を介してチップ上に延在する一方、
コネクトリードは内部回路と電気的に接続されたリード
に金属細線をボンディングすることによって、接続され
ている。
【0005】このような半導体装置において、静電気に
よって、ノンコネクトリードに異常に高い電圧が印加さ
れると、リードを通して放電が行われる。この結果、チ
ップ上の絶縁膜に静電破壊が生じる場合がある。
【0006】上述したノンコネクトリードにおける静電
破壊を防止するために、特開昭61−180470号公
報には、ノンコネクトリードに接続されたリードに、サ
ージ電圧放電回路を設けた半導体集積回路装置が提案さ
れている。
【0007】また、特開平2−119171号公報に
は、ノンコネクトリードの接続配線パターンに、ダイオ
ードを含む保護回路を接続した半導体集積回路装置が開
示されている。
【0008】更に、特開平6−120426号公報にお
いては、マスタースライス方式の集積回路において、ノ
ンコネクトリードに保護ダイオード回路を接続すること
も開示されている。この構成では、コネクトリードに大
きな電圧が印加され、且つ、ノンコネクトリードがコネ
クトリードに隣接している場合には、リードフレームや
ボンディングワイヤのもつ相互インダクタンスにより大
きな電圧が誘起されることによるノンコネクトリードの
絶縁破壊を防止できる。
【0009】一方、特公昭63−3463号公報では、
ボンディングの際、リードによって素子を支えることが
できないリードフレームが示されている。具体的には、
金属細線で素子と接続するリードと、素子と接続しない
リードを含み、素子と接続しないリードの先端部を素子
と接続するリードの先端部よりも、素子から離れるよう
にした半導体装置用リードフレームが提案されており、
このリードフレームでは、リードの内部先端部間の間隔
を広げることができるため、接続位置ずれに対して余裕
を持たせることができる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開昭61−
180470号公報、特開平2−119171号公報、
特開平6−120426号公報のいずれにおいても、ノ
ンコネクトリードにおける絶縁破壊の防止に止まり、ノ
ンコネクトリードの静電放電に伴うコネクトピへの影響
が全く考慮されていない。
【0011】また、特公昭63−3463号公報は、リ
ード先端部と素子との接続を素子上では行わず、ボンデ
ィングの際、リードによって素子を支持しないリードフ
レームを開示しているだけで、リード先端部を素子(チ
ップ)上で接続するリードオンフレーム(LOC)タイ
プの半導体装置における問題点が何ら考慮されていな
い。
【0012】本発明者の実験によれば、LOC又はCO
Lタイプの半導体装置において、高電圧の静電電圧がノ
ンコネクトリードに印加されると、このノンコネクトリ
ードに接続されたリードにおけるインダクタンスと、隣
接コネクトリードのリードにおけるインダクタンスとが
相互インダクタンスを構成し、この結果、コネクトリー
ドにも起電力が発生することが確認された。これは、L
OCタイプの半導体装置におけるノンコネクトリードの
長さが長く、これによるノンコネクトリードのインダク
タンスが無視できないためと推測される。
【0013】また、コネクトリードに誘導される起電力
は、ノンコネクトリードに印加される静電電圧の立上が
りにおいて極めて高く、その後、急速に減衰することも
判明した。この結果、単に、ノンコネクトリードに絶縁
破壊が生じるだけでなく、コネクトリードに接続された
内部回路、例えば、MOSFETのゲート絶縁膜にも、
破壊が生じることが判明した。
【0014】このように、コネクトリードに誘導される
起電力は、ノンコネクトリードに印加される静電電圧と
互いに異なる振舞を示すため、ノンコネクトリードと、
コネクトリードに、同一の構成の保護回路、或いは、保
護回路を接続しただけでは、コネクトリードに接続され
た内部回路を充分に保護することができない。更に、ノ
ンコネクトリードに印加された静電電圧は、単に、ノン
コネクトリードに隣接したコネクトリードだけでなく、
当該コネクトリードに隣接する他のリードにも影響を及
ぼすことも判明した。
【0015】そこで、本発明は、ノンコネクトリードに
おける絶縁破壊だけでなく、ノンコネクトリードと隣接
コネクトリード間の相互インダクタンスによるコネクト
リードに接続された回路の破壊をも防止できるリードオ
ンチップ(LOC)タイプの半導体装置を提供すること
を課題としている。
【0016】又、本発明は、ノンコネクトリードに印加
される静電電圧の立上がり時において、内部回路の電圧
上昇を制御することにより、相互インダクタンスの影響
を防止できる半導体装置を提供することを課題としてい
る。
【0017】又、本発明は、ノンコネクトリード及びコ
ネクトリード間の相互インダクタンスを低減することに
より、コネクトリードに対する影響を軽減する半導体装
置を提供することを課題としている。
【0018】又、本発明は、ノンコネクトリードの電圧
が、静電気により異常に高い電圧となった場合におい
て、コネクトリードの静電破壊を防止することを課題と
している。ここに、静電破壊とは、素子又は回路に特定
電圧以上の電圧が加わった場合にその素子又は回路が、
物理的に破壊される現象をいい、その特定電圧を静電破
壊電圧という。尚、絶縁破壊とは、素子又は回路に別の
特定電圧以上の電圧が加わった場合にその素子又は回路
に流れる電流が指数関数的に増加する現象をいい、その
別の特定電圧を絶縁破壊電圧という。この場合には、電
圧が通常に復帰すれば素子又は回路は通常の動作に復帰
する。
【0019】又、本発明は、ノンコネクトリードに隣接
した複数本のコネクトリードに対する影響をも防止でき
る半導体装置を提供することを課題としている。
【0020】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの本発明は、コネクトリードとノンコネクトリードを
有するリードフレームと、前記コネクトリードとノンコ
ネクトリードに電気的に接続されるパッドを備えた半導
体チップとを有する半導体装置であって、前記ノンコネ
クトリードを、前記コネクトリードより短くしてある。
【0021】又、本発明は、コネクトリードとノンコネ
クトリードを有するリードフレームと、前記コネクトリ
ードとノンコネクトリードに電気的に接続されるパッド
を備えた半導体チップと、前記ノンコネクトリードに接
続された第1保護回路と、前記コネクトリードに接続さ
れた第2保護回路とを有する半導体装置であって、前記
第1保護回路のクランプ特性は、前記第2保護回路のク
ランプ特性より大きく、前記ノンコネクトリードに異常
電圧が加わった場合に、前記第1保護回路は前記コネク
トリードに接続された回路の静電破壊を防止する。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。
【0023】図1は、本発明の第1実施形態の半導体装
置の平面図である。図1に示すように、第1実施形態の
半導体装置は、半導体チップ10上に、直線的に配置さ
れた複数のボンディングパッド(ここでは、22個)1
1と、複数のリード12(ここでは、22本)を備えて
いる。ここに、ボンディングパッド11のうち、4つの
ボンディングパッド11aはどのリードとも電気的に接
続されていないボンディングオプションである。一方、
複数のリード12のうち、残りの18本のリードはコネ
クトリード12bである。尚、これらノンコネクトリー
ド12a及びコネクトリード12bは、半導体チップ1
0と共に、樹脂封止されている。
【0024】図1に示すように、ノンコネクトリード1
2aはコネクトリード12bに比較して著しく短い。し
たがって、ノンコネクトリード12aによるインダクタ
ンスは、他のコネクトリード12bのインダクタンスに
比較して小さいため、ノンコネクトリード12aに対し
て高電圧の静電電圧が印加されても、隣接するコネクト
リード12bに誘導される起電力は実質上無視できる。
このため、ノンコネクトリード12aに高い静電電圧が
加わっても、コネクトリード12bに接続された図示し
ない内部回路は破壊されることはない。
【0025】図2は、図1に示された第2実施形態の半
導体装置の平面図である。図2に示すように、第2実施
形態の半導体装置においては、図面2の最下部に配置さ
れた2本のコネクトリード12bがボンディングオプシ
ョン11aの近傍まで引き延ばされて、且つ、分岐部を
有している。このように、コネクトリード12bを引き
延ばすとともに分岐させることにより、ユーザーの要求
に応じて自在にボンディングオプション11a或いはボ
ンディングパッド11と、コネクトリード12bとを接
続する。
【0026】図1及び図2では、ノンコネクトリード1
2a及びコネクトリード12bとのインダクタンスを大
きく変化させることにより、ノンコネクトリード12a
に印加される高電圧による他のリードに対する影響を防
止している。
【0027】図3は本発明の第3実施形態の半導体装置
のブロック図である。図3に示すように、第3実施形態
の半導体装置は、図1及び2と同様に、LOCタイプの
半導体装置であり、ノンコネクト12a及びコネクトリ
ード12bとを備え、ノンコネクトリード12a及びコ
ネクトリード12bは、半導体チップ上に延在する部分
を有し、その先端部はそれぞれ半導体チップにボンディ
ングされているものとする。この関係で、ノンコネクト
リード12a及びコネクトリード12bは、図示された
ように、それぞれインダクタンスL1及びL2を有して
いる。また、ノンコネクトリード12a及びコネクトリ
ード12bには、それぞれ第1保護回路16及び第2保
護回路17が接続されている。又、コネクトリード12
bは第2保護回路17を介して内部回路14に接続され
ている。
【0028】ここで、図3に示したインダクタンスL
1、L2はコイル素子を意味せず、等価的に発生するイ
ンダクタンスを回路記号として表わしたものである。
【0029】図示された例では、ノンコネクトリード1
2aに接続された第1保護回路16は、抵抗162、及
びダイオード等のクランプ素子163を含んでいる。
又、コネクトリード12bに接続された第2保護回路1
7は、第1クランプ回路172、抵抗174、及び第2
クランプ回路173とを含んでいる。ここで、第1クラ
ンプ回路172及び第2クランプ回路173は、ダイオ
ード、バイポーラトランジスタ、MOSトランジスタに
より構成できるが、単にダイオードのみであってもよ
い。第1クランプ回路172及び第2クランプ回路17
3の一端は、抵抗174の両端子にそれぞれ接続され、
他端は接地されている。
【0030】ここで、図3におけるキャパシタ161、
171はそれぞれ浮遊容量である。又、図3には、2つ
のクランプ回路、第1クランプ回路172及び第2クラ
ンプ回路173を図示しているが、いずれか一方を省略
してもよい。
【0031】本発明においては、第1保護回路16と第
2保護回路17とは、互いに異なるクランプ特性、即
ち、保護特性を有している。すなわち、第1保護回路1
6の保護特性が第2の保護回路17の保護特性よりも小
さくし、ノンコネクトリード12aからコネクトリード
12bに誘導される起電力を小さくしている。より具体
的に言えば、第1保護回路16に含まれている抵抗16
2の抵抗値は第2保護回路17に含まれている抵抗17
4の抵抗値に比較して大きい値としており、これによ
り、ノンコネクトリード12aに流れる電流の時間微分
値を小さくし、コネクトリード12bに誘導される起電
力を小さくしている。
【0032】又、クランプ素子163のクランプ能力を
クランプ回路172、174のクランプ能力より小さく
することにより、同様の効果の達成を図っている。図4
は本発明の第4実施例の半導体装置のブロック図であ
る。図4に示すように、第4実施例の半導体装置におい
ては、ノンコネクトリード12a及びコネクトリード1
2bとを備え、コネクトリード12bはそれぞれ内部回
路14に接続されている。この例の場合、ノンコネクト
リード12aはインダクタンスL1を有し、コネクトリ
ード12b、12cはインダクタンスL2を有してい
る。
【0033】又、容量C1、C2、C3は浮遊容量であ
り、浮遊容量C3の容量値を浮遊容量C1とC2との間
に設定する。
【0034】この第4実施形態においては、浮遊容量C
2の充放電は、浮遊容量C3の充放電に比較して緩慢で
あるように容量値を設定する。すなわち、浮遊容量C3
の容量値を浮遊容量C1とC2との間に設定する。
【0035】このように、容量C2及びC3の容量値、
即ち、保護回路の特性を互いに変えることによって、ノ
ンコネクトリード12aからコネクトリード12b、1
2cに誘導される起電力の影響をを小さくできる。
【0036】図5は、本発明の第5実施形態の半導体装
置の回路図である。図5に示すように、第5実施形態の
半導体装置は、ノンコネクトリード12a及びコネクト
リード12b、12cを備えたLOCタイプの半導体装
置であり、コネクトリード12bの先端部には、保護回
路17として、クランプ能力の大きいクランプ回路20
が接続されている。この場合、図示されたように、ノン
コネクトリード12aには、等価的には浮遊容量C1が
接続されている。ノンコネクトリード12aに隣接した
コネクトリード12bにおいて過電圧が発生した場合、
破壊に対する静電破壊電圧を増加させ、これによって、
ノンコネクトリード12aからの誘導による起電力の影
響を防止している。
【0037】図6は、本発明の第6実施形態の半導体装
置の回路図である。図6に示すように第6実施形態の半
導体装置においては、クランプ回路20b、20cは、
NPNバイポーラトランジスタ(バイポーラトランジス
タ)201b、201c、当該トランジスタ201b、
201cのエミッタ及びコレクタに接続された抵抗20
2、203、及び、抵抗203と一端を共通に接続され
た抵抗204とを備えている。
【0038】クランプ回路20b、20cのクランプ能
力を大きくするためには、トランジスタ201b、20
1cのチャンネル長を短くし、且つ、幅を広くする。そ
れによって、400V程度の静電電圧が隣接コネクトリ
ードに発生した場合であっても、ノンコネクトリードか
らの誘導による影響を防止することができた。
【0039】尚、バイポーラトラ201b、201cに
替えて、MOS又はMISトランジスタその他のトラン
ジスタも同様に用いることができる。
【0040】ここで、図5及び図6において、抵抗20
2,203は、コンタクト抵抗、配線抵抗等であっても
よい。図7は、本発明の第7実施例の半導体装置のブロ
ック図である。図7に示すように、第7実施例の半導体
装置においては、クランプ回路20を複数個縦続接続し
ている。この縦続接続の一端は等価的インダクタンスを
介してコネクトリード12bに接続され、他端は内部回
路に接続されている。
【0041】クランプ回路20は、半導体基板上に設け
られた島状の不純物拡散領域に形成されたPN接合を複
数個配列したものである。この場合、クランプ回路のク
ランプ能力は、PN接合の総面積で決まり、総面積が大
きいほどクランプ能力は大きくなる。
【0042】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明はこれに限らず、ノンコネクトリード及びコ
ネクトリードとの間の相互インダクタンスを小さくする
ために、ノンコネクトリード及びコネクトリードとを互
いに異なる材料によって形成してもよい。すなわち、誘
電率、透磁率、電気抵抗率、内部損失等に基いて材料が
選択される。
【0043】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、ノンコネ
クトリードとコネクトリードとを備えたLOCタイプの
半導体装置において、ノンコネクトリードからの誘導に
よって隣接リードに発生する起電力による内部回路等へ
の影響を軽減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態の半導体装置の平面図。
【図2】本発明の第2実施形態の半導体装置の平面図。
【図3】本発明の第3実施形態の半導体装置のブロック
図。
【図4】本発明の第4実施形態の半導体装置のブロック
図。
【図5】本発明の第5実施形態の半導体装置の回路図。
【図6】本発明の第6実施形態の半導体装置の回路図。
【図7】本発明の第7実施形態の半導体装置のブロック
図。
【符号の説明】
10 半導体チップ 11 ボンディングパッド 11a ボンディングオプション 12 リード 12a ノンコネクトリード 12b コネクトリード 14 内部回路 16 第1の保護回路 17 第2の保護回路 L1、L2 インダクタンス C1、C2、C3 浮遊容量 20 クランプ回路 201 バイポーラトランジスタ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−349875(JP,A) 特開 平11−135707(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 27/04 H01L 21/822 H01L 23/50

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コネクトリードとノンコネクトリードを
    有するリードフレームと、前記コネクトリードとノンコ
    ネクトリードに電気的に接続されるパッドを備えた半導
    体チップとを有する半導体装置であって、 前記ノンコネクトリードは、前記コネクトリードより短
    く、 前記ノンコネクトリードの材料は前記コネクトリードの
    材料と異なる材料であり、 前記ノンコネクトリードと前記コネクトリードの間の相
    互インダクタンスは、同一材料とした場合の相互インダ
    クタンスより小さいことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 コネクトリードとノンコネクトリードを
    有するリードフレームと、接続パッドを有する半導体チ
    ップを備え、前記コネクトリードを前記パッドにワイア
    ボンディングし、前記ノンコネクトリードを前記パッド
    にワイアボンディングしないリード・オン・チップ(L
    OC)又はチップ・オン・リード(COL)型の半導体
    装置であって、 前記ノンコネクトリードは、前記コネクトリードより短
    く、 前記ノンコネクトリードの材料は前記コネクトリードの
    材料と異なる材料であり、 前記ノンコネクトリードと前記コネクトリードの間の相
    互インダクタンスは、同一材料とした場合の相互インダ
    クタンスより小さいことを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 コネクトリードとノンコネクトリードを
    有するリードフレームと、前記コネクトリードとノンコ
    ネクトリードに電気的に接続されるパッドを備えた半導
    体チップと、前記ノンコネクトリードに接続された第1
    保護回路と、前記コネクトリードに接続された第2保護
    回路とを有する半導体装置であって、 前記ノンコネクトリードに異常電圧が加わった場合に、
    前記第1保護回路は前記コネクトリードに接続された内
    部回路の静電破壊を防止することを特徴とする半導体装
    置。
  4. 【請求項4】 前記第1保護回路は、前記第2保護回路
    の電圧上昇を抑制することを特徴とする請求項記載の
    半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記第1保護回路は、前記異常電圧の立
    上がりにおいて、前記第2保護回路の電圧上昇を抑制す
    ることを特徴とする請求項記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 第2保護回路の絶縁破壊電圧は、前記第
    1保護回路の絶縁破壊電圧より低いことを特徴とする請
    求項記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 第2保護回路の静電破壊電圧は、前記第
    1保護回路の静電破壊電圧より高いことを特徴とする請
    求項記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記第1保護回路は、第1抵抗と、第1
    クランプ回路とを含み、 前記第1保護回路の入力端子及び出力端子は、前記第1
    抵抗のそれぞれの端子であり、 前記第1保護回路の入力端子は、前記ノンコネクトリー
    ドに接続され、 前記第1保護回路の出力端子には、前記第1クランプ回
    路の一端を接続し、前記第1クランプ回路の他端を接地
    することを特徴とする請求項記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記第1クランプ回路は、ダイオード、
    バイポーラトランジスタ、MOSトランジスタ、又はM
    ISトランジスタのいずれかであることを特徴とする請
    求項記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記第2保護回路は、第2抵抗と、第
    2クランプ回路及び/又は第3クランプ回路とを含み、 前記第2保護回路の入力端子及び出力端子は、前記第2
    抵抗のそれぞれの端子であり、 前記第2保護回路の入力端子は前記コネクトリードが電
    気的に接続され、 前記第2保護回路の出力端子は前記内部回路が電気的に
    接続され、 前記第2保護回路の入力端子には、前記第2クランプ回
    路の一端を接続し、前記第2クランプ回路の他端を接地
    し、 前記第2保護回路の出力端子には、前記第3クランプ回
    路の一端を接続し、前記第3クランプ回路の他端を接地
    することを特徴とすることを特徴とする請求項記載の
    半導体装置。
  11. 【請求項11】 前記第2クランプ回路及び第3クラン
    プ回路は、ダイオード、バイポーラトランジスタ、MO
    Sトランジスタ、又はMISトランジスタのいずれかで
    あることを特徴とする請求項10記載の半導体装置。
  12. 【請求項12】 前記第1保護回路は、第1抵抗と、第
    1クランプ回路とを含み、 前記第1保護回路の入力端子及び出力端子は、前記第1
    抵抗のそれぞれの端子であり、 前記第1保護回路の入力端子は、前記ノンコネクトリー
    ドに接続され、 前記第1保護回路の出力端子には、前記第1クランプ回
    路の一端を接続し、前記第1クランプ回路の他端を接地
    しており、 前記第2保護回路は、第2抵抗と、第2クランプ回路及
    び/又は第3クランプ回路とを含み、 前記第2保護回路の入力端子及び出力端子は、前記第2
    抵抗のそれぞれの端子であり、 前記第2保護回路の入力端子は前記コネクトリードが電
    気的に接続され、 前記第2保護回路の出力端子は前記内部回路が電気的に
    接続され、 前記第2保護回路の入力端子には、前記第2クランプ回
    路の一端を接続し、前記第2クランプ回路の他端を接地
    し、 前記第2保護回路の出力端子には、前記第3クランプ回
    路の一端を接続し、前記第3クランプ回路の他端を接地
    しており、 前記第1抵抗の抵抗値は、前記第2抵抗の抵抗値より大
    きいことを特徴とする請求項記載の半導体装置。
  13. 【請求項13】 前記ノンコネクトリードの浮遊容量が
    C1であり、前記コネクトリードの浮遊容量がC2であ
    り、前記コネクトリードに隣接する他のコネクトリード
    の浮遊容量がC3であるときに、C3は、C1より大き
    く、C2より小さいことを特徴とする請求項記載の半
    導体装置。
  14. 【請求項14】 前記コネクトリードは、等価的インダ
    クタンスを介して、前記第2保護回路に接続されてお
    り、 前記第2保護回路は、エミッタ及びコレクタにそれぞれ
    負荷抵抗を接続したバイポーラトランジスタと他の抵抗
    とを含み、前記バイポーラトランジスタのエミッタに接
    続された負荷抵抗は接地され、前記バイポーラトランジ
    スタのコレクタに接続された負荷抵抗は前記他の抵抗の
    一端に接続され、前記他の抵抗の一端は等価的インダク
    タンスを介して前記コネクトリードに接続され、前記他
    の抵抗の他端は前記内部回路に接続され、 前記コネクトリードに隣接する他のコネクトリードは、
    前記等価的インダクタンスを介して他の保護回路に接続
    されており、 前記他の保護回路は、エミッタ及びコレクタにそれぞれ
    前記負荷抵抗を接続した他のバイポーラトランジスタと
    別の抵抗とを含み、前記他のバイポーラトランジスタの
    エミッタに接続された負荷抵抗は接地され、前記他のバ
    イポーラトランジスタのコレクタに接続された負荷抵抗
    は前記別の抵抗の一端に接続され、前記別の抵抗の一端
    は等価的インダクタンスを介して前記コネクトリードに
    接続され、前記別の抵抗の他端は前記内部回路に接続さ
    れ、 前記バイポーラトランジスタのチャンネル幅は、前記他
    のバイポーラトランジスタのチャンネル幅より広いこと
    を特徴とする請求項記載の半導体装置。
  15. 【請求項15】 前記コネクトリードは、等価的インダ
    クタンスを介して、前記第2保護回路に接続されてお
    り、 前記第2保護回路は、ソース及びドレインにそれぞれ負
    荷抵抗を接続したMOS又はMISトランジスタと他の
    抵抗とを含み、前記MOS又はMISトランジスタのソ
    ースに接続された負荷抵抗は接地され、前記MOS又は
    MISトランジスタのドレインに接続された負荷抵抗は
    前記他の抵抗の一端に接続され、前記他の抵抗の一端は
    等価的インダクタンスを介して前記コネクトリードに接
    続され、前記他の抵抗の他端は前記内部回路に接続さ
    れ、 前記コネクトリードに隣接する他のコネクトリードは、
    前記等価的インダクタンスを介して他の保護回路に接続
    されており、 前記他の保護回路は、ソース及びドレインにそれぞれ負
    荷抵抗を接続した他のMOS又はMISトランジスタと
    別の抵抗とを含み、前記他のMOS又はMISトランジ
    スタのソースに接続された負荷抵抗は接地され、前記他
    のMOS又はMISトランジスタのドレインに接続され
    た負荷抵抗は前記別の抵抗の一端に接続され、前記別の
    抵抗の他端は前記内部回路に接続され、 前記MOS又はMISトランジスタのチャンネル幅は、
    前記他のMOS又はMISトランジスタのチャンネル幅
    より広いことを特徴とする請求項記載の半導体装置。
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