JP3144036B2 - 薬液処理装置及び薬液処理方法 - Google Patents
薬液処理装置及び薬液処理方法Info
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- JP3144036B2 JP3144036B2 JP04085830A JP8583092A JP3144036B2 JP 3144036 B2 JP3144036 B2 JP 3144036B2 JP 04085830 A JP04085830 A JP 04085830A JP 8583092 A JP8583092 A JP 8583092A JP 3144036 B2 JP3144036 B2 JP 3144036B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は薬液処理装置及び薬液処
理方法に関する。半導体装置の製造プロセスにおいて，
クリーンルームで使用する治具等をクリーンルームに設
置されたクリーン洗浄ドラフト内で洗浄することが行わ
れる。このクリーン洗浄ドラフト内では給気と排気が同
時に行われ，ドラフトの外のクリーンルーム空間に薬液
の蒸気（ミスト）が漏れないことが要求される。さら
に，排気は少ないことが要望される。
理方法に関する。半導体装置の製造プロセスにおいて，
クリーンルームで使用する治具等をクリーンルームに設
置されたクリーン洗浄ドラフト内で洗浄することが行わ
れる。このクリーン洗浄ドラフト内では給気と排気が同
時に行われ，ドラフトの外のクリーンルーム空間に薬液
の蒸気（ミスト）が漏れないことが要求される。さら
に，排気は少ないことが要望される。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の薬液処理装置をクリーンル
ームで使用する例（その１）で，１は薬液処理槽，３は
薬液，６は排気ダクト，７はファン，８はフィルタ，10
は扉,11は被薬液処理物, 12は排気口, 13a, 13bは, そ
れぞれ, クリーンルームの床と天井，13c は間仕切り,
14はフィルタを表す。
ームで使用する例（その１）で，１は薬液処理槽，３は
薬液，６は排気ダクト，７はファン，８はフィルタ，10
は扉,11は被薬液処理物, 12は排気口, 13a, 13bは, そ
れぞれ, クリーンルームの床と天井，13c は間仕切り,
14はフィルタを表す。
【０００３】被薬液処理物11は例えば洗浄すべき治具で
あり，薬液３は例えば酸やアルカリの液である。薬液処
理装置前面の扉10を開けて被薬液処理物11を薬液処理槽
１に配置し，薬液処理槽１に薬液３を供給する。洗浄中
はファン７によってフィルタ８を通して薬液処理槽１内
に給気をし，また排気ダクト６により排気口12を通して
薬液処理槽１内を排気する。
あり，薬液３は例えば酸やアルカリの液である。薬液処
理装置前面の扉10を開けて被薬液処理物11を薬液処理槽
１に配置し，薬液処理槽１に薬液３を供給する。洗浄中
はファン７によってフィルタ８を通して薬液処理槽１内
に給気をし，また排気ダクト６により排気口12を通して
薬液処理槽１内を排気する。
【０００４】フィルタ14を通してクリーンルームにダウ
ンフローで供給される空気は，薬液処理装置の下とクリ
ーンルームの床13a の間を通って薬液処理装置を回り込
み，薬液処理装置の背面をアップフローして薬液処理装
置の上とクリーンルームの天井13b の間を通り，ファン
７に吸引される。
ンフローで供給される空気は，薬液処理装置の下とクリ
ーンルームの床13a の間を通って薬液処理装置を回り込
み，薬液処理装置の背面をアップフローして薬液処理装
置の上とクリーンルームの天井13b の間を通り，ファン
７に吸引される。
【０００５】通常，ファン７による給気量は排気ダクト
６による排気量より多い。給気は扉10を押して一部の給
気がクリーンルーム内に出てくる。この時，薬液３から
出る薬品ミストが給気と混じり，クリーンルーム内に出
てきてクリーンルームを汚染することがある。
６による排気量より多い。給気は扉10を押して一部の給
気がクリーンルーム内に出てくる。この時，薬液３から
出る薬品ミストが給気と混じり，クリーンルーム内に出
てきてクリーンルームを汚染することがある。
【０００６】もし，扉10を開けて前面でドラフト内作業
をするものとすると，薬品ミストがクリーンルーム内に
出てくるのを完全に防ぐためには，排気ダクト６による
排気量を多くしなければならない。
をするものとすると，薬品ミストがクリーンルーム内に
出てくるのを完全に防ぐためには，排気ダクト６による
排気量を多くしなければならない。
【０００７】図５は従来の薬液処理装置をクリーンルー
ムで使用する例（その２）で，排気量が給気量より多い
場合を示している。薬液３から出る薬品ミストがクリー
ンルーム内に入り込むのを完全に防ぐためには，扉10の
開口部の風速が 0.5ｍ／秒程度は必要であり，扉10を開
けた状態では多大の排気をとらなければならない。この
場合はクリーンルームからもドラフト内へ給気が行われ
るため，クリーンルーム内で作業する作業者及びロボッ
トの発塵がドラフト内に持ち込まれ，汚染源となる。
ムで使用する例（その２）で，排気量が給気量より多い
場合を示している。薬液３から出る薬品ミストがクリー
ンルーム内に入り込むのを完全に防ぐためには，扉10の
開口部の風速が 0.5ｍ／秒程度は必要であり，扉10を開
けた状態では多大の排気をとらなければならない。この
場合はクリーンルームからもドラフト内へ給気が行われ
るため，クリーンルーム内で作業する作業者及びロボッ
トの発塵がドラフト内に持ち込まれ，汚染源となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題に
鑑み，排気量を少なくしてクリーンルーム内の発塵がド
ラフト内に入り込まないようにし，かつ薬品ミストがク
リーンルームに入ることがないような薬液処理装置と薬
液処理方法を提供することを目的とする。
鑑み，排気量を少なくしてクリーンルーム内の発塵がド
ラフト内に入り込まないようにし，かつ薬品ミストがク
リーンルームに入ることがないような薬液処理装置と薬
液処理方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の薬液処理
装置を示す概念図，図２は本発明の薬液処理装置をクリ
ーンルームで使用する例を示す図，図３(a) 〜(c) は治
具の洗浄手順を示す図である。
装置を示す概念図，図２は本発明の薬液処理装置をクリ
ーンルームで使用する例を示す図，図３(a) 〜(c) は治
具の洗浄手順を示す図である。
【００１０】上記課題は, 薬液処理槽１と，該薬液処理
槽１を覆う移動可能なかつ通気可能な蓋２と, 該蓋２を
開けた状態で該薬液処理槽１内に被薬液処理物を出し入
れするための開口を開閉する扉10と，該薬液処理槽１を
該蓋２で覆った状態で該薬液処理槽１に薬液３を供給,
排出する第１の給排機構及び純水４を供給, 排出する第
２の給排機構と，該薬液処理槽１を該蓋２で覆った状態
で該薬液処理槽１と該蓋２の隙間1aから該薬液処理槽１
内を排気する排気機構と，該薬液処理槽１を該蓋２で覆
った状態で該蓋２を通して該薬液処理槽１内に給気する
給気機構とを有する薬液処理装置によって解決される。
槽１を覆う移動可能なかつ通気可能な蓋２と, 該蓋２を
開けた状態で該薬液処理槽１内に被薬液処理物を出し入
れするための開口を開閉する扉10と，該薬液処理槽１を
該蓋２で覆った状態で該薬液処理槽１に薬液３を供給,
排出する第１の給排機構及び純水４を供給, 排出する第
２の給排機構と，該薬液処理槽１を該蓋２で覆った状態
で該薬液処理槽１と該蓋２の隙間1aから該薬液処理槽１
内を排気する排気機構と，該薬液処理槽１を該蓋２で覆
った状態で該蓋２を通して該薬液処理槽１内に給気する
給気機構とを有する薬液処理装置によって解決される。
【００１１】また，前記給気機構は前記扉10の開度に応
じて給気量を制御する制御機構を有する前記の薬液処理
装置によって解決される。また，クリーンルーム内に配
置された前記の薬液処理装置を使用す薬液処理方法であ
って，被薬液処理物11を該薬液処理槽１内に配置した後
該薬液処理槽１を該蓋２で覆い，該給気機構によりクリ
ーンルーム内のエアを該蓋２を通して該薬液処理槽１内
に供給しかつ該排気機構により該薬液処理槽１内を排気
しながら，該第１の給排機構により薬液３を該薬液処理
槽１に供給して該被薬液処理物11を処理し，次いで該第
１の給排機構により該薬液３を排出し，その後，該第２
の給排機構により純水４を該薬液処理槽１に供給して該
被薬液処理物11を水洗し，次いで該第２の給排機構によ
り純水４を排出し，その後，該蓋２を開けて該被薬液処
理物11を該薬液処理槽１の外に取り出す薬液処理方法に
よって解決される。
じて給気量を制御する制御機構を有する前記の薬液処理
装置によって解決される。また，クリーンルーム内に配
置された前記の薬液処理装置を使用す薬液処理方法であ
って，被薬液処理物11を該薬液処理槽１内に配置した後
該薬液処理槽１を該蓋２で覆い，該給気機構によりクリ
ーンルーム内のエアを該蓋２を通して該薬液処理槽１内
に供給しかつ該排気機構により該薬液処理槽１内を排気
しながら，該第１の給排機構により薬液３を該薬液処理
槽１に供給して該被薬液処理物11を処理し，次いで該第
１の給排機構により該薬液３を排出し，その後，該第２
の給排機構により純水４を該薬液処理槽１に供給して該
被薬液処理物11を水洗し，次いで該第２の給排機構によ
り純水４を排出し，その後，該蓋２を開けて該被薬液処
理物11を該薬液処理槽１の外に取り出す薬液処理方法に
よって解決される。
【００１２】
【作用】図１は本発明の薬液処理装置を示す概念図で，
１は薬液処理槽，２は蓋，３は薬液，４は純水，５は薬
液回収タンク，６は排気ダクト，７はファン，８はフィ
ルタ，9a〜9iはバルブ, 10は扉, 11は被薬液処理物, 12
は排気口を表す。
１は薬液処理槽，２は蓋，３は薬液，４は純水，５は薬
液回収タンク，６は排気ダクト，７はファン，８はフィ
ルタ，9a〜9iはバルブ, 10は扉, 11は被薬液処理物, 12
は排気口を表す。
【００１３】本発明では，薬液処理槽１を覆う移動可能
なかつ通気可能な蓋２を設けている。薬液処理槽１を蓋
２で覆った状態で被薬液処理物11を薬液処理しその後水
洗するのであるから，蓋２は薬液の蒸気が外に出るのを
妨げている。
なかつ通気可能な蓋２を設けている。薬液処理槽１を蓋
２で覆った状態で被薬液処理物11を薬液処理しその後水
洗するのであるから，蓋２は薬液の蒸気が外に出るのを
妨げている。
【００１４】さらに，蓋２を通して給気機構により供給
される給気が薬液の蒸気を押し戻すので，薬液の蒸気は
すべて排気機構により排気され，蓋２を通って外に出る
ことはない。扉10が開いた状態であっても蓋２を設置し
ない場合に比較すると，はるかに少ない排気量で薬液の
蒸気が外に出てくるのを防ぐことができる。
される給気が薬液の蒸気を押し戻すので，薬液の蒸気は
すべて排気機構により排気され，蓋２を通って外に出る
ことはない。扉10が開いた状態であっても蓋２を設置し
ない場合に比較すると，はるかに少ない排気量で薬液の
蒸気が外に出てくるのを防ぐことができる。
【００１５】さらに，給気機構に扉10の開度に応じて給
気量を制御する制御機構を持たすようにすれば，薬液の
蒸気が外に出てくるのを完全に防ぐことができる。薬液
処理槽１を蓋２で覆った状態で被薬液処理物11を薬液処
理しその後水洗するために，薬液処理槽１に薬液３を供
給, 排出する第１の給排機構及び純水４を供給, 排出す
る第２の給排機構を設けている。薬液回収タンク５，バ
ルブ9a〜9gを操作することにより, 薬液３を薬液処理槽
１に供給し排出することができる。また，バルブ9g〜9i
を操作することにより, 純水４を薬液処理槽１に供給し
排出することができる。
気量を制御する制御機構を持たすようにすれば，薬液の
蒸気が外に出てくるのを完全に防ぐことができる。薬液
処理槽１を蓋２で覆った状態で被薬液処理物11を薬液処
理しその後水洗するために，薬液処理槽１に薬液３を供
給, 排出する第１の給排機構及び純水４を供給, 排出す
る第２の給排機構を設けている。薬液回収タンク５，バ
ルブ9a〜9gを操作することにより, 薬液３を薬液処理槽
１に供給し排出することができる。また，バルブ9g〜9i
を操作することにより, 純水４を薬液処理槽１に供給し
排出することができる。
【００１６】
【実施例】図２は本発明の薬液処理装置をクリーンルー
ムで使用する例を示す図であり，符号は図１と共通であ
る。さらに，13a, 13bは, それぞれ, クリーンルームの
床と天井，13c は間仕切り, 14はフィルタを表す。薬液
の給排機構と純水の給排機構もあるが，図２では省略さ
れている。
ムで使用する例を示す図であり，符号は図１と共通であ
る。さらに，13a, 13bは, それぞれ, クリーンルームの
床と天井，13c は間仕切り, 14はフィルタを表す。薬液
の給排機構と純水の給排機構もあるが，図２では省略さ
れている。
【００１７】天井13b に設置されたフィルタ14は例えば
ＨＥＰＡフィルタであり，これを通して空気がクリーン
ルームにダウンフローする。空気は薬液処理装置の操作
前面から薬液処理装置の下を通り，薬液処理装置の背面
をアップフローして天井13bに至り, 薬液処理装置の上
部からファン７により吸引される。薬液処理装置の上部
と天井13b の間に間仕切り13c を設けて空気の循環を効
果的にしている。
ＨＥＰＡフィルタであり，これを通して空気がクリーン
ルームにダウンフローする。空気は薬液処理装置の操作
前面から薬液処理装置の下を通り，薬液処理装置の背面
をアップフローして天井13bに至り, 薬液処理装置の上
部からファン７により吸引される。薬液処理装置の上部
と天井13b の間に間仕切り13c を設けて空気の循環を効
果的にしている。
【００１８】ファン７により吸引された空気はフィルタ
８を通って薬液処理槽１に供給される。薬液処理槽１の
上部に移動可能なかつ通気可能な蓋２を配置する。蓋２
は例えば空気を通す複数の小孔を有する蓋２箇で形成
し，互いに左右に開くようにする。薬液処理槽１の上部
に切除部を設け，薬液処理槽１を蓋２で覆った時切除部
が隙間を形成し，そこが排気口12となるようにする。薬
液処理槽１上部に切除部を設けず，蓋２を薬液処理槽１
とある程度離して配置するようにしてもよい。
８を通って薬液処理槽１に供給される。薬液処理槽１の
上部に移動可能なかつ通気可能な蓋２を配置する。蓋２
は例えば空気を通す複数の小孔を有する蓋２箇で形成
し，互いに左右に開くようにする。薬液処理槽１の上部
に切除部を設け，薬液処理槽１を蓋２で覆った時切除部
が隙間を形成し，そこが排気口12となるようにする。薬
液処理槽１上部に切除部を設けず，蓋２を薬液処理槽１
とある程度離して配置するようにしてもよい。
【００１９】排気ダクト６は排気口12から薬液処理槽１
内を排気する。ファン７による給気量は排気ダクト６に
よる排気量より多くする。給気量，排気量を多くする
と，薬液の蒸発が盛んとなるから，蓋２における風速が
0.5ｍ／秒程度を確保するよう最低限に抑制する。この
条件で薬液の蒸気が蓋２を通って外部に拡散するのを防
ぐことができる。
内を排気する。ファン７による給気量は排気ダクト６に
よる排気量より多くする。給気量，排気量を多くする
と，薬液の蒸発が盛んとなるから，蓋２における風速が
0.5ｍ／秒程度を確保するよう最低限に抑制する。この
条件で薬液の蒸気が蓋２を通って外部に拡散するのを防
ぐことができる。
【００２０】薬液処理中に扉10を開けて作業する場合も
あるから, 扉10の開度に応じて給気量を調整できるよう
にファン７と扉10を連動するインバータ制御機構をつけ
る。即ち，扉10の開度の大きい時は給気量を多くし，開
度の小さいときは給気量を少なくし，扉10の開口面での
平均風速が 0.4±0.3 ｍ／秒となるように制御する。こ
のようにして，排気ダクト６の排気量に相当する加圧給
気を行う。
あるから, 扉10の開度に応じて給気量を調整できるよう
にファン７と扉10を連動するインバータ制御機構をつけ
る。即ち，扉10の開度の大きい時は給気量を多くし，開
度の小さいときは給気量を少なくし，扉10の開口面での
平均風速が 0.4±0.3 ｍ／秒となるように制御する。こ
のようにして，排気ダクト６の排気量に相当する加圧給
気を行う。
【００２１】このように，蓋２を設け，さらにインバー
タ制御機構をつけることにより，排気量を従来の２０％
以下にすることができる。排気量を少なくしてもドラフ
ト内の清浄度を保つことができ，クリーンルームを汚染
させることもない。
タ制御機構をつけることにより，排気量を従来の２０％
以下にすることができる。排気量を少なくしてもドラフ
ト内の清浄度を保つことができ，クリーンルームを汚染
させることもない。
【００２２】図３(a) 〜(c) は治具の洗浄手順を示す図
で, 図２に示した装置を使用する具体例である。以下，
これらの図を参照し，さらに図１を参照しながら説明す
る。 図３(a) ，図１参照 薬液処理槽１上部の蓋2a, 2bを左右に開き，扉10から洗
浄すべき治具11を収容した籠11a を薬液処理槽１に入れ
る。薬液処理槽１上部には切除部1aが形成され，そこが
排気口12の一部となる。さらに，薬液処理槽１は２槽構
造になっていて，オーバーフローした分を外側の槽で受
けてドレインに流す。治具11には例えば錆が付着してい
る。
で, 図２に示した装置を使用する具体例である。以下，
これらの図を参照し，さらに図１を参照しながら説明す
る。 図３(a) ，図１参照 薬液処理槽１上部の蓋2a, 2bを左右に開き，扉10から洗
浄すべき治具11を収容した籠11a を薬液処理槽１に入れ
る。薬液処理槽１上部には切除部1aが形成され，そこが
排気口12の一部となる。さらに，薬液処理槽１は２槽構
造になっていて，オーバーフローした分を外側の槽で受
けてドレインに流す。治具11には例えば錆が付着してい
る。
【００２３】図３(b) ，図１参照 蓋2a, 2bを閉じ，ファン７から給気，排気ダクト６から
排気を行う。給気量は排気量より多くする。給気，排気
を行いながら薬液３としてフッ酸と硝酸の混合液を薬液
処理槽１に供給する。供給はバルブ9a, 9b, 9cを開いて
薬液３を薬液処理槽１に導入し，オーバーフローした分
はバルブ9dを開いて回収する。
排気を行う。給気量は排気量より多くする。給気，排気
を行いながら薬液３としてフッ酸と硝酸の混合液を薬液
処理槽１に供給する。供給はバルブ9a, 9b, 9cを開いて
薬液３を薬液処理槽１に導入し，オーバーフローした分
はバルブ9dを開いて回収する。
【００２４】フッ酸と硝酸の混合液の蒸気は排気口12か
ら排気される。治具11の洗浄が終了したら，バルブ9eを
開いて排気し, 薬液３を薬液回収タンク５に回収する。
少なくとも薬液３が薬液処理槽１にある間は蓋は2a, 2b
を閉じ，ファン７から給気，排気ダクト６から排気を行
う。
ら排気される。治具11の洗浄が終了したら，バルブ9eを
開いて排気し, 薬液３を薬液回収タンク５に回収する。
少なくとも薬液３が薬液処理槽１にある間は蓋は2a, 2b
を閉じ，ファン７から給気，排気ダクト６から排気を行
う。
【００２５】次に，バルブ9hを開いて薬液処理槽１に純
水４を供給し，治具11を水洗する。オーバーフローした
純水はバルブ9iを開いてドレインに流す。水洗終了後，
バルブ9gを開いて薬液処理槽１内の純水をドレインに流
す。
水４を供給し，治具11を水洗する。オーバーフローした
純水はバルブ9iを開いてドレインに流す。水洗終了後，
バルブ9gを開いて薬液処理槽１内の純水をドレインに流
す。
【００２６】図３(c) 参照 蓋2a, 2bを開いて，治具11を籠11a に入れたまま薬液処
理槽１から外へ取り出す。扉10から治具11をクリーンル
ーム内に取り出す。
理槽１から外へ取り出す。扉10から治具11をクリーンル
ーム内に取り出す。
【００２７】以上の実施例は本発明の薬液処理装置を使
用して，治具を洗浄する例について述べたが，本発明は
それに限らず，例えば半導体ウエハーのエッチングや，
洗浄などのプロセスにも適用することができる。
用して，治具を洗浄する例について述べたが，本発明は
それに限らず，例えば半導体ウエハーのエッチングや，
洗浄などのプロセスにも適用することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，
クリーンルームにおいて，被薬液処理物を薬液処理する
時，被薬液処理物を汚染せず，またクリーンルームを薬
品ミストで汚染することのないようにすることができ
る。
クリーンルームにおいて，被薬液処理物を薬液処理する
時，被薬液処理物を汚染せず，またクリーンルームを薬
品ミストで汚染することのないようにすることができ
る。
【００２９】また，薬液処理を行うドラフト内の給気
量，排気量を少なくし，薬液からの蒸発を少なくするこ
とができる。
量，排気量を少なくし，薬液からの蒸発を少なくするこ
とができる。
【図１】本発明の薬液処理装置を示す概念図である。
【図２】本発明の薬液処理装置をクリーンルームで使用
する例を示す図である。
する例を示す図である。
【図３】(a) 〜(c) は治具の洗浄手順を示す図である。
【図４】従来の薬液処理装置をクリーンルームで使用す
る例（その１）である。
る例（その１）である。
【図５】従来の薬液処理装置をクリーンルームで使用す
る例（その２）である。
る例（その２）である。
１は薬液処理槽 1aは隙間であって切除部 ２，2a, 2bは蓋 ３は薬液 ４は純水 ５は薬液回収タンク ６は排気ドラフトであって排気機構 ７はファンであって給気機構 ８はフィルタ 9a〜9iはバルブ 10は扉 11は被薬液処理物であって治具 11a は籠 12は排気口 13a は床であってクリーンルームの床 13b は天井であってクリーンルームの天井 13c は間仕切り 14はフィルタ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−104841（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−12238（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/02 F24F 7/06
Claims (3)
- 【請求項１】 薬液処理槽(1) と，該薬液処理槽(1) を
覆う移動可能なかつ通気可能な蓋(2) と,該蓋(2) を開
けた状態で該薬液処理槽(1) 内に被薬液処理物を出し入
れするための開口を開閉する扉(10)と，該薬液処理槽
(1) を該蓋(2) で覆った状態で該薬液処理槽(1) に薬液
(3) を供給, 排出する第１の給排機構及び純水(4) を供
給, 排出する第２の給排機構と，該薬液処理槽(1) を該
蓋(2) で覆った状態で該薬液処理槽１と該蓋２の隙間(1
a)から該薬液処理槽(1) 内を排気する排気機構と，該薬
液処理槽(1) を該蓋(2) で覆った状態で該蓋(2) を通し
て該薬液処理槽(1) 内に給気する給気機構とを有するこ
とを特徴とする薬液処理装置。 - 【請求項２】 前記給気機構は前記扉(10)の開度に応じ
て給気量を制御する制御機構を有することを特徴とする
請求項１記載の薬液処理装置。 - 【請求項３】 クリーンルーム内に配置された請求項１
又は２記載の薬液処理装置を使用する薬液処理方法であ
って，被薬液処理物(11)を該薬液処理槽(1) 内に配置し
た後該薬液処理槽(1) を該蓋(2) で覆い，該給気機構に
よりクリーンルーム内の空気を該蓋(2) を通して該薬液
処理槽(1) 内に供給しかつ該排気機構により該薬液処理
槽(1) 内を排気しながら，該第１の給排機構により薬液
(3) を該薬液処理槽(1) に供給して該被薬液処理物(11)
を処理し，次いで該第１の給排機構により該薬液(3) を
排出し，その後，該第２の給排機構により純水(4) を該
薬液処理槽(1) に供給して該被薬液処理物(11)を水洗
し，次いで該第２の給排機構により純水(4) を排出し，
その後，該蓋(2) を開けて該被薬液処理物(11)を該薬液
処理槽(1) の外に取り出すことを特徴とする薬液処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04085830A JP3144036B2 (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 薬液処理装置及び薬液処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04085830A JP3144036B2 (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 薬液処理装置及び薬液処理方法 |
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1992
- 1992-04-08 JP JP04085830A patent/JP3144036B2/ja not_active Expired - Fee Related
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