JP3139413B2 - 静電マイクロリレー - Google Patents
静電マイクロリレーInfo
- Publication number
- JP3139413B2 JP3139413B2 JP09125546A JP12554697A JP3139413B2 JP 3139413 B2 JP3139413 B2 JP 3139413B2 JP 09125546 A JP09125546 A JP 09125546A JP 12554697 A JP12554697 A JP 12554697A JP 3139413 B2 JP3139413 B2 JP 3139413B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable
- electrode
- mover
- substrate
- contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
- H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
- H01H2059/0081—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics with a tapered air-gap between fixed and movable electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
- H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
Landscapes
- Micromachines (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属接点の機械的
開閉を行う微小なメカニカルリレーに関し、特に電極間
の静電引力によって駆動される静電マイクロリレーに関
する。
開閉を行う微小なメカニカルリレーに関し、特に電極間
の静電引力によって駆動される静電マイクロリレーに関
する。
【0002】
【従来の技術】静電引力は電極間距離の二乗に反比例す
るため、メカニカルリレーでは、その構造が微小になる
ほど、静電駆動原理に基づくものが有利となる。この種
のリレーは例えば特開平8−506690号公報及び特
開平8−255546号公報に開示されている。
るため、メカニカルリレーでは、その構造が微小になる
ほど、静電駆動原理に基づくものが有利となる。この種
のリレーは例えば特開平8−506690号公報及び特
開平8−255546号公報に開示されている。
【0003】特開平8−506690号公報(公知例
1)には、休止状態において舌片状可動子の平面可動電
極に対して、対向する面状固定電極が固定子基板上の固
定接点近傍の斜め面取り部に設けられた静電マイクロリ
レーが開示されている。その基本的な構造は図7に示す
ように、シリコンからなる可動子基板1をエッチングし
て舌片状の可動子2を可動子基板1に一体に形成し、可
動子2の下面に可動電極5,可動接点7,及び圧電層
3,圧電層電極5’,11’を設ける。可動子2の一端
は可動子基板1に弾性的に結合されている。固定子基板
10の上面に一部斜め面取り部16を形成し、一部斜め
面取り部16に固定電極11と固定接点13を設ける。
可動子基板1と固定子基板10は、周辺部で接合され、
休止状態では、固定電極11は可動子2の先端に向かっ
て次第に可動電極5の平面から離れるため、両電極5,
11間には、ほぼ楔状の空隙14が形成される。
1)には、休止状態において舌片状可動子の平面可動電
極に対して、対向する面状固定電極が固定子基板上の固
定接点近傍の斜め面取り部に設けられた静電マイクロリ
レーが開示されている。その基本的な構造は図7に示す
ように、シリコンからなる可動子基板1をエッチングし
て舌片状の可動子2を可動子基板1に一体に形成し、可
動子2の下面に可動電極5,可動接点7,及び圧電層
3,圧電層電極5’,11’を設ける。可動子2の一端
は可動子基板1に弾性的に結合されている。固定子基板
10の上面に一部斜め面取り部16を形成し、一部斜め
面取り部16に固定電極11と固定接点13を設ける。
可動子基板1と固定子基板10は、周辺部で接合され、
休止状態では、固定電極11は可動子2の先端に向かっ
て次第に可動電極5の平面から離れるため、両電極5,
11間には、ほぼ楔状の空隙14が形成される。
【0004】可動電極5と固定電極11の間に電圧を印
加すると、これらと並列に接続された圧電層電極5’と
11’の間にも電圧が印加され、可動電極5は固定電極
11に向かって静電引力により吸引されるとともに、可
動子2は圧電層3によって固定電極11に向かって撓
み、接点7,13が閉じる。
加すると、これらと並列に接続された圧電層電極5’と
11’の間にも電圧が印加され、可動電極5は固定電極
11に向かって静電引力により吸引されるとともに、可
動子2は圧電層3によって固定電極11に向かって撓
み、接点7,13が閉じる。
【0005】また特開平8−255546号公報(公知
例2)には、休止状態において平面固定電極に対して、
対向する舌片状可動子の可動電極が平面固定電極から次
第に離れるように連続的に湾曲する形状を有する静電マ
イクロリレーが開示されている。その基本的な構造は図
8に示すように、シリコンからなる可動基板1を選択的
にエッチングして可動子2を形成し、可動子2の下面に
可動子シリコン層に応力を生じさせる応力付与層4を付
着して可動子2を上方に湾曲させている。さらに、可動
子2に可動電極5と可動接点7を形成している。
例2)には、休止状態において平面固定電極に対して、
対向する舌片状可動子の可動電極が平面固定電極から次
第に離れるように連続的に湾曲する形状を有する静電マ
イクロリレーが開示されている。その基本的な構造は図
8に示すように、シリコンからなる可動基板1を選択的
にエッチングして可動子2を形成し、可動子2の下面に
可動子シリコン層に応力を生じさせる応力付与層4を付
着して可動子2を上方に湾曲させている。さらに、可動
子2に可動電極5と可動接点7を形成している。
【0006】一方、固定子基板10上面の可動電極5及
び可動接点7に対向する位置に、固定電極11及び固定
接点13を形成している。可動子基板1と固定子基板1
0は周辺部で接着され、休止状態では可動子2は自由端
に向かって次第に平面固定子電極から離れるように連続
的に湾曲し、両者の間には楔状の空隙14が形成され
る。
び可動接点7に対向する位置に、固定電極11及び固定
接点13を形成している。可動子基板1と固定子基板1
0は周辺部で接着され、休止状態では可動子2は自由端
に向かって次第に平面固定子電極から離れるように連続
的に湾曲し、両者の間には楔状の空隙14が形成され
る。
【0007】図9は可動子基板の底面図である。可動子
2の自由端は、二つのスリット8によって、1つの可動
接点ばね部9と、可動接点ばね部9の両側に位置する2
つの可動電極部5とに分離されており、可動電極5が固
定電極11に吸引されたとき、可動接点ばね部9は弾性
的に撓んで接点に接触力を生ずる。可動電極5と固定電
極11との間に電圧源15から電圧が印加されると、可
動子2は固定端に近い部分程大きな静電引力を受け、根
元から先端に向かって順次固定電極11に吸引される。
湾曲した可動子2は固定電極11上に展延され、可動接
点7は固定接点13に接触する。
2の自由端は、二つのスリット8によって、1つの可動
接点ばね部9と、可動接点ばね部9の両側に位置する2
つの可動電極部5とに分離されており、可動電極5が固
定電極11に吸引されたとき、可動接点ばね部9は弾性
的に撓んで接点に接触力を生ずる。可動電極5と固定電
極11との間に電圧源15から電圧が印加されると、可
動子2は固定端に近い部分程大きな静電引力を受け、根
元から先端に向かって順次固定電極11に吸引される。
湾曲した可動子2は固定電極11上に展延され、可動接
点7は固定接点13に接触する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示した公知例1では、可動子に圧電駆動部を付加しなけ
ればならず、構造が複雑となり、製造性が劣るという課
題があった。
示した公知例1では、可動子に圧電駆動部を付加しなけ
ればならず、構造が複雑となり、製造性が劣るという課
題があった。
【0009】その理由は、公知例1では完全な楔状空隙
が形成されず、可動子2の根元部に空隙が残存するた
め、可動子2の運動開始時に可動電極と固定電極との間
に生じる静電吸引力が小さくなってしまう。従って、こ
の不足分を補うため、圧電駆動部が必要となるためであ
る。
が形成されず、可動子2の根元部に空隙が残存するた
め、可動子2の運動開始時に可動電極と固定電極との間
に生じる静電吸引力が小さくなってしまう。従って、こ
の不足分を補うため、圧電駆動部が必要となるためであ
る。
【0010】また、図8に示した公知例2では、可動電
極と固定電極の間の空隙あるいは可動接点と固定接点の
間の空隙が大きくなってしまい、動作電圧が高くなる、
あるいは接点接触力が低くなるという課題があった。
極と固定電極の間の空隙あるいは可動接点と固定接点の
間の空隙が大きくなってしまい、動作電圧が高くなる、
あるいは接点接触力が低くなるという課題があった。
【0011】その理由は、公知例2では、可動子が応力
付与層によって本来必要な長さ方向の湾曲だけでなく、
幅方向にも湾曲が生じてしまう。このため、可動子の可
動接点ばね部の両側に可動電極が配置される場合には、
可動電極と固定電極の間の距離が大きくなり、動作電圧
が高くなる。また、可動電極の両側に可動接点ばね部が
配置される場合には、可動接点と固定接点の間の距離が
大きくなり、接点の接触力が低下するためである。
付与層によって本来必要な長さ方向の湾曲だけでなく、
幅方向にも湾曲が生じてしまう。このため、可動子の可
動接点ばね部の両側に可動電極が配置される場合には、
可動電極と固定電極の間の距離が大きくなり、動作電圧
が高くなる。また、可動電極の両側に可動接点ばね部が
配置される場合には、可動接点と固定接点の間の距離が
大きくなり、接点の接触力が低下するためである。
【0012】本発明の目的は、小形化、高感度化、低消
費電力化するとともに、一括組立による生産性を向上さ
せる静電マイクロリレーを提供することにある。
費電力化するとともに、一括組立による生産性を向上さ
せる静電マイクロリレーを提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る静電マイクロリレーは、可動子基板
と、固定子基板とを有する静電マイクロリレーであっ
て、前記可動子基板は可動電極と可動接点とを備え、前
記固定子基板は固定電極と固定接点とを備え、可動電極
と固定電極との間に発生する静電引力によって可動接点
を固定接点に接触させるものであり、前記可動子基板の
可動電極は、平面形状に成形されたものであり、前記固
定子基板の固定電極は、前記平面形状の可動電極の先端
に向かって次第に該可動電極から離れるような凸状の曲
面形状に成形されたものであり、 前記固定子基板は、リ
ードフレームを有機樹脂でインサートモールドすること
によって形成されたものであり、 該リードフレームは、
パターン加工され、前記固定電極に相当する部分が前記
可動電極に対して凸状の曲面をなすように曲げ加工され
たものである。
め、本発明に係る静電マイクロリレーは、可動子基板
と、固定子基板とを有する静電マイクロリレーであっ
て、前記可動子基板は可動電極と可動接点とを備え、前
記固定子基板は固定電極と固定接点とを備え、可動電極
と固定電極との間に発生する静電引力によって可動接点
を固定接点に接触させるものであり、前記可動子基板の
可動電極は、平面形状に成形されたものであり、前記固
定子基板の固定電極は、前記平面形状の可動電極の先端
に向かって次第に該可動電極から離れるような凸状の曲
面形状に成形されたものであり、 前記固定子基板は、リ
ードフレームを有機樹脂でインサートモールドすること
によって形成されたものであり、 該リードフレームは、
パターン加工され、前記固定電極に相当する部分が前記
可動電極に対して凸状の曲面をなすように曲げ加工され
たものである。
【0014】
【0015】
【0016】
【0017】
【0018】
【0019】
【作用】本発明では、固定電極11を曲面形状に成形す
ることによって、可動電極5と固定電極11の間に完全
な楔状空隙を確保し、可動子2の運動開始時に可動電極
5と固定電極11の間に大きな静電吸引力を得る。この
ため、圧電駆動を併用する必要がなくなる。
ることによって、可動電極5と固定電極11の間に完全
な楔状空隙を確保し、可動子2の運動開始時に可動電極
5と固定電極11の間に大きな静電吸引力を得る。この
ため、圧電駆動を併用する必要がなくなる。
【0020】次に、可動子2に応力を生じさせるための
膜を形成しないため、可動子2は平面形状に保型され、
望ましくない幅方向の湾曲は生ぜず、電極間隔や接点間
隔は、所定の値となる。従って、望ましくない動作電圧
の上昇や接点接触力の低下を避けることが可能となる。
膜を形成しないため、可動子2は平面形状に保型され、
望ましくない幅方向の湾曲は生ぜず、電極間隔や接点間
隔は、所定の値となる。従って、望ましくない動作電圧
の上昇や接点接触力の低下を避けることが可能となる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
より説明する。
【0022】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係る静電マイクロリレーを示す断面図である。
1に係る静電マイクロリレーを示す断面図である。
【0023】図1において、可動子基板1は、例えばシ
リコンからなり、選択的なエッチングによって可動子2
をエッチング加工により一体に形成している。可動子2
は、一端が可動子基板1に固定され、先端が自由な片持
ち梁ばねであり、可動子2の下面には、例えば金属の蒸
着によって可動電極5と可動接点7が互いに絶縁されて
形成されている。
リコンからなり、選択的なエッチングによって可動子2
をエッチング加工により一体に形成している。可動子2
は、一端が可動子基板1に固定され、先端が自由な片持
ち梁ばねであり、可動子2の下面には、例えば金属の蒸
着によって可動電極5と可動接点7が互いに絶縁されて
形成されている。
【0024】また、固定子基板10は、例えばシリコン
からなり、可動電極5に対向する位置に、例えば電気化
学エッチングによって上方(即ち、可動子基板1側)に
凸状の曲面部10aを形成し、凸状の曲面部10aに金
属膜を蒸着することによって固定電極11を形成してい
る。固定電極11は、絶縁層12で被われている。
からなり、可動電極5に対向する位置に、例えば電気化
学エッチングによって上方(即ち、可動子基板1側)に
凸状の曲面部10aを形成し、凸状の曲面部10aに金
属膜を蒸着することによって固定電極11を形成してい
る。固定電極11は、絶縁層12で被われている。
【0025】また、固定子基板10の可動接点7に対向
する位置には、固定接点13が固定電極11と絶縁して
形成されている。可動子基板1と固定子基板10は、周
辺部で接着されるが、可動電極5と固定電極11は、絶
縁膜12によって絶縁される。また、可動子基板1上の
可動電極5と可動接点7は、接続パッドを経由して固定
子基板10上の引出し配線に接続されている。可動子基
板1上にシリコン基板の蓋(図4の符号20を参照)を
接着すれば、固定子基板10の配線引出しパッドを除い
て、可動子2の周囲の空間は密閉される。これら接着さ
れた三層の基板をリードフレーム上に接着固定し、固定
子基板10上の配線パッドとリードフレームとの間をワ
イヤボンド接続したのち、パッケージモールドを行う。
する位置には、固定接点13が固定電極11と絶縁して
形成されている。可動子基板1と固定子基板10は、周
辺部で接着されるが、可動電極5と固定電極11は、絶
縁膜12によって絶縁される。また、可動子基板1上の
可動電極5と可動接点7は、接続パッドを経由して固定
子基板10上の引出し配線に接続されている。可動子基
板1上にシリコン基板の蓋(図4の符号20を参照)を
接着すれば、固定子基板10の配線引出しパッドを除い
て、可動子2の周囲の空間は密閉される。これら接着さ
れた三層の基板をリードフレーム上に接着固定し、固定
子基板10上の配線パッドとリードフレームとの間をワ
イヤボンド接続したのち、パッケージモールドを行う。
【0026】図2は、可動子基板1の底面図である。可
動子2には、先端の自由端近くでスリット8によって、
可動電極部5と可動接点ばね部9に分離して形成してい
る。本発明の実施形態1では、可動子2の中央部に1つ
の可動電極5を形成し、可動電極5の両側に可動接点ば
ね部9をスリット8で分離して形成している。可動接点
ばね部9には、可動接点7と、可動接点7を可動子基板
1の端部の接続パッドに接続する接点配線6とが配置さ
れている。可動電極5は、可動子2に金属膜を成膜して
形成されており、可動電極5は、電極配線により可動子
基板1の端部の接続パッドに接続されている。
動子2には、先端の自由端近くでスリット8によって、
可動電極部5と可動接点ばね部9に分離して形成してい
る。本発明の実施形態1では、可動子2の中央部に1つ
の可動電極5を形成し、可動電極5の両側に可動接点ば
ね部9をスリット8で分離して形成している。可動接点
ばね部9には、可動接点7と、可動接点7を可動子基板
1の端部の接続パッドに接続する接点配線6とが配置さ
れている。可動電極5は、可動子2に金属膜を成膜して
形成されており、可動電極5は、電極配線により可動子
基板1の端部の接続パッドに接続されている。
【0027】図3は、固定子基板10の固定電極11を
凸状の曲面に形成する方法の一例を示す図である。
凸状の曲面に形成する方法の一例を示す図である。
【0028】まずp型基板21の底面の一部にn型不純
物を付着させて拡散を行う。この拡散に伴って、p型基
板21とn型領域22と間のpn接合面17は、上方に
凸状の曲面として形成される。またn型領域22のエッ
チング処理をしない領域はマスク18で被覆して置く。
次に図3に示すように、n型領域22に電極を取り付
け、p型基板21を電解エッチング液19中に浸漬さ
せ、電解エッチング液19中でn型領域22のみ陽極酸
化される電位を与えて電気化学エッチングを行う。この
エッチング処理が進行して、エッチングがn型面に達し
たとき、その表面には酸化膜が形成され、n型層はエッ
チングから保護され、pn接合面17に沿って凸状の曲
面が得られる。これを、凸状の曲面を有する固定子基板
10の固定電極11として使用する。
物を付着させて拡散を行う。この拡散に伴って、p型基
板21とn型領域22と間のpn接合面17は、上方に
凸状の曲面として形成される。またn型領域22のエッ
チング処理をしない領域はマスク18で被覆して置く。
次に図3に示すように、n型領域22に電極を取り付
け、p型基板21を電解エッチング液19中に浸漬さ
せ、電解エッチング液19中でn型領域22のみ陽極酸
化される電位を与えて電気化学エッチングを行う。この
エッチング処理が進行して、エッチングがn型面に達し
たとき、その表面には酸化膜が形成され、n型層はエッ
チングから保護され、pn接合面17に沿って凸状の曲
面が得られる。これを、凸状の曲面を有する固定子基板
10の固定電極11として使用する。
【0029】次に本発明の実施形態1に係る静電マイク
ロリレーの動作について説明する。平面状の可動電極5
と曲面状の固定電極11の間には、絶縁膜12を介して
楔状の空隙14が形成されている。両電極5,11間に
電圧源15から電圧が印加されると、電極5,11間に
距離の二乗に反比例する静電引力が作用するため、可動
子2は、固定端に近い部分ほど固定子基板10側に強く
引き付けられる。
ロリレーの動作について説明する。平面状の可動電極5
と曲面状の固定電極11の間には、絶縁膜12を介して
楔状の空隙14が形成されている。両電極5,11間に
電圧源15から電圧が印加されると、電極5,11間に
距離の二乗に反比例する静電引力が作用するため、可動
子2は、固定端に近い部分ほど固定子基板10側に強く
引き付けられる。
【0030】従って、可動子2は、基部の固定端に近い
部分から先端の自由端に向かって順次撓み、可動子2の
可動電極5が固定子基板10の固定電極11に静電吸引
力によって吸引される。可動子2の可動電極5が固定電
極11に吸引されると、可動接点ばね部9も、これに連
動し、可動接点7が固定接点13に接触する。可動電極
5が固定電極11に完全に吸引されると、可動接点ばね
部9が撓んで接点7,13に接触力を与える。電極5,
11間の電圧を除くと、静電吸引力は消滅し、可動子2
は、その弾性復元力により復旧する。
部分から先端の自由端に向かって順次撓み、可動子2の
可動電極5が固定子基板10の固定電極11に静電吸引
力によって吸引される。可動子2の可動電極5が固定電
極11に吸引されると、可動接点ばね部9も、これに連
動し、可動接点7が固定接点13に接触する。可動電極
5が固定電極11に完全に吸引されると、可動接点ばね
部9が撓んで接点7,13に接触力を与える。電極5,
11間の電圧を除くと、静電吸引力は消滅し、可動子2
は、その弾性復元力により復旧する。
【0031】(実施例2)次に、本発明の実施形態2に
ついて図面を参照して説明する。
ついて図面を参照して説明する。
【0032】図4は、本発明の実施形態2を示す断面図
であり、図5は、可動子基板の底面図、図6は、固定子
基板の平面図である。
であり、図5は、可動子基板の底面図、図6は、固定子
基板の平面図である。
【0033】実施形態2において、図4及び図5に示す
ように可動子基板1の構成は、実施形態1のものと同じ
構成になっている。
ように可動子基板1の構成は、実施形態1のものと同じ
構成になっている。
【0034】実施形態2の固定子基板10は、リードフ
レーム11aを有機樹脂でインサートモールドすること
によって形成されており、リードフレーム11aは、パ
ターン加工され、固定電極11に相当する部分が可動電
極5に対して凸状の曲面をなすように曲げ加工されてい
る。またリードフレーム11aは、絶縁膜12によって
被覆されている。
レーム11aを有機樹脂でインサートモールドすること
によって形成されており、リードフレーム11aは、パ
ターン加工され、固定電極11に相当する部分が可動電
極5に対して凸状の曲面をなすように曲げ加工されてい
る。またリードフレーム11aは、絶縁膜12によって
被覆されている。
【0035】また固定子基板10は固定接点13に対応
する部分が開口され、開口10b内にリードフレーム1
1aが露出し、露出したリードフレーム11aに固定接
点13をなす接点金属がメッキされている。また、リー
ドフレーム11aは、可動電極5に接続する引出し接続
部11c、可動接点7に接続する引出し接続部11d,
11eの箇所も絶縁膜12を除去された後、半田メッキ
される。可動子基板1は上面に蓋20が接着された後、
固定子基板10に接着される。接着された三層の基板は
パッケージモールドされる。
する部分が開口され、開口10b内にリードフレーム1
1aが露出し、露出したリードフレーム11aに固定接
点13をなす接点金属がメッキされている。また、リー
ドフレーム11aは、可動電極5に接続する引出し接続
部11c、可動接点7に接続する引出し接続部11d,
11eの箇所も絶縁膜12を除去された後、半田メッキ
される。可動子基板1は上面に蓋20が接着された後、
固定子基板10に接着される。接着された三層の基板は
パッケージモールドされる。
【0036】本発明の実施形態2に係る静電マイクロリ
レーは、実施形態1と同様に動作する。
レーは、実施形態1と同様に動作する。
【0037】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、可動電極
を平面形状に保型し、固定電極を可動電極に対し凸状な
曲面形状に保型することにより、可動電極と固定電極間
に完全な楔状空隙が形成され、この空隙先端部に大きな
静電吸引力を発生させることができ、可動子の運動開始
時に可動電極と固定電極間に大きな静電引力を得ること
ができ、圧電駆動を併用する必要がなくなる。
を平面形状に保型し、固定電極を可動電極に対し凸状な
曲面形状に保型することにより、可動電極と固定電極間
に完全な楔状空隙が形成され、この空隙先端部に大きな
静電吸引力を発生させることができ、可動子の運動開始
時に可動電極と固定電極間に大きな静電引力を得ること
ができ、圧電駆動を併用する必要がなくなる。
【0038】また本発明では、可動子に応力付与層を設
けることがなく、可動電極の幅方向に湾曲を生じること
を防止でき、このため、可動電極と固定電極の間の距離
を拡大することがなく、したがって動作電圧を高くする
必要がなく、リレーの動作電圧の上昇や接点接触力の低
下を回避することができる。
けることがなく、可動電極の幅方向に湾曲を生じること
を防止でき、このため、可動電極と固定電極の間の距離
を拡大することがなく、したがって動作電圧を高くする
必要がなく、リレーの動作電圧の上昇や接点接触力の低
下を回避することができる。
【0039】また前記可動子基板にはエッチングにより
可動子を一体的に形成する、或いは固定子基板は、リー
ドフレームを有機樹脂でインサートモールドすることに
よって形成し、リードフレームをパターン加工し、固定
電極に相当する部分を可動電極に対して凸状の曲面をな
すように曲げ加工するものであり、汎用の製造方法を利
用して生産性を向上させることができる。
可動子を一体的に形成する、或いは固定子基板は、リー
ドフレームを有機樹脂でインサートモールドすることに
よって形成し、リードフレームをパターン加工し、固定
電極に相当する部分を可動電極に対して凸状の曲面をな
すように曲げ加工するものであり、汎用の製造方法を利
用して生産性を向上させることができる。
【0040】また固定子基板は、エッチングにより固定
電極を設置する面を凸状の曲面に形成するため、汎用の
製造方法を利用して生産性を向上させることができる。
電極を設置する面を凸状の曲面に形成するため、汎用の
製造方法を利用して生産性を向上させることができる。
【図1】本発明の実施形態1を示す断面図である。
【図2】本発明の実施形態1における可動子基板の底面
図である。
図である。
【図3】本発明の実施形態1における固定電極のための
曲面を形成する方法の一例を示す図である。
曲面を形成する方法の一例を示す図である。
【図4】本発明の実施形態2を示す断面図である。
【図5】本発明の実施形態2における固定子の底面図で
ある。
ある。
【図6】本発明の実施形態2における固定子基板の平面
図である。
図である。
【図7】従来の公知例1に係るリレーの断面図である。
【図8】従来の公知例2に係るリレーの断面図である。
【図9】従来の公知例2のリレーの可動子基板を示す底
面図である。
面図である。
1 可動子基板 2 可動子 5 可動電極 7 可動接点 8 スリット 9 可動接点ばね部 10 固定子基板 11a リードフレーム 11 固定電極 13 固定接点 17 pn接合面
Claims (1)
- 【請求項1】 可動子基板と、固定子基板とを有する静
電マイクロリレーであって、 前記可動子基板は可動電極と可動接点とを備え、前記固
定子基板は固定電極と固定接点とを備え、可動電極と固
定電極との間に発生する静電引力によって可動接点を固
定接点に接触させるものであり、 前記可動子基板の可動電極は、平面形状に成形されたも
のであり、 前記固定子基板の固定電極は、前記平面形状の可動電極
の先端に向かって次第に該可動電極から離れるような凸
状の曲面形状に成形されたものであり、 前記固定子基板は、リードフレームを有機樹脂でインサ
ートモールドすることによって形成されたものであり、 該リードフレームは、パターン加工され、前記固定電極
に相当する部分が前記可動電極に対して凸状の曲面をな
すように曲げ加工されたものである ことを特徴とする静
電マイクロリレー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09125546A JP3139413B2 (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 静電マイクロリレー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09125546A JP3139413B2 (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 静電マイクロリレー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10312734A JPH10312734A (ja) | 1998-11-24 |
JP3139413B2 true JP3139413B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=14912883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09125546A Expired - Fee Related JP3139413B2 (ja) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | 静電マイクロリレー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3139413B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69734537T2 (de) * | 1996-08-27 | 2006-08-10 | Omron Corp. | Mikrorelais und Verfahren zu seiner Herstellung |
KR100419233B1 (ko) * | 2002-03-11 | 2004-02-21 | 삼성전자주식회사 | 멤스소자 및 그의 제작방법 |
JP4513366B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2010-07-28 | パナソニック株式会社 | 機械共振器、フィルタおよび電気回路 |
GB0320405D0 (en) * | 2003-08-30 | 2003-10-01 | Qinetiq Ltd | Micro electromechanical system switch |
JP4855233B2 (ja) | 2006-12-07 | 2012-01-18 | 富士通株式会社 | マイクロスイッチング素子およびマイクロスイッチング素子製造方法 |
-
1997
- 1997-05-15 JP JP09125546A patent/JP3139413B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10312734A (ja) | 1998-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3796988B2 (ja) | 静電マイクロリレー | |
EP0608816B1 (en) | Electrostatic relay | |
JP2001514434A (ja) | マイクロメカニカル静電リレー及びそれの作製方法 | |
JP5263203B2 (ja) | 静電リレー | |
US6396372B1 (en) | Electrostatic micro relay | |
JP3493974B2 (ja) | 静電マイクロリレー | |
JP3139413B2 (ja) | 静電マイクロリレー | |
US9272898B2 (en) | Electric device and method of manufacturing the same | |
JP3669207B2 (ja) | マイクロリレー | |
JPH11176307A (ja) | 静電マイクロリレー | |
JP2000164105A (ja) | マイクロマシン、マイクロアクチュエータ及びマイクロリレー | |
JP2000332179A (ja) | 端子の固定構造 | |
JP2002289081A (ja) | 静電マイクロリレー、並びに、該静電マイクロリレーを利用した無線装置及び計測装置 | |
JP3368304B2 (ja) | 静電マイクロリレー | |
JP3879225B2 (ja) | 静電マイクロリレー | |
JP2000021282A (ja) | 静電マイクロリレー | |
JP2757830B2 (ja) | 電磁リレー | |
JPH1154016A (ja) | マイクロリレー | |
JP2001023497A (ja) | 静電マイクロリレー | |
JP3637804B2 (ja) | 静電リレー | |
JP2008210640A (ja) | 静電駆動素子およびそれを備えた静電駆動デバイス | |
JP2001014997A (ja) | 静電リレー | |
JP4124428B2 (ja) | マイクロリレー | |
JPH0714483A (ja) | マイクロバイメタルリレーおよびその製造方法 | |
JP2001014998A (ja) | 静電リレー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071215 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081215 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081215 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091215 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |