JP3130504B2 - リトグラフ印刷版およびその製造方法 - Google Patents

リトグラフ印刷版およびその製造方法

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JP3130504B2 JP10153258A JP15325898A JP3130504B2 JP 3130504 B2 JP3130504 B2 JP 3130504B2 JP 10153258 A JP10153258 A JP 10153258A JP 15325898 A JP15325898 A JP 15325898A JP 3130504 B2 JP3130504 B2 JP 3130504B2
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    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リトグラフ印刷に
用いられる感熱記録部材を備えた印刷版およびその製造
方法に関し、特に高出力レーザーを用いて記録部材に像
を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】リトグラフ印刷は、インキを受付ける
（すなわち親油性）領域の周囲をインキを受付けない
（すなわち疎油性）領域で取り囲んだ特別に用意された
印刷面を用いる印刷の形態である。今日、印刷面を製作
するのにそれぞれドライおよびウエットプロセスとして
参照される二つの商業的な方法がある。両プロセスにお
いて、印刷面は印刷版上に形成される。
【０００３】ドライオグラフィク印刷と呼ばれるドライ
プロセスにおいて、ある一定の印刷版が使用されてい
る。これらの印刷版は、シリコン層で形成されたインキ
を特にはじく領域とインキを特に吸収する他の領域とを
備えている。第２のより一般に使用されるプロセスで
は、ウエット印刷版が使用され、親水性または疎水性領
域を含む印刷版面に水および／または水性湿化液が油脂
性インキと共に施される。
【０００４】親水性領域は水または湿化液が浸透し、疎
油性になる。反対に、疎水性領域は水をはじきインキを
受け入れる。
【０００５】公知の技術のプロセスの幾つかの例では、
感光材料は、露光時に受像性すなわちインキをはじくよ
うにされる。これらの例として、米国特許第5,401,611
号および第4,034,183 号に開示されたプロセスが含まれ
る。一般に、これらの光学すなわち写真印刷法は、露光
時に親油性または疎油性になる物質を使用している。米
国特許第5,401,611 号に開示されている方法では、熱モ
ードの記録部材による化学線に対する像露光工程が用い
られている。記録部材は、親水性表面を備えた支持体を
備えまたは親水性層および金属層を備えている。これら
の層の上には厚さ50nm以下の疎水性層が設けられ、それ
により露出した領域は親水性となり油性インキをはじく
ようになる。米国特許第5,401,611 号に開示されている
記録部材は、特殊な化学式をもつ疎水化剤で特徴付けら
れる。
【０００６】また米国特許第4,034,183 号に開示されて
いる記録部材は感熱性で、陽極のアルミニウム支持体上
に親水性層を備えている。米国特許第4,034,183 号に開
示されている熱モードの記録部材は、レーザーを用いて
選択的に露光され、それにより露光した領域は疎水性に
なり、従ってインキは部材に受け入れられることにな
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、印刷
版を損傷させる危険なしに通常の日光のもとで取り扱う
ことのできる感熱性のリトグラフ印刷記録部材を露光す
る方法を提供することにある。
【０００８】本発明の他の目的は、記録部材に形成され
たフィーチャーの良好なアスペクト比を得ることができ
る上記の方法を提供することにある。
【０００９】本発明のさらに他の目的は、リトグラフ印
刷法において処理されなければならない銀ハロゲン化物
の量を著しく低減することができる上記の方法を提供す
ることにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、リトグ
ラフ印刷法において用いられる平坦な疎油性基板上にエ
マルションを備えた記録部材を製造する方法は、前記エ
マルションのすべてを露光する工程と、前記エマルショ
ンのすべてを現像して、前記エマルションのすべてがイ
ンキを受け入れることができるようにする工程と、記録
部材の選択した領域からのみエマルションを熱的に除去
して基板を露出させる工程とを有する。
【００１１】本発明の他の特徴によれば、記録部材を製
造する方法に従って製造した製造物は、平坦な基板上に
エマルションを用意する工程と、前記エマルションのす
べてを露光する工程と、前記エマルションのすべてを現
像して、前記エマルションのすべてがインキを受け入れ
ることができようにする工程と、記録部材の選択した領
域からのみエマルションを熱的に除去して基板を露出さ
せる工程とを有する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して実施の
形態に基づき本発明を説明する。
【００１３】まず図１を参照すると、リトグラフ印刷法
における公知の形式の記録媒体１０が、簡略化された概
略図で示されている。この媒体はアルミニウム基板１４
上に形成された感光性エマルション層１２から成ってい
る。従来技術のプロセスにおいて、露光されてない感光
性エマルションが用意され、室光に晒されないように遮
光状態で輸送され取り扱われる。その結果、従来のリト
グラフ印刷法において、望まない露光に対する通常の処
置および安全対策に悩まされている。このことは、未使
用の印刷版およびすでに露光されているがまだ現像され
てない印刷版の両方に対して言える。
【００１４】従来技術のウエット法１６は、図９に概略
的にまとめて示されている。この例における記録媒体す
なわち印刷版は、ブロック１８で製作される。フィーチ
ャーはブロック２０における選択露光によって印刷版に
形成される。印刷版はブロック２２において現像され、
ブロック２４で水性インキ溶液に浸漬される。
【００１５】図２の簡略化された概略図において、エマ
ルションの選択した領域は、一般的にアルゴンイオンレ
ーザーからの光線２６を受ける。例えば図面における領
域２８は光化学反応を受けるが、それに隣接した領域３
０，３２は光化学反応を受けない。図３の概略図に示す
ように、現像溶液に印刷版を浸漬するその後のプロセス
工程において、領域３０，３２からすべてのエマルショ
ンが取り除かれる。これらの領域は、アルミニウム基板
の相応した領域３４，３６を露出させて親水性にさせ、
その後水性インキ溶液３８に浸漬した時に吸水する（図
４）。インキは、領域２８においてのみ吸収される。
【００１６】次に図５を参照すると、本発明の好ましい
実施の形態における通常のＳＤＢ Du Pont Howsen 印刷
版４０である記録媒体が、簡略化された概略図で示され
ている。この印刷版は、通常図２に示すようにアルゴン
イオンレーザーからの光線で露光されそして以下に詳細
に説明する仕方でエマルションの露光した領域を除去す
るために、化学的に現像される形式のものである。
【００１７】図１０は、本発明によるプロセスを概略的
に示す。印刷版を製作した後（ブロック４４）、印刷版
全体は現像される（ブロック４６）。望ましくない領域
は、印刷版を水性インキ溶液に浸漬する（ブロック５
０）前に高出力レーザーで融蝕される（ブロック４
８）。
【００１８】しかしながら、本発明では図６に示すよう
に、印刷版４０の全表面５２は、図３に関して記載した
ように、完全に化学的に処理されて露光したアルミニウ
ムのない黒領域５４をすべて残す。この露光した領域は
フィーチャーをもたず、その後に水性インキ溶液に浸漬
することによりアルミニウムによる吸水なしに表面上で
インキが吸収されることになる。
【００１９】本方法では、印刷版におけるフィーチャー
は、処理したエマルションの選択した領域を除去するの
に十分なレベルで発生するレーザーエネルギーによって
形成される。図７を参照すると、図５の印刷版４０が高
出力レーザー光線５６に露光されている様子を概略的に
示す。材料は、フィーチャーの外側に位置するこれらの
選択した領域５８，６０において融蝕により表面から除
去され、それにより下側に位置するアルミニウム層の表
面領域６２，６４が露出する。好ましい実施の形態にお
いて、融蝕工程はGerber C42T 像形成システムに見られ
るような高出力レーザーによって行われる。本発明で
は、従来技術による方法と同様に、露出した表面領域６
２，６４は水を吸収して親水性となり、領域６６のよう
な露出してない領域は親油性となる。真空の適用は、エ
マルションが融蝕されることになる領域における破壊屑
を除去するのに非常に有効である。
【００２０】本発明において処理された記録媒体は、商
業用のプリンターに通常のようにして装着され印刷版か
ら像を印刷することができる。本方法は、公知の仕方で
処理した熱印刷版と同じ特性をもつ像を形成するが、各
フィーチャーの像はよりシャープであり、しかもこのフ
ィーチャーの縁部のアスペクト比がよいので縁部の細部
がより高くなる。当業者にはわかるように、エマルショ
ンを熱的に除去する他の方法は、基板からエマルション
を除去するのに十分な出力をもたらすものを含む直接レ
ーザー照射による以外に本発明によって意図される。
【００２１】本発明により、記録媒体、特にDupont SDB
印刷版を顧客に発送する前に現像工程を含む工場で製作
することができる。本発明に従って製作した印刷版は、
日光に対して安全であり、公知の方法で処理した印刷版
に使用されていた保護手段を必要としない。その結果、
本発明は、個々の印刷版処理の観点からと共に感光性印
刷版の不完全な取り扱いに関連した損失の減少により、
リトグラフ印刷版の製造コストを低減することができ
る。
【００２２】熱印刷版セッターにより、像は、従来の仕
方で製作した印刷版の元の特性以上に改良される。本発
明が従来技術と異なる点は、用いなければならない銀の
量であり、本発明は、普通の印刷版における走行長さを
僅かに長くさせ、唯一の欠点は、標準のリトグラフ印刷
版の最近の使用に基いて印刷版を露光するのに必要な量
である。当然、当業者に認められるように、本発明の特
定のパラメータは、いかなる過剰の出力要求も低減する
ように最適化され得る。
【００２３】本発明は、像の質を最良化する付加的な工
程を意図し、図８に概略的に示す。
【００２４】像は、上記の工程で形成されるが、エマル
ションをレーザービームで融蝕する領域に少量の屑６８
が残る。そのため、部分的に露出した記録媒体が洗浄さ
れ滲出される。この工程により、すべての屑は除去さ
れ、アルミニウムを浄化して吸水を良くする。
【００２５】次に図１１を参照すると、本発明によって
提供される屑除去装置７０が、簡略化された概略図で示
されている。屑除去装置は真空ノズル７２を有し、この
真空ノズル７２は複数の孔７４を備え、これらの孔は媒
体印刷版面上を真空にするように離間されている。好ま
しい実施の形態において、真空ノズルを排気するために
二つのホース７６，７８が設けられている。これらのホ
ースは、Ｙ形ユニオン８０でホース８３に連結されてい
る。屑は、好ましくは孔の大きさが0.3 μｍのフィルタ
８２に入り、そして最後に真空ポンプ８４に到達する。
ノズルホースの外径は好ましくは３／４インチであり、
またフイルタまでのホースの外径は他の種々の要素を接
続する残りのホースと共に好ましくは１．２５インチで
ある。好ましい実施の形態において、真空ポンプは毎分
６０立方フィートで排気する。屑は好ましい実施の形態
において、系から排気管へ排出される。
【００２６】図１２は、真空ノズル７２の一部の断面を
詳細に示す。真空ノズルは、好ましくは管状を成し、そ
の長手方向軸線に沿って湾曲し、印刷版７５を受けるド
ラムの湾曲面７３にほぼ一致するようにされている。ド
ラムは、それぞれ“像形成システムの光線を拡張するレ
ンズの位置決め装置および方法”および“像形成装置用
の磁気的に予め負荷のかけられた空気軸受運動システ
ム”と題する米国特許出願番号第08/674,439号および第
08/674,763号に記載されている形式のものである。ノズ
ル材料は好ましくは、外径１／４インチ、壁厚0.65イン
チのアルミニウム合金（6061-t6 ）引抜管から成ってい
る。真空ホースはノズル口部８６，８８で受けられ、こ
れらのノズル口部は好ましくは真空ホースにねじ接続す
るアダプター取付け部を備えている。
【００２７】真空ノズルは、管状ノズルの外壁に沿って
水平に対してほぼ30°離間される複数の孔７４を備えて
いる。これらの孔は、露光ビーム９０が高速走査方向９
１において印刷版を横切って掃引する際に露光ビーム９
０に最も隣接するすることになる表面の周りに形成され
る。印刷版が湾曲したドラム表面に受けられる時に、ノ
ズルは相応して湾曲される。ノズルの角度的広がりは、
高速走査方向に関して、走査ビームの掃引と実質的に同
じ広がりである。他の像形成システムにおいて、ノズル
の幾何学形状は、印刷版に近接するのを保証するため印
刷版の形状に合わせられる。
【００２８】装置はさらに、装着用のブラケット９２，
９４を備え、これらのブラケットはノズルの末端部に溶
着されている。ブラケット自体は、図示してなく本発明
の一部を成さないキャリッジで受けるようにされる。好
ましい実施の形態では、ブラケットは通常の形式の衝撃
吸収ゴムマウント（図示してない）を用いてキャリッジ
に固定される。従って、ノズルは、低速走査方向におい
てキャリッジと一緒に動く。好ましい実施の形態におい
て、ノズル外面は、印刷版面からほぼ３／16インチ離間
される。
【００２９】本発明は好ましい実施の形態に関して図示
し説明してきたが、本発明の精神および範囲から逸脱す
ることなく他の種々の変更および付加がなされることは
当業者に理解される。
【００３０】
【発明の効果】本発明の代表的なものによって得られる
効果を簡単に説明すれば、以下の通りである。
【００３１】本発明の感熱性のリトグラフ印刷記録部材
を露光する方法によれば、印刷版を損傷させる危険なし
に通常の日光のもとで取り扱うことができる。
【００３２】また、記録部材に形成されたフィーチャー
の良好なアスペクト比を得ることができる。
【００３３】さらに、リトグラフ印刷法において処理さ
れなければならない銀ハロゲン化物の量を著しく低減す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術のリトグラフ印刷法に使用された記録
媒体の一部としてアルミニウム基板上に置かれたエマル
ションを示す簡略化した概略図である。
【図２】従来技術のリトグラフ印刷法における光線を受
ける図１の記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図３】従来技術のリトグラフ印刷法における現像中の
図１の記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図４】従来技術のリトグラフ印刷法における選択した
領域において、インキ印刷する状態を示す図２の光照射
記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図５】アルミニウム基板上に置かれたエマルションか
ら成る本方法で処理される記録媒体を示す簡略化した概
略図である。
【図６】現像中の図５の記録媒体を示す簡略化した概略
図である。
【図７】熱融蝕中の図５の露光記録媒体を示す簡略化し
た概略図である。
【図８】融蝕し、インキ受け領域を傷付けずに洗浄した
後の図６の記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図９】リトグラフ印刷記録媒体を製作する従来技術の
方法を示す概略図である。
【図１０】本発明によって提供されるリトグラフ印刷記
録媒体を製作する方法を示す概略図である。
【図１１】本発明によって提供される屑除去装置の簡略
化した概略図である。
【図１２】図１１の屑除去装置に用いられるノズルの簡
略化した断面図である。
【符号の説明】
４０ 印刷版 ４４ 印刷版の製作 ４６ 印刷版全体を現像する工程 ４８ 融蝕工程 ５０ 印刷版を水性インキ溶液に浸漬する工程 ５８，６０ 選択した領域 ６８ 屑 ７６，７８ ホース ７２ 真空ノズル ７４ 孔 ７５ 印刷版 ８２ フィルタ ８４ 真空ポンプ ８６，８８ ノズル口部 ９０ 露光ビーム ９１ 高速走査方向 ９２，９４ ブラケット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−89425（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−283931（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−21305（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−43894（ＪＰ，Ａ)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 リトグラフ印刷用の平坦な疎油性基板
    （１４）上にエマルション（１２）を備えた記録部材
    （１０）を製造する方法において、前記エマルションのすべてを露光する工程と、 前記エマルションのすべてを現像して、前記エマルショ
    ンのすべてがインキを受け入れることができるようにす
    る工程と、 前記記録部材の選択した領域（５８，６０）からのみ前
    記エマルションを熱的に除去して前記基板を露出させる
    工程（４８）とを特徴とする製造方法。
  2. 【請求項２】 前記熱的に除去する工程が、前記エマル
    ション（１２）の選択した領域（５８，６０）を、前記
    エマルションの選択した領域のみを前記基板（１４）か
    ら融蝕する（４８）のに十分な大きさのレベルで光学エ
    ネルギーに晒す工程によって特徴付けられる請求項１に
    記載の製造方法。
  3. 【請求項３】 さらに、前記処理し融蝕した記録部材
    （１０）を水性インキ溶液に浸漬する工程（５０）を特
    徴とする請求項２に記載の製造方法。
  4. 【請求項４】 さらに、前記融蝕工程（４８）後に前記
    記録部材（１０）を洗浄して前記選択した領域（５８，
    ６０）から残留エマルション（１２）を除去する工程を
    特徴とする請求項２に記載の製造方法。
  5. 【請求項５】 さらに、前記エマルションを熱的に除去
    する工程（４８）中に、真空により融蝕したエマルショ
    ン（１２）を捕捉する工程を特徴とする請求項２に記載
    の製造方法。
  6. 【請求項６】 記録部材（１０）を製造する方法に従っ
    て製造された製造物において、前記方法は、平坦な基板上にエマルションを用意する工程と、 前記エマルションのすべてを露光する工程と、 前記エマルションのすべてを現像して、前記エマルショ
    ンのすべてがインキを受け入れることができるようにす
    る工程と、 前記記録部材の選択した領域（５８，６０）からのみ前
    記エマルションを熱的に除去して前記基板を露出させる
    工程（４８）とを特徴とする製造物。
  7. 【請求項７】 前記熱的に除去する工程が、前記エマル
    ション（１２）の選択した領域（５８，６０）を、前記
    エマルションの選択した領域のみを前記基板（１４）か
    ら融蝕する（４８）のに十分な大きさのレベルで光学エ
    ネルギーに晒す工程によって特徴付けられる請求項６に
    記載の製造物。
  8. 【請求項８】 さらに、前記処理し融蝕した記録部材
    （１０）を水性インキ溶液に浸漬する工程（５０）を特
    徴とする請求項６に記載の製造物。
  9. 【請求項９】 前記基板（１４）がアルミニウムから成
    っていることを特徴とする請求項６に記載の製造物。
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