JPH112897A - リトグラフ印刷版およびその製造方法 - Google Patents

リトグラフ印刷版およびその製造方法

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JPH112897A
JPH112897A JP10153258A JP15325898A JPH112897A JP H112897 A JPH112897 A JP H112897A JP 10153258 A JP10153258 A JP 10153258A JP 15325898 A JP15325898 A JP 15325898A JP H112897 A JPH112897 A JP H112897A
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    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 印刷版を損傷させる危険なしに通常の日光の
もとで取り扱うことのできる感熱性のリトグラフ印刷記
録部材およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 リトグラフ印刷に用いられる印刷版40
は、感熱性記禄部材を備えている。印刷版は、アルミニ
ウム基板の上面に固定された感光性エマルションで形成
される。印刷版はまず化学的に処理され、インキを許容
できるようにし(すなわち親油性にされ)、その後、エ
マルションの選択した領域58,60は、好ましくは高
出力レーザー光線56に露光させることにより熱的に除
去される。そして印刷版は、水性インキ溶液に浸漬され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リトグラフ印刷に
用いられる感熱記憶部材を備えた印刷版およびその製造
方法に関し、特に高出力レーザーを用いて記憶部材に像
を形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】リトグラフ印刷は、インキを受付ける
(すなわち親油性)領域の周囲をインキを受付けない
(すなわち疎油性)領域で取り囲んだ特別に用意された
印刷面を用いる印刷の形態である。今日、印刷面を製作
するのにそれぞれドライおよびウエットプロセスとして
参照される二つの商業的な方法がある。両プロセスにお
いて、印刷面は印刷版上に形成される。
【0003】ドライオグラフィク印刷と呼ばれるドライ
プロセスにおいて、ある一定の印刷版が使用されてい
る。これらの印刷版は、シリコン層で形成されたインキ
を特にはじく領域とインキを特に吸収する他の領域とを
備えている。第2のより一般に使用されるプロセスで
は、ウエット印刷版が使用され、親水性または疎水性領
域を含む印刷版面に水および/または水性湿化液が油脂
性インキと共に施される。
【0004】親水性領域は水または湿化液が浸透し、疎
油性になる。反対に、疎水性領域は水をはじきインキを
受け入れる。
【0005】公知の技術のプロセスの幾つかの例では、
感光材料は、露光時に受像性すなわちインキをはじくよ
うにされる。これらの例として、米国特許第5,401,611
号および第4,034,183 号に開示されたプロセスが含まれ
る。一般に、これらの光学すなわち写真印刷法は、露光
時に親油性または疎油性になる物質を使用している。米
国特許第5,401,611 号に開示されている方法では、熱モ
ードの記録部材による化学線に対する像露光工程が用い
られている。記録部材は、親水性表面を備えた支持体を
備えまたは親水性層および金属層を備えている。これら
の層の上には厚さ50nm以下の疎水性層が設けられ、それ
により露出した領域は親水性となり油性インキをはじく
ようになる。米国特許第5,401,611 号に開示されている
記録部材は、特殊な化学式をもつ疎水化剤で特徴付けら
れる。
【0006】また米国特許第4,034,183 号に開示されて
いる記録部材は感熱性で、陽極のアルミニウム支持体上
に親水性層を備えている。米国特許第4,034,183 号に開
示されている熱モードの記録部材は、レーザーを用いて
選択的に露光され、それにより露光した領域は疎水性に
なり、従ってインキは部材に受け入れられることにな
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、印刷
版を損傷させる危険なしに通常の日光のもとで取り扱う
ことのできる感熱性のリトグラフ印刷記録部材を露光す
る方法を提供することにある。
【0008】本発明の他の目的は、記録部材に形成され
たフィーチャーの良好なアスペクト比を得ることができ
る上記の方法を提供することにある。
【0009】本発明のさらに他の目的は、リトグラフ印
刷法において処理されなければならない銀ハロゲン化物
の量を著しく低減することができる上記の方法を提供す
ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、リトグ
ラフ印刷法において用いられる平坦な疎油性基板上にエ
マルションを備えた記録部材を製造する方法は、記録部
材を化学的に処理してすべてのエマルションをインキを
許容できるように(すなわち親油性に)する工程と、記
録部材の選択した領域からのみエマルションを熱的に除
去して基板を露出させる工程とを有する。
【0011】本発明の他の特徴によれば、記録部材を製
造する方法に従って製造した物品は、平坦な疎油性基板
上にエマルションを形成する工程と、記録部材を化学的
に処理してすべてのエマルションをインキを許容できる
ように(すなわち親油性に)する工程と、記録部材の選
択した領域からのみエマルションを熱的に除去して基板
を露出させる工程とを有する。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して実施の
形態に基づき本発明を説明する。
【0013】まず図1を参照すると、リトグラフ印刷法
における公知の形式の記録媒体10が、簡略化された概
略図で示されている。この媒体はアルミニウム基板14
上に形成された感光性エマルション層12から成ってい
る。従来技術のプロセスにおいて、露光されてない感光
性エマルションが用意され、室光に晒されないように遮
光状態で輸送され取り扱われる。その結果、従来のリト
グラフ印刷法において、望まない露光に対する通常の処
置および安全対策に悩まされている。このことは、未使
用の印刷版およびすでに露光されているがまだ現像され
てない印刷版の両方に対して言える。
【0014】従来技術のウエット法16は、図9に概略
的にまとめて示されている。この例における記録媒体す
なわち印刷版は、ブロック18で製作される。フィーチ
ャーはブロック20における選択露光によって印刷版に
形成される。印刷版はブロック22において現像され、
ブロック24で水性インキ溶液に浸漬される。
【0015】図2の簡略化された概略図において、エマ
ルションの選択した領域は、一般的にアルゴンイオンレ
ーザーからの光線26を受ける。例えば図面における領
域28は光化学反応を受けるか、それに隣接した領域3
0,32は光化学反応を受けない。図3の概略図に示す
ように、現像溶液に印刷版を浸漬するその後のプロセス
工程において、領域30,32からすべてのエマルショ
ンが取り除かれる。これらの領域は、アルミニウム基板
の相応した領域34,36を露出させて親水性にさせ、
その後水性インキ溶液38に浸漬した時に吸水する(図
4)。インキは、領域28においてのみ吸収される。
【0016】次に図5を参照すると、本発明の好ましい
実施の形態における通常のSDB Du Pont Howsen 印刷
版40である記録媒体が、簡略化された概略図で示され
ている。この印刷版は、通常図2に示すようにアルゴン
イオンレーザーからの光線で露光されそして以下に詳細
に説明する仕方でエマルションの露光した領域を除去す
るために、化学的に現像される形式のものである。
【0017】図10は、本発明によるプロセスを概略的
に示す。印刷版を製作した後(ブロック44)、印刷版
全体は現像される(ブロック46)。望ましくない領域
は、印刷版を水性インキ溶液に浸漬する(ブロック5
0)前に高出力レーザーで融蝕される(ブロック4
8)。
【0018】しかしながら、本発明では図6に示すよう
に、印刷版40の全表面52は、図3に関して記載した
ように、完全に化学的に処理されて露光したアルミニウ
ムのない黒領域54をすべて残す。この露光した領域は
フィーチャーをもたず、その後に水性インキ溶液に浸漬
することによりアルミニウムによる吸水なしに表面上で
インキが吸収されることになる。
【0019】本方法では、印刷版におけるフィーチャー
は、処理したエマルションの選択した領域を除去するの
に十分なレベルで発生するレーザーエネルギーによって
形成される。図7を参照すると、図5の印刷版40が高
出力レーザー光線56に露光されている様子を概略的に
示す。材料は、フィーチャーの外側に位置するこれらの
選択した領域58,60において融蝕により表面から除
去され、それにより下側に位置するアルミニウム層の表
面領域62,64が露出する。好ましい実施の形態にお
いて、融蝕工程はGerber C42T 像形成システムに見られ
るような高出力レーザーによって行われる。本発明で
は、従来技術による方法と同様に、露出した表面領域6
2,64は水を吸収して親水性となり、領域66のよう
な露出してない領域は親油性となる。真空の適用は、エ
マルションが融蝕されることになる領域における破壊屑
を除去するのに非常に有効である。
【0020】本発明において処理された記録媒体は、商
業用のプリンターに通常のようにして装着され印刷版か
ら像を印刷することができる。本方法は、公知の仕方で
処理した熱印刷版と同じ特性をもつ像を形成するが、各
フィーチャーの像はよりシャープであり、しかもこのフ
ィーチャーの縁部のアスペクト比がよいので縁部の細部
がより高くなる。当業者にはわかるように、エマルショ
ンを熱的に除去する他の方法は、基板からエマルション
を除去するのに十分な出力をもたらすものを含む直接レ
ーザー照射による以外に本発明によって意図される。
【0021】本発明により、記録媒体、特にDupont SDB
印刷版を顧客に発送する前に現像工程を含む工場で製作
することができる。本発明に従って製作した印刷版は、
日光に対して安全であり、公知の方法で処理した印刷版
に使用されていた保護手段を必要としない。その結果、
本発明は、個々の印刷版処理の観点からと共に感光性印
刷版の不完全な取り扱いに関連した損失の減少により、
リトグラフ印刷版の製造コストを低減することができ
る。
【0022】熱印刷版セッターにより、像は、従来の仕
方で製作した印刷版の元の特性以上に改良される。本発
明が従来技術と異なる点は、用いなければならない銀の
量であり、本発明は、普通の印刷版における走行長さを
僅かに長くさせ、唯一の欠点は、標準のリトグラフ印刷
版の最近の使用に基いて印刷版を露光するのに必要な量
である。当然、当業者に認められるように、本発明の特
定のパラメータは、いかなる過剰の出力要求も低減する
ように最適化され得る。
【0023】本発明は、像の質を最良化する付加的な工
程を意図し、図8に概略的に示す。
【0024】像は、上記の工程で形成されるが、エマル
ションをレーザービームで融蝕する領域に少量の屑68
が残る。そのため、部分的に露出した記録媒体が洗浄さ
れ滲出される。この工程により、すべての屑は除去さ
れ、アルミニウムを浄化して吸水を良くする。
【0025】次に図11を参照すると、本発明によって
提供される屑除去装置70が、簡略化された概略図で示
されている。屑除去装置は真空ノズル72を有し、この
真空ノズル72は複数の孔74を備え、これらの孔は媒
体印刷版面上を真空にするように離間されている。好ま
しい実施の形態において、真空ノズルを排気するために
二つのホース76,78が設けられている。これらのホ
ースは、Y形ユニオン80でホース83に連結されてい
る。屑は、好ましくは孔の大きさが0.3 μmのフィルタ
82に入り、そして最後に真空ポンプ84に到達する。
ノズルホースの外径は好ましくは3/4インチであり、
またフイルタまでのホースの外径は他の種々の要素を接
続する残りのホースと共に好ましくは1.25インチで
ある。好ましい実施の形態において、真空ポンプは毎分
60立方フィートで排気する。屑は好ましい実施の形態
において、系から排気管へ排出される。
【0026】図12は、真空ノズル72の一部の断面を
詳細に示す。真空ノズルは、好ましくは管状を成し、そ
の長手方向軸線に沿って湾曲し、印刷版75を受けるド
ラムの湾曲面73にほぼ一致するようにされている。ド
ラムは、それぞれ“像形成システムの光線を拡張するレ
ンズの位置決め装置および方法”および“像形成装置用
の磁気的に予め負荷のかけられた空気軸受運動システ
ム”と題する米国特許出願番号第08/674,439号および第
08/674,763号に記載されている形式のものである。ノズ
ル材料は好ましくは、外径1/4インチ、壁厚0.65イン
チのアルミニウム合金(6061-t6 )引抜管から成ってい
る。真空ホースはノズル口部86,88で受けられ、こ
れらのノズル口部は好ましくは真空ホースにねじ接続す
るアダプター取付け部を備えている。
【0027】真空ノズルは、管状ノズルの外壁に沿って
水平に対してほぼ30°離間される複数の孔74を備えて
いる。これらの孔は、露光ビーム90が高速走査方向9
1において印刷版を横切って掃引する際に露光ビーム9
0に最も隣接するすることになる表面の周りに形成され
る。印刷版が湾曲したドラム表面に受けられる時に、ノ
ズルは相応して湾曲される。ノズルの角度的広がりは、
高速走査方向に関して、走査ビームの掃引と実質的に同
じ広がりである。他の像形成システムにおいて、ノズル
の幾何学形状は、印刷版に近接するのを保証するため印
刷版の形状に合わせられる。
【0028】装置はさらに、装着用のブラケット92,
94を備え、これらのブラケットはノズネの末端部に溶
着されている。ブラケット自体は、図示してなく本発明
の一部を成さないキャリジで受けるようにされる。好ま
しい実施の形態では、ブラケットは通常の形式の衝撃吸
収ゴムマウント(図示してない)を用いてキャリジに固
定される。従って、ノズルは、低速走査方向においてキ
ャリジと一緒に動く。好ましい実施の形態において、ノ
ズル外面は、印刷版面からほぼ3/16インチ離間され
る。
【0029】本発明は好ましい実施の形態に関して図示
し説明してきたが、本発明の精神および範囲から逸脱す
ることなく他の種々の変更および付加がなされることは
当業者に理解される。
【0030】
【発明の効果】本発明の代表的なものによって得られる
効果を簡単に説明すれば、以下の通りである。
【0031】本発明の感熱性のリトグラフ印刷記録部材
を露光する方法によれば、印刷版を損傷させる危険なし
に通常の日光のもとで取り扱うことができる。
【0032】また、記録部材に形成されたフィーチャー
の良好なアスペクト比を得ることができる。
【0033】さらに、リトグラフ印刷法において処理さ
れなければならない銀ハロゲン化物の量を著しく低減す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術のリトグラフ印刷法に使用された記録
媒体の一部としてアルミニウム基板上に置かれたエマル
ションを示す簡略化した概略図である。
【図2】従来技術のリトグラフ印刷法における光線を受
ける図1の記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図3】従来技術のリトグラフ印刷法における現像中の
図1の記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図4】従来技術のリトグラフ印刷法における選択した
領域において、インキ印刷する状態を示す図2の光照射
記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図5】アルミニウム基板上に置かれたエマルションか
ら成る本方法で処理される記録媒体を示す簡略化した概
略図である。
【図6】現像中の図5の記録媒体を示す簡略化した概略
図である。
【図7】熱融蝕中の図5の露光記録媒体を示す簡略化し
た概略図である。
【図8】融蝕し、インキ受け領域を傷付けずに洗浄した
後の図6の記録媒体を示す簡略化した概略図である。
【図9】リトグラフ印刷記録媒体を製作する従来技術の
方法を示す概略図である。
【図10】本発明によって提供されるリトグラフ印刷記
録媒体を製作する方法を示す概略図である。
【図11】本発明によって提供される屑除去装置の簡略
化した概略図である。
【図12】図11の屑除去装置に用いられるノズルの簡
略化した断面図である。
【符号の説明】
40 印刷版 44 印刷版の製作 46 印刷版全体を現像する工程 48 融蝕工程 50 印刷版を水性インキ溶液に浸漬する工程 58,60 選択した領域 68 屑 76,78 ホース 72 真空ノズル 74 孔 75 印刷版 82 フィルタ 84 真空ポンプ 86,88 ノズル口部 90 露光ビーム 91 高速走査方向 92,94 ブラケット

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リトグラフ印刷用の平坦な疎油性基板
    (14)上にエマルション(12)を備えた記録部材
    (10)を製造する方法において、 前記記録部材を化学的に処理してすべての前記エマルシ
    ョンをインキを許容できるように(すなわち親油性に)
    する工程(46)と、 前記記録部材の選択した領域(58,60)からのみ前
    記エマルションを熱的に除去して前記基板を露出させる
    工程(48)とを特徴とする製造方法。
  2. 【請求項2】 前記熱的に除去する工程が、前記エマル
    ション(12)の選択した領域(58,60)を、前記
    エマルションの選択した領域のみを前記基板(14)か
    ら融蝕する(48)のに十分な大きさのレベルで光学エ
    ネルギーに晒す工程によって特徴付けられる請求項1に
    記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 さらに、前記処理し融蝕した記録部材
    (10)を水性インキ溶液に浸漬する工程(50)を特
    徴とする請求項2に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 さらに、前記融蝕工程(48)後に前記
    記録部材(10)を洗浄して前記選択した領域(58,
    60)から残留エマルション(12)を除去する工程を
    特徴とする請求項2に記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 さらに、前記エマルションを熱的に除去
    する工程(48)中に、真空により融蝕したエマルショ
    ン(12)を捕捉する工程を特徴とする請求項2に記載
    の製造方法。
  6. 【請求項6】 平坦な疎油性基板(14)上にエマルシ
    ョン(12)を備えた記録部材(10)を製造する方法
    に従って製造された製造物において、前記方法は、 前記記録部材を化学的に処理してすべての前記エマルシ
    ョンをインキを許容できるように(すなわち親油性に)
    する工程(46)と、 前記記録部材の選択した領域(58,60)からのみ前
    記エマルションを熱的に除去して前記基板を露出させる
    工程(48)とを特徴とする製造物。
  7. 【請求項7】 前記熱的に除去する工程が、前記エマル
    ション(12)の選択した領域(58,60)を、前記
    エマルションの選択した領域のみを前記基板(14)か
    ら融蝕する(48)のに十分な大きさのレベルで光学エ
    ネルギーに晒す工程によって特徴付けられる請求項6に
    記載の製造物。
  8. 【請求項8】 さらに、前記処理し融蝕した記録部材
    (10)を水性インキ溶液に浸漬する工程(50)を特
    徴とする請求項6に記載の製造物。
  9. 【請求項9】 前記基板(14)がアルミニウムから成
    っていることを特徴とする請求項6に記載の製造物。
  10. 【請求項10】 走査表面に固定した印刷版(75)に
    光線(90)を反射させる像形成装置用の屑の除去装置
    において、前記光線は、前記走査表面の中心長手軸に平
    行に光線発生装置から放出され、前記像形成装置は、媒
    体(10)に走査される像を表すデジタルデータを発生
    するラスター像処理装置と、前記走査表面の長手軸に平
    行に前記走査表面の長さを伸長し、一対の案内面を備え
    る固定スパーと、好ましい速度で前記スパーに沿って走
    査組立体を駆動させる駆動信号を発生し、かつ、前記デ
    ジタルデータを表す変調信号を前記光線発生装置に供給
    する制御装置とを備え、前記走査組立体は、前記スパー
    の一対の案内面に可動に結合した一対の係合面を備えた
    キャリッジを有し、前記キャリッジに固定された走査装
    置は、前記走査表面の長手軸にほぼ垂直な高速走査軸
    (91)に沿って前記印刷版へ前記光線を反射させるた
    めに前記走査表面の長手軸に同軸に配置される、屑の除
    去装置において、 前記高速走査軸に沿って前記光線に近い外方部材表面に
    沿って離間した複数の開口(74)と連通する中央空洞
    を有する部材を備え、前記部材が前記高速走査軸に沿っ
    て前記印刷版(75)と共に伸長するように形成されて
    いる、ノズル(72)と、 前記ノズルに固定され、前記開口を前記印刷版から選択
    した距離に位置させるように前記走査組立体に前記ノズ
    ルを着脱可能に装着するブラケット(92,94)とを
    有することを特徴とする屑の除去装置。
  11. 【請求項11】 さらに、マニホルドにおける口部(8
    6,88)に固定され、前記ノズルの中央空洞に連通
    し、前記ノズルの中央空洞から空気を排出する真空配管
    (76,78)と、 前記ノズル(72)から排出された空気から屑(68)
    を除去するフィルタ(82)と、 前記フィルタと連通し、真空を発生する真空ポンプ(8
    4)とを有することを特徴とする請求項10に記載の屑
    の除去装置。
  12. 【請求項12】 前記走査表面が湾曲していることを特
    徴とする請求項10に記載の屑の除去装置。
JP10153258A 1997-06-03 1998-06-02 リトグラフ印刷版およびその製造方法 Expired - Fee Related JP3130504B2 (ja)

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