JP3119714B2 - Conductive paste composition and wiring board - Google Patents

Conductive paste composition and wiring board

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JP3119714B2
JP3119714B2 JP04058975A JP5897592A JP3119714B2 JP 3119714 B2 JP3119714 B2 JP 3119714B2 JP 04058975 A JP04058975 A JP 04058975A JP 5897592 A JP5897592 A JP 5897592A JP 3119714 B2 JP3119714 B2 JP 3119714B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、配線基板の端子電極形
成などに用いられる導体ペースト組成物と、配線基板と
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste composition used for forming terminal electrodes of a wiring board and a wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、基板材料と内部導体とを約100
0℃以下の低温で同時焼成して得られる多層配線基板の
開発が進められている。この多層配線基板の回路への挿
入は、基板表面などに形成されたAg合金系導体にハン
ダでリード線を付着させ、このリード線を回路を組み込
むことにより行なわれる。
2. Description of the Related Art In recent years, substrate materials and internal conductors have been
Development of a multilayer wiring board obtained by simultaneous firing at a low temperature of 0 ° C. or lower has been advanced. Insertion of the multilayer wiring board into a circuit is performed by attaching a lead wire to an Ag alloy-based conductor formed on the substrate surface or the like with solder, and incorporating the lead wire into the circuit.

【0003】しかし、実装密度の向上や実装性の向上が
強く望まれていることから、多層配線基板の表面実装素
子(SMD)化が検討されている。SMD化するために
はリードレスとする必要があり、このため、リードを付
着させていた箇所にAgを主体とした端子電極を形成
し、外部との電気的接続を確保する。この端子電極中に
は、基板との接着性を良好にするためにペーストの段階
でガラスフリット等の無機結合剤が添加されており、こ
の無機結合剤は永久バインダとしてはたらく。
[0003] However, since there is a strong demand for improvement in mounting density and mounting performance, the use of a surface mounting device (SMD) for a multilayer wiring board is being studied. In order to form an SMD, it is necessary to use a leadless material. For this reason, a terminal electrode mainly composed of Ag is formed at a portion where a lead is attached, and electrical connection with the outside is ensured. In the terminal electrode, an inorganic binder such as glass frit is added at the paste stage in order to improve the adhesiveness to the substrate, and this inorganic binder acts as a permanent binder.

【0004】一方、ハンダ付き性、ハンダくわれ性およ
びハンダ濡れ性の改善のために、端子電極表面にはめっ
き膜が形成される。このめっき膜は、Snやハンダ(S
n−Pb)などから構成され、下地膜としてNiやCu
などのめっき膜が設けられる。
[0004] On the other hand, a plating film is formed on the surface of the terminal electrode in order to improve solderability, solder breakability and solder wettability. This plating film is made of Sn or solder (S
n-Pb) or the like, and Ni or Cu
Is provided.

【0005】しかし、端子電極表面にめっき膜を形成し
た場合、めっき液により無機結合剤が劣化し、端子電極
の剥離や接着強度の低下が生じてしまう。
[0005] However, when a plating film is formed on the surface of the terminal electrode, the plating solution degrades the inorganic binder, causing peeling of the terminal electrode and a decrease in adhesive strength.

【0006】なお、このような事情は、多層配線基板の
端子電極に限らず、他の表面実装素子の端子電極や各種
素子の外部導体などにおいても同様である。
[0006] Such a situation is not limited to the terminal electrodes of the multilayer wiring board, but also applies to the terminal electrodes of other surface mount elements and the external conductors of various elements.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、ハンダ濡れ性向上やハンダ
くわれ防止用のめっき膜を形成したときに剥離が生じず
接着強度の低下も殆ど生じない端子電極を有する配線基
板を提供することを目的とし、また、このような端子電
極などの形成に用いられる導体ペースト組成物を提供す
ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and when a plating film for improving solder wettability and preventing solder cracking is formed, peeling does not occur and adhesion strength is reduced. It is an object of the present invention to provide a wiring board having terminal electrodes that hardly occur, and to provide a conductive paste composition used for forming such terminal electrodes and the like.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(8)の本発明により達成される。
This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (8).

【0009】(1)Agを主体とする導電材と、ガラス
フリットを含む無機結合剤とをビヒクル中に分散した導
体ペースト組成物であって、前記ガラスフリットが、 ZnO :30〜65重量%、 B23 :10〜30重量%、 SiO2 :5〜20重量%、 MnO :1〜20重量%および TiO2 :0.1〜5重量% を含有することを特徴とする導体ペースト組成物。
(1) A conductive paste composition in which a conductive material mainly composed of Ag and an inorganic binder containing glass frit are dispersed in a vehicle, wherein the glass frit contains ZnO: 30 to 65% by weight, B 2 O 3: 10~30 wt%, SiO 2: 5 to 20 wt%, MnO: 1 to 20 wt% and TiO 2: conductive paste composition characterized in that it contains 0.1 to 5 wt% .

【0010】(2)前記導電材に対する前記ガラスフリ
ットの含有量が1〜10重量%である上記(1)に記載
の導体ペースト組成物。
(2) The conductive paste composition according to the above (1), wherein the content of the glass frit with respect to the conductive material is 1 to 10% by weight.

【0011】(3)前記ガラスフリット中のZnOの一
部または全部が、PbOに置換されている上記(1)ま
たは(2)に記載の導体ペースト組成物。
(3) The conductor paste composition according to the above (1) or (2), wherein a part or all of ZnO in the glass frit is substituted with PbO.

【0012】(4)前記ガラスフリットの平均粒径が
0.1〜20μm である上記(1)ないし(3)のいず
れかに記載の導体ペースト組成物。
(4) The conductor paste composition according to any one of (1) to (3), wherein the glass frit has an average particle size of 0.1 to 20 μm.

【0013】(5)前記無機結合剤が、前記導電材に対
して5重量%以下のTiO2 を含む上記(1)ないし
(4)のいずれかに記載の導体ペースト組成物。
(5) The conductor paste composition according to any one of the above (1) to (4), wherein the inorganic binder contains 5% by weight or less of TiO 2 with respect to the conductive material.

【0014】(6)前記TiO2 の平均粒径が0.1〜
20μm である上記(5)に記載の導体ペースト組成
物。
(6) The average particle size of the TiO 2 is 0.1 to
The conductor paste composition according to the above (5), which has a thickness of 20 μm.

【0015】(7)上記(1)ないし(6)のいずれか
に記載の導体ペースト組成物を焼成して形成された端子
電極を有することを特徴とする配線基板。
(7) A wiring board having terminal electrodes formed by firing the conductive paste composition according to any one of (1) to (6).

【0016】(8)前記端子電極の表面にめっき膜を有
する上記(7)に記載の配線基板。
(8) The wiring board according to (7), wherein a plating film is provided on a surface of the terminal electrode.

【0017】[0017]

【作用】本発明の導体ペースト組成物に含有される上記
組成のガラスフリットはめっき液に侵されにくいので、
この導体ペースト組成物を用いて形成された端子電極は
耐めっき液性が極めて良好である。このため、ハンダ濡
れ性向上やハンダくわれ防止用のめっき膜を端子電極上
に形成したときに、端子電極の剥離や接着強度の低下が
防がれる。
The glass frit of the above composition contained in the conductor paste composition of the present invention is not easily attacked by the plating solution.
Terminal electrodes formed using this conductor paste composition have extremely good plating solution resistance. Therefore, when a plating film for improving solder wettability and preventing solder cracking is formed on the terminal electrode, peeling of the terminal electrode and lowering of the adhesive strength are prevented.

【0018】[0018]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
[Specific Configuration] Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

【0019】本発明の導体ペースト組成物は、導電材と
無機結合剤とを含有する。この無機結合剤は、導電材の
永久バインダとなるものであり、ガラスフリットを主成
分とする。
The conductor paste composition of the present invention contains a conductive material and an inorganic binder. This inorganic binder serves as a permanent binder for the conductive material, and contains glass frit as a main component.

【0020】本発明では、 ZnO :30〜65重量%、好ましくは50〜60重
量%、 B23 :10〜30重量%、好ましくは15〜23重
量%、 SiO2 :5〜20重量%、好ましくは8〜15重量
%、 MnO :1〜20重量%、好ましくは2〜15重量
%、および TiO2 :0.1〜5重量%、好ましくは0.2〜3重
量%を含有するガラスフリットを用いる。なお、このガ
ラスフリットは結晶化ガラスから構成される。
In the present invention, ZnO: 30 to 65% by weight, preferably 50 to 60% by weight, B 2 O 3 : 10 to 30% by weight, preferably 15 to 23% by weight, SiO 2 : 5 to 20% by weight , preferably 8-15 wt%, MnO: 1 to 20 wt%, preferably from 2 to 15 wt%, and TiO 2: 0.1 to 5 wt%, the glass preferably contains 0.2 to 3 wt% Use a frit. The glass frit is made of crystallized glass.

【0021】ガラスフリット組成の限定理由は下記のと
おりである。
The reasons for limiting the glass frit composition are as follows.

【0022】ZnOが前記範囲未満となると耐めっき液
性が得られなくなり、結晶化も難しくなる。また、Zn
Oが前記範囲を超えると焼成後に電極の表面にガラス浮
きが生じ易くなってめっき付き性が不良となる。その結
果、めっき膜の付着強度が不十分となる。
When ZnO is less than the above range, plating solution resistance cannot be obtained, and crystallization becomes difficult. Also, Zn
If O exceeds the above range, the glass is likely to float on the surface of the electrode after firing, resulting in poor plating ability. As a result, the adhesion strength of the plating film becomes insufficient.

【0023】なお、ZnOの一部または全部がPbOに
置換されていてもよい。この場合でも効果は同様である
が、特に、実施例において述べる固着強度の向上に有効
である。ただし、ZnOを含有する場合、引張強度、固
着強度、たわみ強度等のバランスが良好となる。
It is to be noted that part or all of ZnO may be substituted with PbO. Although the effect is the same in this case, it is particularly effective for improving the fixing strength described in the embodiment. However, when ZnO is contained, the balance among tensile strength, fixing strength, flexural strength and the like is improved.

【0024】B23 およびSiO2 の少なくとも一方
が前記範囲未満となるとガラス化が困難となり、また、
少なくとも一方が前記範囲を超えると軟化点が高くなり
すぎて焼成後に電極中にガラスが残留してガラス浮きが
生じ、良好なめっき付き性が得られない。このため、め
っき膜の付着強度が不十分となる。
When at least one of B 2 O 3 and SiO 2 is less than the above range, vitrification becomes difficult, and
If at least one of them exceeds the above range, the softening point becomes too high, glass remains in the electrode after firing and glass floats, and good plating property cannot be obtained. For this reason, the adhesion strength of the plating film becomes insufficient.

【0025】MnOおよびTiO2 の少なくとも一方が
前記範囲未満となると、基板等の素地への接着強度が不
十分となり、少なくとも一方が前記範囲を超えると、B
23 やSiO2 と同様な理由でめっき膜の付着強度が
不十分となる。
When the content of at least one of MnO and TiO 2 is less than the above range, the adhesive strength to a substrate such as a substrate becomes insufficient.
For the same reason as 2 O 3 or SiO 2 , the adhesion strength of the plating film becomes insufficient.

【0026】このような組成を有するガラスの軟化点
は、500〜600℃程度である。
The glass having such a composition has a softening point of about 500 to 600 ° C.

【0027】なお、上記組成のガラスフリットに加え、
25 系、BaO系、CaO系、SrO系等のガラス
フリットが含有されていてもよい。上記組成を外れるこ
のようなガラスフリットは、ガラスフリット全体の10
重量%以下とすることが好ましい。
In addition to the glass frit having the above composition,
A glass frit such as P 2 O 5 , BaO, CaO, or SrO may be contained. Such a glass frit deviating from the above composition is 10% of the entire glass frit.
% By weight or less.

【0028】導体ペースト組成物中のガラスフリットの
含有量は、導電材に対し1〜10重量%、特に1.5〜
5重量%とすることが好ましい。ガラスフリットの含有
量が前記範囲未満となると十分な接着強度が得られず、
前記範囲を超えると焼成後に電極表面にガラス浮きが生
じ、めっき膜の付着強度が不十分となる。
The content of the glass frit in the conductive paste composition is 1 to 10% by weight, especially 1.5 to 10% by weight based on the conductive material.
Preferably it is 5% by weight. If the content of the glass frit is less than the above range, sufficient adhesive strength is not obtained,
If it exceeds the above range, the glass floats on the electrode surface after firing, and the adhesion strength of the plating film becomes insufficient.

【0029】ガラスフリットの平均粒径は特に限定され
ないが、通常、0.1〜20μm であることが好まし
い。
The average particle size of the glass frit is not particularly limited, but is usually preferably 0.1 to 20 μm.

【0030】無機結合剤には、ガラスフリットの他、他
の無機粒子が含まれていてもよい。このような無機粒子
としては、TiO2 、ZrO2 、CoO、NiO、Al
23 、CuO、Cr23 等の1種以上が挙げられる
が、これらのうち特にTiO2 が好ましい。TiO2
結晶化ガラスの核形成の助剤としてはたらき、また、素
地内へのガラスの過剰な拡散を抑制し、また、アンカー
剤としてはたらく。
The inorganic binder may contain other inorganic particles in addition to the glass frit. Such inorganic particles include TiO 2 , ZrO 2 , CoO, NiO, Al
One or more of 2 O 3 , CuO, Cr 2 O 3 and the like can be mentioned, and among them, TiO 2 is particularly preferable. TiO 2 acts as an aid for nucleation of crystallized glass, suppresses excessive diffusion of glass into the matrix, and also acts as an anchoring agent.

【0031】これらの無機粒子の含有量は、導体に対し
5重量%以下とすることが好ましい。含有量が5重量%
を超えると、素地内へのガラスの拡散が不十分となり、
また、無機粒子自体も素地内へ拡散しないため、電極表
面にガラスや無機粒子が浮いてしまい、めっき付き性が
低くなってしまう。
The content of these inorganic particles is preferably 5% by weight or less based on the conductor. Content is 5% by weight
Exceeds, the diffusion of glass into the substrate becomes insufficient,
Further, since the inorganic particles themselves do not diffuse into the substrate, the glass and the inorganic particles float on the electrode surface, and the plating property is reduced.

【0032】これらの無機粒子の平均粒径は0.1〜2
0μm であることが好ましい。
The average particle size of these inorganic particles is 0.1 to 2
It is preferably 0 μm.

【0033】本発明では、Agを主体とする粒子状の導
電材を用いる。本発明の導体ペースト組成物を用いて形
成される端子電極は、その表面にハンダ濡れ性やハンダ
くわれ性改善のためのめっき膜が形成される。このた
め、Ag−PdやAg−Ptなどに比べてハンダ濡れ性
やハンダくわれ性は劣るが、安価でしかも導電性の高い
Agを導電材として用いることができる。また、Agは
Ag合金に比べて焼結性が高く、めっき液が浸透しにく
いので、本発明の効果はさらに向上する。
In the present invention, a particulate conductive material mainly composed of Ag is used. The terminal electrode formed by using the conductor paste composition of the present invention has a plating film formed on the surface thereof for improving solder wettability and solder breakability. For this reason, although solder wettability and solder breakability are inferior to Ag-Pd and Ag-Pt, Ag which is inexpensive and has high conductivity can be used as the conductive material. Further, Ag has a higher sintering property than an Ag alloy and is less likely to penetrate the plating solution, so that the effect of the present invention is further improved.

【0034】ただし、Ag−Pdや、Ag−Pt、Ag
−Pd−Pt等のAg合金を用いてもよい。内部電極や
内部導体にはAgを使用するが、端子電極にもAgを使
用した場合には焼成時の収縮に伴う応力により素地にク
ラックが生じることがある。この応力を緩和するため
に、PdやPtを添加してもよい。この場合、PdやP
tの添加量は多くても3重量%であり、通常は1重量%
以下である。
However, Ag-Pd, Ag-Pt, Ag
An Ag alloy such as -Pd-Pt may be used. Although Ag is used for the internal electrodes and the internal conductor, when Ag is also used for the terminal electrodes, cracks may occur in the substrate due to the stress accompanying shrinkage during firing. Pd or Pt may be added to alleviate this stress. In this case, Pd or P
The amount of t added is at most 3% by weight, usually 1% by weight.
It is as follows.

【0035】なお、導体ペースト組成物中においては、
AgとPdおよび/またはPtとが別個に存在していて
もよい。この場合、後の焼成によりAg合金となる。
In the conductive paste composition,
Ag and Pd and / or Pt may be present separately. In this case, an Ag alloy is obtained by subsequent firing.

【0036】導電材粒子の平均粒径は、0.01〜10
μm 程度とするのが好ましい。その理由は、平均粒径が
0.01μm 未満であると収縮率が大きくなりすぎ、ま
た10μm を超えると導体ペースト組成物の印刷性、分
散性が悪くなるからである。
The average particle size of the conductive material particles is 0.01 to 10
It is preferable to set it to about μm. The reason is that if the average particle size is less than 0.01 μm, the shrinkage becomes too large, and if it exceeds 10 μm, the printability and dispersibility of the conductive paste composition deteriorate.

【0037】導電材および無機結合剤が分散されるビヒ
クルは、エチルセルロース、ニトロセルロース、アクリ
ル系樹脂等のバインダー、テルピネオール、ブチルカル
ビトール等の溶剤、その他分散剤や活性剤等から、必要
に応じて適宜選択される。
The vehicle in which the conductive material and the inorganic binder are dispersed may be formed from a binder such as ethylcellulose, nitrocellulose or an acrylic resin, a solvent such as terpineol or butyl carbitol, or other dispersants or activators, if necessary. It is appropriately selected.

【0038】なお、一般に、導体ペースト組成物中のビ
ヒクルの含有率は、10〜70重量%程度である。
Generally, the content of the vehicle in the conductive paste composition is about 10 to 70% by weight.

【0039】本発明の導体ペースト組成物は、導電材粒
子と無機結合剤とを混合し、これにバインダー、溶剤等
のビヒクルを加え、これらを混練してスラリー化するこ
とにより製造される。導体ペースト組成物の粘度は、3
万〜30万cps 程度に調整しておくのがよい。
The conductive paste composition of the present invention is produced by mixing conductive material particles and an inorganic binder, adding a vehicle such as a binder and a solvent thereto, kneading them, and forming a slurry. The viscosity of the conductor paste composition is 3
It is better to adjust to about 10,000 to 300,000 cps.

【0040】本発明の導体ペースト組成物は、通常、配
線基板端面に所定のパターンに印刷されて焼成するなど
して使用される。
The conductor paste composition of the present invention is usually used by printing a predetermined pattern on the end surface of a wiring board and baking it.

【0041】この場合の配線基板としては、表面に各種
表面実装部品がハンダ付けされる配線基板であってもよ
いが、本発明では特に、自体が表面実装部品として用い
られる多層配線基板の端子電極に好適である。このよう
な多層配線基板の一例を図2に示す。
The wiring board in this case may be a wiring board on which various surface-mounted components are soldered, but in the present invention, in particular, the terminal electrode of the multilayer wiring board itself used as a surface-mounted component is used. It is suitable for. FIG. 2 shows an example of such a multilayer wiring board.

【0042】同図に示される多層配線基板1は、焼成に
より積層一体化された複数の絶縁性基板を有し、各層の
界面には所定パターンの内部導体が形成され、この内部
導体が多層配線基板の表面に露出した部分に端子電極が
形成される。そして、端子電極表面には、通常、Niめ
っき膜やCuめっき膜を介してSnめっき膜やSn−P
bめっき膜が形成される。NiやCuのめっき膜は、S
nやSn−Pbめっき膜を形成する際の端子電極のAg
くわれを防止するために設けられる。また、SnやSn
−Pbめっき膜は、ハンダ濡れ性やハンダくわれ性を改
善するために設けられる。そして、めっき膜表面にハン
ダ2が付着することにより、多層配線基板1は、基板3
の表面に固定される。
The multilayer wiring board 1 shown in FIG. 1 has a plurality of insulating substrates laminated and integrated by firing, and an internal conductor having a predetermined pattern is formed at the interface between the respective layers. A terminal electrode is formed on a portion exposed on the surface of the substrate. On the surface of the terminal electrode, an Sn plating film or an Sn-P film is usually provided via a Ni plating film or a Cu plating film.
A b plating film is formed. The plating film of Ni or Cu is S
Ag of terminal electrode when forming n or Sn-Pb plating film
Provided to prevent fraying. In addition, Sn or Sn
The -Pb plating film is provided for improving solder wettability and solder breakability. Then, when the solder 2 adheres to the surface of the plating film, the multilayer wiring board 1
Fixed on the surface of

【0043】多層配線基板を構成する絶縁性基板の材料
としては、内部導体などとともに同時焼成可能なものと
して、アルミナ−ホウケイ酸ガラス、アルミナ−鉛ホウ
ケイ酸ガラス、アルミナ−ホウケイ酸バリウムガラス、
アルミナ−ホウケイ酸カルシウムガラス、アルミナ−ホ
ウケイ酸ストロンチウムガラス、アルミナ−ホウケイ酸
マグネシウムガラス等の酸化物骨材とガラスとを含む低
温焼成材料が好ましい。
As a material of the insulating substrate constituting the multilayer wiring board, alumina-borosilicate glass, alumina-lead borosilicate glass, alumina-barium borosilicate glass,
A low-temperature fired material containing glass and an oxide aggregate such as alumina-calcium borosilicate glass, alumina-strontium borosilicate glass, and alumina-magnesium borosilicate glass is preferable.

【0044】このような基板材料において、ガラスの含
有率は、一般に50〜80重量%程度とするのがよい。
In such a substrate material, the glass content is generally preferably about 50 to 80% by weight.

【0045】内部導体は、通常、多層配線され、絶縁性
基板の厚さ方向に形成されたスルーホールを介して互い
に導通されている。内部導体は、導電性が良いことを優
先させる点でAgを主体とする導体、特にAgとするの
が好ましい。内部導体用組成物は、導電材と、導電材に
対し5〜10重量%程度のガラスフリットとを含有する
ことが好ましい。
The internal conductors are usually wired in multiple layers and are electrically connected to each other through through holes formed in the thickness direction of the insulating substrate. The inner conductor is preferably a conductor mainly composed of Ag, particularly Ag, from the viewpoint of giving priority to good conductivity. The composition for an internal conductor preferably contains a conductive material and about 5 to 10% by weight of glass frit based on the conductive material.

【0046】内部導体の膜厚は、通常、5〜20μm 程
度、端子電極の膜厚は、通常、5〜20μm 程度とされ
る。そして、内部導体および端子電極の導通抵抗は、そ
の組成にもよるが、一般的に、前者は2〜10mΩ/
□、後者は、2〜30mΩ/□程度とするのがよい。
The thickness of the internal conductor is usually about 5 to 20 μm, and the thickness of the terminal electrode is usually about 5 to 20 μm. The conduction resistance of the internal conductor and the terminal electrode depends on the composition, but generally, the former is 2 to 10 mΩ /
□, the latter is preferably about 2 to 30 mΩ / □.

【0047】このような多層配線基板は、例えば以下の
ようにして製造される。
Such a multilayer wiring board is manufactured, for example, as follows.

【0048】まず、基板材料となるグリーンシートを所
定数作製する。このグリーンシートは、基板の原材料で
あるアルミナ粉末等の骨材とガラス粉末(例えば、ホウ
ケイ酸ガラス)とを所定量混合し、これにバインダー樹
脂、溶剤等を加え、これらを混練してスラリー化し、例
えばドクターブレード法により0.1〜0.3mm程度の
厚さに成形して作製される。
First, a predetermined number of green sheets as a substrate material are prepared. This green sheet is prepared by mixing a predetermined amount of an aggregate such as alumina powder, which is a raw material of a substrate, and glass powder (for example, borosilicate glass), adding a binder resin, a solvent, and the like, kneading them, and forming a slurry. For example, it is manufactured by molding to a thickness of about 0.1 to 0.3 mm by a doctor blade method.

【0049】次いで、パンチングマシーンや金型プレス
を用いてグリーンシートにスルーホールを形成し、その
後、内部導体用組成物を各グリーンシート上に例えばス
クリーン印刷法により印刷し、所定パターンの内部導体
層を形成するとともにスルーホール内に充填する。
Next, a through hole is formed in the green sheet by using a punching machine or a die press, and then a composition for an internal conductor is printed on each green sheet by, for example, a screen printing method. And filling the through holes.

【0050】次いで、各グリーンシートを重ね合せ、熱
プレス(40〜120℃程度で50〜1000kgf/cm2
程度)を加えてグリーンシートの積層体とし、必要に応
じて脱バインダー処理や切断用溝の形成などを行なう。
Next, the green sheets are superimposed and hot-pressed (approximately 50 to 1000 kgf / cm 2 at about 40 to 120 ° C.).
) To obtain a laminate of green sheets, and if necessary, a binder removal treatment and formation of a cutting groove are performed.

【0051】その後、グリーンシートの積層体を、通
常、空気中で800〜1000℃程度の温度で焼成して
一体化する。
Thereafter, the laminate of green sheets is usually fired at a temperature of about 800 to 1000 ° C. in air to be integrated.

【0052】次に、焼成体表面の所定位置に端子電極用
ペーストを塗布し、焼成して端子電極を形成する。
Next, a terminal electrode paste is applied to a predetermined position on the surface of the fired body and fired to form a terminal electrode.

【0053】また、本発明の導体ペースト組成物を外部
導体用ペーストとして用いる場合は、焼成体表面の所定
位置にスクリーン印刷法などによりペーストを印刷し、
焼成して外部導体とする。さらに、必要に応じて抵抗体
材料ペーストなどを印刷して焼成し、抵抗体を形成す
る。
When the conductor paste composition of the present invention is used as an external conductor paste, the paste is printed at a predetermined position on the surface of the fired body by a screen printing method or the like.
Fired to form an external conductor. Further, a resistor material paste or the like is printed and fired as necessary to form a resistor.

【0054】この後、めっき膜を形成する。Thereafter, a plating film is formed.

【0055】なお、基板を印刷法により作製してもよ
い。
The substrate may be manufactured by a printing method.

【0056】本発明の導体ペースト組成物は、表面実装
用多層配線基板の端子電極の他、図示される配線基板3
のように、チップインダクタ、チップコンデンサ等のチ
ップ部品、半導体集積回路素子、ダイオード等の各種素
子などの表面実装部品を載せる配線基板の外部導体に適
用することもできる。また、多層配線基板に限らず、単
層の配線基板に適用できる。また、各種チップ部品や素
子等の外部導体や端子電極に適用することもできる。た
だし、表面実装素子として用いられる配線基板の端子電
極には強固な接着性が要求されるので、本発明の導体ペ
ースト組成物は特に配線基板の端子電極形成に好適であ
る。
The conductive paste composition of the present invention can be used not only for the terminal electrodes of the multilayer wiring board for surface mounting but also for the wiring board 3 shown in the figure.
As described above, the present invention can also be applied to an external conductor of a wiring board on which surface components such as chip components such as chip inductors and chip capacitors, and various devices such as semiconductor integrated circuit devices and diodes are mounted. Further, the present invention can be applied not only to a multilayer wiring board but also to a single-layer wiring board. Further, the present invention can be applied to external conductors and terminal electrodes of various chip components and elements. However, since a terminal electrode of a wiring board used as a surface mount element is required to have strong adhesiveness, the conductive paste composition of the present invention is particularly suitable for forming a terminal electrode of a wiring board.

【0057】[0057]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例について説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described.

【0058】実施例1(1)導体ペースト組成物の調製 導電材、無機結合剤およびビヒクルを混練し、導体ペー
スト組成物を調製した。導電材にはAg(平均粒径1μ
m )を、無機結合剤にはガラスフリット(平均粒径8μ
m )またはこれに加えTiO2 (平均粒径10μm )
を、ビヒクルにはエチルセルロース系樹脂および高沸点
溶剤(テルピネオール)を用いた。ガラスフリットの組
成および導電材100重量部に対する無機結合剤の含有
量を、下記表1に示す。なお、ビヒクルは導電材100
重量部に対し20〜40重量部加えた。
Example 1 (1) Preparation of Conductive Paste Composition A conductive material, an inorganic binder and a vehicle were kneaded to prepare a conductive paste composition. Ag (average particle size 1μ)
m) and a glass frit (average particle size 8 μm) as the inorganic binder.
m) or additionally TiO 2 (average particle size 10 μm)
And an ethyl cellulose-based resin and a high boiling solvent (terpineol) as a vehicle. Table 1 below shows the composition of the glass frit and the content of the inorganic binder with respect to 100 parts by weight of the conductive material. The vehicle is a conductive material 100
20 to 40 parts by weight were added to the parts by weight.

【0059】(2)グリーンシートの作製 α−アルミナ:40重量%、ガラス粉末:60重量%の
組成で厚さ100〜300μm のグリーンシートを作製
した(この場合のガラスはAl23 −B23 −Si
2 −MO系、但しM=Ca、Ba、Sr、Mg)。
(2) Preparation of Green Sheet A green sheet having a composition of α-alumina: 40% by weight and glass powder: 60% by weight and a thickness of 100 to 300 μm was prepared (the glass in this case was Al 2 O 3 —B 2 O 3 -Si
O 2 -MO system, where M = Ca, Ba, Sr, Mg).

【0060】(3)多層配線基板の作製 前記のグリーンシートにAg内部導体形成後、熱プレス
により積層してグリーンシート積層体を得た。この積層
体を脱脂後、空気中において温度900℃で同時焼成し
た。
(3) Preparation of Multilayer Wiring Substrate After forming an Ag internal conductor on the green sheet, the green sheet was laminated by hot pressing to obtain a green sheet laminate. After degreased, the laminate was simultaneously fired at 900 ° C. in air.

【0061】得られた焼成体に導体ペースト組成物をス
クリーン印刷により印刷し、空気中において850℃で
焼成して端子電極を形成した。端子電極の厚さは40μ
m であった。
A conductor paste composition was printed on the obtained fired body by screen printing, and fired at 850 ° C. in air to form a terminal electrode. Terminal electrode thickness is 40μ
m.

【0062】次いで、電気めっき法により端子電極表面
にNiめっき膜(厚さ1μm )とSnめっき膜(厚さ2
μm )とを順次形成し、多層配線基板を得た。
Next, a Ni plating film (thickness 1 μm) and a Sn plating film (thickness 2
μm) were sequentially formed to obtain a multilayer wiring board.

【0063】多層配線基板の寸法は、縦5.0mm、横
5.0mm、高さ0.8mmであり、端子電極は図1に示さ
れるように対向する二側面に各三列形成し、一部が基板
の両主面にまわりこむようにした。端子電極の幅は0.
6mmとした。図1では、端子電極表面のめっき膜上にさ
らにハンダ2が付着しているが、ハンダのパターンは端
子電極のパターンと同一である。
The dimensions of the multilayer wiring board are 5.0 mm in length, 5.0 mm in width, and 0.8 mm in height. As shown in FIG. 1, three rows of terminal electrodes are formed on two opposing side surfaces. The part is formed so as to extend around both main surfaces of the substrate. The width of the terminal electrode is 0.
6 mm. In FIG. 1, the solder 2 is further adhered on the plating film on the surface of the terminal electrode, but the pattern of the solder is the same as the pattern of the terminal electrode.

【0064】得られた多層配線基板について、下記の試
験を行なった。
The following tests were performed on the obtained multilayer wiring board.

【0065】引張強度試験 図1に示されるように、リード線4をハンダ2により端
子電極表面のめっき膜に垂直に固着した。そして、引っ
張り試験機によりリード線4を図中矢印方向に引っ張
り、端子電極が多層配線基板1から剥離したときの荷重
を測定し、これを引張強度とした。
Tensile Strength Test As shown in FIG. 1, the lead wire 4 was fixed vertically to the plating film on the terminal electrode surface by the solder 2. Then, the lead wire 4 was pulled in the direction of the arrow in the figure by a tensile tester, and the load when the terminal electrode was peeled off from the multilayer wiring board 1 was measured, and this was defined as the tensile strength.

【0066】固着強度試験 図2に示されるように、多層配線基板1を表面実装素子
として用い、基板3(ガラスエポキシ基板)上にハンダ
2により固着した。そして、図中矢印方向にそれぞれ荷
重を加え、多層配線基板1が剥離したときの荷重を測定
し、これらをそれぞれ横押しおよび立て押しにおける固
着強度とした。
Fixing Strength Test As shown in FIG. 2, the multilayer wiring board 1 was used as a surface mount device and was fixed on a board 3 (glass epoxy board) by solder 2. Then, a load was applied in the direction of the arrow in the figure, and the load when the multilayer wiring board 1 was peeled was measured.

【0067】また、図3に示されるように、孔を設けた
基板3(ガラスエポキシ基板)を用意し、この孔を覆う
ように多層配線基板1をハンダ2により基板3表面に固
着した。そして、基板3の裏面側から図中矢印方向に荷
重を加え、多層配線基板1が剥離したときの荷重を測定
し、これを裏押しにおける固着強度とした。
As shown in FIG. 3, a board 3 (glass epoxy board) having holes was prepared, and a multilayer wiring board 1 was fixed to the surface of the board 3 with solder 2 so as to cover the holes. Then, a load was applied from the back side of the substrate 3 in the direction of the arrow in the figure, and the load when the multilayer wiring board 1 was peeled was measured, and this was defined as the fixing strength in back-pressing.

【0068】たわみ強度試験 多層配線基板1をハンダ2により固着した基板3(ガラ
スエポキシ基板)を、図4に示されるように多層配線基
板1の裏側から荷重を加えてたわませた。多層配線基板
1が剥離したときのたわみ量を測定し、これをたわみ強
度とした。
Deflection Strength Test The board 3 (glass epoxy board) to which the multilayer wiring board 1 was fixed with the solder 2 was bent by applying a load from the back side of the multilayer wiring board 1 as shown in FIG. The amount of flexure when the multilayer wiring board 1 was peeled was measured, and this was defined as flexural strength.

【0069】なお、上記各試験において、加圧速度は2
0mm/分とした。
In each of the above tests, the pressing speed was 2
0 mm / min.

【0070】上記各試験の結果を下記表2に示す。The results of the above tests are shown in Table 2 below.

【0071】[0071]

【表1】 [Table 1]

【0072】[0072]

【表2】 [Table 2]

【0073】上記結果から、本発明の効果が明らかであ
る。
From the above results, the effect of the present invention is clear.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明の導体ペースト組成物を用いて表
面実装素子や配線基板などの端子電極や外部導体を形成
すれば、端子電極や外部導体表面にハンダ濡れ性やハン
ダくわれ性改善のためのめっき膜を形成したときに、端
子電極や外部導体の接着強度が殆ど低下せず、極めて信
頼性の高い素子や基板が実現する。
According to the present invention, when a terminal electrode or an external conductor such as a surface mount device or a wiring board is formed using the conductive paste composition of the present invention, the surface of the terminal electrode or the external conductor can be improved in solder wettability and solder breakability. When a plating film is formed, the adhesion strength of the terminal electrode and the external conductor hardly decreases, and an extremely reliable element or substrate is realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】多層配線基板の端子電極の引張強度試験の説明
図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a tensile strength test of a terminal electrode of a multilayer wiring board.

【図2】多層配線基板の端子電極の固着強度試験(横押
しおよび立て押し)の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a fixing strength test (lateral pressing and vertical pressing) of a terminal electrode of a multilayer wiring board.

【図3】多層配線基板の端子電極の固着強度試験(裏押
し)の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a bonding strength test (back pressing) of a terminal electrode of a multilayer wiring board.

【図4】多層配線基板の端子電極のたわみ強度試験の説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a bending strength test of a terminal electrode of a multilayer wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 多層配線基板 2 ハンダ 3 基板 Reference Signs List 1 multilayer wiring board 2 solder 3 board

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 Agを主体とする導電材と、ガラスフリ
ットを含む無機結合剤とをビヒクル中に分散した導体ペ
ースト組成物であって、 前記ガラスフリットが、 ZnO :30〜65重量%、 B23 :10〜30重量%、 SiO2 :5〜20重量%、 MnO :1〜20重量%および TiO2 :0.1〜5重量% を含有することを特徴とする導体ペースト組成物。
1. A conductive paste composition in which a conductive material mainly composed of Ag and an inorganic binder containing glass frit are dispersed in a vehicle, wherein the glass frit is ZnO: 30 to 65% by weight, B 2 O 3: 10 to 30 wt%, SiO 2: 5 to 20 wt%, MnO: 1 to 20 wt% and TiO 2: conductive paste composition characterized in that it contains 0.1 to 5 wt%.
【請求項2】 前記導電材に対する前記ガラスフリット
の含有量が1〜10重量%である請求項1に記載の導体
ペースト組成物。
2. The conductive paste composition according to claim 1, wherein the content of the glass frit with respect to the conductive material is 1 to 10% by weight.
【請求項3】 前記ガラスフリット中のZnOの一部ま
たは全部が、PbOに置換されている請求項1または2
に記載の導体ペースト組成物。
3. The glass frit according to claim 1, wherein part or all of ZnO in the glass frit is substituted with PbO.
3. The conductor paste composition according to item 1.
【請求項4】 前記ガラスフリットの平均粒径が0.1
〜20μm である請求項1ないし3のいずれかに記載の
導体ペースト組成物。
4. The glass frit has an average particle size of 0.1.
The conductive paste composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the conductive paste is from 20 to 20 µm.
【請求項5】 前記無機結合剤が、前記導電材に対して
5重量%以下のTiO2 を含む請求項1ないし4のいず
れかに記載の導体ペースト組成物。
5. The conductive paste composition according to claim 1, wherein the inorganic binder contains TiO 2 in an amount of 5% by weight or less based on the conductive material.
【請求項6】 前記TiO2 の平均粒径が0.1〜20
μm である請求項5に記載の導体ペースト組成物。
6. The TiO 2 having an average particle size of 0.1 to 20.
The conductive paste composition according to claim 5, which has a particle size of µm.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の導
体ペースト組成物を焼成して形成された端子電極を有す
ることを特徴とする配線基板。
7. A wiring board comprising terminal electrodes formed by firing the conductive paste composition according to claim 1.
【請求項8】 前記端子電極の表面にめっき膜を有する
請求項7に記載の配線基板。
8. The wiring board according to claim 7, wherein a plating film is provided on a surface of the terminal electrode.
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