JP3118466B2 - シクロヘキサペプチジルリポペプチドの側鎖誘導体の改良製造方法 - Google Patents
シクロヘキサペプチジルリポペプチドの側鎖誘導体の改良製造方法Info
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Description
発明の背景 本発明はある特定のアミン含有シクロヘキサペプチジ
ルリポペプチドの側鎖誘導体の改良製造方法に関する。
これらの側鎖は、以下の式（配列番号１）によって表さ
れるシクロヘキサペプチドの１−［ヒドロキシオルニチ
ン］残基のα−アミノ−窒素に結合している。 （R1は本明細書で後に詳しく定義される） 以前、これらのアミン含有リポペプチドの側鎖誘導体
は、脱アシル化−再アシル化工程、次に３−ヒドロキシ
グルタミン残基の３−ヒドロキシオルニチン残基への化
学変換により製造されてきた。しかし、このスキームで
の収率は非常に低く、各誘導体毎に最適化を必要とす
る。 それ故、高収率で側鎖誘導体を製造するための改良方
法を提供することが本発明の目的である。 発明の詳細な説明 本発明によれば、以下の式（配列番号１）により表さ
れるある特定のアミン含有シクロヘキサペプチド類が以
下に記載する新規方法により良好でより再現性のある収
率で得ることができることが知見された。 ［式中、 R1は、C9−C21アルキル、C9−C21アルケニル、C1−C10
アルコキシフェニル、C1−C10アルコキシナフチル、又
は （ここで、RaはC1−C10アルキル又は（CH2）qNRbRcであ
り、 RbとRcは独立にＨ、C1−C10アルキルであるか、又はRb
とRcはＮ原子と一緒になって であり、 RdはC1−C16アルキル、フェニル又はベンジルであり、
ｐは１又は２であり、ｑは２、３又は４である）であ
る］。 本発明の方法は、（ａ）以下の式を有するシクロヘキ
サペプチドを 脱水剤、還元剤、エーテル化剤と順次反応させて、以下
の式を有するアミノアルキルエーテル誘導体を得、 （ｂ）上記エーテル誘導体を脱アシル化して、以下の式
を有する化合物を得、 （ｃ）優先的に３つのアミノ基のうち２つを、適切な保
護基と反応させて保護し、以下の式を有する化合物を
得、 （ｄ）未保護のアミノ基を、適切な活性化エステルと反
応させて再アシル化し、以下の式を有する化合物を得、
次いで （ｅ）保護されたアミノ基を脱保護し、以下の式を有す
る化合物を得ること、 からなる。 本発明の方法を、以下のスキームＩでより詳細に説明
する。 特記しない限り、以下の定義の用語を使用して、本明
細書で本発明を記述する。 “アルキル”という用語は、特記しない限り、１〜30
個の炭素原子を含む一価のアルカン（炭化水素）由来の
基を指す。アルキルは直鎖、分岐鎖、環状鎖でありう
る。好適なアルキル基にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシルが含まれる。置換されるときには、アル
キル基は、結合に利用できる任意の位置で最大３個の置
換基で置換されうる。アルキル基がアルキル基で置換さ
れるというときは、そのアルキル基は“分岐アルキル
基”とも言われる。アルキル基は結合しうる任意の位置
で置換されることができる。“アルコキシ”のアルキル
部分はまた上記のように定義される。 シクロアルキルは、炭素原子間で交互二重結合即ち共
鳴二重結合のない３〜５個の炭素原子を含むアルキルで
あり、１〜４個の環が融合していてもよい。好適なシク
ロアルキル基はシクロペンチルとシクロヘキシルであ
る。 アルコキシはC1−C4アルキル−Ｏ−（アルキル基は任
意に置換されている）を指す。 米国特許第5,202,309号に記載され、その製造が米国
特許第5,194,377号に開示されている化合物Ａを、初め
に脱水剤と反応させ、次に還元剤で還元し、次いでエー
テル化して、化合物Ｂを得る。 カルボキサミド基の脱水は優先的に塩化シアヌルを用
いて行う。塩化シアヌルの代わりに使用できる他の試薬
は、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、五酸化リンなど
の無水物；塩化オキサリル、オキシ塩化リン、塩化チオ
ニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、クロロスルホニル
イソシアナートなどの酸塩化物；五塩化リン、トリフェ
ニルホスフィン／四塩化炭素、トリフェニルホスホニウ
ムジトリフラート、二塩化トリフェニルホスホニウムな
どのホスホニウム試薬；ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドなどのカルボジイミド；塩化アルミニウム、四塩化チ
タニウム、水酸化エチル（カルボキシスルファモイル）
トリエチルアンモニウム又は内部塩などの他の脱水剤で
ある。 ジメチルホルムアミド（DMF）などの溶媒中で反応を
行う。使用できる他の溶媒にはピリジン、コリジン、他
の弱塩基性溶媒などがある。 化合物Ａと脱水剤の相対量は変わるが、一般的には脱
水剤を過剰に使用する。脱水剤を約1.5〜15当量使用す
る。 還元剤は、結果として生成されるニトリル中間体を還
元するために使用される。この還元を、化学還元又は接
触還元を用いて行うことができる。化学還元を用いる場
合には、水素化物又は水素化物の組合せが有用であるこ
とが知見された。 アルコール性溶媒中でホウ水素化ナトリウムに塩化第
一コバルトを併用することが特に有用であることが知見
された。試薬のこの組合せを使用する場合、ニトリル１
モル当り、ホウ水素化ナトリウム約５〜50モル当量、塩
化第一コバルト約２〜10モル当量を使用する。 ラネーニッケル、シアノホウ水素化ナトリウム、水素
化アルミニウム、ジボラン、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムなどの他の水素化物還元剤も使用できる。しばし
ばこれらの還元剤は、ホウ水素化ナトリウムと塩化第一
コバルトの現在の組合せにおけるように塩化第一コバル
ト又は塩化アルミニウムなどのルイス酸と組合せて使用
される。 接触水素化も炭素担持パラジウム、酸化白金、アルミ
ナ担持ロジウムを含む多数の触媒上で行うことができ
る。Pd/C触媒上の低圧接触還元は特に好適である。 それらの試薬に依存する代表的溶媒にはアルコール、
特にメタノールとエタノール、ジメチルホルムアミド、
ピリジン、テトラヒドロフラン又は他のエーテルが含ま
れる。 これらの工程の後、OH基を、塩としてアミノアルコー
ルと反応させ、化合物Ｂを得る。 化合物Ｂを、Actinoplanes utahensisのデアシラーゼ
又はPseudomonas acidovoransのデアシラーゼなどの微
生物の脱アシル化剤を使用して脱アシル化させることが
でき、化合物Ｃを得る。以下の式を有する化合物Ｃは、
本発明の方法に必須の新規中間体である。 化合物Ｃを、Biogel P2及び更に逆相C18カラムクロ
マトグラフィーを使用するHPLCを用いる処理により更に
精製できる。 ３つの反応性アミン基を有する化合物Ｃを、適切な保
護基との反応によって選択的に保護できる。通常の保護
基が使用されるが、カルボベンジルオキシ基（CBz）が
好適である。他の基には塩基性条件下で除去可能なカル
バミン酸フルオレニルメチル（Fmoc）及び酸性条件下で
除去可能なカルバミン酸ｔ−ブチル（ｔ−BOC）が含ま
れる。３つの反応性アミンを選択的に保護する基はいず
れも使用できる。 保護反応を行うのに溶媒を使用する。適切な溶媒に
は、トリエチルアミン、DMF、アセトニトリル、ピリジ
ン、又はｎ−メチルピロリジノンがある。典型的には、
この反応を約−20〜25℃の温度で約0.5〜12時間行う。 化合物Ｄは、0.1％トリフルオロ酢酸（TFA）を含むCH
3CN/H2Oを使用するフラッシュクロマトグラフィーによ
り純粋なものとして単離できる。 その後、二置換オルニチン残基のTFA塩として化合物
Ｄを、未保護アミン基で、定義されたR1基で１〜10当量
の活性化エステルとの反応により再アシル化させること
ができ、化合物Ｅを生成できる。活性化エステルは、当
業者にアミン基をアシル化すると知られているものであ
る。このようなエステルにはフェニル、ｐ−ニトロフェ
ニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニ
ル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、3,5−ジクロロフ
ェニル、チオフェニル、２−チオピリジルなどが含まれ
る。アシル化剤は活性化エステルに限らない。使用でき
る反応性アシル化剤の他の型には酸塩化物、酸無水物、
オルトエステルが含まれる。 典型的には、再アシル化は温度約25〜60℃で約１〜72
時間、DMF、Ｎ−メチルピロリジノン、テトラヒドロフ
ラン、ピリジン、トリエチルアミン又はこのような溶媒
の組合せなどの適切な溶媒中で行われる。生成物は、C8
又はC18逆相カラムを使用するフラッシュクロマトグラ
フィー又はHPLCにより更に精製される。２つの保護アミ
ンは活性化エステルで攻撃されないで、反応は二置換オ
ルニチン残基のα−アミノ−窒素でだけ起こる。 化合物Ｄを必ずしも単離する必要がない。あるいはR1
側鎖基を、化合物Ｄが生成される反応において直接化合
物Ｅを得るように導入することができる。アシル化は、
温度約25〜60℃で、化合物Ｄを含む反応混合液に直接活
性化エステルを加えて、約１〜72時間撹拌して達成され
ることができる。アシル化条件と化合物Ｅの精製は上述
し、化合物Ｄが最初に単離されようと生成後反応容器で
直接アシル化されようとどちらでも適用できる。 次に化合物Ｅを、保護基を除去するために脱保護す
る。カルボベンジルオキシ基（CBz）は、10％Pd/Cの存
在下低圧水素化により除去できる。水素化は、0.1％TFA
を含むアセトニトリル／水溶媒系を用いる分析HPLCでモ
ニターされる。反応が実質的に終わったときに、反応混
合液を濾過し、触媒を除去し、濾液を真空濃縮又は凍結
乾燥し、生成物を分取HPLCを用いて精製する。Fmoc又は
ｔ−BOCなどの他の保護基は、それぞれ塩基又は酸処
理、あるいは当業者公知の他の方法で除去できる。 本発明の方法により製造される化合物は、抗生物質、
特に抗真菌剤又は抗原生動物剤として有用である。抗真
菌剤として、本発明の方法により製造される化合物は糸
状菌及び酵母両方の防除に有用である。それらは特に、
哺乳動物での真菌感染、特にCandida種（C.albicans、
C.tropicalis、C.pseudotropicalisなど）、Cryptococc
us種（C.neoformansなど）、Aspegillus種（A.fumigatu
s、A.flavus、A.nigerなど）によって引き起こされる感
染の治療のために使用に適している。本発明の方法によ
り製造される化合物はまた、免疫低下患者が特にかかり
やすいPneumocystis carinii肺炎の治療及び／又は予防
に有用である。 以下の実施例で本発明を説明するが、本明細書に記載
した本発明を限定するものと解釈されるべきではない。 実施例１ A.脱アシル化酵素の調製 Luria−Bertani培地寒天スラント上に維持されたP.ac
idovorans ATCC53942を使用し脱アシル化酵素を生産さ
せた。 250ml容フラスコ中のLuria−Bertani培地50mlに一白
金耳の細菌を植菌してシード培養物を調製し、培養物を
27℃で約24時間、一定の振盪をしながらインキュベート
した。撹拌発酵槽中のLuria−Bertani培地151にシード
培養物30mlを植菌し、28℃で20〜24時間、撹拌400rpm、
通気7.51/分でインキュベートして脱アシル化用細胞を
生育させた。細胞を50mMリン酸カリウム緩衝液pH7.5で
洗浄し、同緩衝液約41に再懸濁させた。脱アシル化酵素
を得るために懸濁液を37℃に平衡化させた。 B.化合物Ｂの脱アシル化 上記懸濁液21を使用して化合物B3.5gを脱アシル化し
た。化合物B3.5gを蒸留水約900mlに溶解させ、37℃に保
たれ、通気なしで約300rpmで撹拌したP.acidovoransの
懸濁液21に１時間かけてゆっくりと加えた。24時間後、
脱アシル化混合物から遠心分離でP.acidovorans細胞を
除去して、上清1.81を集めた。 C.化合物Ｃの単離 化合物Ｃの精製に際し、まず10％トリフルオロ酢酸水
溶液45mlを上記で得られた上清900mlに加えた。溶液を
濾過し、粒子状物質を除去し、それから逆相クロマトグ
ラフィーで精製した（DELTA PAK Ｃ−18,45×300mm、
0.1％トリフルオロ酢酸を含む100％水を充填したラジア
ルパックカラム、50ml/分、λ＝230nm）。分析用HPLC
（ZORBAX RX−C18、2.5％アセトニトリル水溶液/0.1％
トリフルオロ酢酸、1ml/分、λ＝210nm）で測定した適
切な分画をプールし、凍結乾燥した。上清の残りの900m
lを同じように精製し、最初の精製からの物質と一緒に
し合計1.3gの脱アシル化リポペプチドを得た。FAB−MS
（Ｍ＋Ｈ）m/z856;1H NMR（400MHZ、CD3OD）δ7.12
（ｄ）,6.77（ｄ）,5.23（ｄ）,5.02（ｄ）,3.17
（ｍ）,3.05（ｔ）,1.29（ｄ）。 実施例２ 無水N,N−ジメチルホルムアミド中の実施例１からの
核生成物（nucleus）（33.1mg,0.0276mmol）と４−ニト
ロフェニル炭酸ベンジル（15.1mg,0.0553mmol）の溶液
に、トリエチルアミン（23.1μl,0.166mmol）を加え
た。反応混合物を１時間撹拌し、その後H2O（4ml）で希
釈した。得られた水溶液を５％のステップグラジエント
の10−35％CH3CN/H2O（0.1％CF3COOH）で溶出するC18−
フラッシュクロマトグラフィーにかけた後、分析用HPLC
（Z orbax RX−C18、25％アセトニトリル/H2O（0.1％CF
3COOH）、1.5ml/分、277nmでのUV検出）で測定した生成
物含有分画を凍結乾燥し、選択的に保護された核生成物
を得た。FAB−MS（Li）m/z1130.1,1124.1;1H NMR（400M
HZ、CD3OD）δ1.28（ｄ）,3.21（ｔ）,3.51（ｍ）,5.08
（ｓ）,6.76（ｄ）,7.12（ｄ）,7.31（ｍ）。 実施例３ 工程A:6−オクチルオキシ−２−ナフトエ酸ペンタフル
オロフェニル ０℃の酢酸エチル（25ml）中の６−オクチルオキシ−
２−ナフトエ酸（3.15g,10.5mmol）とジシクロヘキシル
カルボジイミドの懸濁液にペンタフルオロフェノール
（2.12g,11.5mmol）を加えた。混合物を25℃で18時間撹
拌した。沈殿を濾過により除去した。濾液を水（２×15
0ml）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し
た。酢酸エチルを真空除去し、６−オクチルオキシ−２
−ナフトエ酸ペンタフルオロフェニル5.4gを固体として
得た。1H NMR（400MHz,CD3OD）δ0.88（t,3H,J＝6.9H
z）,4.10（t,2H,J＝6.6Hz）,7.16（d,1H）,7.21（d,1
H）,7.80（d,1H）,7.87（d,1H）,8.08（dd,1H）,8.69
（d,1H）。 工程B:結合した核生成物の製造 工程Ａで記述したように製造した６−オクチルオキシ
−２−ナフトエ酸ペンタフルオロフェニル（20.5mg,0.0
44mmol）を、無水N,N−ジメチルホルムアミド（2.1ml）
中の実施例２からの保護された核生成物（45mg,0.040mm
ol）の溶液に加えた。得られた溶液を室温で22時間撹拌
した。水（8ml）で希釈して不均質な混合物を得た。混
合物を10％のステップグラジエントの30−100％CH3CN/H
2Oで溶出するC18−フラッシュクロマトグラフィーにか
けた後、分析用HPLC（Zorbax RX−C18、70％CH3CN/H2O
（0.1％CF3COOH）、1.5ml/分、210nmでのUV検出）で測
定した生成物含有分画を凍結乾燥し、上記化合物19mgを
無定形固体として得た。1H NMR（400MHZ、CD3OD）δ0.9
0（t,3H,J＝7.0Hz）,1.21（d,3H,J＝5.8Hz）,1.53（m,2
H）,1.66（m,1H）,2.43（dd,1H,J＝7.0,13.2Hz）,3.39
（m,1H）,3.51（m,1H）,3.60（m,1H）,3.81（m,3H）,3.
97（dd,1H,J＝3.0,11.2Hz）,4.10（t,2H,J＝6.4Hz）,4.
17（m,1H）,4.56（m,3H）,5.30（dd,1H,J＝1.6,9.3）,
6.75（d,2H,J＝8.6Hz）,7.23（ｍ）,7.67（ｍ）,7.86
（dd,1H,J＝1.7,8.7Hz）,8.33（s,1H）,8.38（d,1H,J＝
8.9Hz）;FAB−MS（Li）m/z1412.0。 実施例４ メタノール（4ml）と氷酢酸（0.5ml）中の実施例３か
らの２個のCBZ結合核生成物（19mg,0.0135mmol）の溶液
を、10％Pd/C（20mg）の存在下バルーン圧で１時間水素
化した。反応混合物をケイソウ土床で濾過し、触媒を除
去し、MeOHで濯いだ。濾液を真空濃縮した。残渣を５％
のステップグラジエントの10−45％CH3CN/H2O（0.1％CF
3COOH）で溶出するC18−フラッシュクロマトグラフィー
にかけた後、分析用HPLC（Zorbax RX−C18、70％CH3CN
/H2O（0.1％CF3COOH）、1.5ml/分、210nmでのUV検出）
で測定した生成物含有分画を凍結乾燥し、不純物を含む
生成物9.9mgを得た。この物質を再クロマトグラフィー
（Zorbax RX−C18、21.2mm×25cm,10−40％CH3CN/H2O
（0.1％CF3COOH）、５％のステップグラジエント、UV検
出277nm）にかけて二置換トリフルオロ酢酸塩6.3mgを得
た。水で溶出する強アニオン交換カラム（Cl-）上での
二塩酸塩形態への変換、その後の凍結乾燥により上記生
成物5.5mgを無定形固体として得た;1H NMR（400MHz、CD
3OD）δ0.91（t,3H,J＝6.9Hz）,1.22（d,3H,J＝6.1H
z）,1.53（m,2H）,2.45（dd,1H,J＝6.9,13.1Hz）,3.09
（t,2H,J＝5.0）,3.16（m,2H）,3.65（m,1H）,4.00（d
d,1H,J＝3.1,6.5Hz）,4.12（t,2H,J＝6.5Hz）,5.03（d,
1H,J＝3.2Hz）,5.28（d,1H,J＝2.1Hz）,6.75（d,2H,J＝
8.6Hz）,7.12（d,2H,J＝8.6Hz）,7.21（m,1H）,7.28
（d,1H,J＝2.2Hz）,7.84（m,3H）,8.36（brs,1H）;FAB
−MS（Li）m/z1144.6,1083.4。 実施例５ 工程A:4−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペンタ
フルオロフェノキシ−カルボニル−ビフェニル ステップ1:4−（４−ｎ−ペントキシフェニル）フェニ
ルボロン酸 窒素雰囲気下で−78度の無水テトラヒドロフラン（20
ml）中の４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）ブロモベ
ンゼン（1.0g,3.13mmol）の懸濁液に撹拌しつつ、ヘキ
サン中のｎ−ブチルリチウム（2.5M,1.32ml,3.30mmol）
を加えた。15分後、ホウ酸トリイソプロピル（760μl,
3.30mmol）を加えた。−78℃で15分間撹拌し続け、その
後25℃で40分間撹拌し続けた。混合物を0.5N HCl（20m
l）で酸性にし、その後エーテル（50ml）と水（40ml）
の間で分配した。有機相を水（３回）、ブラインで洗浄
し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を真空除去し、
４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）フェニルボロン酸
（750mg）を固体として得た。1H NMR（400MHz、DMSO−d
6）δ0.89（t,3H,J＝7.2Hz）,1.38（m,4H）,1.72（m,2
H）,3.99（t,2H,J＝6.5Hz）,6.99（d,2H,J＝8.8Hz）,7.
57（d,2H,J＝8.2Hz）,7.60（d,2H,J＝8.8Hz）,7.83（d,
2H,J＝8.2Hz）。 ステップ2:4−（４−ｎ−ペントキシフェニル）ブロモ
ベンゼン ジメチルスルホキシド400ml中の４−（４−ブロモフ
ェニル）フェノール（25.5g,0.102mol）の溶液に撹拌し
つつ、2.5N NaOH（40.9ml、0.102mol）、次いで臭化ｎ
−ペンチル（12.7ml,0.102mol）を加えた。得られた混
合物を70℃で18時間加熱した。冷却後、溶液を酢酸エチ
ル（1000ml）と水（500ml）の間で分配した。有機相を
水（３回）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱
水した。溶媒を真空除去し、４−（４−ｎ−ペントキシ
フェニル）ブロモベンゼン30.9gを得た。1H NMR（400MH
z、DMSO−d6）δ0.93（t,3H,J＝7.2Hz）,1.41（m,4H）,
1.79（m,2H）,3.97（t,2H,J＝6.6Hz）,6.94（d,2H,J＝
8.8Hz）,7.39（d,2H,J＝8.6Hz）,7.45（d,2H,J＝8.8H
z）,7.51（d,2H,J＝8.6Hz）。 ステップ3:4−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−カ
ルボキシビフェニル エタノール（11ml）とトルエン（30ml）中の４−（４
−ｎ−ペントキシフェニル）フェニルボロン酸（1.0g,
3.52mmol）と４−ヨード安息香酸（874mg,3.52mmol）の
混合物に撹拌しつつ、炭酸ナトリウム水溶液（2M,5.3m
l,10.6mmol）、次にテトラキス（トリフェニルホスフィ
ン）パラジウム（204mg,5mol％）を加えた。反応混合物
を窒素雰囲気下18時間100℃で加熱した。冷却した混合
物をpH3に酸性化し（1N HCl）、酢酸エチルと水の間で
分配した。有機相を水（３回）、ブラインで洗浄し、硫
酸マグネシウムで脱水し、セライト床で濾過した。溶媒
を真空除去し、粗生成物を得、該生成物をフラッシュシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、４−（ｎ−ペン
トキシビフェニル）−４′−カルボキシビフェニル（45
0mg）を得た。1H NMR（400MHZ、DMSO−d6）δ0.89（t,3
H）,1.37（m,4H）,1.72（m,2H）,3.98（t,2H）,7.01
（d,2H）。 ステップ4:4−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペ
ンタフルオロフェノキシ−カルボニル−ビフェニル ０℃のN,N−ジメチルホルムアミド（70ml）中の４−
（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−カルボキシビフェ
ニル（3.04g,8.43mmol）とジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（2.28g,11.1mmol）の混合物に、ペンタフルオロフ
ェノール（4.08g,22.2mmol）を加えた。混合物を25℃で
18時間撹拌し、その後酢酸エチルと水の間で分配した。
有機相を水（３回）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで脱水した。溶媒を真空除去し、ペンタフルオロフ
ェニルエステル3.95gを得た。粗エステルをエーテルと
ヘキサンで摩砕し、フィルターケーキを吸引−乾燥後、
きれいな４−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペン
タフルオロフェノキシカルボニルビフェニル0.5gを得
た。1H NMR（400MHz、CDCl3）δ0.93（t,3H）,4.01（t,
2H）,6.98（d,2H）,7.56（d,2H）,7.67（d,2H）,7.70
（d,2H）,7.79（d,2H）,8.26（d,2H）。 工程B:結合した核生成物の製造 無水N,N−ジメチルホルムアミド（3.5ml）中の実施例
１からの核生成物（103.9mg,0.087mmol）と４−ニトロ
フェニル炭酸ベンジル（47.4mg,0.173mmol）の溶液に撹
拌しつつ、トリエチルアミン（48.4μl,0.347mmol）を
加えた。反応混合物を１時間撹拌した。工程Ａで記載し
たように製造した４−（ｎ−ペントキシフェニル）−
４′−ペンタフルオロフェノキシカルボニルビフェニル
（46mg,0.087mmol）を加え、撹拌を60時間続けた。水
（3.5ml）で希釈すると不均質な混合物が得られたが、
該混合物はCH3OHの添加で部分的に清澄化した。生成物
を、最初に40％CH3CN/H2O、次にCH3OHで溶出するC18固
相抽出により単離した。分析用HPLC（Zorbax RX−C1
8、75％CH3CN/H2O（0.1％CF3COOH）、1.5ml/分、UV検出
210nm）により測定された生成物含有CH3OH分画を濃縮す
ると、粗のジCBZ結合核生成物57mgを得た。メタノール
（10ml）と氷酢酸（4ml）中のこの生成物の溶液を、10
％Pd/C（100mg）の存在下バルーン圧下で1.75時間水素
化した。反応混合物をケイソウ土床で濾過し、触媒を除
去し、MeOHで濯いだ。濾液を真空濃縮した。残渣を、完
全に可溶化するに十分なCH3OHを含有する移動相中に負
荷して分取用HPLC（Zorbax RX−C18、40％CH3CN/H2O
（0.1％CF3COOH）溶出）を行い、次いで分析用HPLC（Zo
rbax RX−C18、70％CH3CN/H2O（0.1％CF3COOH）、1.5m
l/分、UV検出210nm）により測定された生成物含有分画
を凍結乾燥すると、結合した脱保護核生成物30mgを無定
形固体として得た。1H NMR（400MHz、CD3OD）δ0.96
（t,3H,J＝7.1Hz）,1.22（d,3H,J＝6.1Hz）,1.45（m,4
H）,2.45（dd,1H,J＝6.8,12.7Hz）,3.11（t,2H,J＝4.
4）,3.16（m,2H）,3.67（m,1H）,4.02（t,2H,J＝6.5H
z）,4.11（m,1H）,5.03（d,1H,J＝3.3Hz）,5.28（d,1H,
J＝2.2Hz）,6.76（d,2H,J＝8.6Hz）,7.01（d,2H,J＝8.9
Hz）,7.12（d,2H,J＝8.7Hz）,7.60（d,2H,J＝8.8Hz）,
7.70（d,2H,J＝8.8Hz）,7.74（d,2H,J＝8.8Hz）,7.80
（d,2H,J＝8.5Hz）,7.97（d,2H,J＝8.5Hz）;FAB−MS（L
i）m/z 1204.5。
ルリポペプチドの側鎖誘導体の改良製造方法に関する。
これらの側鎖は、以下の式（配列番号１）によって表さ
れるシクロヘキサペプチドの１−［ヒドロキシオルニチ
ン］残基のα−アミノ−窒素に結合している。 （R1は本明細書で後に詳しく定義される） 以前、これらのアミン含有リポペプチドの側鎖誘導体
は、脱アシル化−再アシル化工程、次に３−ヒドロキシ
グルタミン残基の３−ヒドロキシオルニチン残基への化
学変換により製造されてきた。しかし、このスキームで
の収率は非常に低く、各誘導体毎に最適化を必要とす
る。 それ故、高収率で側鎖誘導体を製造するための改良方
法を提供することが本発明の目的である。 発明の詳細な説明 本発明によれば、以下の式（配列番号１）により表さ
れるある特定のアミン含有シクロヘキサペプチド類が以
下に記載する新規方法により良好でより再現性のある収
率で得ることができることが知見された。 ［式中、 R1は、C9−C21アルキル、C9−C21アルケニル、C1−C10
アルコキシフェニル、C1−C10アルコキシナフチル、又
は （ここで、RaはC1−C10アルキル又は（CH2）qNRbRcであ
り、 RbとRcは独立にＨ、C1−C10アルキルであるか、又はRb
とRcはＮ原子と一緒になって であり、 RdはC1−C16アルキル、フェニル又はベンジルであり、
ｐは１又は２であり、ｑは２、３又は４である）であ
る］。 本発明の方法は、（ａ）以下の式を有するシクロヘキ
サペプチドを 脱水剤、還元剤、エーテル化剤と順次反応させて、以下
の式を有するアミノアルキルエーテル誘導体を得、 （ｂ）上記エーテル誘導体を脱アシル化して、以下の式
を有する化合物を得、 （ｃ）優先的に３つのアミノ基のうち２つを、適切な保
護基と反応させて保護し、以下の式を有する化合物を
得、 （ｄ）未保護のアミノ基を、適切な活性化エステルと反
応させて再アシル化し、以下の式を有する化合物を得、
次いで （ｅ）保護されたアミノ基を脱保護し、以下の式を有す
る化合物を得ること、 からなる。 本発明の方法を、以下のスキームＩでより詳細に説明
する。 特記しない限り、以下の定義の用語を使用して、本明
細書で本発明を記述する。 “アルキル”という用語は、特記しない限り、１〜30
個の炭素原子を含む一価のアルカン（炭化水素）由来の
基を指す。アルキルは直鎖、分岐鎖、環状鎖でありう
る。好適なアルキル基にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシルが含まれる。置換されるときには、アル
キル基は、結合に利用できる任意の位置で最大３個の置
換基で置換されうる。アルキル基がアルキル基で置換さ
れるというときは、そのアルキル基は“分岐アルキル
基”とも言われる。アルキル基は結合しうる任意の位置
で置換されることができる。“アルコキシ”のアルキル
部分はまた上記のように定義される。 シクロアルキルは、炭素原子間で交互二重結合即ち共
鳴二重結合のない３〜５個の炭素原子を含むアルキルで
あり、１〜４個の環が融合していてもよい。好適なシク
ロアルキル基はシクロペンチルとシクロヘキシルであ
る。 アルコキシはC1−C4アルキル−Ｏ−（アルキル基は任
意に置換されている）を指す。 米国特許第5,202,309号に記載され、その製造が米国
特許第5,194,377号に開示されている化合物Ａを、初め
に脱水剤と反応させ、次に還元剤で還元し、次いでエー
テル化して、化合物Ｂを得る。 カルボキサミド基の脱水は優先的に塩化シアヌルを用
いて行う。塩化シアヌルの代わりに使用できる他の試薬
は、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、五酸化リンなど
の無水物；塩化オキサリル、オキシ塩化リン、塩化チオ
ニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル、クロロスルホニル
イソシアナートなどの酸塩化物；五塩化リン、トリフェ
ニルホスフィン／四塩化炭素、トリフェニルホスホニウ
ムジトリフラート、二塩化トリフェニルホスホニウムな
どのホスホニウム試薬；ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドなどのカルボジイミド；塩化アルミニウム、四塩化チ
タニウム、水酸化エチル（カルボキシスルファモイル）
トリエチルアンモニウム又は内部塩などの他の脱水剤で
ある。 ジメチルホルムアミド（DMF）などの溶媒中で反応を
行う。使用できる他の溶媒にはピリジン、コリジン、他
の弱塩基性溶媒などがある。 化合物Ａと脱水剤の相対量は変わるが、一般的には脱
水剤を過剰に使用する。脱水剤を約1.5〜15当量使用す
る。 還元剤は、結果として生成されるニトリル中間体を還
元するために使用される。この還元を、化学還元又は接
触還元を用いて行うことができる。化学還元を用いる場
合には、水素化物又は水素化物の組合せが有用であるこ
とが知見された。 アルコール性溶媒中でホウ水素化ナトリウムに塩化第
一コバルトを併用することが特に有用であることが知見
された。試薬のこの組合せを使用する場合、ニトリル１
モル当り、ホウ水素化ナトリウム約５〜50モル当量、塩
化第一コバルト約２〜10モル当量を使用する。 ラネーニッケル、シアノホウ水素化ナトリウム、水素
化アルミニウム、ジボラン、水素化ジイソブチルアルミ
ニウムなどの他の水素化物還元剤も使用できる。しばし
ばこれらの還元剤は、ホウ水素化ナトリウムと塩化第一
コバルトの現在の組合せにおけるように塩化第一コバル
ト又は塩化アルミニウムなどのルイス酸と組合せて使用
される。 接触水素化も炭素担持パラジウム、酸化白金、アルミ
ナ担持ロジウムを含む多数の触媒上で行うことができ
る。Pd/C触媒上の低圧接触還元は特に好適である。 それらの試薬に依存する代表的溶媒にはアルコール、
特にメタノールとエタノール、ジメチルホルムアミド、
ピリジン、テトラヒドロフラン又は他のエーテルが含ま
れる。 これらの工程の後、OH基を、塩としてアミノアルコー
ルと反応させ、化合物Ｂを得る。 化合物Ｂを、Actinoplanes utahensisのデアシラーゼ
又はPseudomonas acidovoransのデアシラーゼなどの微
生物の脱アシル化剤を使用して脱アシル化させることが
でき、化合物Ｃを得る。以下の式を有する化合物Ｃは、
本発明の方法に必須の新規中間体である。 化合物Ｃを、Biogel P2及び更に逆相C18カラムクロ
マトグラフィーを使用するHPLCを用いる処理により更に
精製できる。 ３つの反応性アミン基を有する化合物Ｃを、適切な保
護基との反応によって選択的に保護できる。通常の保護
基が使用されるが、カルボベンジルオキシ基（CBz）が
好適である。他の基には塩基性条件下で除去可能なカル
バミン酸フルオレニルメチル（Fmoc）及び酸性条件下で
除去可能なカルバミン酸ｔ−ブチル（ｔ−BOC）が含ま
れる。３つの反応性アミンを選択的に保護する基はいず
れも使用できる。 保護反応を行うのに溶媒を使用する。適切な溶媒に
は、トリエチルアミン、DMF、アセトニトリル、ピリジ
ン、又はｎ−メチルピロリジノンがある。典型的には、
この反応を約−20〜25℃の温度で約0.5〜12時間行う。 化合物Ｄは、0.1％トリフルオロ酢酸（TFA）を含むCH
3CN/H2Oを使用するフラッシュクロマトグラフィーによ
り純粋なものとして単離できる。 その後、二置換オルニチン残基のTFA塩として化合物
Ｄを、未保護アミン基で、定義されたR1基で１〜10当量
の活性化エステルとの反応により再アシル化させること
ができ、化合物Ｅを生成できる。活性化エステルは、当
業者にアミン基をアシル化すると知られているものであ
る。このようなエステルにはフェニル、ｐ−ニトロフェ
ニル、ペンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニ
ル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、3,5−ジクロロフ
ェニル、チオフェニル、２−チオピリジルなどが含まれ
る。アシル化剤は活性化エステルに限らない。使用でき
る反応性アシル化剤の他の型には酸塩化物、酸無水物、
オルトエステルが含まれる。 典型的には、再アシル化は温度約25〜60℃で約１〜72
時間、DMF、Ｎ−メチルピロリジノン、テトラヒドロフ
ラン、ピリジン、トリエチルアミン又はこのような溶媒
の組合せなどの適切な溶媒中で行われる。生成物は、C8
又はC18逆相カラムを使用するフラッシュクロマトグラ
フィー又はHPLCにより更に精製される。２つの保護アミ
ンは活性化エステルで攻撃されないで、反応は二置換オ
ルニチン残基のα−アミノ−窒素でだけ起こる。 化合物Ｄを必ずしも単離する必要がない。あるいはR1
側鎖基を、化合物Ｄが生成される反応において直接化合
物Ｅを得るように導入することができる。アシル化は、
温度約25〜60℃で、化合物Ｄを含む反応混合液に直接活
性化エステルを加えて、約１〜72時間撹拌して達成され
ることができる。アシル化条件と化合物Ｅの精製は上述
し、化合物Ｄが最初に単離されようと生成後反応容器で
直接アシル化されようとどちらでも適用できる。 次に化合物Ｅを、保護基を除去するために脱保護す
る。カルボベンジルオキシ基（CBz）は、10％Pd/Cの存
在下低圧水素化により除去できる。水素化は、0.1％TFA
を含むアセトニトリル／水溶媒系を用いる分析HPLCでモ
ニターされる。反応が実質的に終わったときに、反応混
合液を濾過し、触媒を除去し、濾液を真空濃縮又は凍結
乾燥し、生成物を分取HPLCを用いて精製する。Fmoc又は
ｔ−BOCなどの他の保護基は、それぞれ塩基又は酸処
理、あるいは当業者公知の他の方法で除去できる。 本発明の方法により製造される化合物は、抗生物質、
特に抗真菌剤又は抗原生動物剤として有用である。抗真
菌剤として、本発明の方法により製造される化合物は糸
状菌及び酵母両方の防除に有用である。それらは特に、
哺乳動物での真菌感染、特にCandida種（C.albicans、
C.tropicalis、C.pseudotropicalisなど）、Cryptococc
us種（C.neoformansなど）、Aspegillus種（A.fumigatu
s、A.flavus、A.nigerなど）によって引き起こされる感
染の治療のために使用に適している。本発明の方法によ
り製造される化合物はまた、免疫低下患者が特にかかり
やすいPneumocystis carinii肺炎の治療及び／又は予防
に有用である。 以下の実施例で本発明を説明するが、本明細書に記載
した本発明を限定するものと解釈されるべきではない。 実施例１ A.脱アシル化酵素の調製 Luria−Bertani培地寒天スラント上に維持されたP.ac
idovorans ATCC53942を使用し脱アシル化酵素を生産さ
せた。 250ml容フラスコ中のLuria−Bertani培地50mlに一白
金耳の細菌を植菌してシード培養物を調製し、培養物を
27℃で約24時間、一定の振盪をしながらインキュベート
した。撹拌発酵槽中のLuria−Bertani培地151にシード
培養物30mlを植菌し、28℃で20〜24時間、撹拌400rpm、
通気7.51/分でインキュベートして脱アシル化用細胞を
生育させた。細胞を50mMリン酸カリウム緩衝液pH7.5で
洗浄し、同緩衝液約41に再懸濁させた。脱アシル化酵素
を得るために懸濁液を37℃に平衡化させた。 B.化合物Ｂの脱アシル化 上記懸濁液21を使用して化合物B3.5gを脱アシル化し
た。化合物B3.5gを蒸留水約900mlに溶解させ、37℃に保
たれ、通気なしで約300rpmで撹拌したP.acidovoransの
懸濁液21に１時間かけてゆっくりと加えた。24時間後、
脱アシル化混合物から遠心分離でP.acidovorans細胞を
除去して、上清1.81を集めた。 C.化合物Ｃの単離 化合物Ｃの精製に際し、まず10％トリフルオロ酢酸水
溶液45mlを上記で得られた上清900mlに加えた。溶液を
濾過し、粒子状物質を除去し、それから逆相クロマトグ
ラフィーで精製した（DELTA PAK Ｃ−18,45×300mm、
0.1％トリフルオロ酢酸を含む100％水を充填したラジア
ルパックカラム、50ml/分、λ＝230nm）。分析用HPLC
（ZORBAX RX−C18、2.5％アセトニトリル水溶液/0.1％
トリフルオロ酢酸、1ml/分、λ＝210nm）で測定した適
切な分画をプールし、凍結乾燥した。上清の残りの900m
lを同じように精製し、最初の精製からの物質と一緒に
し合計1.3gの脱アシル化リポペプチドを得た。FAB−MS
（Ｍ＋Ｈ）m/z856;1H NMR（400MHZ、CD3OD）δ7.12
（ｄ）,6.77（ｄ）,5.23（ｄ）,5.02（ｄ）,3.17
（ｍ）,3.05（ｔ）,1.29（ｄ）。 実施例２ 無水N,N−ジメチルホルムアミド中の実施例１からの
核生成物（nucleus）（33.1mg,0.0276mmol）と４−ニト
ロフェニル炭酸ベンジル（15.1mg,0.0553mmol）の溶液
に、トリエチルアミン（23.1μl,0.166mmol）を加え
た。反応混合物を１時間撹拌し、その後H2O（4ml）で希
釈した。得られた水溶液を５％のステップグラジエント
の10−35％CH3CN/H2O（0.1％CF3COOH）で溶出するC18−
フラッシュクロマトグラフィーにかけた後、分析用HPLC
（Z orbax RX−C18、25％アセトニトリル/H2O（0.1％CF
3COOH）、1.5ml/分、277nmでのUV検出）で測定した生成
物含有分画を凍結乾燥し、選択的に保護された核生成物
を得た。FAB−MS（Li）m/z1130.1,1124.1;1H NMR（400M
HZ、CD3OD）δ1.28（ｄ）,3.21（ｔ）,3.51（ｍ）,5.08
（ｓ）,6.76（ｄ）,7.12（ｄ）,7.31（ｍ）。 実施例３ 工程A:6−オクチルオキシ−２−ナフトエ酸ペンタフル
オロフェニル ０℃の酢酸エチル（25ml）中の６−オクチルオキシ−
２−ナフトエ酸（3.15g,10.5mmol）とジシクロヘキシル
カルボジイミドの懸濁液にペンタフルオロフェノール
（2.12g,11.5mmol）を加えた。混合物を25℃で18時間撹
拌した。沈殿を濾過により除去した。濾液を水（２×15
0ml）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し
た。酢酸エチルを真空除去し、６−オクチルオキシ−２
−ナフトエ酸ペンタフルオロフェニル5.4gを固体として
得た。1H NMR（400MHz,CD3OD）δ0.88（t,3H,J＝6.9H
z）,4.10（t,2H,J＝6.6Hz）,7.16（d,1H）,7.21（d,1
H）,7.80（d,1H）,7.87（d,1H）,8.08（dd,1H）,8.69
（d,1H）。 工程B:結合した核生成物の製造 工程Ａで記述したように製造した６−オクチルオキシ
−２−ナフトエ酸ペンタフルオロフェニル（20.5mg,0.0
44mmol）を、無水N,N−ジメチルホルムアミド（2.1ml）
中の実施例２からの保護された核生成物（45mg,0.040mm
ol）の溶液に加えた。得られた溶液を室温で22時間撹拌
した。水（8ml）で希釈して不均質な混合物を得た。混
合物を10％のステップグラジエントの30−100％CH3CN/H
2Oで溶出するC18−フラッシュクロマトグラフィーにか
けた後、分析用HPLC（Zorbax RX−C18、70％CH3CN/H2O
（0.1％CF3COOH）、1.5ml/分、210nmでのUV検出）で測
定した生成物含有分画を凍結乾燥し、上記化合物19mgを
無定形固体として得た。1H NMR（400MHZ、CD3OD）δ0.9
0（t,3H,J＝7.0Hz）,1.21（d,3H,J＝5.8Hz）,1.53（m,2
H）,1.66（m,1H）,2.43（dd,1H,J＝7.0,13.2Hz）,3.39
（m,1H）,3.51（m,1H）,3.60（m,1H）,3.81（m,3H）,3.
97（dd,1H,J＝3.0,11.2Hz）,4.10（t,2H,J＝6.4Hz）,4.
17（m,1H）,4.56（m,3H）,5.30（dd,1H,J＝1.6,9.3）,
6.75（d,2H,J＝8.6Hz）,7.23（ｍ）,7.67（ｍ）,7.86
（dd,1H,J＝1.7,8.7Hz）,8.33（s,1H）,8.38（d,1H,J＝
8.9Hz）;FAB−MS（Li）m/z1412.0。 実施例４ メタノール（4ml）と氷酢酸（0.5ml）中の実施例３か
らの２個のCBZ結合核生成物（19mg,0.0135mmol）の溶液
を、10％Pd/C（20mg）の存在下バルーン圧で１時間水素
化した。反応混合物をケイソウ土床で濾過し、触媒を除
去し、MeOHで濯いだ。濾液を真空濃縮した。残渣を５％
のステップグラジエントの10−45％CH3CN/H2O（0.1％CF
3COOH）で溶出するC18−フラッシュクロマトグラフィー
にかけた後、分析用HPLC（Zorbax RX−C18、70％CH3CN
/H2O（0.1％CF3COOH）、1.5ml/分、210nmでのUV検出）
で測定した生成物含有分画を凍結乾燥し、不純物を含む
生成物9.9mgを得た。この物質を再クロマトグラフィー
（Zorbax RX−C18、21.2mm×25cm,10−40％CH3CN/H2O
（0.1％CF3COOH）、５％のステップグラジエント、UV検
出277nm）にかけて二置換トリフルオロ酢酸塩6.3mgを得
た。水で溶出する強アニオン交換カラム（Cl-）上での
二塩酸塩形態への変換、その後の凍結乾燥により上記生
成物5.5mgを無定形固体として得た;1H NMR（400MHz、CD
3OD）δ0.91（t,3H,J＝6.9Hz）,1.22（d,3H,J＝6.1H
z）,1.53（m,2H）,2.45（dd,1H,J＝6.9,13.1Hz）,3.09
（t,2H,J＝5.0）,3.16（m,2H）,3.65（m,1H）,4.00（d
d,1H,J＝3.1,6.5Hz）,4.12（t,2H,J＝6.5Hz）,5.03（d,
1H,J＝3.2Hz）,5.28（d,1H,J＝2.1Hz）,6.75（d,2H,J＝
8.6Hz）,7.12（d,2H,J＝8.6Hz）,7.21（m,1H）,7.28
（d,1H,J＝2.2Hz）,7.84（m,3H）,8.36（brs,1H）;FAB
−MS（Li）m/z1144.6,1083.4。 実施例５ 工程A:4−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペンタ
フルオロフェノキシ−カルボニル−ビフェニル ステップ1:4−（４−ｎ−ペントキシフェニル）フェニ
ルボロン酸 窒素雰囲気下で−78度の無水テトラヒドロフラン（20
ml）中の４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）ブロモベ
ンゼン（1.0g,3.13mmol）の懸濁液に撹拌しつつ、ヘキ
サン中のｎ−ブチルリチウム（2.5M,1.32ml,3.30mmol）
を加えた。15分後、ホウ酸トリイソプロピル（760μl,
3.30mmol）を加えた。−78℃で15分間撹拌し続け、その
後25℃で40分間撹拌し続けた。混合物を0.5N HCl（20m
l）で酸性にし、その後エーテル（50ml）と水（40ml）
の間で分配した。有機相を水（３回）、ブラインで洗浄
し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を真空除去し、
４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）フェニルボロン酸
（750mg）を固体として得た。1H NMR（400MHz、DMSO−d
6）δ0.89（t,3H,J＝7.2Hz）,1.38（m,4H）,1.72（m,2
H）,3.99（t,2H,J＝6.5Hz）,6.99（d,2H,J＝8.8Hz）,7.
57（d,2H,J＝8.2Hz）,7.60（d,2H,J＝8.8Hz）,7.83（d,
2H,J＝8.2Hz）。 ステップ2:4−（４−ｎ−ペントキシフェニル）ブロモ
ベンゼン ジメチルスルホキシド400ml中の４−（４−ブロモフ
ェニル）フェノール（25.5g,0.102mol）の溶液に撹拌し
つつ、2.5N NaOH（40.9ml、0.102mol）、次いで臭化ｎ
−ペンチル（12.7ml,0.102mol）を加えた。得られた混
合物を70℃で18時間加熱した。冷却後、溶液を酢酸エチ
ル（1000ml）と水（500ml）の間で分配した。有機相を
水（３回）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱
水した。溶媒を真空除去し、４−（４−ｎ−ペントキシ
フェニル）ブロモベンゼン30.9gを得た。1H NMR（400MH
z、DMSO−d6）δ0.93（t,3H,J＝7.2Hz）,1.41（m,4H）,
1.79（m,2H）,3.97（t,2H,J＝6.6Hz）,6.94（d,2H,J＝
8.8Hz）,7.39（d,2H,J＝8.6Hz）,7.45（d,2H,J＝8.8H
z）,7.51（d,2H,J＝8.6Hz）。 ステップ3:4−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−カ
ルボキシビフェニル エタノール（11ml）とトルエン（30ml）中の４−（４
−ｎ−ペントキシフェニル）フェニルボロン酸（1.0g,
3.52mmol）と４−ヨード安息香酸（874mg,3.52mmol）の
混合物に撹拌しつつ、炭酸ナトリウム水溶液（2M,5.3m
l,10.6mmol）、次にテトラキス（トリフェニルホスフィ
ン）パラジウム（204mg,5mol％）を加えた。反応混合物
を窒素雰囲気下18時間100℃で加熱した。冷却した混合
物をpH3に酸性化し（1N HCl）、酢酸エチルと水の間で
分配した。有機相を水（３回）、ブラインで洗浄し、硫
酸マグネシウムで脱水し、セライト床で濾過した。溶媒
を真空除去し、粗生成物を得、該生成物をフラッシュシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製し、４−（ｎ−ペン
トキシビフェニル）−４′−カルボキシビフェニル（45
0mg）を得た。1H NMR（400MHZ、DMSO−d6）δ0.89（t,3
H）,1.37（m,4H）,1.72（m,2H）,3.98（t,2H）,7.01
（d,2H）。 ステップ4:4−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペ
ンタフルオロフェノキシ−カルボニル−ビフェニル ０℃のN,N−ジメチルホルムアミド（70ml）中の４−
（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−カルボキシビフェ
ニル（3.04g,8.43mmol）とジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（2.28g,11.1mmol）の混合物に、ペンタフルオロフ
ェノール（4.08g,22.2mmol）を加えた。混合物を25℃で
18時間撹拌し、その後酢酸エチルと水の間で分配した。
有機相を水（３回）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで脱水した。溶媒を真空除去し、ペンタフルオロフ
ェニルエステル3.95gを得た。粗エステルをエーテルと
ヘキサンで摩砕し、フィルターケーキを吸引−乾燥後、
きれいな４−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペン
タフルオロフェノキシカルボニルビフェニル0.5gを得
た。1H NMR（400MHz、CDCl3）δ0.93（t,3H）,4.01（t,
2H）,6.98（d,2H）,7.56（d,2H）,7.67（d,2H）,7.70
（d,2H）,7.79（d,2H）,8.26（d,2H）。 工程B:結合した核生成物の製造 無水N,N−ジメチルホルムアミド（3.5ml）中の実施例
１からの核生成物（103.9mg,0.087mmol）と４−ニトロ
フェニル炭酸ベンジル（47.4mg,0.173mmol）の溶液に撹
拌しつつ、トリエチルアミン（48.4μl,0.347mmol）を
加えた。反応混合物を１時間撹拌した。工程Ａで記載し
たように製造した４−（ｎ−ペントキシフェニル）−
４′−ペンタフルオロフェノキシカルボニルビフェニル
（46mg,0.087mmol）を加え、撹拌を60時間続けた。水
（3.5ml）で希釈すると不均質な混合物が得られたが、
該混合物はCH3OHの添加で部分的に清澄化した。生成物
を、最初に40％CH3CN/H2O、次にCH3OHで溶出するC18固
相抽出により単離した。分析用HPLC（Zorbax RX−C1
8、75％CH3CN/H2O（0.1％CF3COOH）、1.5ml/分、UV検出
210nm）により測定された生成物含有CH3OH分画を濃縮す
ると、粗のジCBZ結合核生成物57mgを得た。メタノール
（10ml）と氷酢酸（4ml）中のこの生成物の溶液を、10
％Pd/C（100mg）の存在下バルーン圧下で1.75時間水素
化した。反応混合物をケイソウ土床で濾過し、触媒を除
去し、MeOHで濯いだ。濾液を真空濃縮した。残渣を、完
全に可溶化するに十分なCH3OHを含有する移動相中に負
荷して分取用HPLC（Zorbax RX−C18、40％CH3CN/H2O
（0.1％CF3COOH）溶出）を行い、次いで分析用HPLC（Zo
rbax RX−C18、70％CH3CN/H2O（0.1％CF3COOH）、1.5m
l/分、UV検出210nm）により測定された生成物含有分画
を凍結乾燥すると、結合した脱保護核生成物30mgを無定
形固体として得た。1H NMR（400MHz、CD3OD）δ0.96
（t,3H,J＝7.1Hz）,1.22（d,3H,J＝6.1Hz）,1.45（m,4
H）,2.45（dd,1H,J＝6.8,12.7Hz）,3.11（t,2H,J＝4.
4）,3.16（m,2H）,3.67（m,1H）,4.02（t,2H,J＝6.5H
z）,4.11（m,1H）,5.03（d,1H,J＝3.3Hz）,5.28（d,1H,
J＝2.2Hz）,6.76（d,2H,J＝8.6Hz）,7.01（d,2H,J＝8.9
Hz）,7.12（d,2H,J＝8.7Hz）,7.60（d,2H,J＝8.8Hz）,
7.70（d,2H,J＝8.8Hz）,7.74（d,2H,J＝8.8Hz）,7.80
（d,2H,J＝8.5Hz）,7.97（d,2H,J＝8.5Hz）;FAB−MS（L
i）m/z 1204.5。
配列番号:1 配列の長さ:6 配列の型：アミノ酸 鎖の数：不明 トポロジー：環状 配列の種類：ペプチド ハイポセチカル:NO アンチ−センス:NO 配列 Xaa Thr Xaa Xaa Xaa Xaa １ ５ 配列番号:2 配列の長さ:6 配列の型：アミノ酸 鎖の数：不明 トポロジー：環状 配列の種類：ペプチド ハイポセチカル:NO アンチ−センス:NO 配列 Xaa Thr Xaa Xaa Xaa Xaa １ ５ 配列番号:3 配列の長さ:6 配列の型：アミノ酸 鎖の数：不明 トポロジー：環状 配列の種類：ペプチド ハイポセチカル:NO アンチ−センス:NO 配列 Xaa Thr Xaa Xaa Xaa Xaa １ ５ 配列番号:4 配列の長さ:6 配列の型：アミノ酸 鎖の数：不明 トポロジー：環状 配列の種類：ペプチド ハイポセチカル:NO アンチ−センス:NO 配列 Xaa Thr Xaa Xaa Xaa Xaa １ ５ 配列番号:5 配列の長さ:6 配列の型：アミノ酸 鎖の数：不明 トポロジー：環状 配列の種類：ペプチド ハイポセチカル:NO アンチ−センス:NO 配列 Xaa Thr Xaa Xaa Xaa Xaa １ ５ 配列番号:6 配列の長さ:6 配列の型：アミノ酸 鎖の数：不明 トポロジー：環状 配列の種類：ペプチド ハイポセチカル:NO アンチ−センス:NO 配列 Xaa Thr Xaa Xaa Xaa Xaa １ ５
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブーフアード，フランシス・エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカ ーン・アベニユー・126 (72)発明者 ドロピンスキー，ジエイムズ・エフ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカ ーン・アベニユー・126 (72)発明者 アデフアラテイ，アキンロルー・エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカ ーン・アベニユー・126 (72)発明者 カツズ，ジヤン・エス アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカ ーン・アベニユー・126 (56)参考文献 米国特許5310873（ＵＳ，Ａ) 米国特許5159059（ＵＳ，Ａ) 米国特許5166135（ＵＳ，Ａ) 欧州特許出願公開459564（ＥＰ，Ａ ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07K 7/06 C07K 1/113 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (7)
- 【請求項１】以下の式 ［式中、 R1は、C9−C21アルキル、C9−C21アルケニル、C1−C10
アルコキシフェニル、C1−C10アルコキシナフチル、又
は （ここで、RaはC1−C10アルキル又は（CH2）qNRbRcであ
り、 RbとRcは独立にＨ、C1−C10アルキルであるか、又はRb
とRcはＮ原子と一緒になって であり、 RdはC1−C16アルキル、フェニル又はベンジルであり、
ｐは１又は２であり、ｑは２、３又は４である）であ
る］を有するシクロペプチジルアミンの改良製造方法で
あって、（ａ）以下の式を有するシクロヘキサペプチド
を 脱水剤、還元剤、エーテル化剤と順次反応させて、以下
の式を有するアミノアルキルエーテル誘導体を得、 （ｂ）このエーテル誘導体を脱アシル化して、以下の式
を有する化合物を得、 （ｃ）優先的には３つのアミノ基のうち２つを、適切な
保護基と反応させて保護し、以下の式を有する化合物を
得、 （ｄ）未保護のアミノ基を、適切な活性化エステルと反
応させて再アシル化し、以下の式を有する化合物を得、
次いで （ｅ）保護されたアミノ基を脱保護し、以下の式を有す
る化合物を得ること、 からなる前記方法。 - 【請求項２】脱水剤が塩化シアヌルである、請求項１に
記載の方法。 - 【請求項３】還元剤を、ホウ水素化ナトリウム、シアノ
ホウ水素化ナトリウム、水素化アルミニウム、ジボラ
ン、水素化ジイソブチルアルミニウムからなる群から選
択する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】還元剤を、塩化第一コバルトと共に存在さ
せる、請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】保護基を、カルボベンジルオキシ、カルバ
ミン酸フルオレニルメチル、カルバミン酸ｔ−ブチルか
ら選択する、請求項１に記載の方法。 - 【請求項６】脱水剤が塩化シアヌル、還元剤がホウ水素
化ナトリウムと塩化第一コバルトとの組合せ、保護基が
カルボベンジルオキシである、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】以下の式 を有する化合物及びその医薬的に許容可能な塩。
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