JPH10500141A - シクロヘキサペプチジルリポペプチドの側鎖誘導体の改良製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 以下の式：配列番号１（Ｒ¹は詳しく定義されている）

Description

【発明の詳細な説明】 シクロヘキサペプチジルリポペプチドの 側鎖誘導体の改良製造方法 発明の背景 本発明はある特定のアミン含有シクロヘキサペプチジルリポペプチドの側鎖誘 導体の改良製造方法に関する。これらの側鎖は、以下の式（配列番号１）によっ て表されるシクロヘキサペプチドの１−［ヒドロキシオルニチン］残基のα−ア ミノ−窒素に結合している。 （Ｒ¹は本明細書で後に詳しく定義される） 以前、これらのアミン含有リポペプチドの側鎖誘導体は、脱 アシル化−再アシル化工程、次に３−ヒドロキシグルタミン残基の３−ヒドロキ シオルニチン残基への化学変換により製造されてきた。しかし、このスキームで の収率は非常に低く、各誘導体毎に最適化を必要とする。 それ故、高収率で側鎖誘導体を製造するための改良方法を提供することが本発 明の目的である。発明の詳細な説明 本発明によれば、以下の式（配列番号１）により表されるある特定のアミン含 有シクロヘキサペプチド類が以下に記載する新規方法により良好でより再現性の ある収率で得ることができることが知見された。 ［式中、 Ｒ¹は、Ｃ_9-Ｃ₂₁アルキル、Ｃ₉−Ｃ₂₁アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルコキシフェニ ル、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルコキシナフチル、又は （ここで、Ｒ^aはＣ₁−Ｃ₁₀アルキル又は（ＣＨ₂）_qＮＲ^bＲ^cであり、 Ｒ^bとＲ^cは独立にＨ、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキルであるか、又はＲ^bとＲ^cはＮ原子と一 緒になって であり、 Ｒ^dはＣ₁−Ｃ₁₆アルキル、フェニル又はベンジルであり、 ｐは１又は２であり、ｑは２、３又は４である）である」。 本発明の方法は、（ａ）以下の式を有するシクロヘキサペプチドを 脱水剤、還元剤、エーテル化剤と順次反応させて、以下の式を有するアミノアル キルエーテル誘導体を得、 （ｂ）上記エーテル誘導体を脱アシル化して、以下の式を有す る化合物を得、 （ｃ）優先的に３つのアミノ基のうち２つを、適切な保護基と反応させて保護し 、以下の式を有する化合物を得、 （ｄ）未保護のアミノ基を、適切な活性化エステルと反応させて再アシル化し、 以下の式を有する化合物を得、次いで （ｅ）保護されたアミノ基を脱保護し、以下の式を有する化合物を得ること、 からなる。 本発明の方法を、以下のスキームＩでより詳細に説明する。 特記しない限り、以下の定義の用語を使用して、本明細書で本発明を記述する 。 “アルキル”という用語は、特記しない限り、１〜３０個の炭素原子を含む一 価のアルカン（炭化水素）由来の基を指す。アルキルは直鎖、分岐鎖、環状鎖で ありうる。好適なアルキル基にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ チル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが含まれる。置換されると きには、アルキル基は、結合に利用できる任意の位置で最大３個の置換基で置換 されうる。アルキル基がアルキル基で置換されるというときは、そのアルキル基 は“分岐アルキル基”とも言われる。アルキル基は結合しうる任意の位置で置換 されることができる。“アルコキシ”のアルキル部分はまた上記のように定義さ れる。 シクロアルキルは、炭素原子間で交互二重結合即ち共鳴二重結合のない３〜５ 個の炭素原子を含むアルキルであり、１〜４個の環が融合していてもよい。好適 なシクロアルキル基はシクロペンチルとシクロヘキシルである。 アルコキシはＣ₁−Ｃ₄アルキル−Ｏ−(アルキル基は任意に置換されている)を 指す。 米国特許第 5,202,309 号に記載され、その製造が米国特許第 5,194,377 号に 開示されている化合物Ａを、初めに脱水剤と反応させ、次に還元剤で還元し、次 いでエーテル化して、化合物Ｂを得る。 カルボキサミド基の脱水は優先的に塩化シアヌルを用いて行う。塩化シアヌル の代わりに使用できる他の試薬は、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸、五酸化リ ンなどの無水物；塩化オキサリル、オキシ塩化リン、塩化チオニル、塩化ｐ−ト ルエンスルホニル、クロロスルホニルイソシアナートなどの酸塩化物；五塩化リ ン、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素、トリフェニルホスホニウムジトリフ ラート、二塩化トリフェニルホスホニウムなどのホスホニウム試薬；ジシクロヘ キシルカルボジイミドなどのカルボジイミド；塩化アルミニウム、四塩化チタニ ウム、水酸化エチル（カルボキシスルファモイル）トリエチルアンモニウム又は 内部塩などの他の脱水剤である。 ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの溶媒中で反応を行う。使用できる他の 溶媒にはピリジン、コリジン、他の弱塩基性溶媒などがある。 化合物Ａと脱水剤の相対量は変わるが、一般的には脱水剤を 過剰に使用する。脱水剤を約１．５〜１５当量使用する。 還元剤は、結果として生成されるニトリル中間体を還元するために使用される 。この還元を、化学還元又は接触還元を用いて行うことができる。化学還元を用 いる場合には、水素化物又は水素化物の組合せが有用であることが知見された。 アルコール性溶媒中でホウ水素化ナトリウムに塩化第一コバルトを併用するこ とが特に有用であることが知見された。試薬のこの組合せを使用する場合、ニト リル１モル当り、ホウ水素化ナトリウム約５〜５０モル当量、塩化第一コバルト 約２〜１０モル当量を使用する。 ラネーニッケル、シアノホウ水素化ナトリウム、水素化アルミニウム、ジボラ ン、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの他の水素化物還元剤も使用できる。 しばしばこれらの還元剤は、ホウ水素化ナトリウムと塩化第一コバルトの現在の 組合せにおけるように塩化第一コバルト又は塩化アルミニウムなどのルイス酸と 組合せて使用される。 接触水素化も炭素担持パラジウム、酸化白金、アルミナ担持ロジウムを含む多 数の触媒上で行うことができる。Ｐｄ／Ｃ触媒上の低圧接触還元は特に好適であ る。 それらの試薬に依存する代表的溶媒にはアルコール、特にメタノールとエタノ ール、ジメチルホルムアミド、ピリジン、テトラヒドロフラン又は他のエーテル が含まれる。 これらの工程の後、ＯＨ基を、塩としてアミノアルコールと反応させ、化合物 Ｂを得る。 化合物Ｂを、Actinoplanes utahensis のデアシラーゼ又はPseudomonas acido vorans のデアシラーゼなどの微生物の脱アシル化剤を使用して脱アシル化させ ることができ、化合物Ｃを得る。以下の式を有する化合物Ｃは、本発明の方法に 必須の新規中間体である。 化合物Ｃを、Ｂｉｏｇｅｌ Ｐ２及び更に逆相Ｃ₁₈カラムクロ マトグラフィーを使用するＨＰＬＣを用いる処理により更に精製できる。 ３つの反応性アミン基を有する化合物Ｃを、適切な保護基との反応によって選 択的に保護できる。通常の保護基が使用されるが、カルボベンジルオキシ基（Ｃ Ｂｚ）が好適である。他の基には塩基性条件下で除去可能なカルバミン酸フルオ レニルメチル（Ｆｍｏｃ）及び酸性条件下で除去可能なカルバミン酸ｔ−ブチル （ｔ−ＢＯＣ）が含まれる。３つの反応性アミンを選択的に保護する基はいずれ も使用できる。 保護反応を行うのに溶媒を使用する。適切な溶媒には、トリエチルアミン、Ｄ ＭＦ、アセトニトリル、ピリジン、又はｎ−メチルピロリジノンがある。典型的 には、この反応を約−２０〜２５℃の温度で約０．５〜１２時間行う。 化合物Ｄは、０．１％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）を含むＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏを 使用するフラッシュクロマトグラフィーにより純粋なものとして単離できる。 その後、二置換オルニチン残基のＴＦＡ塩として化合物Ｄを、未保護アミン基 で、定義されたＲ¹基で１〜１０当量の活性化エステルとの反応により再アシル 化させることができ、化合物 Ｅを生成できる。活性化エステルは、当業者にアミン基をアシル化すると知られ ているものである。このようなエステルにはフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ペ ンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニル、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド 、３，５−ジクロロフェニル、チオフェニル、２−チオピリジルなどが含まれる 。アシル化剤は活性化エステルに限らない。使用できる反応性アシル化剤の他の 型には酸塩化物、酸無水物、オルトエステルが含まれる。 典型的には、再アシル化は温度約２５〜６０℃で約１〜７２時間、ＤＭＦ、Ｎ −メチルピロリジノン、テトラヒドロフラン、ピリジン、トリエチルアミン又は このような溶媒の組合せなどの適切な溶媒中で行われる。生成物は、Ｃ₈又はＣ_{1 8} 逆相カラムを使用するフラッシュクロマトグラフィー又はＨＰＬＣにより更に 精製される。２つの保護アミンは活性化エステルで攻撃されないで、反応は二置 換オルニチン残基のα−アミノ−窒素でだけ起こる。 化合物Ｄを必ずしも単離する必要がない。あるいはＲ₁側鎖基を、化合物Ｄが 生成される反応において直接化合物Ｅを得るように導入することができる。アシ ル化は、温度約２５〜６０℃ で、化合物Ｄを含む反応混合液に直接活性化エステルを加えて、約１〜７２時間 撹拌して達成されることができる。アシル化条件と化合物Ｅの精製は上述し、化 合物Ｄが最初に単離されようと生成後反応容器で直接アシル化されようとどちら でも適用できる。 次に化合物Ｅを、保護基を除去するために脱保護する。カルボベンジルオキシ 基（ＣＢｚ）は、１０％Ｐｄ／Ｃの存在下低圧水素化により除去できる。水素化 は、０．１％ＴＦＡを含むアセトニトリル／水溶媒系を用いる分析ＨＰＬＣでモ ニターされる。反応が実質的に終わったときに、反応混合液を濾過し、触媒を除 去し、濾液を真空濃縮又は凍結乾燥し、生成物を分取ＨＰＬＣを用いて精製する 。Ｆｍｏｃ又はｔ−ＢＯＣなどの他の保護基は、それぞれ塩基又は酸処理、ある いは当業者公知の他の方法で除去できる。 本発明の方法により製造される化合物は、抗生物質、特に抗真菌剤又は抗原生 動物剤として有用である。抗真菌剤として、本発明の方法により製造される化合 物は糸状菌及び酵母両方の防除に有用である。それらは特に、哺乳動物での真菌 感染、特にCandida 種（C.albicans、C.tropicalis、C.pseudotropicalis など）、Cryptococcus 種（C.neoformans など）、Aspegillus種（A.fumigatus 、A.flavus、A.nigerなど）によって引き起こされる感染の治療のために使用に 適している。本発明の方法により製造される化合物はまた、免疫低下患者が特に かかりやすいPneumocystis carinii肺炎の治療及び／又は予防に有用である。 以下の実施例で本発明を説明するが、本明細書に記載した本発明を限定するも のと解釈されるべきではない。実施例１ Ａ．脱アシル化酵素の調製 Luria-Bertani 培地寒天スラント上に維持されたP.acidovorans ATCC53942 を 使用し脱アシル化酵素を生産させた。 ２５０ｍｌ容フラスコ中の Luria-Bertani培地５０ｍｌに一白金耳の細菌を植 菌してシード培養物を調製し、培養物を２７℃で約２４時間、一定の振盪をしな がらインキュベートした。撹拌発酵槽中の Luria-Bertani培地１５ｌにシード培 養物３０ｍｌを植菌し、２８℃で２０〜２４時間、撹拌４００ｒｐｍ、通気７． ５ｌ／分でインキュベートして脱アシル化用細胞を生育させた。細胞を５０ｍＭ リン酸カリウム緩衝液ｐＨ７．５で洗浄し、同緩衝液約４１に再懸濁させた。脱 アシル化酵素を得るために懸濁液を３７℃に平衡化させた。Ｂ．化合物Ｂの脱アシル化 上記懸濁液２ｌを使用して化合物Ｂ３．５ｇを脱アシル化した。化合物Ｂ３． ５ｇを蒸留水約９００ｍｌに溶解させ、３７℃に保たれ、通気なしで約３００ｒ ｐｍで撹拌したP.acidovoransの懸濁液２ｌに１時間かけてゆっくりと加えた。 ２４時間後、脱アシル化混合物から遠心分離でP.acidovorans 細胞を除去し て、上清１．８ｌを集めた。Ｃ．化合物Ｃの単離 化合物Ｃの精製に際し、まず１０％トリフルオロ酢酸水溶液４５ｍｌを上記で 得られた上清９００ｍｌに加えた。溶液を濾過し、粒子状物質を除去し、それか ら逆相クロマトグラフィーで精製した（ＤＥＬＴＡ ＰＡＫ Ｃ−１８,４５× ３００ｍｍ、０．１％トリフルオロ酢酸を含む１００％水を充填したラジアルパ ックカラム、５０ｍｌ／分、λ＝２３０ｎｍ）。分析用ＨＰＬＣ（ＺＯＲＢＡＸ Ｒ_XーＣ１８、２．５％アセトニトリル水溶液／０．１％トリフルオロ酢酸、 １ｍｌ／分、λ＝２１０ｎｍ）で測定した適切な分画をプールし、凍結乾燥した 。上清の残りの９００ｍｌを同じように精製し、最初の精製からの物質と一緒に し合計１．３ｇの脱アシル化リポペプチドを得た。ＦＡＢ−ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）ｍ／ ｚ８５６；¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨＺ、ＣＤ₃ＯＤ）δ 7.12(d)，6.77(d)，5.23 (d)，5.02(d)，3.17(m)，3.05(t)，1.29(d)。実施例２ 無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中の実施例１からの核生成物(nucleus)（ ３３．１ｍｇ，０．０２７６ｍｍｏｌ）と４−ニトロフェニル炭酸ベンジル（１ ５．１ｍｇ，０．０５５３ｍｍｏｌ）の溶液に、トリエチルアミン（２３．１μ ｌ，０．１６６ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を１時間撹拌し、その後Ｈ₂Ｏ （４ｍｌ）で希釈した。得られた水溶液を５％のステップグラジエントの１０− ３５％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）で溶出するＣ１８−フラッ シュクロマトグラフィーにかけた後、分析用ＨＰＬＣ（Ｚ orbax ＲＸ−Ｃ１８ 、 ２５％アセトニトリル／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）、１．５ｍｌ／分、２ ７７ｎｍでのＵＶ検出）で測定した生成物含有分画を凍結乾燥し、選択的に保護 された核生成物を得た。ＦＡＢ−ＭＳ（Ｌｉ）ｍ／ｚ１１３０．１，１１２４． １；¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨＺ、ＣＤ₃ＯＤ）δ1.28(d),3.21(t)，3.51(m)，5.0 8(s)，6.76(d)，7.12(d)，7.31(m)。実施例３ 工程Ａ：６−オクチルオキシ−２−ナフトエ酸ペンタフルオロフェニル ０℃の酢酸エチル（２５ｍｌ）中の６−オクチルオキシ−２−ナフトエ酸（３ ．１５ｇ，１０．５ｍｍｏｌ）とジシクロヘキシルカルボジイミドの懸濁液にペ ンタフルオロフェノール（２．１２ｇ，１１．５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を ２５℃で１８時間撹拌した。沈殿を濾過により除去した。濾液を水（２×１５０ ｍｌ）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。酢酸エチルを真空除 去し、６−オクチルオキシ−２−ナフトエ酸ペンタフルオロフェニル５．４ｇを 固体として得た。¹Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤ₃ＯＤ)δ0.88(t,3H,J=6.9Hz),4 .10(t,2H,J=6.6Hz),7.16(d,1H),7.21(d,1H),7.80(d,1H),7.87(d,1H),8.08(dd,1H ),8.69(d,1H)。工程Ｂ：結合した核生成物の製造 工程Ａで記述したように製造した６−オクチルオキシ−２−ナフトエ酸ペンタ フルオロフェニル（２０．５ｍｇ，０．０４４ｍｍｏｌ）を、無水Ｎ，Ｎ−ジメ チルホルムアミド（２．１ｍｌ）中の実施例２からの保護された核生成物（４５ ｍｇ，０．０４０ｍｍｏｌ）の溶液に加えた。得られた溶液を室温で２２ 時間撹拌した。水（８ｍｌ）で希釈して不均質な混合物を得た。混合物を１０％ のステップグラジエントの３０−１００％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏで溶出するＣ１８− フラッシュクロマトグラフィーにかけた後、分析用ＨＰＬＣ（Ｚｏｒｂａｘ Ｒ ＸーＣ１８、７０％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）、１．５ｍｌ ／分、２１０ｎｍでのＵＶ検出）で測定した生成物含有分画を凍結乾燥し、上記 化合物１９ｍｇを無定形固体として得た。¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨＺ、ＣＤ₃Ｏ Ｄ）δ0.90(t，3H，J=7.0Hz)，1.21(d，3H，J=5.8Hz)，1.53(m，2H)，1.66(m，1 H)，2.43(dd，1H，J=7.0，13.2Hz)，3.39(m，1H)，3.51(m，1H)，3.60(m，1H)， 3.81(m，3H)，3.97(dd，1H，J=3.0，11.2Hz)，4.10(t，2H，J=6.4Hz)，4.17(m， 1H)，4.56(m，3H)，5.30(dd，1H，J=1.6，9.3)，6.75(d，2H，J=8.6Hz)，7.23(m )，7.67(m)，7.86(dd，1H，J=1.7，8.7Hz)，8.33(s，1H)，8.38(d，1H，J=8.9Hz )；ＦＡＢ−ＭＳ（Ｌｉ）ｍ／ｚ１４１２．０。実施例４ メタノール（４ｍｌ）と氷酢酸（０．５ｍｌ）中の実施例３からの２個のＣＢ Ｚ結合核生成物（１９ｍｇ，０．０１３５ｍｍｏｌ）の溶液を、１０％Ｐｄ／Ｃ （２０ｍｇ）の存在下バルーン圧で１時間水素化した。反応混合物をケイソウ土 床で濾過し、触媒を除去し、ＭｅＯＨで濯いだ。濾液を真空濃縮した。残渣を５ ％のステップグラジエントの１０−４５％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃Ｃ ＯＯＨ）で溶出するＣ１８−フラッシュクロマトグラフィーにかけた後、分析用 ＨＰＬＣ（Ｚｏｒ ｂａｘ ＲＸーＣ１８、７０％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）、１ ．５ｍｌ／分、２１０ｎｍでのＵＶ検出）で測定した生成物含有分画を凍結乾燥 し、不純物を含む生成物９．９ｍｇを得た。この物質を再クロマトグラフィー（ Ｚｏｒｂａｘ ＲＸ−Ｃ１８、２１．２ｍｍ×２５ｃｍ，１０−４０％ＣＨ₃Ｃ Ｎ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）、５％のステップグラジエント、ＵＶ検出 ２７７ｎｍ）にかけて二置換トリフルオロ酢酸塩６．３ｍｇを得た。水で溶出す る強アニオン交換カラム（Ｃｌ^-）上での二塩酸塩形態への変換、その後の凍結 乾燥により上記生成物５．５ｍｇを無定形固体として得た；¹Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨＺ、ＣＤ₃ＯＤ）δ0.91(t，3H，J=6.9Hz)，1.22(d，3H，J=6.1Hz)，1.53(m ，2H)，2.45(dd，1H，J=6.9，13.1Hz)，3.09(t，2H，J=5.0)，3.16(m，2H)，3.6 5(m，1H)，4.00(dd，1H，J=3.1，6.5Hz)，4.12(t，2H，J=6.5Hz)，5.03(d，1H， J=3.2Hz)，5.28(d，1H，J=2.1Hz)，6.75(d，2H，J=8.6Hz)，7.12(d，2H，J=8.6H z)，7.21(m，1H)，7.28(d，1H，J=2.2Hz)，7.84(m，3H)，8.36(brs，1H)；ＦＡ Ｂ−ＭＳ（Ｌｉ）ｍ／ｚ１１４４．６，１０８３．４。実施例５ 工程Ａ：４−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペンタフルオロフェノキシ− カルボニル−ビフェニル ステップ１：４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）フェニルボロン酸 窒素雰囲気下で−７８℃の無水テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中の４−（４ −ｎ−ペントキシフェニル）ブロモベンゼン（１．０ｇ，３．１３ｍｍｏｌ）の 懸濁液に撹拌しつつ、ヘキサン中のｎ−ブチルリチウム（２．５Ｍ，１．３２ｍ ｌ，３． ３０ｍｍｏｌ）を加えた。１５分後、ホウ酸トリイソプロピル（７６０μｌ，３ ．３０ｍｍｏｌ）を加えた。−７８℃で１５分間撹拌し続け、その後２５℃で４ ０分間撹拌し続けた。混合物を０．５Ｎ ＨＣｌ（２０ｍｌ）で酸性にし、その 後エーテル（５０ｍｌ）と水（４０ｍｌ）の間で分配した。有機相を水（３回） 、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を真空除去し、４−（ ４−ｎ−ペントキシフェニル）フェニルボロン酸（７５０ｍｇ）を固体として得 た。¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ0.89(t，3H，J=7.2Hz)，1.3 8(m，4H)，1.72(m，2H)，3.99(t，2H，J=6.5Hz)，6.99(d，2H，J=8.8Hz)，7.57( d，2H，J=8.2Hz)，7.60(d，2H，J=8.8Hz)，7.83(d，2H，J=8.2Hz)。ステップ２：４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）ブロモベンゼン ジメチルスルホキシド４００ｍｌ中の４−（４−ブロモフェニル）フェノール （２５．５ｇ，０．１０２ｍｏｌ）の溶液に撹拌しつつ、２．５Ｎ ＮａＯＨ（ ４０．９ｍｌ、０．１０２ｍｏｌ）、次いで臭化ｎ−ペンチル（１２．７ｍｌ， ０．１０２ｍｏｌ）を加えた。得られた混合物を７０℃で１８時間加熱し た。冷却後、溶液を酢酸エチル（１０００ｍｌ）と水（５００ｍｌ）の間で分配 した。有機相を水（３回）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。 溶媒を真空除去し、４−（４−ｎ−ペントキシフェニル）ブロモベンゼン３０． ９ｇを得た。¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ0.93(t，3H，J=7.2 Hz)，1.41(m，4H)，1.79(m，2H)，3.97(t，2H，J=6.6Hz)，6.94(d，2H，J=8.8Hz )，7.39(d，2H，J=8.6Hz)，7.45(d，2H，J=8.8Hz)，7.51(d，2H，J=8.6Hz)。ステップ３：４−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−カルボキシビフェニル エタノール（１１ｍｌ）とトルエン（３０ｍｌ）中の４−（４−ｎ−ペントキ シフェニル）フェニルホロン酸（１．０ｇ，３．５２ｍｍｏｌ）と４−ヨード安 息香酸（８７４ｍｇ，３．５２ｍｍｏｌ）の混合物に撹拌しつつ、炭酸ナトリウ ム水溶液（２Ｍ，５．３ｍｌ，１０．６ｍｍｏｌ）、次にテトラキス（トリフェ ニルホスフィン）パラジウム（２０４ｍｇ，５ｍｏｌ％）を加えた。反応混合物 を窒素雰囲気下１８時間１００℃で加熱した。冷却した混合物をｐＨ３に酸性化 し（１Ｎ ＨＣｌ）、酢酸エチルと水の間で分配した。有機相を水（３回）、ブ ライン で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、セライト床で濾過した。溶媒を真空除去 し、粗生成物を得、該生成物をフラッシュシリカゲルクロマトグラフィーで精製 し、４−（ｎ−ペントキシビフェニル）−４′−カルボキシビフェニル（４５０ ｍｇ）を得た。¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨＺ、ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ0.89(t，3H)，1. 37(m，4H)，1.72(m，2H)，3.98(t，2H)，7.01(d，2H)。ステップ４：４−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペンタフルオロフェノキ シ−カルボニル−ビフェニル ０℃のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７０ｍｌ）中の４−（ｎ−ペントキシ フェニル）−４′−カルボキシビフェニル(３．０４ｇ，８．４３ｍｍｏｌ)とジ シクロヘキシルカルボジイミド（２．２８ｇ，１１．１ｍｍｏｌ）の混合物に、 ペンタフルオロフェノール（４．０８ｇ，２２．２ｍｍｏｌ）を加えた。混合物 を２５℃で１８時間撹拌し、その後酢酸エチルと水の間で分配した。有機相を水 （３回）、ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を真空除去し 、ペンタフルオロフェニルエステル３．９５ｇを得た。粗エステルをエーテルと ヘキサンで摩砕し、フィルターケーキを吸引−乾燥後、きれいな４−（ｎ−ペン トキシフェニル）−４′−ペンタフルオロフェ ノキシカルボニルビフェニル０．５ｇを得た。¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ Ｃｌ₃）δ0.93(t，3H)，4.01(t，2H)，6.98(d，2H)，7.56(d，2H)，7.67(d，2H) ，7.70(d，2H)，7.79(d，2H)，8.26(d，2H)。工程Ｂ：結合した核生成物の製造 無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３．５ｍｌ）中の実施例１からの核生成 物（１０３．９ｍｇ，０．０８７ｍｍｏｌ）と４−ニトロフェニル炭酸ベンジル （４７．４ｍｇ，０．１７３ｍｍｏｌ）の溶液に撹拌しつつ、トリエチルアミン （４８．４μｌ，０．３４７ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合物を１時間撹拌した 。工程Ａで記載したように製造した４−（ｎ−ペントキシフェニル）−４′−ペ ンタフルオロフェノキシカルボニルビフェニル（４６ｍｇ，０．０８７ｍｍｏｌ ）を加え、撹拌を６０時間続けた。水（３．５ｍｌ）で希釈すると不均質な混合 物が得られたが、該混合物はＣＨ₃ＯＨの添加で部分的に清澄化した。生成物を 、最初に４０％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏ、次にＣＨ₃ＯＨで溶出するＣ１８固相抽出に より単離した。分析用ＨＰＬＣ（Ｚｏｒｂａｘ ＲＸーＣ１８、７５％ＣＨ₃Ｃ Ｎ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）、１．５ｍｌ／分、ＵＶ検出 ２１０ｎｍ）により測定された生成物含有ＣＨ₃ＯＨ分画を濃縮すると、粗のジ ＣＢＺ結合核生成物５７ｍｇを得た。メタノール（１０ｍｌ）と氷酢酸（４ｍｌ ）中のこの生成物の溶液を、１０％Ｐｄ／Ｃ（１００ｍｇ）の存在下バルーン圧 下で１．７５時間水素化した。反応混合物をケイソウ土床で濾過し、触媒を除去 し、ＭｅＯＨで濯いだ。濾液を真空濃縮した。残渣を、完全に可溶化するに十分 なＣＨ₃ＯＨを含有する移動相中に負荷して分取用ＨＰＬＣ（Ｚｏｒｂａｘ Ｒ Ｘ−Ｃ１８、４０％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）溶出）を行い 、次いで分析用ＨＰＬＣ（Ｚｏｒｂａｘ ＲＸ−Ｃ１８、７０％ＣＨ₃ＣＮ／Ｈ₂ Ｏ（０．１％ＣＦ₃ＣＯＯＨ）、１．５ｍｌ／分、ＵＶ検出２１０ｎｍ）により 測定された生成物含有分画を凍結乾燥すると、結合した脱保護核生成物３０ｍｇ を無定形固体として得た。¹Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ₃ＯＤ）δ0.96(t，3 H，J=7.1Hz)，1.22(d，3H，J=6.1Hz)，1.45(m，4H)，2.45(dd，1H，J=6.8，12.7 Hz)，3.11(t，2H，J=4.4)，3.16(m，2H)，3.67(m，1H)，4.02(t，2H，J=6.5Hz) ，4.11(m，1H)，5.03(d，1H，J=3.3Hz)，5.28(d，1H，J=2.2Hz)，6.76(d，2H，J =8.6Hz)，7.01(d，2H，J=8.9Hz)，7.12(d，2H，J=8.7Hz)，7.60(d，2H，J=8.8Hz )，7.70(d， 2H，J=8.8Hz)，7.74(d，2H，J=8.8Hz)，7.80(d，2H，J=8.5Hz)，7.97(d，2H，J= 8.5Hz)；ＦＡＢ−ＭＳ（Ｌｉ）ｍ／ｚ 1204.5。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)， ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，Ｃ Ｚ，ＥＥ，ＦＩ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＲ ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＧ，Ｓ Ｉ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ (72)発明者 ブーフアード，フランシス・エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 ドロピンスキー，ジエイムズ・エフ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 アデフアラテイ，アキンロルー・エイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 カツズ，ジヤン・エス アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．以下の式 ［式中、 Ｒ¹は、Ｃ₉-Ｃ₂₁アルキル、Ｃ₉−Ｃ₂₁アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルコキシフェニ ル、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルコキシナフチル、又は （ここで、Ｒ^aはＣ₁−Ｃ₁₀アルキル又は（ＣＨ₂）_qＮＲ^b Ｒ^cであり、 Ｒ^bとＲ^cは独立にＨ、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキルであるか、又はＲ^bとＲ^cはＮ原子と一 緒になって であり、 Ｒ^dはＣ₁−Ｃ₁₆アルキル、フェニル又はベンジルであり、 ｐは１又は２であり、ｑは２、３又は４である）である］ を有するシクロペプチジルアミンの改良製造方法であって、 （ａ）以下の式を有するシクロヘキサペプチドを 脱水剤、還元剤、エーテル化剤と順次反応させて、以下の式を有するアミノアル キルエーテル誘導体を得、 （ｂ）このエーテル誘導体を脱アシル化して、以下の式を有する化合物を得、 （ｃ）優先的には３つのアミノ基のうち２つを、適切な保護基と反応させて保護 し、以下の式を有する化合物を得、 （ｄ）未保護のアミノ基を、適切な活性化エステルと反応させて再アシル化し、 以下の式を有する化合物を得、次いで （ｅ）保護されたアミノ基を脱保護し、以下の式を有する化合物を得ること、 からなる前記方法。 ２．脱水剤が塩化シアヌルである、請求項１に記載の方法。 ３．還元剤を、ホウ水素化ナトリウム、シアノホウ水素化ナトリウム、水素化ア ルミニウム、ジボラン、水素化ジイソブチルアルミニウムからなる群から選択す る、請求項１に記載の方法。 ４．還元剤を、塩化第一コバルトと共に存在させる、請求項３に記載の方法。 ５．保護基を、カルボベンジルオキシ、カルバミン酸フルオレニルメチル、カル バミン酸ｔ−ブチルから選択する、請求項１ に記載の方法。 ６．脱水剤が塩化シアヌル、還元剤がホウ水素化ナトリウムと塩化第一コバルト との組合せ、保護基がカルボベンジルオキシである、請求項１に記載の方法。 ７．以下の式 を有する化合物及びその医薬的に許容可能な塩。