JP3107592B2 - 移動量測定方法 - Google Patents
移動量測定方法Info
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- JP3107592B2 JP3107592B2 JP03132856A JP13285691A JP3107592B2 JP 3107592 B2 JP3107592 B2 JP 3107592B2 JP 03132856 A JP03132856 A JP 03132856A JP 13285691 A JP13285691 A JP 13285691A JP 3107592 B2 JP3107592 B2 JP 3107592B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、移動量測定方法に関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】周期的構造を持つ被検体に発散性の単色
光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光に
より影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴
う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して、上
記被検体の移動量を測定する一連の方法が知られてい
る。
光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光に
より影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴
う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して、上
記被検体の移動量を測定する一連の方法が知られてい
る。
【０００３】当初、この方法は点状光源（発光部の大き
さが、被検体の単周期的構造のピッチに比して十分に小
さい光源）を用いるものとして提案されたが（特開昭６
３−４７６１６号公報）、その後、線状光源を用いる方
法が提案された（特開平６４−２９７５１３号公報）。
さが、被検体の単周期的構造のピッチに比して十分に小
さい光源）を用いるものとして提案されたが（特開昭６
３−４７６１６号公報）、その後、線状光源を用いる方
法が提案された（特開平６４−２９７５１３号公報）。
【０００４】影絵パターンは、被検体の有する周期的構
造を影絵的に拡大したパターンであるが、点状光源を用
いて発生させる場合、点状光源と被検体の位置関係が一
定の条件を満足することにより発生する。
造を影絵的に拡大したパターンであるが、点状光源を用
いて発生させる場合、点状光源と被検体の位置関係が一
定の条件を満足することにより発生する。
【０００５】一方、線状光源を用いると、被検体の周期
構造のピッチξと、線状光源の周期構造のピッチ方向の
長さｄとが、条件 ０．１≦（ｄ／ξ）≦４．０ を満足するとき影絵パターンが発生する。
構造のピッチξと、線状光源の周期構造のピッチ方向の
長さｄとが、条件 ０．１≦（ｄ／ξ）≦４．０ を満足するとき影絵パターンが発生する。
【０００６】被検体に照射する単色光は、当初コヒーレ
ント光であることが必要と考えられていたが、その後の
研究で、インコヒーレントな光でもアパーチュアにより
波面制限を行えば、影絵パターンを発生させ得ることが
分かった。
ント光であることが必要と考えられていたが、その後の
研究で、インコヒーレントな光でもアパーチュアにより
波面制限を行えば、影絵パターンを発生させ得ることが
分かった。
【０００７】しかし、影絵パターンを利用した従来の移
動量測定方法では、点状光源を用いる場合、点状光源と
被検体の位置関係を設定する必要があり、線状光源を用
いる場合には線状光源の長さｄに対して周期構造のピッ
チξを上記不等式を満足するように設定する必要があ
る。
動量測定方法では、点状光源を用いる場合、点状光源と
被検体の位置関係を設定する必要があり、線状光源を用
いる場合には線状光源の長さｄに対して周期構造のピッ
チξを上記不等式を満足するように設定する必要があ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上述の如
き事情に鑑みてなされたものであって、点状光源と線状
光源とを問わず、またコヒーレント光源とインコヒーレ
ント光源とを問わず、良好な影絵パターンを発生でき
る、新規な移動量測定方法の提供を目的とする。
き事情に鑑みてなされたものであって、点状光源と線状
光源とを問わず、またコヒーレント光源とインコヒーレ
ント光源とを問わず、良好な影絵パターンを発生でき
る、新規な移動量測定方法の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明の移動量測定方
法は「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス
分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による
反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せし
め、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光セ
ンサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方
法」であって、以下の点を特徴とする。
法は「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス
分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による
反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せし
め、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光セ
ンサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方
法」であって、以下の点を特徴とする。
【００１０】即ち、被検体に照射する単色光の発散角を
２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造によ
る回折角をαとするとき、θとαが ０＜α／θ≦４ なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生さ
せる点である。
２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造によ
る回折角をαとするとき、θとαが ０＜α／θ≦４ なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生さ
せる点である。
【００１１】なお、被検体が周期的構造を有するとは、
被検体が照射される単色光を反射するか透過させるかに
応じて、反射率もしくは透過率が周期的に変化している
ことを言う。
被検体が照射される単色光を反射するか透過させるかに
応じて、反射率もしくは透過率が周期的に変化している
ことを言う。
【００１２】
【作用】図１（ａ）において、符号Ｑは単色光を放射す
る光源を示している。この光源Ｑから発散角２θの光束
が放射される。符号Ｇは、被検体における光透過性の周
期的構造を示している。ここでは、光源Ｑはコヒーレン
ト光源である。
る光源を示している。この光源Ｑから発散角２θの光束
が放射される。符号Ｇは、被検体における光透過性の周
期的構造を示している。ここでは、光源Ｑはコヒーレン
ト光源である。
【００１３】光源Ｑからの単色光が周期的構造Ｇを照射
すると、透過光は回折により０次回折光と、±１次回折
光、および更に高次の回折光に分かれる。単色光は干渉
し易く、特にコヒーレント光源が発する単色光の場合に
は、これら０次，±１次回折光等は互いに干渉しあう。
すると、透過光は回折により０次回折光と、±１次回折
光、および更に高次の回折光に分かれる。単色光は干渉
し易く、特にコヒーレント光源が発する単色光の場合に
は、これら０次，±１次回折光等は互いに干渉しあう。
【００１４】影絵パターンと呼ばれ、上記周期的構造Ｇ
を影絵的に拡大する明暗パターンは、０次回折光と±１
次回折光のように、次数が１だけ異なる回折光同志の干
渉の結果であることが、近年の研究により分かった。従
って、影絵パターンが発生するのは図１（ａ）において
ハッチを施した部分である。例えば、図１（ａ）におい
て符号Ｂ，Ｃ，Ｄで示す部分にスクリーンを置いてみる
と、これらの位置における０次回折光（０で示す）と±
１次回折光（±１で示す）の重なり具合、±１次回折光
と±２次回折光の重なり具合は、それぞれ図１（ｂ）
（ｃ）（ｄ）に示す如くであって、回折光同志の重なり
あう部分に影絵パターンが発生する。
を影絵的に拡大する明暗パターンは、０次回折光と±１
次回折光のように、次数が１だけ異なる回折光同志の干
渉の結果であることが、近年の研究により分かった。従
って、影絵パターンが発生するのは図１（ａ）において
ハッチを施した部分である。例えば、図１（ａ）におい
て符号Ｂ，Ｃ，Ｄで示す部分にスクリーンを置いてみる
と、これらの位置における０次回折光（０で示す）と±
１次回折光（±１で示す）の重なり具合、±１次回折光
と±２次回折光の重なり具合は、それぞれ図１（ｂ）
（ｃ）（ｄ）に示す如くであって、回折光同志の重なり
あう部分に影絵パターンが発生する。
【００１５】影絵パターンの明暗のピッチをＸとする
と、これは前述のように、周期的構造のピッチξを光源
Ｑからの光で影絵的に拡大したものとなっている。即
ち、光源Ｑと周期的構造Ｇとの距離をａ，周期的構造Ｇ
と影絵パターンとの距離をｂとすると、上記ピッチＸ
は、（ａ＋ｂ）ξ／ａで与えられる。
と、これは前述のように、周期的構造のピッチξを光源
Ｑからの光で影絵的に拡大したものとなっている。即
ち、光源Ｑと周期的構造Ｇとの距離をａ，周期的構造Ｇ
と影絵パターンとの距離をｂとすると、上記ピッチＸ
は、（ａ＋ｂ）ξ／ａで与えられる。
【００１６】このようにして、発生した影絵パターン
は、周期的構造を有する被検体が周期的構造の繰返し方
向に変位すると、影絵的な関係を保ったまま同方向に変
位する。従って、光センサーにより、影絵パターンの変
位量Ｙを検出すれば、被検体自体の移動量Ｚは、上記変
位量Ｙを影絵パターンの拡大倍率で除して、Ｙａ／（ａ
＋ｂ）として知ることができる。勿論、この移動量を時
間で微分する処理を行えば、被検体の移動量のみならず
移動速度や加速度をも測定できる。
は、周期的構造を有する被検体が周期的構造の繰返し方
向に変位すると、影絵的な関係を保ったまま同方向に変
位する。従って、光センサーにより、影絵パターンの変
位量Ｙを検出すれば、被検体自体の移動量Ｚは、上記変
位量Ｙを影絵パターンの拡大倍率で除して、Ｙａ／（ａ
＋ｂ）として知ることができる。勿論、この移動量を時
間で微分する処理を行えば、被検体の移動量のみならず
移動速度や加速度をも測定できる。
【００１７】図１（ａ）の位置Ｂ，Ｃ，Ｄは、周期的構
造Ｇから次第に遠ざかっているので、これらの位置Ｂ，
Ｃ，Ｄにおける影絵パターンのピッチもそれに応じて、
図１（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すように次第に大きくなっ
ている。
造Ｇから次第に遠ざかっているので、これらの位置Ｂ，
Ｃ，Ｄにおける影絵パターンのピッチもそれに応じて、
図１（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すように次第に大きくなっ
ている。
【００１８】図２（ａ）は、照射単色光の発散角に対応
する角θと回折角αに対応させて、０次回折光の強度と
１次回折光の強度の関係を示している。照射単色光の強
度分布はガウス分布に従っている。回折角αは、１義的
に定まるが、発散角は光強度分布がガウス分布に従うた
めに、一義的には決まらない。この発明では、発散角２
θは、光強度分布がピーク値の９０％を与える部分を見
込む角として定義されている。
する角θと回折角αに対応させて、０次回折光の強度と
１次回折光の強度の関係を示している。照射単色光の強
度分布はガウス分布に従っている。回折角αは、１義的
に定まるが、発散角は光強度分布がガウス分布に従うた
めに、一義的には決まらない。この発明では、発散角２
θは、光強度分布がピーク値の９０％を与える部分を見
込む角として定義されている。
【００１９】θとαの比をパラメータとし、影絵パター
ンの発生の様子をコンピューターでシミュレーション演
算した結果を図３および図４に示す。但し、このシミュ
レーションでは、図２（ｂ）に示すように光強度分布の
ピーク値の１／ｅの強度部分を見込む角としてθ’を定
義し、θ’／αをパラメータとして、計算を行った。θ
はθ’と、θ＝θ’／０．６５の関係があるから、この
関係を用いて、結果を簡単にθに換算できる。なお、周
期的構造は光透過部と遮光部とがピッチξで配列され、
配列方向における光透過部幅と遮光部幅とが共にε＝ξ
／２である場合を想定している。
ンの発生の様子をコンピューターでシミュレーション演
算した結果を図３および図４に示す。但し、このシミュ
レーションでは、図２（ｂ）に示すように光強度分布の
ピーク値の１／ｅの強度部分を見込む角としてθ’を定
義し、θ’／αをパラメータとして、計算を行った。θ
はθ’と、θ＝θ’／０．６５の関係があるから、この
関係を用いて、結果を簡単にθに換算できる。なお、周
期的構造は光透過部と遮光部とがピッチξで配列され、
配列方向における光透過部幅と遮光部幅とが共にε＝ξ
／２である場合を想定している。
【００２０】図３に示す図でパラメータはθ’／αであ
り、このパラメータが１．０から次第に小さくなるに従
って、透過光の強度分布がどのように変化するかを示し
ている。図中で、光強度が細かく変化している部分が影
絵パターンである。パラメータθ’／αが１．０から次
第に小さくなると、影絵パターンのコントラストが次第
に減少し、θ’／α＝０．３では、影絵パターンは全く
発生しない。光強度の大きな３つの山は、０次回折光
と、±１次回折光の強度分布であり、これらが完全に分
離して重なり合わないため、これらの干渉もなく影絵パ
ターンは発生しないのである。
り、このパラメータが１．０から次第に小さくなるに従
って、透過光の強度分布がどのように変化するかを示し
ている。図中で、光強度が細かく変化している部分が影
絵パターンである。パラメータθ’／αが１．０から次
第に小さくなると、影絵パターンのコントラストが次第
に減少し、θ’／α＝０．３では、影絵パターンは全く
発生しない。光強度の大きな３つの山は、０次回折光
と、±１次回折光の強度分布であり、これらが完全に分
離して重なり合わないため、これらの干渉もなく影絵パ
ターンは発生しないのである。
【００２１】影絵パターンの発生する限界におけるパラ
メータθ’／αの値は、０．３８であり、これは４θ＝
αのときに相当する。従って、α／θをパラメータとす
る場合には、影絵パターンの発生する上限が４であるこ
とになる。
メータθ’／αの値は、０．３８であり、これは４θ＝
αのときに相当する。従って、α／θをパラメータとす
る場合には、影絵パターンの発生する上限が４であるこ
とになる。
【００２２】図４ではパラメータθ’／αが１．０から
５．０まで変化するときの、透過光の強度分布の様子を
示している。パラメータθ’／αが大きくなるにつれて
影絵パターンのコントラストは相対的に小さくなってい
るが、それでも影絵パターン自体は発生しており、この
傾向はパラメータθ’／αが大きくなっても変わらな
い。従って、影絵パターンが発生する条件は、パラメー
タα／θが ０＜α／θ≦４ なる不等式を満足するときであることがわかる。そし
て、この条件は単色光の波長にも、周期的構造のピッチ
ξにも依らない、極めて一般的な条件である。
５．０まで変化するときの、透過光の強度分布の様子を
示している。パラメータθ’／αが大きくなるにつれて
影絵パターンのコントラストは相対的に小さくなってい
るが、それでも影絵パターン自体は発生しており、この
傾向はパラメータθ’／αが大きくなっても変わらな
い。従って、影絵パターンが発生する条件は、パラメー
タα／θが ０＜α／θ≦４ なる不等式を満足するときであることがわかる。そし
て、この条件は単色光の波長にも、周期的構造のピッチ
ξにも依らない、極めて一般的な条件である。
【００２３】上の説明では被検体に対する照射光をコヒ
ーレント光として、説明したが、ＬＥＤ光源からの光の
ようにインコヒーレントな光であっても、適当なアパー
チュアにより波面制限をすることにより干渉性の光とす
ることができ、このようにした光に上記条件を満足させ
ることによって、影絵パターンを発生させることができ
る。
ーレント光として、説明したが、ＬＥＤ光源からの光の
ようにインコヒーレントな光であっても、適当なアパー
チュアにより波面制限をすることにより干渉性の光とす
ることができ、このようにした光に上記条件を満足させ
ることによって、影絵パターンを発生させることができ
る。
【００２４】
【実施例】図５以下に、具体的な実施例を示す。
【００２５】図５は、この発明をリニアエンコーダに適
用した例である。線状光源１（ＬＤの発光部の長手方向
を利用する）からの発散性の光を被検体としてのリニア
スケール２に照射する。照射光の発散角とリニアスケー
ルの周期的構造による回折角αが上記関係を満足するよ
うに設定されており、影絵パターンが発生する。リニア
スケール２の矢印方向への変位に伴う影絵パターンの変
位を光センサー３により検出して、移動量測定を行う。
光センサー３を光軸ＡＸ上に置くと０次光の強度が強い
ために影絵パターンのコントラストが若干弱められるの
で、光軸からはなれた破線で示す位置に置くとコントラ
ストの良い影絵パターンを検出できる。
用した例である。線状光源１（ＬＤの発光部の長手方向
を利用する）からの発散性の光を被検体としてのリニア
スケール２に照射する。照射光の発散角とリニアスケー
ルの周期的構造による回折角αが上記関係を満足するよ
うに設定されており、影絵パターンが発生する。リニア
スケール２の矢印方向への変位に伴う影絵パターンの変
位を光センサー３により検出して、移動量測定を行う。
光センサー３を光軸ＡＸ上に置くと０次光の強度が強い
ために影絵パターンのコントラストが若干弱められるの
で、光軸からはなれた破線で示す位置に置くとコントラ
ストの良い影絵パターンを検出できる。
【００２６】図６は、この発明をロータリエンコーダに
適用した例である。線状光源１からの発散性の光束を、
円板スケール２Ａに照射して、影絵パターンを発生さ
せ、円板スケール２Ａの回転伴う影絵パターンの変位を
光センサー３で検出して、円板スケール２Ａの移動量
（回転量）の測定を行うことができる。
適用した例である。線状光源１からの発散性の光束を、
円板スケール２Ａに照射して、影絵パターンを発生さ
せ、円板スケール２Ａの回転伴う影絵パターンの変位を
光センサー３で検出して、円板スケール２Ａの移動量
（回転量）の測定を行うことができる。
【００２７】図７の例では、軸受６に軸支された回転軸
７に周期的構造として反射率が周期的に変化するパター
ン８が形成され、線状光源１からの発散光をパターン８
に照射し、発生する影絵パターンの移動を光センサー５
により検出して回転軸７の回転量を測定する。
７に周期的構造として反射率が周期的に変化するパター
ン８が形成され、線状光源１からの発散光をパターン８
に照射し、発生する影絵パターンの移動を光センサー５
により検出して回転軸７の回転量を測定する。
【００２８】図８の例は、図７の例の変形例であり、イ
ンコヒーレントな光源であるＬＥＤ１’からの光をアパ
ーチュア１’Ａにより波面制限して干渉性とし、θとα
の比が前記条件を満足するようにして影絵パターンを発
生させる。アパーチュアにおける開口形状は、例えば図
９（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すようなスリット形状、楕円
形状、円形状等が可能である。
ンコヒーレントな光源であるＬＥＤ１’からの光をアパ
ーチュア１’Ａにより波面制限して干渉性とし、θとα
の比が前記条件を満足するようにして影絵パターンを発
生させる。アパーチュアにおける開口形状は、例えば図
９（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すようなスリット形状、楕円
形状、円形状等が可能である。
【００２９】図７や図８の実施例の場合は、単色光を照
射される被検体部分が正の曲率を持っているため、反射
光は凸面の作用で、入射光束の発散角よりも発散角が広
がる。図１０に示す例では、光源Ｑからの光束は発散角
２θ0をもって被検体７に照射されるが反射光束の発散
角は２θ（＞２θ0）となる。この場合条件 ０＜α／θ≦４ を満たすのは、勿論、反射光束の発散角である。従っ
て、被検体の表面が凸面である場合には、図１１に示す
ように光源Ｑからの光をレンズ１３により平行光束１４
として被検体７に照射しても良い。
射される被検体部分が正の曲率を持っているため、反射
光は凸面の作用で、入射光束の発散角よりも発散角が広
がる。図１０に示す例では、光源Ｑからの光束は発散角
２θ0をもって被検体７に照射されるが反射光束の発散
角は２θ（＞２θ0）となる。この場合条件 ０＜α／θ≦４ を満たすのは、勿論、反射光束の発散角である。従っ
て、被検体の表面が凸面である場合には、図１１に示す
ように光源Ｑからの光をレンズ１３により平行光束１４
として被検体７に照射しても良い。
【００３０】なお、光強度分布がガウス分布に従うもの
でなく、一様な分布である場合にはα／θの満足する不
等式は、上記不等式の上限値を４から２．６に代えたも
のとなる。
でなく、一様な分布である場合にはα／θの満足する不
等式は、上記不等式の上限値を４から２．６に代えたも
のとなる。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
移動量測定方法を提供できる。この発明では、被検体に
対して照射する単色光の発散角と回折角との関係を調整
して影絵パターンを発生させるのであるが、発散角はレ
ンズ等の光学素子の使用により簡単に調整ができるか
ら、被検体上の所定の周期的構造におうじて容易且つ確
実に影絵パターンを発生させることができ、移動量測定
が容易になる。
移動量測定方法を提供できる。この発明では、被検体に
対して照射する単色光の発散角と回折角との関係を調整
して影絵パターンを発生させるのであるが、発散角はレ
ンズ等の光学素子の使用により簡単に調整ができるか
ら、被検体上の所定の周期的構造におうじて容易且つ確
実に影絵パターンを発生させることができ、移動量測定
が容易になる。
【００３２】この発明の場合、影絵パターンを発生させ
るのに、回折角と発散角の関係を調整するので、照射光
は、光源からの光を直接照射する場合のほか、レンズを
介して照射したり、光ファイバーで導いた光を発散角を
調整して照射したりすることができ、光源装置の形態上
の自由度が大きくなる。
るのに、回折角と発散角の関係を調整するので、照射光
は、光源からの光を直接照射する場合のほか、レンズを
介して照射したり、光ファイバーで導いた光を発散角を
調整して照射したりすることができ、光源装置の形態上
の自由度が大きくなる。
【図１】この発明の特徴を説明するための図である。
【図２】発散角と回折角の関係を説明するための図であ
る。
る。
【図３】この発明の特徴をなす、不等式を説明するため
の図である。
の図である。
【図４】この発明の特徴をなす、不等式を説明するため
の図である。
の図である。
【図５】この発明の１実施例を示す斜視図である。
【図６】この発明の別実施例を示す斜視図である。
【図７】この発明の他の実施例を示す斜視図である。
【図８】この発明の更に他の実施例を示す斜視図であ
る。
る。
【図９】インコヒーレント光を用いる場合に波面制限を
行うアパーチュアの開口形状を３例示す図である。
行うアパーチュアの開口形状を３例示す図である。
【図１０】被検体表面が凸面である場合の発散角を説明
するための図である。
するための図である。
【図１１】この発明の別の実施例を示す図である。
Ｑ 単色光を放射する光源 Ｇ 周期的構造
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 明渡 純 東京都新宿区早稲田３丁目18番１号・丸 茂ハイツ203号 (72)発明者 山口 友行 東京都大田区中馬込１丁目３番６号・株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 平４−218720（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−297513（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−223614（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01D 5/38 G01B 11/00 - 11/30
Claims (1)
- 【請求項１】周期的構造を持つ被検体に、光強度分布が
ガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体
による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生
せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を
光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定す
る方法において、上記単色光の発散角を２θ、上記反射
光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαと
するとき、θとαが ０＜α／θ≦４ なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生さ
せることを特徴とする移動量測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03132856A JP3107592B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | 移動量測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03132856A JP3107592B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | 移動量測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04357414A JPH04357414A (ja) | 1992-12-10 |
| JP3107592B2 true JP3107592B2 (ja) | 2000-11-13 |
Family
ID=15091128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03132856A Expired - Fee Related JP3107592B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | 移動量測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3107592B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3720751B2 (ja) | 2001-10-23 | 2005-11-30 | オリンパス株式会社 | 光学式エンコーダ |
| JP2006153676A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Ricoh Co Ltd | 光学式エンコーダ装置及び画像形成装置 |
-
1991
- 1991-06-04 JP JP03132856A patent/JP3107592B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04357414A (ja) | 1992-12-10 |
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